WO2019244713A1 - コロイド構造体、コロイド多重構造体、及びコロイド構造体の製造方法 - Google Patents

コロイド構造体、コロイド多重構造体、及びコロイド構造体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2019244713A1
WO2019244713A1 PCT/JP2019/023093 JP2019023093W WO2019244713A1 WO 2019244713 A1 WO2019244713 A1 WO 2019244713A1 JP 2019023093 W JP2019023093 W JP 2019023093W WO 2019244713 A1 WO2019244713 A1 WO 2019244713A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
colloidal
particles
colloid
peak wavelength
reflection
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/023093
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
亮祐 鴫谷
俊平 藤井
Original Assignee
パナソニックIpマネジメント株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by パナソニックIpマネジメント株式会社 filed Critical パナソニックIpマネジメント株式会社
Priority to US16/973,935 priority Critical patent/US20210246330A1/en
Priority to EP19823361.1A priority patent/EP3812428A4/en
Priority to CN201980040603.5A priority patent/CN112424290B/zh
Priority to JP2020525588A priority patent/JP7304544B2/ja
Publication of WO2019244713A1 publication Critical patent/WO2019244713A1/ja

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D135/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least another carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D135/02Homopolymers or copolymers of esters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/24Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F122/00Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
    • C08F122/10Esters
    • C08F122/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. ethylene glycol dimethacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/004Reflecting paints; Signal paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/68Particle size between 100-1000 nm
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/002Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials
    • G02B1/005Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials made of photonic crystals or photonic band gap materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/206Filters comprising particles embedded in a solid matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/26Reflecting filters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/002Physical properties
    • C08K2201/005Additives being defined by their particle size in general
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V9/00Elements for modifying spectral properties, polarisation or intensity of the light emitted, e.g. filters
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21YINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
    • F21Y2115/00Light-generating elements of semiconductor light sources
    • F21Y2115/10Light-emitting diodes [LED]

Definitions

  • the present invention relates to a colloid structure, a colloid multi-structure, and a method for producing a colloid structure.
  • a collection of nano-sized colloidal particles arranged three-dimensionally and periodically is called a colloidal crystal because of its similarity to ordinary crystals.
  • light diffraction interference occurs inside the colloidal crystal, so that a phenomenon of reflecting light of a specific wavelength occurs due to the periodic structure.
  • a colloidal crystal composed of submicron-size colloidal particles can reflect light in the range from ultraviolet to visible, and even infrared, depending on the particle size. From such characteristics, application of colloidal crystals to coloring materials, optical memory materials, display devices, optical filters, optical switches, sensors, and the like has been studied.
  • Patent Document 1 a step of coating a colloidal dispersion liquid in which colloid particles are dispersed in a three-dimensionally ordered state in a dispersion medium component on a substrate to form a coating film, and dispersing the dispersion medium component in the coating film
  • a method for producing a colloidal crystal film including a step of polymerizing and producing a colloidal crystal film is disclosed.
  • Patent Document 1 discloses that a colloidal crystal film having a predetermined reflection peak in a reflection spectrum is obtained by the above-described production method, and a colloidal crystal pigment is obtained by further pulverizing the colloidal crystal film. I have.
  • the reflection peak wavelength in the reflection spectrum shifts by changing the concentration of the colloid particles in the colloidal crystal film.
  • the concentration of the colloidal particles is within a predetermined range, the colloidal crystal film shows a high reflectance, but when the concentration is out of the predetermined range, the reflectance is greatly reduced. Therefore, when the reflection peak wavelength is adjusted by changing the concentration of the colloidal particles, there is a problem that the light reflectivity of the colloidal crystal film is reduced.
  • an object of the present invention is to provide a colloid structure, a colloid multi-structure, and a colloid structure capable of adjusting a reflection peak wavelength in a reflection spectrum by a simple method while suppressing a decrease in light reflectivity. It is to provide a manufacturing method of.
  • the colloid structure according to the first aspect of the present invention includes a plurality of types of colloid particles and a base on which the colloid particles are fixed.
  • the plurality of types of colloid particles include at least a first colloid particle and a second colloid particle having different average particle diameters.
  • the coefficient of variation of the particle diameter of each of the first colloidal particles and the second colloidal particles is less than 20%.
  • the plurality of types of colloid particles form an ordered array structure in the matrix.
  • the multi-layered colloidal structure according to the second aspect of the present invention includes a plurality of colloidal structures.
  • the colloid multi-structure according to the third aspect of the present invention includes a colloid structure and a colloid crystal.
  • the colloidal crystal includes only one type of colloidal particle and a parent body fixing the only one type of colloidal particle. Then, only one type of colloidal particles forms an ordered array structure in the matrix.
  • the method for producing a colloidal structure according to the fourth aspect of the present invention is a method for producing a colloidal structure, comprising the steps of: By dispersing together, a colloidal dispersion preparing step of preparing a colloidal dispersion liquid, a colloidal dispersion liquid is applied on a substrate, a coating film forming step of generating a coating film, and by polymerizing the monomers in the coating film, And a polymerization step of immobilizing a plurality of types of colloid particles with a polymer. In the polymerization step, a plurality of types of colloid particles form an ordered array structure in the polymer. The coefficient of variation of the particle diameter of each of the first colloidal particles and the second colloidal particles is less than 20%.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of the colloid structure according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which two types of colloidal particles having different particle diameters are individually collected and in a eutectic state.
  • FIG. 3 is a sectional view schematically showing an example of a structure using the colloidal structure according to the present embodiment.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of the colloid multi-structure and the multi-structure according to the present embodiment.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an example of the colloidal multi-structure and the multi-structure according to the present embodiment.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of the colloidal multi-structure and the multi-structure according to the present embodiment.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a colloid multi-structure and a multi-structure according to the present embodiment.
  • FIG. 8 is a sectional view illustrating an example of the light emitting device according to the present embodiment.
  • FIG. 9 is a perspective view illustrating an example of the illumination system according to the present embodiment.
  • FIG. 10A is an exploded perspective view showing a lamp in the lighting system according to the present embodiment.
  • FIG. 10B is a schematic cross-sectional view showing the light source unit in which the area A in FIG. 10A is enlarged.
  • FIG. 11 is a diagram showing a reflection spectrum of the test sample of Example 1-1.
  • FIG. 12 is a diagram showing a reflection spectrum of the test sample of Example 1-2.
  • FIG. 13 is a diagram showing a reflection spectrum of the test sample of Example 1-3.
  • FIG. 14 is a diagram also showing the reflection spectra of the test samples of Examples 1-1 to 1-3.
  • FIG. 15 also shows the reflection spectra of the test samples of Comparative Examples 1-1 to 1-3.
  • FIG. 16 is a photograph showing the surface of the test sample of Example 1-1 observed with a scanning electron microscope.
  • FIG. 17 is a photograph showing the surface of the test sample of Example 1-3 observed with a scanning electron microscope.
  • FIG. 18 is a photograph showing the cross section of the test sample of Example 1-1 observed with a scanning electron microscope.
  • FIG. 19 is an enlarged photograph of the area denoted by reference numeral B in FIG.
  • FIG. 20 is a diagram illustrating a reflection spectrum of the test sample of Example 2.
  • the colloid structure of the present embodiment includes a colloid crystal in which colloid particles are three-dimensionally and periodically arranged.
  • the colloid structure 10 includes a plurality of types of colloid particles and a base 3 to which the colloid particles are fixed.
  • the plurality of types of colloidal particles include at least a first colloidal particle 1 and a second colloidal particle 2, and the first colloidal particle 1 and the second colloidal particle 2 have different average particle diameters. I have.
  • the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 are three-dimensionally and regularly arranged in a state of being mixed with each other.
  • the base 3 is interposed between the two colloid particles 2. That is, the colloidal structure 10 does not have a closely packed colloidal crystal in which a plurality of types of colloid particles are in contact with each other, but a loosely packed colloidal crystal in which a plurality of types of colloidal particles are separated from each other. Have. By having such a loosely packed colloidal crystal, part of the light applied to the colloidal structure 10 is reflected by Bragg, and part of the light not reflected can pass through the colloidal structure 10.
  • the colloid particles contained in the colloid structure 10 preferably contain at least one of an inorganic material and a resin material. That is, in the colloid structure 10, the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2 preferably include at least one of an inorganic material and a resin material.
  • the colloidal particles contain an inorganic material, the durability of the obtained colloidal crystal can be enhanced.
  • the colloid particles contain an organic material, the shape of the colloid particles can be easily made to be a true sphere, so that the colloid particles can easily form an ordered array structure.
  • the colloid particles may be formed only from an inorganic material, or may be formed only from a resin material. Further, the colloid particles may be formed from both an inorganic material and a resin material.
  • the inorganic material for example, metals such as gold and silver, and metal oxides such as silica, alumina and titania can be used.
  • a styrene resin, an acrylic resin, or the like can be used as the resin material. These materials may be used alone or in combination of two or more.
  • Styrene resin is obtained by polymerizing a styrene monomer as a main component.
  • the styrene monomer include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, ⁇ -methylstyrene, and p-methoxystyrene.
  • p-tert-butylstyrene, p-phenylstyrene, o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, and p-chlorostyrene are also included.
  • One of these styrene monomers may be used alone, or two or more of them may be used in combination.
  • it means that a main component is 50 mass% or more.
  • the acrylic resin is obtained by polymerizing a (meth) acrylic monomer as a main component, and may contain another monomer copolymerizable with the (meth) acrylic monomer.
  • examples of such (meth) acrylic monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate.
  • ⁇ -carboxyethyl (meth) acrylate diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and tripropylene glycol di (meth) acrylate are also included. Further, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol diglycidyl ether di (meth) acrylate are also included.
  • Bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, neopentyl glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and tricyclodecanyl (meth) acrylate are also included.
  • the (meth) acrylic monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the (meth) acrylic monomer includes a methacrylic monomer and an acrylic monomer.
  • the colloid particles are preferably made of inorganic particles, and particularly preferably made of silica. Since colloidal particles made of silica are easily procured, the industrial productivity of the colloidal structure 10 can be increased. Further, the colloid particles are preferably made of polymer particles, and particularly preferably made of at least one of an acrylic resin and polystyrene. Since the colloidal particles made of a polymer are easily available in a spherical shape, and the colloidal particles made of an acrylic resin and / or polystyrene are widely used and easily procured, the industrial productivity of the colloidal structure 10 can be increased. It becomes possible.
  • the matrix 3 on which the colloidal particles are fixed preferably contains, for example, a resin. Since the matrix 3 contains the resin, the solid resin fixes the ordered array structure of the colloid particles, so that the mechanical strength of the colloid structure 10 can be increased. In addition, as will be described later, the resin can be cured by an active energy ray, so that the handling property can be improved and the productivity can be improved. In addition, it is preferable that the base 3 use a resin having a high light transmittance in a wavelength range of 300 nm or more and less than 800 nm.
  • the resin used for the base 3 preferably contains at least one selected from the group consisting of acrylic resin, polycarbonate resin, cycloolefin resin, epoxy resin, silicone resin, acryl-styrene copolymer and styrene resin.
  • acrylic resin and styrene resin examples include an aromatic polycarbonate polymer obtained by reacting a dihydric phenol with phosgene or a carbonic acid diester compound, and an aromatic polycarbonate resin which is a copolymer thereof.
  • polycarbonate resin examples include an aliphatic polycarbonate resin obtained by a copolymer of carbon dioxide and an epoxide.
  • examples of the polycarbonate resin include an aromatic-aliphatic polycarbonate obtained by copolymerizing the above-mentioned resins.
  • linear aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, and decanedicarboxylic acid are also exemplified as the copolymerized monomer of the polycarbonate resin.
  • a polycarbonate resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.
  • Cycloolefin resin is a resin having a main chain composed of carbon-carbon bonds and having a cyclic hydrocarbon structure in at least a part of the main chain.
  • the cycloolefin resin include an addition copolymer of ethylene and norbornene, and an addition copolymer of ethylene and tetracyclododecene.
