JP5543103B2 - 半導体基板、半導体基板の製造方法および電子デバイス - Google Patents
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Description
Hsin−Chiao Luan et.al.、「High−quality Ge epilayers on Si with low threading−dislocation densities」、APPLIED PHYSICS LETTERS、VOLUME 75, NUMBER 19、8 NOVEMBER 1999.
前記バッファ層の上に形成された機能層と、前記機能層に形成された電子素子と、を含む電子デバイスを提供する。上記電子デバイスにおいて、前記バッファ層は、前記複数のGe層の各々に格子整合または擬格子整合され、前記機能層は、前記バッファ層に格子整合または擬格子整合されていてもよい。上記電子デバイスにおいて、前記バッファ層は、Pを含む3−5族化合物半導体層を含んでよい。上記電子デバイスにおいて、前記電子素子は、前記Ge層ごとに一つづつ形成されていてよい。上記電子デバイスにおいて、前記複数のGe層の各々は、等間隔に配置されていてよい。
アニール温度がGe層の表面の平坦性に与える影響を調べる目的で、以下の実験を実施した。実験は、Siウェハの表面に形成されたGe層をアニール処理して、アニール処理されたGe層の断面形状を観察することで実施した。アニール処理の温度が異なる場合について上記の実験を実施することで、アニール温度がGe層の表面の平坦性に与える影響を調べた。
Ge層の上面形状と基板の結晶学的方位との関係が、当該Ge層の上に形成される結晶に与える影響を調べる目的で、以下の実験を実施した。実験は、Siウェハの(100)面にGe層を形成した後、Ge層の上にGaAs結晶を成長させ、当該GaAs結晶の形状を観察することで実施した。Ge層の上面形状とSiウェハの結晶学的方位との位置関係が異なる場合について上記の実験を実施することで、Ge層の上面形状と基板の結晶学的方位との関係が、当該Ge層の上に形成される結晶に与える影響を調べた。
Ge層の上に形成された結晶の成長速度と、当該結晶の表面粗さとの関係を調べる目的で、以下の実験を実施した。実験は、Siウェハの表面にGe層を形成した後、Ge層の上にGaAs結晶を成長させ、一定時間の間に成長したGaAs結晶の膜厚と、当該GaAs結晶の断面形状とを観察することで実施した。GaAs結晶の成長速度が異なる場合について上記の実験を実施することで、GaAs結晶の成長速度がGaAs結晶の表面粗さに与える影響を調べた。
Ge層の上に形成された結晶の成長速度と、当該結晶の表面粗さとの関係を調べる目的で、以下の実験を実施した。トリメチルガリウムの供給量を半分にして、GaAs結晶の成長速度を約半分にした以外は実験例3の場合と同様にして、実験を実施した。なお、本実験例においては、SiO2層をパターニングする工程において、SiO2層の平面形状の一辺の長さが、200μm、500μm、1000μm、2000μm、3000μmまたは4250μmとなるように設定した。また、開口の底面形状が、一辺が10μmの正方形の場合について、実験を実施した。
Ge層の上面形状が、Ge層の上に形成した機能層を利用した電子デバイスの特性および歩留まりに与える影響を調べる目的で、以下の実験を実施した。実験は、Ge層の上に形成した機能層を用いてHBT素子を作製して、HBT素子のベースシート抵抗値Rb[Ω/□]と電流増幅率βとを測定することで実施した。Ge層の上面の面積の大きさが異なる場合について上記の実験を実施することで、Ge層の上面形状が、上記電子デバイスの特性および歩留まりに与える影響を調べた。
実験例5と同様にして、実験例5と同様の構造を有するHBT素子を3つ作製した。作製した3つのHBT素子を並列接続して電子素子を作製した。本実験例では、SiO2層の平面形状は、長辺が100μm、短辺が50μmの長方形であった。また、上記SiO2層の内部に、3つの開口を設けた。開口の底面形状は、すべて、一辺が15μmの正方形であった。それ以外の条件については、実験例5の場合と同一の条件で半導体基板をした。
