JP5541620B2 - コロイド結晶膜の製造方法、その方法により得られるコロイド結晶膜、及びそれを用いて得られるコロイド結晶顔料 - Google Patents
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[単分散度(単位:%)]=([粒径の標準偏差]/[平均粒径])×100 (1)
で表される単分散度が20%以下であるコロイド粒子とを含有し、前記分散媒成分中において前記コロイド粒子が反射スペクトルにおいて反射ピークを有する3次元規則配列状態で分散されており、且つ、25℃±0.1℃の温度条件下においてせん断速度1000S−1で測定される粘度が10〜100mPa・sであるコロイド分散液を、重合後の平均厚みが25〜45μmとなるように基材上にスプレー塗装し、前記基材上に塗膜を形成する工程と、
前記塗膜中の前記分散媒成分を重合せしめ、前記基材上にポリマーで固定化された平均厚み25〜45μmのコロイド結晶膜を製造する工程と、
を含むことを特徴とする方法である。
[単分散度(単位:%)]=([粒径の標準偏差]/[平均粒径])×100 (1)
で表される単分散度が20%以下であるコロイド粒子とを含有し、前記分散媒成分中において前記コロイド粒子が反射スペクトルにおいて反射ピークを有する3次元規則配列状態で分散されており、且つ、25℃±0.1℃の温度条件下においてせん断速度1000S−1で測定される粘度が10〜100mPa・sであるコロイド分散液を、重合後の平均厚みが25〜45μmとなるように基材上にスプレー塗装し、前記基材上に塗膜を形成する工程(A)と、
前記塗膜中の前記分散媒成分を重合せしめ、前記基材上にポリマーで固定化された平均厚み25〜45μmのコロイド結晶膜を製造する工程(B)と、
を含むことを特徴とする方法である。以下、このようなコロイド結晶膜の製造方法について、工程(A)と工程(B)とに分けて説明する。
[単分散度(単位:%)]=([粒径の標準偏差]/[平均粒径])×100 (1)
で表される単分散度が20%以下の粒子である。すなわち、前記粒子は、このような単分散度を有する粒径が極めて均一な粒子である。本発明においては、コロイド粒子にこのような均一性が極めて高い粒子を用いているため、前記分散媒成分中に分散させた際に、粒子間の相互作用により容易に3次元規則配列構造を形成させることが可能となる。また、このような粒子としては、単分散度がより小さな値となるほど、より高い特性が得られる傾向にあることから、前記単分散度は10%(更に好ましくは5%)以下であることがより好ましい。
先ず、ポリエチレングリコールジアクリレートモノマー(中村化学社製の商品名「NKエステルA−200」)と、ポリエチレングリコールモノアクリレートモノマー(新中村化学社製の商品名「NKエステルAM−30G」)とを重量比で9:1に混合し、モノマーからなる分散媒を準備した。次に、前記分散媒中に、Stober法にて合成したシリカ粒子(平均粒子径200nm、単分散度:5%)を含有量が27体積%になるようにして添加し、室温(25℃)条件下で超音波(45kHz)を3時間印加して分散させ、コロイド粒子(シリカ粒子)がモノマー中に均一分散したコロイド分散液を得た。
〈目視による観察〉
実施例1で得られたコロイド結晶膜を目視にて観測したところ、真上方向から見たときには基板面のエッジ周辺を除くほぼ全面に赤色が観察され、斜めからみた場合に緑色が観察された。このような結果から、実施例1で得られたコロイド結晶膜においては、エッジ周辺を除く全面にコロイド結晶が形成されていることが分かった。また、このようにして得られたコロイド結晶膜は、表面が十分に平滑なものとなっていることが確認された。
実施例1で得られたコロイド結晶膜に対して、マルチチャンネル式分光器(相馬光学製 S−2650)を用い、同軸光ファイバにて基板面に対して垂直方向での反射スペクトルを測定した。なお、アルミニウム蒸着膜の反射スペクトルを参照スペクトルとして、測定された反射スペクトルをこの参照スペクトルにて割り算することにより、反射スペクトルの縦軸を反射率で表した。得られた反射スペクトルを図1に示す。