  • Epoxy resin is a resin obtained by curing a prepolymer containing two or more epoxy groups in one molecule with a curing agent.
  • the epoxy resin for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene diol type epoxy resin, and phenol novolak type epoxy resin can be used.
  • cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, cycloaliphatic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin (triglycidyl isocyanurate, diglycidyl hydantoin, etc.) can also be used.
  • modified epoxy resins obtained by modifying these epoxy resins with various materials can also be used.
  • halides of these epoxy resins such as bromides and chlorins, can also be used.
  • the epoxy resin one of these may be used alone, or two or more may be used in combination.
  • any compound can be used as long as the compound has an active group capable of reacting with an epoxy group.
  • a known epoxy curing agent can be used as appropriate, and a compound having an amino group, an acid anhydride group, or a hydroxyphenyl group is particularly suitable.
  • dicyandiamide and its derivatives, organic acid hydrazite, amine imide, aliphatic amine, aromatic amine, tertiary amine, salt of polyamine, microcapsule type curing agent, imidazole type curing agent, acid anhydride, phenol novolak and the like can be mentioned. .
  • the curing agent one of these may be used alone, or two or more may be used in combination.
  • curing accelerators can be used in combination with the above-mentioned curing agents.
  • the curing accelerator include a tertiary amine-based curing accelerator, a urea derivative-based curing accelerator, an imidazole-based curing accelerator, and a diazabicycloundecene (DBU) -based curing accelerator.
  • an organic phosphorus-based curing accelerator for example, a phosphine-based curing accelerator, etc.
  • an onium salt-based curing accelerator for example, a phosphonium salt-based curing accelerator, a sulfonium salt-based curing accelerator, an ammonium salt-based curing accelerator, etc.
  • metal chelate-based curing accelerators, acid and metal salt-based curing accelerators, and the like can also be mentioned.
  • Silicone resin is a resin having a three-dimensional network structure by cross-linking a linear polymer composed of siloxane bonds.
  • the silicone resin include a dimethyl-based silicone in which a side chain is formed of, for example, a methyl group, and an aromatic-based silicone in which a part is substituted with an aromatic-based molecule.
  • an aromatic silicone is particularly preferable as the silicone resin.
  • the silicone resin may be composed of a condensate obtained by hydrolyzing alkoxysilane and then performing dehydration condensation.
  • alkoxysilane include, for example, triphenylethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylethoxysilane, triphenylmethoxysilane, triethylmethoxysilane, and ethyldimethylmethoxysilane.
  • Methyl diethylmethoxysilane, ethyldimethylethoxysilane, methyldiethylethoxysilane, phenyldimethylmethoxysilane, phenyldiethylmethoxysilane, phenyldimethylethoxysilane, and phenyldiethylethoxysilane are also included.
  • methyl diphenylmethoxy silane, ethyl diphenyl methoxy silane, methyl diphenyl ethoxy silane, ethyl diphenyl ethoxy silane, tert-butoxy trimethyl silane, and butoxy trimethyl silane are also included.
  • Vinyl trimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, and ⁇ -methacryloxypropyltriethoxysilane are also included.
  • N- ⁇ (aminoethyl) ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane N- ⁇ (aminoethyl) ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ -aminopropyltriethoxysilane are also included.
  • Examples thereof include methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, N- ⁇ -phenyl- ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ -chloropropyltrimethoxysilane, and ⁇ -mercaptopropyltrimethoxysilane.
  • Triethoxysilane, trimethoxysilane, triisopropoxysilane, tri-n-propoxysilane, triacetoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane are also included.
  • the hydrolysis condensate of an alkoxysilane may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • the acrylic-styrene copolymer is obtained by polymerizing a (meth) acrylic monomer and a styrene monomer as main components. Further, the acryl-styrene copolymer may contain another monomer copolymerizable with the (meth) acrylic monomer and the styrene monomer. Examples of the acryl-styrene copolymer include a styrene- (meth) acrylate copolymer, a styrene-diethylaminoethyl methacrylate copolymer, and a styrene-butadiene-acrylate copolymer.
  • the average particle diameter of the colloid particles in the colloid structure 10 is preferably 0.01 ⁇ m to 10 ⁇ m, more preferably 10 nm to 1000 nm, further preferably 50 nm to 300 nm, and more preferably 70 nm to 280 nm. Is particularly preferred.
  • the average particle diameter of the colloid particles is 0.01 ⁇ m or more, the cohesive force between the surfaces of adjacent colloid particles is reduced, and the colloid particles tend to be uniformly dispersed in a dispersion described later.
  • the average particle diameter of the colloid particles is 10 ⁇ m or less, sedimentation of the colloid particles is suppressed, and the colloid particles tend to be easily dispersed uniformly in the dispersion.
  • the average particle diameter of the colloidal particles can be determined by observing the surface of the colloidal structure 10 with a scanning electron microscope and measuring the particle diameters of a plurality of colloidal particles.
  • the colloid structure 10 has a plurality of types of colloid particles, and the colloid particles include at least the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2. Then, the coefficient of variation of the particle diameter of each of the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2 is preferably less than 20%.
  • the variation coefficient of the particle diameter is a value obtained by Expression 1, and the smaller this value is, the smaller the variation of the particle diameter is.
  • the variation coefficient of the particle diameter of each of the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2 is more preferably less than 15%, more preferably less than 12%, and further preferably less than 10%. Is particularly preferred, and most preferably less than 8%.
  • the plurality of types of colloidal particles may include third colloidal particles and fourth colloidal particles having different average particle diameters in addition to the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2. Then, the coefficient of variation of the particle diameter of each of the third colloid particles and the fourth colloid particles is preferably less than 20%.
  • the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 have different average particle diameters. Then, as shown in FIG. 1, in the colloid structure 10, the average particle diameter of the first colloid particles 1 is larger than the average particle diameter of the second colloid particles 2. As described above, since the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2 having different particle diameters have a regular array structure, the reflection peak wavelength in the reflection spectrum is adjusted while suppressing the decrease in light reflectivity. It is possible to obtain a colloidal structure 10 that can be used. It is to be noted that the ordered array structure formed by the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2 is preferably, for example, a close-packed structure, a face-centered cubic structure, or a body-centered cubic structure.
  • the reflection ratio is adjusted by adjusting the content ratio and / or the particle size of the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 while maintaining the regular arrangement structure of the colloidal particles.
  • the peak wavelength can be shifted. Therefore, the colloidal structure 10 can adjust the reflection peak by a simple method, while having high light reflectivity.
  • the colloidal structure 10 of the present embodiment preferably forms a colloidal solid solution in which a plurality of types of colloidal particles are mixed and crystallized.
  • the “colloidal solid solution” refers to a colloidal crystallization in which a plurality of types of colloidal particles are mixed and having a crystal structure similar to a solid solution. That is, as shown in FIG. 1, the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 which are different from each other are mixed to form a regular array structure, and form an aggregate like a solid solution.
  • the colloidal structure 10 can be said to be a structure in which a part of the first colloidal particles 1 forming an ordered array structure is replaced by the second colloidal particles 2 while maintaining the ordered arrayed structure.
  • the colloidal structure 10 can be said to be a structure in which a part of the second colloidal particles 2 forming the ordered array structure is replaced by the first colloidal particles 1 while maintaining the ordered array structure. Since the colloidal structure 10 has such a colloidal solid solution, the characteristics of the colloidal crystal composed of the first colloidal particles 1 and the characteristics of the colloidal crystal composed of the second colloidal particles 2 are simply combined. Colloidal crystals having characteristics different from those of the above. That is, the colloidal structure 10 can form a structure having a property intermediate between the colloidal crystal composed of the first colloidal particles 1 and the colloidal crystal composed of the second colloidal particles 2.
  • the colloid structure 10 can have a reflection peak between the reflection peak of the colloidal crystal composed of the first colloidal particles and the reflection peak of the colloidal crystal composed of the second colloidal particles.
  • the reflection peak wavelength of the colloid structure 10 can be changed by adjusting the content ratio and / or the particle size of the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2. Therefore, by adjusting these, the reflection peak is shifted to an arbitrary position between the reflection peak of the colloidal crystal composed of the first colloidal particles and the reflection peak of the colloidal crystal composed of the second colloidal particles. Becomes possible.
  • the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 are mixed in the colloidal structure 10 to form an aggregate as if it were a solid solution.
  • the colloidal crystal is not in a eutectic state in which a colloidal crystal composed of colloidal particles 11 having a large particle diameter and a colloidal crystal composed of colloidal particles 12 having a small particle diameter are mixed.
  • a reflection peak caused by the colloid crystal composed of the colloid particles 11 and a reflection peak caused by the colloid crystal composed of the colloid particles 12 appear, and it may be difficult to shift the reflection peak to an arbitrary position.
  • the colloidal structure 10 has a regular array structure in which a plurality of types of colloidal particles are like a solid solution.
  • the reflection peak wavelength of a colloidal crystal containing only the first colloidal particles 1 as colloidal particles is ⁇ 1
  • the reflection peak wavelength of a colloidal crystal containing only the second colloidal particles 2 as colloidal particles is ⁇ 2.
  • the colloid structure 10 preferably has a reflection peak wavelength ⁇ of the reflection spectrum between ⁇ 1 and ⁇ 2.
  • the reflection peak wavelength ⁇ can be shifted to an arbitrary position between ⁇ 1 and ⁇ 2 by adjusting the content ratio and / or the particle size of the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2. it can. Therefore, the reflection peak wavelength ⁇ of the colloidal structure 10 can be adjusted by a simple method.
  • the absolute value of the difference between ⁇ 1 and ⁇ 2 (
  • the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2 are easily mixed to form an ordered structure. Therefore, a colloidal solid solution containing the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 can be easily formed, and the reflection peak wavelength ⁇ can be shifted to an arbitrary position between ⁇ 1 and ⁇ 2.
  • the ratio d1 / d2 of the average particle diameter is 1.05 or more. Preferably it is less than 1.60.
  • the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2 are easily mixed to form an ordered structure. Therefore, a colloidal solid solution including the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 can be easily formed, and the reflection peak can be shifted to an arbitrary position.
  • the distance d between the centers of adjacent colloidal particles is preferably 100 nm or more and 300 nm or less, more preferably 140 nm or more and 300 nm or less.
  • a desired wavelength can be reflected by adjusting the distance d between the centers of the colloid particles.
  • the center distance d between adjacent colloid particles can be determined by observing the surface of the colloid structure 10 with a scanning electron microscope.
  • the ratio of the volume of the colloid particles to the volume of the matrix 3 is preferably 20% by volume or more and 50% by volume or less.
  • the “volume of colloid particles” refers to the volume of the entire colloid particles including the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2.
  • the volume ratio is 20% by volume or more, a plurality of types of colloidal particles are three-dimensionally arranged in the matrix 3 and the light reflectivity of the colloidal structure 10 can be further increased.
  • the volume ratio is 50% by volume or less, the three-dimensional regular array structure formed in the base 3 can be easily controlled.
  • volume ratio is 20% by volume or more and 50% by volume or less
  • a plurality of types of colloidal particles become loosely packed colloidal crystals separated from each other, and the matrix 3 can be interposed between the colloidal particles. Therefore, it is possible to further enhance the shape stability of the colloidal structure 10.
  • the colloid structure 10 can reflect an arbitrary light component by adjusting the content ratio and / or the particle size of the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2. Therefore, it is preferable that the colloid structure 10 has a reflection peak wavelength ⁇ of the reflection spectrum within a wavelength range of 300 nm or more and less than 800 nm. In this case, since the colloidal structure 10 exhibits a reflection characteristic in a visible light region, the colloidal structure 10 is a structure that is industrially easily used, such as an optical filter and a coloring material. It is more preferable that the colloidal structure 10 has a reflection peak wavelength ⁇ of the reflection spectrum within a wavelength range of 450 nm or more and less than 650 nm.
  • the colloidal structure 10 preferably has a maximum reflectance of 20% or more and less than 100% in a wavelength range of 300 nm or more and less than 800 nm.