(1)
Siの基板と、
前記基板上に結晶成長され、孤立した島状に形成されたGe層と、
前記Ge層の上に結晶成長され、Pを含む3−5族化合物半導体層からなるバッファ層と、
前記バッファ層の上に結晶成長された機能層と、
を備える半導体基板。
(2)
Siの基板と、
前記基板上に、500℃以下の温度で結晶成長され、孤立した島状に形成されたGaAs層からなるバッファ層と、
前記バッファ層の上に結晶成長された機能層と、
を備える半導体基板。
(3)
Siの基板と、
前記基板上に結晶成長され、孤立した島状に形成された機能層と、
を備え、
前記基板の表面は、Pを含むガスにより表面処理された、半導体基板。
(4)
前記Ge層は、アニールした場合に、前記アニールの温度および時間において結晶欠陥が移動する距離の2倍を越えない大きさの島状に形成される、
(1)に記載の半導体基板。
(5)
前記Ge層は、アニールした場合に、前記アニールの温度において前記基板であるSiとの熱膨張係数の相違によるストレスが欠陥を発生させない大きさの島状に形成される、
(1)に記載の半導体基板。
(6)
前記Ge層は、面積が1mm2以下の島状に形成される、
(1)に記載の半導体基板。
(7)
前記Ge層は、結晶欠陥が移動できる温度および時間でアニールされてなる、
(1)、(4)、(5)または(6)の何れか一項に記載の半導体基板。
(8)
前記アニールは、複数回繰り返される、
(7)に記載の半導体基板。
(9)
前記機能層は、Geに格子整合または擬格子整合する、3−5族化合物層または2−6族化合物層である、
(1)、(4)、(5)、(6)、(7)または(8)の何れか一項に記載の半導体基板。
(10)
前記機能層は、Geに格子整合または擬格子整合する、3−5族化合物層であり、3族元素としてAl、Ga、Inのうち少なくとも1つを含み、5族元素としてN、P、As、Sbのうち少なくとも1つを含む、
(1)、(4)、(5)、(6)、(7)または(8)の何れか一項に記載の半導体基板。
(11)
Siの基板と、
前記基板の上に、互いに離間して形成された複数のGe層と、
前記複数のGe層の各々の上に形成されたバッファ層と、
前記バッファ層の上に形成された機能層と、
を含む半導体基板。
(12)
前記バッファ層は、前記複数のGe層の各々に格子整合または擬格子整合し、
前記機能層は、前記バッファ層に格子整合または擬格子整合している、
(11)に記載の半導体基板。
(13)
前記バッファ層は、Pを含む3−5族化合物半導体層を含む、
(11)または(12)に記載の半導体基板。
(14)
前記複数のGe層の各々は、水素を含む雰囲気中でアニールされてなる、
(11)から(13)までの何れか一項に記載の半導体基板。
(15)
前記複数のGe層の各々の前記機能層に対向する面は、Pを含むガスにより表面処理されている、
(11)から(14)までの何れか一項に記載の半導体基板。
(16)
前記複数のGe層の各々の上面の面積は、1mm2以下である、
(11)から(15)までの何れか一項に記載の半導体基板。
(17)
前記複数のGe層の各々の上面の面積は、1600μm2以下である、
(16)に記載の半導体基板。
(18)
前記複数のGe層の各々の上面の面積は、900μm2以下である、
(17)に記載の半導体基板。
(19)
前記複数のGe層の各々の上面は、長方形であり、
前記長方形の長辺は、80μm以下である、
(16)に記載の半導体基板。
(20)
前記複数のGe層の各々の上面は、長方形であり、
前記長方形の長辺は、40μm以下である、
(17)に記載の半導体基板。
(21)
前記基板の主面が(100)面であり、
前記複数のGe層の各々の上面は、正方形または長方形であり、
前記正方形または前記長方形の少なくとも1辺の方向は、前記主面における<010>方向、<0−10>方向、<001>方向および<00−1>方向からなる群から選択された何れか一つの方向と実質的に平行である、
(11)から(20)までの何れか一項に記載の半導体基板。
(22)
前記基板の主面が(111)面であり、