実施例1で得られたコロイド結晶膜の膜厚を、以下の方法を利用して測定した。すなわち、先ず、カッターナイフを斜めに当てて、コロイド結晶膜および黒塗装膜を一部削り取った。次に、その削り痕を、光学顕微鏡(キーエンス製VF−7500型)を用いて測定し、コロイド結晶膜と黒塗装膜との界面(すなわち、黒塗装表面)を観察した。そして、コロイド結晶膜の表面にピントを合わせたときのステージ位置と黒塗装膜表面にピントを合わせたときのステージ位置をそれぞれ光学顕微鏡の目盛りから読み取った(なお、読み取りは1μm単位で読み取る。)。次に、光学顕微鏡の目盛りから読み取られたそれぞれのステージ位置の値の差を求めて、コロイド結晶膜の膜厚を求めた。なお、このようなコロイド結晶膜の膜厚の測定は、任意の5点以上の箇所において行った。このようなコロイド結晶膜の膜厚の測定の結果、実施例1で得られたコロイド結晶膜は、膜厚が34±2μm(平均膜厚:34μm)であることが確認された。
コロイド分散液中の前記モノマーを重合した後の平均膜厚が20μmとなるようにしてスプレー塗装した以外は、実施例1と同様にして、黒塗装基板上にポリマーで固定化された比較のためのコロイド結晶膜を得た。
コロイド分散液中の前記モノマーを重合した後の平均膜厚が50μmとなるようにしてスプレー塗装した以外は、実施例1と同様にして、黒塗装基板上にポリマーで固定化された比較のためのコロイド結晶膜を得た。
ポリエチレングリコールジアクリレートモノマー(中村化学製の商品名「NKエステルA−200」)を分散媒として用いて、前記分散媒中に、Stober法にて合成したシリカ粒子(平均粒子径200nm、単分散度:5%)を含有量が27体積%になるように添加した後、室温条件下で超音波(45kHz)を3時間印加して分散させ、コロイド粒子(シリカ粒子)がモノマー中に均一分散したモノマー分散液を得た。
コロイド分散液中の前記モノマーを重合した後の平均膜厚が20μmとなるようにしてスプレー塗装した以外は、実施例2と同様にして、基板上にポリマーで固定化された比較のためのコロイド結晶膜を得た。
コロイド分散液中の前記モノマーを重合した後の平均膜厚が50μmとなるように、スプレー塗装した以外は、実施例2と同様にして、基板上にポリマーで固定化された比較のためのコロイド結晶膜を得た。
トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート(東亞合成製 アロニックスM−350)を分散媒として用いて、前記分散媒中に、Stober法にて合成したシリカ粒子(平均粒子径200nm、単分散度:5%)を含有量が27体積%になるように添加した後、室温(25℃)条件下で超音波(45kHz)を3時間印加して分散させ、コロイド粒子(シリカ粒子)がモノマー中に均一分散した分散液を得た。なお、このようにして得られた分散液の粘度は、レオメトリックス・サイエンティフィック社製の「フルードスペクトロメータ ARES」にて、直径25mm、コーン角度0.1°のコーンプレートを用い、温度:25±0.1℃、せん断速度:1000s−1の条件で測定したところ、200mPa・sであった。
製造例1で得られた分散液に、分散液量に対して10質量%のエタノールを添加して、コロイド分散液を調製した。なお、かかるコロイド分散液の粘度は、レオメトリックス・サイエンティフィック社製の「フルードスペクトロメータ ARES」にて、直径25mm、コーン角度0.1°のコーンプレートを用い、温度:25±0.1℃、せん断速度:1000s−1の条件で測定したところ、39mPa・sであった。なお、このようなコロイド分散液に対して、相馬光学社製の商品名「マルチチャンネル分光計 Fastvert」を用いて反射スペクトルを測定したところ、反射ピークが認められ、コロイド分散液中においてコロイド結晶が形成されていることが確認された。
製造例1で得られた分散液に添加するエタノールの量を10wt%から5wt%に変更してコロイド分散液を調製した以外は、実施例3と同様にして、基板上にポリマーで固定化されたコロイド結晶膜を得た。なお、実施例4で用いたコロイド分散液は、レオメトリックス・サイエンティフィック社製の「フルードスペクトロメータ ARES」にて、直径25mm、コーン角度0.1°のコーンプレートを用いて測定される温度:25±0.1℃、せん断速度:1000s−1の条件での粘度が80mPa・sであった。