  • the colloidal structure 10 can selectively reduce the light intensity at the reflection peak wavelength ⁇ of the reflection spectrum, the colloidal structure 10 is a structure easily used industrially, such as an optical filter.
  • the colloid structure 10 adjusts the content ratio and / or particle diameter of the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2 to adjust the wavelength of reflected light and the The intensity can be controlled. Then, the desired light is extracted from the colloid structure 10 by reflecting a part of the light in the specific wavelength range instead of reflecting all the light in the specific wavelength range as in the conventional optical interference filter. Can be. For example, when all light in a specific wavelength range is reflected, light transmitted through the colloidal structure 10 goes away from natural white light. However, by reflecting a part of light in a specific wavelength range, natural light is reflected. The color rendering can be enhanced while maintaining white light.
  • the maximum value of the reflectance of the colloidal structure 10 in the wavelength range of 300 nm or more and less than 800 nm is preferably 20% to 95%, and more preferably 20% to 80%.
  • the colloidal structure 10 When the colloidal structure 10 is used as an optical filter described below, the colloidal structure 10 has a full width at half maximum (FWHM) of a reflection spectrum having a maximum reflectance in a wavelength range of 300 nm or more and less than 800 nm (FWHM) of 5 nm or more and 100 nm or less. Preferably, there is.
  • the half width tends to be smaller as the variation in the layer thickness of the colloidal structure 10 and the arrangement of the colloidal particles are precisely controlled. Therefore, from the viewpoint of productivity, the half width is preferably set to 5 nm or more. Further, by setting the half width to 100 nm or less, for example, it is possible to reduce the possibility that light having a wavelength necessary to enhance the color rendering properties is reflected by the colloid structure 10. Further, by setting the half width to 100 nm or less, it is possible to suppress a decrease in luminous efficiency in the light emitting device including the colloidal structure 10. Note that the half width is more preferably from 10 nm to 60
  • the colloidal structure 10 may form the structure 100 by being supported by the substrate 4 as shown in FIG.
  • the structure 100 includes the colloid structure 10 and the substrate 4 that supports the colloid structure 10. Since the colloidal structure 10 is supported by the substrate 4, it is possible to enhance the handleability and mechanical strength of the colloidal structure 10.
  • the colloid structure 10 may be in contact with the surface of the substrate 4 as shown in FIG. 3, an intervening layer (not shown) may be disposed between the colloid structure 10 and the substrate 4.
  • the substrate 4 has high translucency.
  • the total light transmittance of the substrate 4 is preferably 80% to 100%, and more preferably 85% to 100%.
  • the total light transmittance is measured by, for example, a method such as Japanese Industrial Standard JIS K7361-1: 1997 (ISO 13468-1: 1996) (Plastic—Testing method of total light transmittance of transparent material—Part 1: Single beam method). Can be measured.
  • a glass plate such as soda-lime glass, low-alkali borosilicate glass, and non-alkali aluminoborosilicate glass can be used.
  • a resin plate of polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate, or the like can be used as the substrate 4.
  • the shape of the colloidal structure 10 is not particularly limited, and may be, for example, a film.
  • the thickness of the colloidal structure 10 is not particularly limited, but is preferably, for example, 10 ⁇ m to 5000 ⁇ m, and more preferably, 1000 ⁇ m to 3000 ⁇ m.
  • the shape of the outermost surface of the colloidal structure 10 is not particularly limited, and may be smooth or may have a fine uneven shape due to the colloid particles.
  • the area of the colloidal structure 10 is not particularly limited, it is preferable that the 5 mm 2 or more 100 cm 2 or less. In this case, the structure 100 can be applied to a wide range of applications from various sensors to large lighting devices.
  • the colloidal structure 10 of the present embodiment includes a plurality of types of colloidal particles and the base 3 to which the colloidal particles are fixed.
  • the plurality of types of colloid particles include at least a first colloid particle 1 and a second colloid particle 2 having different average particle diameters, and a variation coefficient of the particle diameter of the first colloid particle 1 and the second colloid particle 2. Are each less than 20%.
  • the plurality of types of colloid particles form a regular array structure in the matrix 3.
  • the colloidal structure 10 of the present embodiment forms a loosely packed colloidal crystal by fixing the colloidal particles with the matrix 3. Therefore, part of the light applied to the colloidal structure 10 is Bragg-reflected, and part of the light not reflected can pass through the colloidal structure 10.
  • the colloid structure 10 can shift the reflection peak wavelength by adjusting the content ratio and / or the particle diameter of the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2. Therefore, the colloidal structure 10 can adjust the reflection peak by a simple method while maintaining high light reflectivity.
  • the regular array structure in the colloidal structure 10 is preferably, for example, a close-packed structure, a face-centered cubic structure, or a body-centered cubic structure.
  • the colloidal structure 10 forms a colloidal solid solution in which a plurality of types of colloidal particles are mixed and crystallized.
  • a structure having an intermediate property between the colloid crystal composed of the first colloid particles 1 and the colloid crystal composed of the second colloid particles 2 is obtained. Therefore, by adjusting the content ratio and / or the particle size of the first and second colloidal particles, the reflection peak of the colloidal crystal composed of the first colloidal particle and the reflection peak of the colloidal crystal composed of the second colloidal particle are adjusted.
  • the colloidal structure 10 since the colloidal particles are fixed by the matrix 3, it is preferable that adjacent colloidal particles are separated from each other as shown in FIG. Thereby, since the colloidal structure 10 is a loosely packed colloidal crystal, high light reflectivity can be exhibited. However, it is not necessary that all the colloid particles are separated from each other, and the above-described effect can be exerted even when some of the colloid particles are in contact with each other.
  • the colloid structure 10 of the present embodiment a part of the irradiated light can be reflected by Bragg and a part of the light not reflected can be transmitted. Therefore, the colloid structure 10 can be applied as an optical member that controls at least one of transmission, reflection, and diffraction of light. Specifically, the colloid structure 10 can be applied to, for example, a coloring material, an optical memory material, a display device, an optical switch, a sensor, and the like. Further, the colloid structure 10 can be used as an optical filter of a light emitting device and a lighting system, as described later.
  • the colloidal structure 10 can have a highly ordered three-dimensional ordered structure, the colloidal structure 10 can exhibit properties as a photonic crystal. For this reason, such a colloidal structure 10 can be used as an optical member utilizing a property of confining light having a specific frequency, which is a property of a photonic crystal, or a frequency conversion effect based on a complicated photonic band structure. it can.
  • the colloid structure 10 can be used as a coloring material, the colloid structure 10 can be applied to building materials or ornaments.
  • the plurality of types of colloidal particles, the first colloidal particles, the second colloidal particles, and the matrix are the same as those described for the above-mentioned colloidal structure, and thus description thereof will be omitted.
  • a plurality of types of colloidal particles including at least a first colloidal particle and a second colloidal particle are dispersed together with one or more types of monomers to prepare a colloidal dispersion.
  • a plurality of types of colloid particles are added to a monomer that forms the base 3 by polymerization.
  • liquid monomers can be used as the monomers, and powdery colloidal particles can be used.
  • the method of dispersing the colloid particles in the monomer is not particularly limited, and the colloid particles can be dispersed by, for example, stirring and ultrasonic irradiation.
  • the first colloidal particle powder and the second colloidal particle powder are each weighed and then prepared by adding these to a monomer. Good. However, each time a colloidal structure is manufactured, weighing fine powder may be complicated. Therefore, in the present embodiment, a plurality of types of colloid particles are mixed by mixing the first colloid dispersion liquid in which the first colloid particles are dispersed and the second colloid dispersion liquid in which the second colloid particles are dispersed. May be prepared.
  • a first colloidal dispersion obtained by adding and dispersing the powder of the first colloidal particles to the monomer and a second colloidal dispersion obtained by adding and dispersing the powder of the second colloidal particle to the monomer are used.
  • the first colloid dispersion liquid and the second colloid dispersion liquid are weighed according to the content ratio of the first colloid particles and the second colloid particles.
  • a colloidal dispersion containing a plurality of types of colloidal particles can be obtained.
  • a photopolymerization initiator or the like may be added to the colloidal dispersion.
  • known photopolymerization initiators such as a radical photopolymerization initiator, a cationic photopolymerization initiator, and an anion photopolymerization initiator can be used.
  • the obtained colloidal dispersion is applied onto a substrate to form a coating film.
  • the method for applying the colloidal dispersion liquid is not particularly limited, and for example, a spray coating method, a spin coating method, a slit coating method, a roll coating method, and the like can be used.
  • the colloid particles are three-dimensionally and regularly arranged by allowing the coating film to stand still.
  • a plurality of types of colloid particles are fixed with the polymer.
  • the method for polymerizing the monomer is not particularly limited, and the monomer may be polymerized by heating, or may be polymerized by an active energy ray (electromagnetic wave, ultraviolet light, visible light, infrared light, electron beam, ⁇ -ray, or the like).
  • an active energy ray electromagnetium wave, ultraviolet light, visible light, infrared light, electron beam, ⁇ -ray, or the like.
  • the method for producing a colloidal structure includes dispersing a plurality of types of colloidal particles including at least a first colloidal particle and a second colloidal particle having different average particle sizes together with one or more types of monomers, It has a dispersion liquid preparation step of preparing a colloid dispersion liquid.
  • the production method includes a coating film forming step of coating a colloidal dispersion liquid on a substrate to form a coating film, and a polymer for immobilizing a plurality of types of colloid particles with a polymer by polymerizing monomers in the coating film. Having a conversion step.
  • a plurality of types of colloid particles form an ordered array structure in the polymer. And the variation coefficient of the particle diameter of each of the first colloid particles and the second colloid particles is less than 20%.
  • a colloidal dispersion containing a plurality of types of colloidal particles can be obtained by mixing the first and second colloidal dispersions prepared in advance. . Therefore, it is possible to obtain a colloid structure by a simpler method than before.
  • the colloidal structure 10 of the present embodiment includes a plurality of types of colloidal particles and the base 3 on which the colloidal particles are fixed. Is formed.
  • the reflection peak wavelength of the colloid structure 10 can be shifted by adjusting the content ratio and / or the particle diameter of the first colloid particles 1 and the second colloid particles 2. Therefore, it is possible to adjust the reflection peak by a simple method while maintaining high light reflectivity.
  • the colloidal structure 10 is to be made thicker in order to increase the light reflectivity, self-assembly of the colloidal particles becomes difficult, and there is a possibility that the colloidal particles do not form a regular array structure. If the colloidal particles do not form a regular array structure, it may be difficult to obtain desired reflection characteristics.
  • the present embodiment is characterized in that a plurality of layers of the colloidal structure 10 are laminated.
  • the multi-layered colloidal structure 20 includes a plurality of colloidal structures 10, and a plurality of colloidal structures 10 are further laminated.
  • a high reflectance for example, not obtained with a structure in which a single layer is thickened
  • an optical member capable of reflecting light of a plurality of wavelengths can be obtained.
  • the plurality of stacked colloidal structures 10 may be configured to have different reflection characteristics from each other. That is, regarding the colloidal multi-structure, the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of one colloidal structure and the peak wavelength of the reflection spectrum of the other colloidal structure in two colloidal structures selected from a plurality of colloidal structures. Preferably exceeds 10 nm.
  • the colloidal multiple structure 20 shown in FIG. 4A it is preferable that the colloidal structures 10a and 10b have different regular arrangement structures. It is preferable that the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal structure 10a and the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal structure 10b exceeds 10 nm. As a result, the colloid multi-structure 20 has both the reflection characteristics of the colloidal structure 10a and the reflection characteristics of the colloidal structure 10b, so that an optical member that can easily diversify the reflection characteristics can be obtained. it can. Further, since the colloidal structures 10a and 10b have different reflection characteristics from each other, it is possible to obtain the colloidal multiplex structure 20 that can reflect light of two wavelengths.
  • the plurality of stacked colloidal structures 10 can be configured to have substantially equal reflection characteristics. That is, regarding the colloidal multi-structure, the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of one colloidal structure and the peak wavelength of the reflection spectrum of the other colloidal structure in two colloidal structures selected from a plurality of colloidal structures. Is preferably 10 nm or less.