前記複数のGe層の各々の上面は、六角形であり、
前記六角形の少なくとも1辺の方向は、前記主面における<1−10>方向、<−110>方向、<0−11>方向、<01−1>方向、<10−1>方向および<−101>方向からなる群から選択された何れか一つの方向と実質的に平行である、
(11)から(20)までの何れか一項に記載の半導体基板。
(23)
Siの基板と、
前記基板の上に、互いに離間して形成された複数のバッファ層であって、GaAs層を含む複数のバッファ層と、
前記複数のバッファ層の各々の上に形成された機能層と、
を含む半導体基板。
(24)
前記機能層は、前記複数のバッファ層の各々に格子整合または擬格子整合している、
(23)に記載の半導体基板。
(25)
前記GaAs層は、600℃以下の温度で結晶成長されてなる、
(23)または(24)に記載の半導体基板。
(26)
Siの基板と、
前記基板の上に、互いに離間して形成された複数の機能層と、
を含み、
前記基板の表面は、前記機能層の形成前に、Pを含むガスにより表面処理されている、半導体基板。
(27)
前記機能層は、3−5族化合物層または2−6族化合物層である、
(11)から(26)までの何れか一項に記載の半導体基板。
(28)
前記機能層は、3−5族化合物層であり、3族元素としてAl、GaおよびInからなる群から選択された1以上の元素を含み、5族元素としてN、P、AsおよびSbからなる群から選択された1以上の元素を含む、
(11)から(26)までの何れか一項に記載の半導体基板。
(29)
前記機能層の算術平均粗さは、0.02μm以下である、
(28)に記載の半導体基板。
(30)
Siの基板の上に、Ge層を結晶成長する段階と、
前記Ge層をパターニングして、孤立した島状のGe層を形成する段階と、
前記Ge層の上に、Pを含む3−5族化合物半導体層からなるバッファ層を結晶成長する段階と、
前記バッファ層の上に機能層を結晶成長する段階と、
を備えた半導体基板の製造方法。
(31)
前記島状のGe層を、結晶欠陥が移動できる温度および時間でアニールする段階、
をさらに備える(30)に記載の半導体基板の製造方法。
(32)
前記アニールを、複数回繰り返す段階、
をさらに備える(31)に記載の半導体基板の製造方法。
(33)
Siの基板の上に、互いに離間した複数のGe層を形成する段階と、
前記複数のGe層の各々の上に、バッファ層を形成する段階と、
前記バッファ層の上に、機能層を形成する段階と、
を含む半導体基板の製造方法。
(34)
前記バッファ層を形成する段階において、前記バッファ層を前記Ge層に格子整合または擬格子整合させ、
前記機能層を形成する段階において、前記機能層を前記バッファ層に格子整合または擬格子整合させる、
(33)に記載の半導体基板の製造方法。
(35)
前記バッファ層を形成する段階は、Pを含む3−5族化合物半導体層を形成する段階を含む、
(33)または(34)記載の半導体基板の製造方法。
(36)
前記複数のGe層の各々を、結晶欠陥が移動できる温度および時間でアニールする段階、をさらに含む、
(33)から(35)までの何れか一項に記載の半導体基板の製造方法。
(37)
前記アニールする段階は、前記複数のGe層の各々を、680℃以上900℃未満の温度でアニールする、
(36)に記載の半導体基板の製造方法。
(38)
前記アニールする段階は、前記複数のGe層の各々を、水素を含む雰囲気中でアニールする、
(36)または(37)に記載の半導体基板の製造方法。
(39)
前記アニールする段階を、複数含む、
(36)から(38)までの何れか一項に記載の半導体基板の製造方法。
(40)
Siの基板の上に、互いに離間した複数のバッファ層であってGaAs層を含む複数のバッファ層を形成する段階と、
前記複数のバッファ層の各々の上に、機能層を形成する段階と、
を含む半導体基板の製造方法。
(41)
前記GaAs層は、600℃以下の温度で結晶成長される、
(40)に記載の半導体基板の製造方法。
(42)
Siの基板の表面を、Pを含むガスにより表面処理する段階と、
前記基板の上に、互いに離間した複数の機能層を形成する段階と、