コロイド分散液の代わりに、製造例1で得られた分散液(粘度:200mPa・s)を用いた以外は、実施例3と同様にして、基板上にポリマーで固定化された比較のためのコロイド結晶膜を得た。
コロイド分散液中の前記モノマーを重合した後の平均膜厚が20μmとなるようにしてスプレー塗装した以外は、実施例3と同様にして、基板上にポリマーで固定化された比較のためのコロイド結晶膜を得た。
コロイド分散液中の前記モノマーを重合した後の平均膜厚が50μmとなるようにしてスプレー塗装した以外は、実施例3と同様にして、基板上にポリマーで固定化された比較のためのコロイド結晶膜を得た。
先ず、ABS樹脂基板の変わりに100mm角のガラス基板を用いた以外は、実施例2と同様にして、平均膜厚35μmのコロイド結晶膜を得た。なお、このようなコロイド結晶膜は十分に平滑なものであり、また反射スペクトルにおいて反射率が30%を超えており、十分に高度な反射率の反射ピークを有することが確認された。
先ず、ABS樹脂基板の変わりに、実施例1で用いた黒塗装基板を用いた以外は、実施例2と同様にして、平均膜厚35μmのコロイド結晶膜を得た。なお、このようなコロイド結晶膜は十分に平滑なものであり、また、反射スペクトルにおいて反射率が30%を超えており、十分に高度な反射率の反射ピークを有することが確認された。
Claims (6)
- モノマーを少なくとも1種含有する分散媒成分と、平均粒径が0.01〜10μmの範囲にあり且つ下記式(1):
[単分散度(単位:%)]=([粒径の標準偏差]/[平均粒径])×100 (1)
で表される単分散度が20%以下であるコロイド粒子とを含有し、前記分散媒成分中において前記コロイド粒子が反射スペクトルにおいて反射ピークを有する3次元規則配列状態で分散されており、且つ、25℃±0.1℃の温度条件下においてせん断速度1000S−1で測定される粘度が10〜100mPa・sであるコロイド分散液を、重合後の平均厚みが25〜45μmとなるように基材上にスプレー塗装し、前記基材上に塗膜を形成する工程と、
前記塗膜中の前記分散媒成分を重合せしめ、前記基材上にポリマーで固定化された平均厚み25〜45μmのコロイド結晶膜を製造する工程と、
を含むことを特徴とするコロイド結晶膜の製造方法。 - 前記コロイド結晶膜が、反射スペクトルにおいて反射率が30%を超え且つ半値幅が50nm以下である反射ピークを有することを特徴とする請求項1に記載のコロイド結晶膜の製造方法。
- 前記分散媒成分が、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールトリ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート及びポリプロピレングリコールトリ(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1種の親水性モノマーからなることを特徴とする請求項1又は2に記載のコロイド結晶膜の製造方法。
- 前記コロイド粒子が、シリカ、ポリスチレン及びポリメタクリル酸メチルからなる群から選択される少なくとも1種の材料からなる粒子であることを特徴とする請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のコロイド結晶膜の製造方法。
- 請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載のコロイド結晶膜の製造方法により得られることを特徴とするコロイド結晶膜。
- 請求項5に記載のコロイド結晶膜を粉砕して得られることを特徴とするコロイド結晶顔料。
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US11892665B2 (en) | 2019-01-23 | 2024-02-06 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Colloidal crystal structure, and light-emitting device and lighting system using same |
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