  • the colloidal structures 10a and 10b have almost the same regular array structure.
  • the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal structure 10a and the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal structure 10b is preferably 10 nm or less.
  • the reflection characteristics of the colloidal structure 10a and the reflection characteristics of the colloidal structure 10b are almost the same, so that an optical member with enhanced reflectivity can be obtained.
  • the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of one colloidal structure and the peak wavelength of the reflection spectrum of the other colloidal structure is 5 nm or less. Is more preferable.
  • the multi-layered colloidal structure 20 according to the present embodiment may be supported by the substrate 4 to form a multi-layered structure 200 as shown in FIG.
  • the multilayer structure 200 includes the colloid multilayer structure 20 and the substrate 4 that supports the colloid multilayer structure 20.
  • the strength of the colloid multi-structure 20 is improved, it is possible to improve the handleability of the colloid multi-structure 20.
  • the protective film is provided only on one surface 4a side. Good. Therefore, the manufacturing process of the multiple structure 200 can be simplified.
  • the adhesive layer 21 is provided between the adjacent colloidal structures 10, that is, between the colloidal structures 10a and 10b. Good. Thereby, the adhesion between the colloidal structures 10 can be enhanced, and the separation of the colloidal structures 10 can be suppressed. Further, the multi-layered colloidal structure 20A may be supported by the substrate 4 to form the multi-layered structure 200A. Although not shown, an adhesive layer 21 may be provided between the colloidal structure 10b and the substrate 4.
  • the material forming the adhesive layer 21 is not particularly limited, but it is preferable to use a material having a refractive index close to that of the base 3 of the colloidal structure 10. Thereby, Fresnel reflection between the colloid structure 10 and the adhesive layer 21 can be suppressed, and the transmittance of light of a specific wavelength can be increased.
  • the adhesive layer for example, an acrylic adhesive containing an acrylic resin can be used.
  • the colloid multi-layer structure 20 can be provided only on one surface 4a of the substrate 4.
  • the present embodiment is not limited to such a configuration, and as shown in FIG. 4C, the colloid is applied to both one surface 4a of the substrate 4 and the other surface 4b opposite to the one surface 4a.
  • the structure 10 may be provided.
  • the multiple structure 200B by arranging the plurality of colloidal structures 10 on both surfaces of the substrate 4, the strength of the multiple structure 200B is improved, and the handleability can be improved.
  • the one surface 4a and the other surface 4b of the substrate 4 are both flat surfaces.
  • the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 can easily form an ordered array structure, so that a desired light reflectance is obtained. Can be increased. Furthermore, by using the same constituent material for the colloidal structures 10a and 10b, the linear expansion coefficients of the colloidal structures 10a and 10b can be made almost equal. Therefore, by providing the colloidal structure 10 on both the surface 4a and the surface 4b of the substrate 4, the warpage of the multiple structure 200B can be suppressed.
  • the colloid multi-structure of the present embodiment includes a plurality of colloid structures 10.
  • the colloidal multi-structure is not limited to the configuration including the two-layer colloidal structure 10 as shown in FIGS. 4A and 4B, but is shown in FIGS. 5A and 5B.
  • the structure provided with the three-layer colloidal structure 10 as shown in FIG. may be configured to include the colloidal structure 10 having four or more layers.
  • the multi-layered colloidal structure 20B may have a configuration in which the colloidal structures 10a, 10b, and 10c are stacked.
  • no adhesive layer is provided between the colloidal structures 10a and 10b and between the colloidal structures 10b and 10c, and the colloidal structures contact each other. It has become.
  • the colloidal structure 10a, the colloidal structure 10b, and the colloidal structure 10c may have a configuration having different reflection characteristics from each other, or may have a configuration having substantially equal reflection characteristics.
  • the multi-layered colloidal structure 20B may be supported by the substrate 4 to form the multi-layered colloidal structure 200C as shown in FIG.
  • the colloid multi-layer structure 20C includes colloid structures 10a, 10b, and 10c, between the colloid structures 10a and 10b, and between the colloid structures 10b and 10c. And an adhesive layer 21 is provided between them.
  • the colloid multiple structure 20C may be supported by the substrate 4 to form a multiple structure 200D.
  • a multi-layered structure 200E is formed by laminating the colloidal multi-structure 20 on one surface 4a of the substrate 4 and laminating the colloidal structure 10 on the other surface 4b. You can also.
  • the colloid multiple structure 20 has a configuration in which a plurality of colloid structures 10 are stacked.
  • the colloidal multi-layer structure of the present embodiment is not limited to such a configuration, and may have a configuration as shown in FIG. 6A, for example.
  • the colloid multiple structure 20D includes a colloid structure 10 and a colloid crystal 10A.
  • the colloidal crystal 10A includes only one type of colloidal particle 5 and a base 6 on which the only type of colloidal particle 5 is fixed, and only one type of colloidal particle 5 has a regular array structure in the base 6. Has formed.
  • the colloidal multi-structure 20 has both the reflection characteristics of the colloidal structure 10 and the reflection characteristics of the colloidal crystal 10A, so that an optical member that easily diversifies the reflection characteristics can be obtained. it can.
  • the colloidal structure 10 includes at least the first colloidal particles 1 and the second colloidal particles 2 and further has different average particle diameters.
  • the colloidal crystal 10A includes only one type of colloidal particles 5 as colloidal particles.
  • the colloidal crystal body 10A does not have a closely packed colloidal crystal in which the colloidal particles 5 are in contact with each other, but a loosely packed colloidal body in which the colloidal particles 5 are separated from each other. Has crystals. By having such a loosely packed colloidal crystal, a part of the light applied to the colloidal crystal 10A is Bragg-reflected, and a part of the light not reflected can pass through the colloidal crystal 10A.
  • the ordered array structure formed by the colloid particles 5 in the matrix 6 is preferably, for example, a close-packed structure, a face-centered cubic structure, or a body-centered cubic structure.
  • the colloidal particles 5 contained in the colloidal crystal body 10A preferably include at least one of an inorganic material and a resin material. Further, the colloid particles 5 may be formed only from an inorganic material, may be formed only from a resin material, or may be formed from both an inorganic material and a resin material.
  • the average particle diameter of the colloid particles 5 is preferably 0.01 ⁇ m to 10 ⁇ m, more preferably 10 nm to 1000 nm, further preferably 50 nm to 300 nm, and particularly preferably 70 nm to 280 nm. Further, the coefficient of variation of the particle diameter of the colloid particles 5 is preferably less than 20%. This makes it easier for the colloid particles 5 to form a regular array structure in the matrix 6. In addition, the variation coefficient of the particle diameter of the colloid particles 5 is more preferably less than 15%, further preferably less than 12%, particularly preferably less than 10%, and more preferably less than 8%. Most preferred.
  • the base body 6 fixing the colloidal particles 5 contains a resin like the colloidal structure body 10.
  • the laminated colloidal structure 10 and the colloidal crystal body 10A can be configured to have different reflection characteristics. That is, with respect to the colloid multiple structure 20D, the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal structure 10 and the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal crystal 10A preferably exceeds 10 nm. Accordingly, the colloidal multi-structure 20D has both the reflection characteristics of the colloidal structure 10 and the reflection characteristics of the colloidal crystal 10A, so that an optical member that can easily diversify the reflection characteristics can be obtained. it can. Further, since the colloidal structure 10 and the colloidal crystal 10A have different reflection characteristics, it is possible to obtain a colloidal multiplex structure 20D capable of reflecting light of two wavelengths.
  • the laminated colloidal structure 10 and colloidal crystal body 10A can be configured to have substantially equal reflection characteristics. That is, regarding the colloid multiple structure 20D, the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal structure 10 and the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal crystal 10A is preferably 10 nm or less. Further, the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal structure 10 and the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal crystal 10A is more preferably 5 nm or less. Thereby, in the colloidal multi-layered structure 20D, since the reflection characteristics of the colloidal structure 10 and the reflection characteristics of the colloidal crystal 10A are almost the same, it is possible to obtain an optical member with enhanced reflectance.
  • the colloidal crystal 10A shifts the reflection peak wavelength in the reflection spectrum by changing at least one of the material of the colloidal particles 5, the material of the matrix 6, the concentration of the colloidal particles 5, and the average particle diameter of the colloidal particles 5. be able to. Therefore, by adjusting these, the difference between the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal structure 10 and the peak wavelength of the reflection spectrum of the colloidal crystal body 10A can be within the above range.
  • the upper layer is the colloidal crystal 10A
  • the lower layer is the colloidal structure 10.
  • the colloid multiple structure 20D is not limited to such a configuration, and the upper layer may be the colloid structure 10 and the lower layer may be the colloid crystal 10A.
  • the colloid multiple structure 20D may be supported by the substrate 4 to form a multiple structure 200F.
  • the multiple structure 200F includes the colloid multiple structure 20D and the substrate 4 that supports the colloid multiple structure 20D.
  • an adhesive layer 21 may be provided between the colloid structure 10 and the colloid crystal 10A. This makes it possible to increase the adhesion between the colloidal structure 10 and the colloidal crystal body 10A, thereby suppressing peeling. Note that the colloidal multi-layered structure 20E may be supported by the substrate 4 to form a multi-layered structure 200G.
  • the colloid multi-layer structure 20D can be provided only on one surface 4a of the substrate 4.
  • the present embodiment is not limited to such a configuration, and the colloidal crystal 10A is provided on one surface 4a of the substrate 4 as shown in a multiple structure 200H shown in FIG.
  • the colloidal structure 10 may be provided on the other surface 4b on the opposite side.
  • the colloid multi-layered structure in which the colloidal structure 10 and the colloidal crystal 10A are stacked is not limited to the configuration including the colloidal structure 10 and the colloidal crystal 10A as shown in FIG.
  • the colloid multiple structure may have a configuration including a plurality of colloidal structures 10 and / or a plurality of colloidal crystal bodies 10A.
  • the multi-layered colloidal structure 20F can have a configuration in which one layer of the colloidal crystal body 10A and two layers of the colloidal structure 10 are stacked.
  • the colloid multiple structure 20F may be supported by the substrate 4 to form a multiple structure 200I.
  • the colloid multi-layer structure 20G includes a single layer colloid crystal 10A and a two-layer colloid structure 10. Then, a configuration in which the adhesive layer 21 is provided between the colloidal crystal 10A and the colloidal structure 10a and between the colloidal structure 10a and the colloidal structure 10b can be adopted.
  • FIG. 7A the multi-layered colloidal structure 20F can have a configuration in which one layer of the colloidal crystal body 10A and two layers of the colloidal structure 10 are stacked.
  • the colloid multiple structure 20F may be supported by the substrate 4 to form a multiple structure 200I.
  • the colloid multi-layer structure 20G includes a single layer colloid crystal 10A and a two-layer colloid structure 10. Then, a configuration in which the adhesive layer
  • the colloid multiple structure 20G may be supported by the substrate 4 to form a multiple structure 200J. Further, as shown in FIG. 7C, one colloidal crystal 10A and one colloidal structure 10a are laminated on one surface 4a of the substrate 4, and the colloidal structure 10b is laminated on the other surface 4b. Thereby, the multiple structure 200K can be formed.
  • the stacking order of the colloidal crystal 10A and the colloidal structure 10 is not particularly limited.
  • the colloidal crystal body 10A is not limited to the upper layer, and may be a middle layer or a lower layer.
  • a method for producing a colloidal multi-layer structure will be described.
  • the method for manufacturing the colloidal multi-structure as in the method for manufacturing the colloidal structure 10, first, a plurality of types of colloid particles are dispersed in the monomer of the base 3, and the obtained colloidal dispersion is applied to the substrate. 4 and cured. Next, a colloidal dispersion liquid is further applied to the surface of the obtained colloidal structure 10 and cured, whereby a colloidal multi-structure 20 can be obtained.
  • the colloidal multi-structure 20 in which the colloidal structures 10a and 10b have almost the same regular array structure can be obtained as follows. First, a first colloidal dispersion is prepared by dispersing a plurality of types of colloidal particles in the monomer of the base 3. Next, the obtained first colloidal dispersion liquid is applied to the substrate 4 and cured to obtain a colloidal structure 10b. Next, the first colloidal dispersion liquid is applied to the surface of the colloidal structure 10b and cured to obtain the colloidal structure 10a.