を含む半導体基板の製造方法。
(43)
前記機能層は、3−5族化合物層であり、3族元素としてAl、GaおよびInからなる群から選択された1以上の元素を含み、5族元素としてN、P、AsおよびSbからなる群から選択された1以上の元素を含み、
前記機能層を形成する段階は、前記機能層を、1nm/min以上、300nm/min以下の成長速度で結晶成長させる、
(33)から(42)までの何れか一項に記載の半導体基板の製造方法。
(44)
Siの基板と、
前記基板上に結晶成長され、孤立した島状に形成されたGe層と、
前記Ge層の上に結晶成長され、Pを含む3−5族化合物半導体層からなるバッファ層と、
前記バッファ層の上に結晶成長された機能層と、
前記機能層に形成された電子素子と、
を備える電子デバイス。
(45)
前記電子素子は、前記島状のGe層ごとに一つ形成されている、
(44)に記載の電子デバイス。
(46)
前記島状のGe層は、前記基板の上に複数形成され、複数の前記島状のGe層は、等間隔に配置される、
(44)または(45)に記載の電子デバイス。
(47)
Siの基板と、
前記基板の上に、互いに離間して形成された複数のGe層と、
前記複数のGe層の各々の上に形成されたバッファ層と、
前記バッファ層の上に形成された機能層と、
前記機能層に形成された電子素子と、
を含む電子デバイス。
(48)
前記バッファ層は、前記複数のGe層の各々に格子整合または擬格子整合され、
前記機能層は、前記バッファ層に格子整合または擬格子整合されている、
(47)に記載の電子デバイス。
(49)
前記バッファ層は、Pを含む3−5族化合物半導体層を含む、
(47)または(48)に記載の電子デバイス。
(50)
前記電子素子は、前記Ge層ごとに一つづつ形成されている、
(47)から(49)までの何れか一項に記載の電子デバイス。
(51)
前記複数のGe層の各々は、等間隔に配置されている、
(47)から(50)までの何れか一項に記載の電子デバイス。
(52)
Siの基板と、
前記基板の上に、互いに離間して形成された複数のバッファ層であって、GaAs層を含む複数のバッファ層と、
前記複数のバッファ層の各々の上に形成された機能層と、
前記機能層に形成された電子素子と、
を含む電子デバイス。
(53)
前記機能層は、前記複数のバッファ層の各々に格子整合または擬格子整合されている、
(52)に記載の電子デバイス。
(54)
前記GaAs層は、600℃以下の温度で結晶成長されている、
(52)または(53)に記載の電子デバイス。
(55)
前記電子素子は、前記バッファ層ごとに一つづつ形成されている、
(52)から(54)までの何れか一項に記載の電子デバイス。
(56)
前記複数のバッファ層の各々は、等間隔に配置されている、
(52)から(55)までの何れか一項に記載の電子デバイス。
(57)
Siの基板と、
前記基板の上に、互いに離間して形成された複数の機能層と、
前記機能層に形成された電子素子と、
を含み、
前記基板の表面は、前記機能層の形成前に、Pを含むガスにより表面処理されている、
電子デバイス。
(58)
前記電子素子は、前記機能層ごとに一つづつ形成されている、
(57)に記載の電子デバイス。
(59)
前記複数の機能層の各々は、等間隔に配置されている、
(57)または(58)に記載の電子デバイス。
(60)
前記電子素子は、ヘテロジャンクションバイポーラトランジスタである、
(44)から(59)までの何れか一項に記載の電子デバイス。
(61)
前記電子素子が、相互に接続されている、
(44)から(60)までの何れか一項に記載の電子デバイス。
(62)
前記電子素子が、並列に接続されている、
(44)から(51)までの何れか一項に記載の電子デバイス。
102 Siウェハ
108 コレクタ電極
110 エミッタ電極
112 ベース電極
120 Ge層
122 バッファ層
123 InGaP層
124 素子形成層
125 付随層
130 Ge膜
201 半導体基板
202 バッファ層
204 GaAs膜
301 半導体基板
Claims (18)
- Siの基板と、