  • the colloid multi-layered structure 20 in which the colloidal structure 10a and the colloidal structure 10b have different regular arrangement structures can be obtained as follows. First, a first colloidal dispersion is prepared by dispersing a plurality of types of colloidal particles in the monomer of the base 3. Similarly, a second colloidal dispersion is prepared by dispersing a plurality of types of colloidal particles in the monomer of the base 3. At this time, it is preferable that the first colloidal dispersion liquid and the second colloidal dispersion liquid are different from each other in at least one of the raw material of the base 3, the material of the colloidal particles, the concentration of the colloidal particles, and the average particle diameter of the colloidal particles. Then, the first colloid dispersion liquid is applied to the substrate 4 and cured to obtain the colloid structure 10b. Next, the colloidal structure 10a can be obtained by applying and curing the second colloidal dispersion on the surface of the colloidal structure 10b.
  • the multi-layered colloidal structure 20 of the present embodiment includes a plurality of colloidal structures 10. Therefore, it is possible to obtain an optical member having a high reflectance, which cannot be obtained with a structure in which a single layer is made thicker. Further, by laminating the colloidal structures 10 having different regular arrangement structures, an optical member capable of reflecting light of a plurality of wavelengths can be obtained.
  • Fresnel reflection occurs at the surface of the outermost layer filter and at the interface between the filters. Therefore, the reflectance at a specific wavelength is improved, but the transmittance at other wavelengths is significantly reduced.
  • the colloid multiple structure 20 is prepared by repeating the steps of applying and curing the colloid dispersion, Fresnel reflection at the interface of each colloid structure 10 can be greatly reduced. Further, by using a resin having a similar refractive index as the matrix 3 in each colloid structure 10, Fresnel reflection can be further reduced.
  • the light emitting device of the present embodiment includes a light source 31 and an optical filter 300 to which primary light emitted from the light source 31 is irradiated.
  • the optical filter 300 has at least one selected from the group consisting of the colloid structure 10, the structure 100, the colloid multi-structure 20, and the multi-structure 200. Then, part of the primary light L1 emitted from the light source 31 passes through the optical filter 300.
  • the light emitting device can reflect light of a specific wavelength and emit a desired light component by including such an optical filter 300.
  • FIG. 8 shows an LED module 30 (Light-emitting diode module) as an example of the light emitting device.
  • the light source 31 is a light emitting element formed of an LED element and mounted on the circuit board 32, but is not limited thereto.
  • a blue LED element which has a main emission peak within a wavelength range of 380 nm to 500 nm and emits blue light or a purple LED element which emits purple light can be used.
  • a gallium nitride-based LED element can be mentioned.
  • the light emitting device includes the light source 31 and the optical filter 300, but may further include the wavelength conversion member 33.
  • the LED module 30 as a light emitting device may further include a wavelength conversion member 33.
  • the wavelength conversion member 33 covers the light source 31.
  • the wavelength conversion member 33 contains, for example, at least one phosphor 34 of a blue phosphor, a green phosphor, a yellow phosphor, and a red phosphor in a translucent material such as a silicone resin.
  • the blue phosphor is excited by the light emitted from the light source 31 and emits blue light.
  • the green phosphor and the yellow phosphor are also excited by the emitted light of the light source 31, and emit green light and yellow light, respectively.
  • the blue phosphor has an emission peak in the wavelength region of 470 nm to 500 nm
  • the green phosphor has an emission peak in the wavelength region of 500 nm to 540 nm
  • the yellow phosphor has an emission peak in the wavelength region of 545 nm to 595 nm.
  • the blue phosphor include BaMgAl 10 O 17 : Eu 2+ , CaMgSi 2 O 6 : Eu 2+ , Ba 3 MgSi 2 O 8 : Eu 2+ , and Sr 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ .
  • Examples of the green phosphor include (Ba, Sr) 2 SiO 4 : Eu 2+ , Ca 8 Mg (SiO 4 ) 4 Cl 2 : Eu 2+ , Ca 8 Mg (SiO 4 ) 4 Cl 2 : Eu 2+ , Mn 2+.
  • Examples of the yellow phosphor include (Sr, Ba) 2 SiO 4 : Eu 2+ , (Y, Gd) 3 Al 5 O 12 : Ce 3+ , ⁇ -Ca-SiAlON: Eu 2+ .
  • the red phosphor is excited by the light source 31 or at least one of the green phosphor and the yellow phosphor, and emits red light.
  • the red phosphor has an emission peak in a wavelength region of 600 nm to 650 nm.
  • Examples of the red phosphor include Sr 2 Si 5 N 8 : Eu 2+ , CaAlSiN 3 : Eu 2+ , SrAlSi 4 N 7 : Eu 2+ , CaS: Eu 2+ , La 2 O 2 S: Eu 3+ , Y 3 Mg 2 ( AlO 4 ) (SiO 4 ) 2 : Ce 3+ .
  • an optical filter 300 is arranged on the emission surface side of the LED module 30. Then, part of the primary light L1 emitted from the light source 31 passes through the wavelength conversion member 33 and the optical filter 300. On the other hand, a part of the primary light L1 is reflected by the optical filter 300 as described above.
  • the phosphor 34 of the wavelength conversion member 33 can be excited by the primary light L1, but may be excited by the reflected light R of the primary light L1 reflected by the optical filter 300. That is, the phosphor 34 may be excited by either the primary light L1 or the reflected light R to emit the secondary light L2.
  • the transmitted light T transmitted through the optical filter 300 is emitted from the LED module 30.
  • the secondary light L2 shifted to the longer wavelength side with respect to the reflected light R is emitted.
  • the secondary light L2 has a wavelength that is not reflected by the optical filter 300, it passes through the optical filter 300 and is emitted to the outside. In this case, since the reflected light R is reused and emitted to the outside, the luminous efficiency of the LED module 30 can be improved.
  • the lighting system according to the present embodiment includes a light emitting device.
  • FIG. 9 shows a desk stand 40 provided with an LED module 30 as an example of a lighting system.
  • the desk stand 40 has a lighting body 42 mounted on a substantially disk-shaped base 41.
  • the illumination main body 42 has an arm 43, and the lamp 44 on the distal end side of the arm 43 includes the LED module 30.
  • a switch 45 is provided on the lighting body 42, and the lighting state of the LED module 30 is changed by turning on and off the switch 45.
  • the lamp 44 includes a substantially cylindrical base 46, the LED module 30, and the cover 50.
  • the LED module 30 includes a light source unit 47, an orientation control unit 48, and a filter 49 including an optical filter 300.
  • the light source unit 47 includes a circuit board 32, a light source 31 mounted on the circuit board 32, and a wavelength conversion member 33 disposed on the circuit board 32 and covering the light source 31. Have.
  • the wavelength conversion member 33 contains a phosphor 34.
  • the orientation controller 48 is used to control the light of the light source unit 47 to a desired light distribution, and includes a lens in the present embodiment. However, in addition to the lens, the orientation control unit 48 may include a reflector or a light guide depending on the configuration of the illumination system.
  • the illumination system according to the present embodiment has at least one selected from the group consisting of the colloid structure 10, the structure 100, the colloid multi-structure 20, and the multi-structure 200, which have excellent durability and easy wavelength control. ,
  • the desired spectral characteristics can be easily obtained. That is, the illumination system according to the present embodiment can improve, for example, the whiteness of the paper surface irradiated with the outgoing light and improve the visibility. In addition, it is possible to show a good skin color and to produce a vivid color of food and plants.
  • Example 1-1 First, silica particles 1 were added to the monomer so that the content was 30% by volume. Next, at room temperature (25 ° C.), a 20 kHz ultrasonic wave was applied for 10 minutes to disperse the silica particles 1 in the monomer. Thus, a colloid dispersion liquid 1 in which the colloid particles (silica particles 1) were uniformly dispersed in the monomer was obtained.
  • silica particles 2 were added to the monomer so that the content was 30% by volume.
  • 20 kHz ultrasonic waves were applied for 10 minutes to disperse the silica particles 2 in the monomer.
  • a colloidal dispersion liquid 2 in which the colloidal particles (silica particles 2) were uniformly dispersed in the monomer was obtained.
  • the colloid dispersion liquid 1 and the colloid dispersion liquid 2 were mixed at a mass ratio of 3: 1, and a photopolymerization initiator was further added at 1.0 mass%. Then, this dispersion was applied to a glass substrate of 200 mm square and 1.0 mm thickness using a bar coater at room temperature (25 ° C.). At this time, a bar coater having a count of # 18 was used. Then, a test sample in which a colloidal structure having a layer thickness of about 40 ⁇ m was formed on a glass substrate by irradiating the obtained coating film with ultraviolet light to polymerize the monomer was obtained.
  • Example 1-2 A test sample of this example was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the mixing ratio of the colloidal dispersion liquid 1 and the colloidal dispersion liquid 2 in the dispersion liquid was 2: 1 by mass ratio.
  • Example 1-3 First, silica particles 3 were added to the monomer so that the content was 30% by volume. Next, at room temperature (25 ° C.), 20 kHz ultrasonic waves were applied for 10 minutes to disperse the silica particles 3 in the monomer. Thus, a colloidal dispersion liquid 3 in which the colloidal particles (silica particles 3) were uniformly dispersed in the monomer was obtained.
  • the colloidal dispersion liquid 2 and the colloidal dispersion liquid 3 of Example 1-1 were mixed at a mass ratio of 1: 4, and a photopolymerization initiator was further added at 1.0% by mass. Then, this dispersion was applied to a glass substrate of 200 mm square and 1.0 mm thickness using a bar coater at room temperature (25 ° C.). At this time, a bar coater having a count of # 18 was used. Then, a test sample in which a colloidal structure having a layer thickness of about 40 ⁇ m was formed on a glass substrate by irradiating the obtained coating film with ultraviolet light to polymerize the monomer was obtained.
  • test sample having a colloidal crystal having a layer thickness of about 40 ⁇ m and a content of colloidal particles of 28% by volume, 30% by volume, 32% by volume, and 36% by volume, respectively, was also prepared. did.
  • colloidal dispersions were formed in the same manner as in Example 1-1 after adding 1.0% by mass of a photopolymerization initiator to colloidal dispersion liquid 1 and colloidal dispersion liquid 2, respectively.
  • the reflection spectrum of the sample is also shown.
  • FIG. 13 shows the reflection of a sample in which a colloidal crystal was formed in the same manner as in Example 1-3 after adding 1.0% by mass of a photopolymerization initiator to each of the colloidal dispersions 2 and 3.
  • the spectrum is also shown.
  • the reflection peak wavelengths of the test samples of Examples 1-1 and 1-2 were the reflection peak wavelength of a colloidal crystal containing only silica particles 1 as colloidal particles and the reflection peak wavelength of silica particles 2 as colloidal particles. And the reflection peak wavelength of a colloid crystal containing only Therefore, it can be seen that the reflection peak wavelength can be controlled by mixing the silica particles 1 and the silica particles 2 and performing colloidal crystallization.
  • the reflection peak wavelength of the test sample of Example 1-3 is the reflection peak wavelength of the colloidal crystal containing only silica particles 2 as the colloidal particles, and the reflection peak wavelength of the colloidal crystal containing only silica particles 3 as the colloidal particles. It exists between the reflection peak wavelength of the crystal. Therefore, it is understood that the reflection peak wavelength can be controlled by mixing the silica particles 2 and the silica particles 3 and performing colloidal crystallization.
  • the reflection peaks of the test samples of Examples 1-1 and 1-2 exceeded 55%, and the reflection peaks of the colloidal crystal containing only the silica particles 1 and the reflection peaks It can be seen that the reflectance is higher than the reflection peak of the colloidal crystal containing only the particles 2.
  • the reflection peak of the test sample of Example 1-3 also has a reflectance exceeding 55%, and the reflection peak of the colloidal crystal containing only silica particles 2 and the reflection peak of only silica particles 3 It can be seen that the reflectance is higher than the reflection peak of the containing colloidal crystal. Therefore, it can be seen that by forming a colloidal structure using a plurality of types of colloidal particles, a decrease in light reflectivity can be suppressed.
  • FIG. 14 also shows the reflection spectra of the test samples of Examples 1-1 to 1-3.
  • Example 1-1 the colloidal dispersion liquid 1 containing the silica particles 1 and the colloidal dispersion liquid 2 containing the silica particles 2 were mixed at a mass ratio of 3: 1.
  • the liquid 1 and the colloidal dispersion liquid 2 are mixed at a mass ratio of 2: 1.
  • the peak wavelength can be controlled at fine intervals by changing the mixing ratio of the two types of colloid particles.
  • Examples 1-1 and 1-2 are colloidal structures in which 150 nm silica particles 1 and 180 nm silica particles 2 are mixed, and Example 1-3 is 180 nm silica particles 2 and 200 nm silica particles.
  • 3 is a colloidal structure obtained by mixing with No.3. As shown in FIG. 14, it can be seen that the peak wavelength can be controlled at large intervals by changing the combination of the two types of colloid particles.
  • FIG. 15 shows the results of measuring the reflection spectra of the test samples of Comparative Examples 1-1 to 1-3 using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-2600 manufactured by Shimadzu Corporation). As shown in FIG. 15, it can be seen that in all of Comparative Examples 1-1 to 1-3, as the concentration of the silica particles as the colloid particles decreases, the reflection peak shifts to the higher wavelength side. That is, it is understood that the reflection peak of the colloidal crystal can be controlled by changing the concentration of the colloidal particles.
  • UV-2600 ultraviolet-visible spectrophotometer
  • Comparative Example 1-1 it can be seen that the reflectance decreases as the concentration of the silica particles 1 decreases.
  • Comparative Example 1-2 it can be seen that the reflectivity of the test sample of 26% by volume and 36% by volume is significantly lower than that of the test sample in which the concentration of the silica particles 2 is 28 to 32% by volume.
  • Comparative Examples 1-3 it can be seen that the reflectance decreases as the concentration of the silica particles 3 increases.
  • the reflection peak of the colloidal crystal can be controlled by adjusting the concentration of the colloidal particles, it is found that the light reflectivity greatly changes.
  • FIG. 16 shows the result of observing the surface of the test sample of Example 1-1 with a scanning electron microscope. As shown in FIG. 16, it can be seen that both silica particles 1 (51) having an average particle diameter of 150 nm and silica particles 2 (52) having an average particle diameter of 180 nm are regularly arranged. It can also be seen that the ratio of the number of the silica particles 1 to the number of the silica particles 2 is about 3: 1. In the test sample of Example 1-1, the silica particles 1 and the silica particles 2 were not separated and aggregated to form a eutectic state, but the silica particles 1 and the silica particles 2 were mixed. It turns out that it is in a state like a solid solution.
  • FIG. 17 shows the result of observing the surface of the test sample of Example 1-3 with a scanning electron microscope. As shown in FIG. 17, it can be seen that both the silica particles 2 (52) having an average particle diameter of 180 nm and the silica particles 3 (53) having an average particle diameter of 200 nm are regularly arranged. It can also be seen that the ratio of the number of the silica particles 2 to the number of the silica particles 3 is about 1: 4. In the test sample of Example 1-3, the silica particles 2 and the silica particles 3 are not separated and aggregated to form a eutectic state, but the silica particles 2 and the silica particles 3 are mixed. It turns out that it is in a state like a solid solution.
  • FIG. 18 shows the result of observing the cross section of the test sample of Example 1-1 with a scanning electron microscope
  • FIG. 19 shows an enlarged view of a region indicated by reference numeral B in FIG.
  • the silica particles 1 (51) and the silica particles 2 (52) are also regularly arranged in the cross section of the test sample. Further, the silica particles 1 and the silica particles 2 are not separated and aggregated to form a eutectic state, but the silica particles 1 and the silica particles 2 are mixed to form a solid solution. I understand.
  • the silica particles 1 and the silica particles 2 are mixed with each other to form colloidal crystallization, and further form a three-dimensional ordered array structure in the parent polymer. You can see that.
  • Example 2 First, a 3: 1 mass of colloidal dispersion liquid 1 containing silica particles 1 having an average particle diameter of 150 nm and colloidal dispersion liquid 2 containing silica particles 2 having an average particle diameter of 180 nm prepared in Example 1-1 was used. Mix in ratio. Then, a dispersion for colloidal structure was prepared by adding 1.0% by mass of a photopolymerization initiator to the mixture.
  • a colloidal dispersion liquid was prepared by adding 1.0% by mass of a photopolymerization initiator to a colloidal dispersion liquid 2 containing silica particles 2 having an average particle diameter of 180 nm.
  • the dispersion liquid for a colloidal structure was applied to a 200 mm square, 1.0 mm thick glass substrate using a bar coater at room temperature (25 ° C.). At this time, a bar coater having a count of # 18 was used. Then, the colloidal structure was formed on the glass substrate by irradiating the obtained coating film with ultraviolet light to polymerize the monomer.
  • the dispersion liquid for colloidal crystals was applied to the surface of the colloidal structure at room temperature (25 ° C.) using a bar coater. At this time, a bar coater having a count of # 18 was used. Then, the obtained coating film was irradiated with ultraviolet light to polymerize the monomer, thereby forming a colloid crystal on the colloid structure. Thus, a test sample in which a colloidal multiplex structure was formed on a glass substrate was obtained.
  • the reflection spectrum of the test sample of Example 2 prepared as described above was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-2600 manufactured by Shimadzu Corporation).
  • UV-2600 ultraviolet-visible spectrophotometer manufactured by Shimadzu Corporation.
  • the reflection spectrum of the test sample of Example 2 measured a wavelength range of 300 nm to 800 nm.
  • the reflection spectrum of Example 2 has a peak where the maximum value of the reflectance is about 45% around 500 nm to 520 nm and a maximum value of the reflectance around 55% around 540 nm to 560 nm. Was observed. From this, it can be seen that by laminating a colloidal structure and a colloidal crystal having different regular arrangement structures, a colloidal multiplex structure capable of reflecting light of two wavelengths is obtained.
  • a colloid structure, a colloid multi-structure, and a method for manufacturing the colloid structure capable of adjusting a reflection peak wavelength in a reflection spectrum by a simple method while suppressing a decrease in light reflectivity A method can be provided.
  • SYMBOLS 1 1st colloid particle 2 2nd colloid particle 3
  • Base 10a 10b Colloid structure 10A Colloid crystal 20,20A, 20B, 20C, 20D, 20E, 20F, 20G Colloid multiple structure

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