前記基板上に結晶成長され、孤立した島状に形成されたGe層と、
前記Ge層の上に結晶成長され、Pを含む3−5族化合物半導体層からなるバッファ層と、
前記バッファ層の上に結晶成長された機能層と、
を備え、
前記機能層が、Geに格子整合または擬格子整合する、3−5族化合物層または2−6族化合物層であり、
前記Ge層の上面の面積が0.01mm 2 以下である
半導体基板。 - 前記Ge層は、アニールされたものであり、前記アニールの温度および時間において結晶欠陥が移動する距離の2倍を越えない大きさの島状に形成される、
請求項1に記載の半導体基板。 - 前記Ge層は、アニールされたものであり、前記アニールの温度において前記基板であるSiとの熱膨張係数の相違によるストレスが欠陥を発生させない大きさの島状に形成される、
請求項1に記載の半導体基板。 - 前記Ge層は、結晶欠陥が移動できる温度および時間でアニールされてなる、
請求項1から請求項3の何れか一項に記載の半導体基板。 - 前記アニールは、複数回繰り返される、
請求項4に記載の半導体基板。 - 前記機能層は、Geに格子整合または擬格子整合する、3−5族化合物層であり、3族元素としてAl、Ga、Inのうち少なくとも1つを含み、5族元素としてN、P、As、Sbのうち少なくとも1つを含む、
請求項1から請求項5の何れか一項に記載の半導体基板。 - 前記基板の上に、互いに離間して形成された複数の前記Ge層を有し、
前記バッファ層が、前記複数のGe層の各々の上に形成された、
請求項1から請求項6の何れか一項に記載の半導体基板。 - Siの基板の上に、Ge層を結晶成長する段階と、
前記Ge層をパターニングして、孤立した島状のGe層を形成する段階と、
前記Ge層の上に、Pを含む3−5族化合物半導体層からなるバッファ層を結晶成長する段階と、
前記バッファ層の上に機能層を結晶成長する段階と、
を備え、
前記機能層が、Geに格子整合または擬格子整合する、3−5族化合物層または2−6族化合物層であり、
前記Ge層の上面の面積が0.01mm 2 以下である
半導体基板の製造方法。 - 前記島状のGe層を、結晶欠陥が移動できる温度および時間でアニールする段階、
をさらに備える請求項8に記載の半導体基板の製造方法。 - 前記アニールを、複数回繰り返す段階、
をさらに備える請求項9に記載の半導体基板の製造方法。 - 前記Ge層を形成する段階において、前記基板の上に、互いに離間した複数の前記Ge層を形成し、
前記バッファ層を結晶成長する段階において、前記複数のGe層の各々の上に、前記バッファ層を形成する
請求項8から請求項10の何れか一項に記載の半導体基板の製造方法。 - Siの基板と、
前記基板上に結晶成長され、孤立した島状に形成されたGe層と、
前記Ge層の上に結晶成長され、Pを含む3−5族化合物半導体層からなるバッファ層と、
前記バッファ層の上に結晶成長された機能層と、
前記機能層に形成された電子素子と、
を備え、
前記機能層が、Geに格子整合または擬格子整合する、3−5族化合物層または2−6族化合物層であり、
前記Ge層の上面の面積が0.01mm 2 以下である
電子デバイス。 - 前記電子素子は、前記島状のGe層ごとに一つ形成されている、
請求項12に記載の電子デバイス。 - 前記島状のGe層は、前記基板の上に複数形成され、複数の前記島状のGe層は、等間隔に配置される、
請求項12または請求項13に記載の電子デバイス。 - 前記基板の上に、互いに離間して形成された複数の前記Ge層を有し、
前記バッファ層が、前記複数のGe層の各々の上に形成された、
請求項12から請求項14の何れか一項に記載の電子デバイス。 - 前記電子素子は、ヘテロジャンクションバイポーラトランジスタである、
請求項12から請求項15の何れか一項に記載の電子デバイス。 - 前記電子素子が、相互に接続されている、
請求項12から請求項16の何れか一項に記載の電子デバイス。 - 前記電子素子が、並列に接続されている、
請求項12から請求項17の何れか一項に記載の電子デバイス。
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