コロイド構造体(10)は、複数種類のコロイド粒子と、コロイド粒子を固定している母体(3)とを含む。複数種類のコロイド粒子は、平均粒子径が互いに異なる第1のコロイド粒子(1)と第2のコロイド粒子(2)とを少なくとも含む。そして、複数種類のコロイド粒子は母体中で規則配列構造を形成している。コロイド多重構造体(20)は、コロイド構造体を複数備える。コロイド構造体の製造方法は、複数種類のコロイド粒子をモノマーと共に分散させることにより、コロイド分散液を調製する分散液調製工程と、コロイド分散液を基板上に塗布し、塗布膜を生成する塗布膜生成工程と、塗布膜中のモノマーを重合させるポリマー化工程とを有する。

Description

コロイド構造体、コロイド多重構造体、及びコロイド構造体の製造方法
 本発明は、コロイド構造体、コロイド多重構造体、及びコロイド構造体の製造方法に関する。
 ナノサイズのコロイド粒子が三次元的かつ周期的に配列した集合体は、通常の結晶との類似性からコロイド結晶と呼ばれている。このコロイド結晶に光が入射した場合、コロイド結晶の内部で光の回折干渉が生じることから、その周期構造に起因して特定波長の光を反射する現象が起こる。例えば、サブミクロンサイズのコロイド粒子からなるコロイド結晶は、その粒子サイズに応じて、紫外から可視、さらに赤外の範囲の光を反射することができる。このような特性から、コロイド結晶を色材、光メモリ材料、表示デバイス、光フィルタ、光スイッチ、センサーなどに応用することが検討されている。
 特許文献1では、分散媒成分中でコロイド粒子が三次元規則配列状態で分散されているコロイド分散液を基材上に塗装して塗膜を形成する工程と、塗膜中の分散媒成分を重合し、コロイド結晶膜を製造する工程を含むコロイド結晶膜の製造方法を開示している。また、特許文献1では、上記製造方法により、反射スペクトルにおいて所定の反射ピークが生じるコロイド結晶膜が得られ、さらに当該コロイド結晶膜を粉砕することにより、コロイド結晶顔料が得られることを開示している。
特許第5541620号公報
 従来より、コロイド結晶膜中のコロイド粒子の濃度を変えることにより、反射スペクトルにおける反射ピーク波長がシフトすることが知られている。言い換えれば、コロイド結晶膜中のコロイド粒子の濃度を調整することにより、反射ピーク波長を適宜制御することは可能である。しかしながら、コロイド粒子の濃度が所定の範囲内の場合にはコロイド結晶膜は高い反射率を示すものの、所定の範囲から外れる場合には反射率が大きく低下する。そのため、コロイド粒子の濃度を変えることにより反射ピーク波長を調整した場合、コロイド結晶膜の光反射能が低下する問題があった。
 本発明は、このような従来技術の有する課題に鑑みてなされたものである。そして、本発明の目的は、光反射能の低下を抑制しつつも、反射スペクトルにおける反射ピーク波長を簡易な方法で調整することが可能なコロイド構造体、コロイド多重構造体、及び当該コロイド構造体の製造方法を提供することにある。
 上記課題を解決するために、本発明の第一の態様に係るコロイド構造体は、複数種類のコロイド粒子と、コロイド粒子を固定している母体とを含む。複数種類のコロイド粒子は、平均粒子径が互いに異なる第1のコロイド粒子と第2のコロイド粒子とを少なくとも含む。第1のコロイド粒子及び第2のコロイド粒子の粒子径の変動係数は、それぞれ20%未満である。そして、複数種類のコロイド粒子は、母体中で規則配列構造を形成している。
 本発明の第二の態様に係るコロイド多重構造体は、コロイド構造体を複数備える。
 本発明の第三の態様に係るコロイド多重構造体は、コロイド構造体と、コロイド結晶体とを備える。コロイド結晶体は、一種類のみのコロイド粒子と、当該一種類のみのコロイド粒子を固定している母体とを含む。そして、一種類のみのコロイド粒子は、母体中で規則配列構造を形成している。
 本発明の第四の態様に係るコロイド構造体の製造方法は、平均粒子径が互いに異なる第1のコロイド粒子と第2のコロイド粒子とを少なくとも含む複数種類のコロイド粒子を、一種類以上のモノマーと共に分散させることにより、コロイド分散液を調製する分散液調製工程と、コロイド分散液を基板上に塗布し、塗布膜を生成する塗布膜生成工程と、塗布膜中のモノマーを重合させることにより、複数種類のコロイド粒子をポリマーで固定化するポリマー化工程と、を有する。ポリマー化工程において、複数種類のコロイド粒子はポリマー中で規則配列構造を形成する。第1のコロイド粒子及び第2のコロイド粒子の粒子径の変動係数は、それぞれ20%未満である。
図1は、本実施形態に係るコロイド構造体の一例を概略的に示す断面図である。 図2は、粒子径が異なる二種類のコロイド粒子がそれぞれ単独で集合し、共晶状態となっている様子を示す概略図である。 図3は、本実施形態に係るコロイド構造体を用いた構造物の一例を概略的に示す断面図である。 図4は、本実施形態に係るコロイド多重構造体及び多重構造物の例を概略的に示す断面図である。 図5は、本実施形態に係るコロイド多重構造体及び多重構造物の例を概略的に示す断面図である。 図6は、本実施形態に係るコロイド多重構造体及び多重構造物の例を概略的に示す断面図である。 図7は、本実施形態に係るコロイド多重構造体及び多重構造物の例を概略的に示す断面図である。 図8は、本実施形態に係る発光装置の一例を示す断面図である。 図9は、本実施形態に係る照明システムの一例を示す斜視図である。 図10(a)は、本実施形態に係る照明システムにおける灯具を示す分解斜視図である。図10(b)は、図10(a)の領域Aを拡大した光源ユニットを示す概略断面図である。 図11は、実施例1-1の試験サンプルの反射スペクトルを示す図である。 図12は、実施例1-2の試験サンプルの反射スペクトルを示す図である。 図13は、実施例1-3の試験サンプルの反射スペクトルを示す図である。 図14は、実施例1-1乃至1-3の試験サンプルの反射スペクトルを合わせて示す図である。 図15は、比較例1-1乃至1-3の試験サンプルの反射スペクトルを合わせて示す図である。 図16は、実施例1-1の試験サンプルの表面を走査型電子顕微鏡で観察した様子を示す写真である。 図17は、実施例1-3の試験サンプルの表面を走査型電子顕微鏡で観察した様子を示す写真である。 図18は、実施例1-1の試験サンプルの断面を走査型電子顕微鏡で観察した様子を示す写真である。 図19は、図18における符号Bの領域を拡大して示す写真である。 図20は、実施例2の試験サンプルの反射スペクトルを示す図である。
 以下、本実施形態に係るコロイド構造体、コロイド多重構造体、及び当該コロイド構造体の製造方法について詳細に説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
[コロイド構造体]
 本実施形態のコロイド構造体は、コロイド粒子が三次元的かつ周期的に配列したコロイド結晶を備えている。具体的には、図1に示すように、コロイド構造体10は、複数種類のコロイド粒子と、当該コロイド粒子を固定している母体3とを有している。複数種類のコロイド粒子は、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2とを少なくとも含んでおり、さらに第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2は、平均粒子径が互いに異なっている。
 図1に示すコロイド構造体10では、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2が互いに混和した状態で三次元的かつ規則的に配列しており、さらに第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2との間に母体3が介在している。つまり、コロイド構造体10は、複数種類のコロイド粒子同士が互いに接触してなる密充填のコロイド結晶を有しているわけではなく、複数種類のコロイド粒子同士が互いに離間した疎充填のコロイド結晶を有している。このような疎充填のコロイド結晶を有することにより、コロイド構造体10に照射された光の一部はBragg反射し、反射されなかった光の一部はコロイド構造体10を透過することができる。
 コロイド構造体10に含まれるコロイド粒子は、無機材料及び樹脂材料の少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。つまり、コロイド構造体10において、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2は、無機材料及び樹脂材料の少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。コロイド粒子が無機材料を含むことにより、得られるコロイド結晶の耐久性を高めることができる。また、コロイド粒子が有機材料を含むことにより、コロイド粒子の形状を真球状にしやすくなるため、コロイド粒子は規則配列構造を形成しやすくなる。なお、コロイド粒子は無機材料のみから形成されていてもよく、樹脂材料のみから形成されていてもよい。また、コロイド粒子は無機材料及び樹脂材料の両方から形成されていてもよい。
 無機材料としては、例えば、金及び銀などの金属、シリカ、アルミナ及びチタニアなどの金属酸化物を用いることができる。また、樹脂材料としては、スチレン樹脂及びアクリル樹脂などを用いることができる。これらの材料は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
 スチレン樹脂は、スチレン系単量体を主成分として重合させたものである。スチレン系単量体としては、スチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシスチレンが挙げられる。また、p-tert-ブチルスチレン、p-フェニルスチレン、o-クロロスチレン、m-クロロスチレン、p-クロロスチレンも挙げられる。これらのスチレン系単量体は一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、本明細書において、主成分は50質量%以上であることを意味する。
 アクリル樹脂は、(メタ)アクリル系単量体を主成分として重合させたものであり、(メタ)アクリル系単量体と共重合可能な他の単量体を含んでいてもよい。このような(メタ)アクリル系単量体としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレートが挙げられる。β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートも挙げられる。また、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレートも挙げられる。ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレートも挙げられる。(メタ)アクリル系単量体は一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、本明細書において、(メタ)アクリル系単量体は、メタクリル系単量体及びアクリル系単量体を包含する。
 なお、コロイド粒子は、無機粒子からなることが好ましく、シリカからなることが特に好ましい。シリカからなるコロイド粒子は調達が容易であるため、コロイド構造体10の工業生産性を高めることが可能となる。また、コロイド粒子は、ポリマー粒子からなることも好ましく、アクリル樹脂及びポリスチレンの少なくとも一方からなることが特に好ましい。ポリマーからなるコロイド粒子は、真球状のものが入手しやすく、さらにアクリル樹脂及び/又はポリスチレンからなるコロイド粒子は汎用で調達が容易であることから、コロイド構造体10の工業生産性を高めることが可能となる。
 コロイド構造体10において、コロイド粒子を固定している母体3は、例えば、樹脂を含んでいることが好ましい。母体3が樹脂を含んでいることにより、固体である樹脂がコロイド粒子の規則配列構造を固定化するため、コロイド構造体10の機械的強度を高めることができる。また、後述するように、樹脂は活性エネルギー線により硬化することができるため、ハンドリング性を高め、生産性を向上させることが可能となる。なお、母体3は、300nm以上800nm未満の範囲内の波長領域において高い光線透過率を有する樹脂を用いることが好ましい。
 母体3に用いられる樹脂は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル-スチレン共重合体及びスチレン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一つを含有することが好ましい。
 アクリル樹脂及びスチレン樹脂としては、上述のものを使用することができる。ポリカーボネート樹脂としては、例えば二価フェノールと、ホスゲン又は炭酸ジエステル化合物とを反応させることによって得られる芳香族ポリカーボネート重合体、及びこれらの共重合体である芳香族ポリカーボネート樹脂が挙げられる。また、ポリカーボネート樹脂としては、二酸化炭素とエポキシドとの共重合体によって得られる脂肪族ポリカーボネート樹脂も挙げられる。さらにポリカーボネート樹脂としては、これらを共重合した芳香族-脂肪族ポリカーボネートも挙げられる。また、アジピン酸,ピメリン酸,スベリン酸,アゼライン酸,セバシン酸,デカンジカルボン酸等の直鎖状脂肪族二価カルボン酸等も、ポリカーボネート樹脂の共重合モノマーとして挙げられる。なお、ポリカーボネート樹脂は一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
 シクロオレフィン樹脂は、主鎖が炭素-炭素結合からなり、主鎖の少なくとも一部に環状炭化水素構造を有する樹脂である。シクロオレフィン樹脂としては、エチレンとノルボルネンの付加共重合体や、エチレンとテトラシクロドデセンの付加共重合体などが挙げられる。
 エポキシ樹脂は、1分子中にエポキシ基を2個以上含むプレポリマーを硬化剤で硬化した樹脂である。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂を用いることができる。また、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂(トリグリシジルイソシアヌレート、ジグリシジルヒダントイン等)を用いることもできる。さらに、これらのエポキシ樹脂を種々の材料で変性させた変性エポキシ樹脂等も使用することができる。また、これらのエポキシ樹脂の臭素化物、塩素化物等のハロゲン化物も用いることができる。エポキシ樹脂は、これらのうちの一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
 エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤としては、エポキシ基と反応し得る活性基を有する化合物であれば、如何なる化合物を用いることができる。公知のエポキシ硬化剤を適宜用いることができるが、特にアミノ基、酸無水物基、ヒドロキシフェニル基を有する化合物が適している。例えば、ジシアンジアミド及びその誘導体、有機酸ヒドラジット、アミンイミド、脂肪族アミン、芳香族アミン、3級アミン、ポリアミンの塩、マイクロカプセル型硬化剤、イミダゾール型硬化剤、酸無水物、フェノールノボラック等が挙げられる。硬化剤は、これらのうちの一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
 また、上記の硬化剤と併用して各種の硬化促進剤を用いることができる。硬化促進剤としては、例えば、第3級アミン系硬化促進剤、尿素誘導体系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、ジアザビシクロウンデセン(DBU)系硬化促進剤を挙げることができる。また、有機りん系硬化促進剤(例えば、ホスフィン系硬化促進剤等)、オニウム塩系硬化促進剤(例えば、ホスホニウム塩系硬化促進剤、スルホニウム塩系硬化促進剤、アンモニウム塩系硬化促進剤等)を挙げることができる。さらに金属キレート系硬化促進剤、酸及び金属塩系硬化促進剤等も挙げることができる。
 シリコーン樹脂は、シロキサン結合からなる直鎖状高分子が架橋することで三次元網状構造となっている樹脂である。シリコーン樹脂としては、側鎖が例えばメチル基で構成されるジメチル系シリコーンや、一部分が芳香族系分子に置換されている芳香族系シリコーンがある。本実施形態では、シリコーン樹脂として特に好ましいのは芳香族系シリコーンである。
 なお、シリコーン樹脂は、アルコキシシランを加水分解した後に脱水縮合させて得られる縮合物からなるものであってもよい。アルコキシシランの具体例としては、例えば、トリフェニルエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、エチルジメチルメトキシシランが挙げられる。メチルジエチルメトキシシラン、エチルジメチルエトキシシラン、メチルジエチルエトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、フェニルジエチルメトキシシラン、フェニルジメチルエトキシシラン、フェニルジエチルエトキシシランも挙げられる。また、メチルジフェニルメトキシシラン、エチルジフェニルメトキシシラン、メチルジフェニルエトキシシラン、エチルジフェニルエトキシシラン、tert-ブトキシトリメチルシラン、ブトキシトリメチルシランも挙げられる。ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシランも挙げられる。N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシランも挙げられる。メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、N-β-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシランも挙げられる。トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、トリイソプロポキシシラン、トリ-n-プロポキシシラン、トリアセトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトライソプロポキシシランも挙げられる。なお、アルコキシシランの加水分解縮合物は一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
 アクリル-スチレン共重合体としては、(メタ)アクリル系単量体及びスチレン系単量体を主成分として重合したものである。また、アクリル-スチレン共重合体は、(メタ)アクリル系単量体及びスチレン系単量体と共重合可能な他の単量体を含んでいてもよい。アクリル-スチレン共重合体としては、スチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン-ジエチルアミノエチルメタアクリレート共重合体、スチレン-ブタジエン-アクリル酸エステル共重合体が挙げられる。
 コロイド構造体10中のコロイド粒子の平均粒子径は、0.01μm~10μmであることが好ましく、10nm~1000nmであることがより好ましく、50nm~300nmであることがさらに好ましく、70nm~280nmであることが特に好ましい。コロイド粒子の平均粒子径が0.01μm以上であることにより、隣接するコロイド粒子の表面間の凝集力が低下し、後述する分散液中で均一に分散し易くなる傾向がある。コロイド粒子の平均粒子径が10μm以下であることにより、コロイド粒子の沈降が抑制され、分散液中で均一に分散し易くなる傾向がある。なお、本明細書において、コロイド粒子の平均粒子径は、コロイド構造体10の表面を走査型電子顕微鏡で観察し、複数のコロイド粒子の粒子径を測定することにより、求めることができる。
 上述のように、コロイド構造体10は、複数種類のコロイド粒子を有しており、当該コロイド粒子は第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2とを少なくとも含んでいる。そして、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2の粒子径の変動係数は、それぞれ20%未満であることが好ましい。粒子径の変動係数は、数式1で求められる値であり、この値が小さいほど粒子径のバラツキが小さいことを意味する。
  [数1]
  [変動係数(%)]=[粒子径の標準偏差]/[平均粒子径]×100
 第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2の粒子径の変動係数がそれぞれ20%未満であることにより、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2が母体3中で規則配列構造を形成しやすくなる。そのため、得られるコロイド構造体10は、照射された光を高効率で反射することが可能となる。なお、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2の粒子径の変動係数は、それぞれ15%未満であることがより好ましく、12%未満であることがさらに好ましく、10%未満であることが特に好ましく、8%未満であることが最も好ましい。
 なお、複数種類のコロイド粒子は、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2以外にも、平均粒子径が異なる第3のコロイド粒子、第4のコロイド粒子を含んでいてもよい。そして、第3のコロイド粒子及び第4のコロイド粒子の粒子径の変動係数は、それぞれ20%未満であることが好ましい。
 コロイド構造体10において、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2は平均粒子径が互いに異なっている。そして、図1に示すように、コロイド構造体10では、第1のコロイド粒子1の平均粒子径は第2のコロイド粒子2の平均粒子径よりも大きくなっている。このように、粒子径が互いに異なる第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2が規則配列構造をとることにより、光反射能の低下を抑制しつつも、反射スペクトルにおける反射ピーク波長を調整することが可能なコロイド構造体10を得ることができる。なお、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2がとる規則配列構造は、例えば最密充填構造、面心立方構造又は体心立方構造であることが好ましい。
 ここで、上述のように、従来より、反射スペクトルにおける反射ピーク波長を変化させる方法として、コロイド結晶膜中のコロイド粒子の濃度を変える方法が知られている。しかしながら、コロイド結晶膜中のコロイド粒子の濃度を変えた場合、コロイド粒子の規則配列構造を維持することが困難になり、コロイド結晶膜の光反射能が大きく低下する可能性がある。
 これに対して、コロイド構造体10では、コロイド粒子による規則配列構造は維持しつつ、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2の含有割合及び/又は粒子径を調整することで、反射ピーク波長をシフトさせることができる。そのため、コロイド構造体10は、高い光反射能を有しつつも、簡易な方法で反射ピークを調整することが可能となる。
 本実施形態のコロイド構造体10は、複数種類のコロイド粒子が混和してコロイド結晶化したコロイド固溶体を成していることが好ましい。本明細書において、「コロイド固溶体」は、複数種類のコロイド粒子が混和した状態でコロイド結晶化し、固溶体に類似の結晶構造を有するものをいう。つまり、図1に示すように、互いに異なる第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2が混和した状態で規則配列構造を形成し、あたかも固溶体のような集合体を成しているものをいう。なお、コロイド構造体10は、規則配列構造を形成した第1のコロイド粒子1の一部が、当該規則配列構造を維持しつつ、第2のコロイド粒子2で置換した構造体ということができる。または、コロイド構造体10は、規則配列構造を形成した第2のコロイド粒子2の一部が、当該規則配列構造を維持しつつ、第1のコロイド粒子1で置換した構造体ということができる。コロイド構造体10がこのようなコロイド固溶体を有していることにより、第1のコロイド粒子1からなるコロイド結晶の特性と、第2のコロイド粒子2からなるコロイド結晶の特性とを単に併せたものとは異なる特性を有するコロイド結晶を得ることができる。つまり、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子1からなるコロイド結晶と第2のコロイド粒子2からなるコロイド結晶の中間的な性質を有する構造体を成すことができる。
 具体的には、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子からなるコロイド結晶の反射ピークと、第2のコロイド粒子からなるコロイド結晶の反射ピークとの間に、反射ピークを持つことができる。上述のように、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2の含有割合及び/又は粒子径を調整することで、反射ピーク波長を変化させることができる。そのため、これらを調整することで、第1のコロイド粒子からなるコロイド結晶の反射ピークと、第2のコロイド粒子からなるコロイド結晶の反射ピークとの間の任意の位置に、反射ピークをシフトさせることが可能となる。
 上述のように、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2が混和して、あたかも固溶体のような集合体を成していることが好ましい。言い換えれば、図2に示すように、粒子径が大きいコロイド粒子11からなるコロイド結晶と、粒子径が小さいコロイド粒子12からなるコロイド結晶とが混合してなる共晶状態ではない方が好ましい。この場合、コロイド粒子11からなるコロイド結晶に起因する反射ピークと、コロイド粒子12からなるコロイド結晶に起因する反射ピークが発現し、任意の位置に反射ピークをシフトさせることが難しくなる可能性がある。そのため、コロイド構造体10は、複数種類のコロイド粒子が固溶体のような規則配列構造を成していること好ましい。
 ここで、コロイド粒子として第1のコロイド粒子1のみを含むコロイド結晶の反射ピーク波長をλ1とし、コロイド粒子として第2のコロイド粒子2のみを含むコロイド結晶の反射ピーク波長をλ2とする。この場合、コロイド構造体10は、反射スペクトルの反射ピーク波長λがλ1とλ2との間に存在することが好ましい。これにより、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2の含有割合及び/又は粒子径を調整することで、λ1とλ2との間の任意の位置に反射ピーク波長λをシフトさせることができる。そのため、コロイド構造体10における反射ピーク波長λを、簡易な方法で調整することが可能となる。
 また、上述のλ1とλ2との差の絶対値(|λ1-λ2|)は、20nm以上200nm以下であることが好ましい。この場合、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2が混和して規則配列構造を形成しやすくなる。そのため、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2とを含むコロイド固溶体を容易に形成し、λ1とλ2との間の任意の位置に反射ピーク波長λをシフトさせることが可能となる。
 コロイド構造体10において、第1のコロイド粒子1の平均粒子径をd1とし、第2のコロイド粒子2の平均粒子径をd2とした場合、平均粒子径の比d1/d2が、1.05以上1.60未満であることが好ましい。この場合、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2が混和して規則配列構造を形成しやすくなる。そのため、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2とを含むコロイド固溶体を容易に形成し、任意の位置に反射ピークをシフトさせることが可能となる。
 コロイド構造体10において、隣接するコロイド粒子の中心間距離dは、100nm以上300nm以下であることが好ましく、140nm以上300nm以下であることがより好ましい。後述するように、コロイド構造体10を光学フィルタや色材に用いる場合には、コロイド粒子の中心間距離dを調整することにより、所望とする波長を反射させることができる。なお、隣接するコロイド粒子の中心間距離dは、コロイド構造体10の表面を走査型電子顕微鏡で観察することにより求めることができる。
 コロイド構造体10において、母体3の体積に対するコロイド粒子の体積の割合は、20体積%以上50体積%以下であることが好ましい。なお、「コロイド粒子の体積」は、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2を含むコロイド粒子全体の体積をいう。当該体積割合が20体積%以上であることにより、複数種類のコロイド粒子が母体3中で三次元規則配列状態となり、コロイド構造体10の光反射能をより高めることが可能となる。また、当該体積割合が50体積%以下であることにより、母体3中で形成する三次元規則配列構造を容易に制御することが可能となる。また、当該体積割合が20体積%以上50体積%以下であることにより、複数種類のコロイド粒子同士が互いに離間した疎充填のコロイド結晶となり、コロイド粒子間に母体3を介在させることができる。そのため、コロイド構造体10の形状安定性をより高めることが可能となる。
 上述のように、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2の含有割合及び/又は粒子径を調整することによって、任意の光成分を反射することができる。そのため、コロイド構造体10は、反射スペクトルの反射ピーク波長λが300nm以上800nm未満の波長範囲内にあることが好ましい。この場合、コロイド構造体10は、可視光領域における反射特性を示すため、光学フィルタや色材など、産業上利用しやすい構造体となる。なお、コロイド構造体10は、反射スペクトルの反射ピーク波長λが450nm以上650nm未満の波長範囲内にあることがより好ましい。
 コロイド構造体10は、300nm以上800nm未満の波長範囲における反射率の最大値が20%以上100%未満であることが好ましい。この場合、コロイド構造体10は、反射スペクトルの反射ピーク波長λの光強度を選択的に低下させることができるため、光学フィルタなど、産業上利用しやすい構造体となる。
 より詳細に説明すると、上述のように、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2の含有割合及び/又は粒子径を調整することによって、反射する光の波長及び強度を制御することができる。そして、従来の光干渉フィルタのように特定の波長範囲の光を全て反射するのではなく、特定の波長範囲における光の一部を反射することにより、所望する光をコロイド構造体10から取り出すことができる。例えば、特定の波長範囲の光を全て反射した場合、コロイド構造体10を透過した光は自然な白色光から遠ざかってしまうが、特定の波長範囲における光の一部を反射することにより、自然な白色光を維持しつつも演色性を高めることができる。なお、コロイド構造体10は、300nm以上800nm未満の波長範囲における反射率の最大値が20%~95%であることが好ましく、20%~80%であることがより好ましい。
 コロイド構造体10を後述する光学フィルタとして使用する場合、コロイド構造体10は、300nm以上800nm未満の波長範囲における最大の反射率を有する反射スペクトルのピークの半値幅(FWHM)が5nm以上100nm以下であることが好ましい。半値幅は、コロイド構造体10の層厚のばらつき及びコロイド粒子の配列などを精密に制御する程小さくなる傾向にある。そのため、生産性の観点から、半値幅を5nm以上とすることが好ましい。また、半値幅を100nm以下とすることにより、例えば演色性を高めるために必要となる波長の光がコロイド構造体10によって反射される恐れを低減することができる。また、半値幅を100nm以下とすることにより、コロイド構造体10を備える発光装置において、発光効率が低減するのを抑制することができる。なお、半値幅は10nm~60nmであることがより好ましい。
 本実施形態に係るコロイド構造体10は、図3に示すように、基板4に支持されることにより、構造物100を形成してもよい。言い換えれば、構造物100は、コロイド構造体10と、コロイド構造体10を支持する基板4とを備えている。コロイド構造体10が基板4により支持されることにより、コロイド構造体10の取り扱い性及び機械的強度を高めることが可能となる。なお、コロイド構造体10は、図3に示すように基板4の表面と接していてもよいが、コロイド構造体10と基板4との間に図示しない介在層が配置されていてもよい。
 基板4は高い透光性を有していることが好ましい。例えば、基板4の全光線透過率は80%~100%であることが好ましく、85%~100%であることがより好ましい。全光線透過率は、例えば日本工業規格JIS K7361-1:1997(ISO 13468-1:1996)(プラスチック-透明材料の全光線透過率の試験方法-第1部:シングルビーム法)などの方法により測定することができる。
 基板4としては、例えばソーダ石灰ガラス、低アルカリ硼珪酸ガラス、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスなどのガラス板を使用することができる。また、基板4としては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂板も使用することができる。
 構造物100において、コロイド構造体10の形状は特に限定されず、例えば膜状とすることができる。また、コロイド構造体10の厚さは特に限定されないが、例えば10μm~5000μmであることが好ましく、1000μm~3000μmであることがより好ましい。なお、コロイド構造体10の最表面の形状は特に限定されず、平滑であってもよく、コロイド粒子に起因する微細な凹凸形状を有していてもよい。
 構造物100において、コロイド構造体10の面積は特に限定されないが、5mm以上100cm以下とすることが好ましい。この場合、構造物100を、各種センサーから大型の照明器具までの幅広い用途に適用することが可能となる。
 このように、本実施形態のコロイド構造体10は、複数種類のコロイド粒子と、コロイド粒子を固定している母体3とを含む。複数種類のコロイド粒子は、平均粒子径が互いに異なる第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2とを少なくとも含み、第1のコロイド粒子1及び第2のコロイド粒子2の粒子径の変動係数は、それぞれ20%未満である。そして、複数種類のコロイド粒子は、母体3中で規則配列構造を形成している。
 本実施形態のコロイド構造体10は、母体3でコロイド粒子を固定することにより、疎充填のコロイド結晶を形成している。そのため、コロイド構造体10に照射された光の一部はBragg反射し、反射されなかった光の一部はコロイド構造体10を透過することができる。そして、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2の含有割合及び/又は粒子径を調整することで、反射ピーク波長をシフトさせることができる。そのため、コロイド構造体10は、高い光反射能を維持しつつも、簡易な方法で反射ピークを調整することが可能となる。なお、コロイド構造体10における規則配列構造は、例えば最密充填構造、面心立方構造又は体心立方構造であることが好ましい。
 さらに、コロイド構造体10は、複数種類のコロイド粒子が混和してコロイド結晶化したコロイド固溶体を成していることが好ましい。これにより、第1のコロイド粒子1からなるコロイド結晶と第2のコロイド粒子2からなるコロイド結晶の中間的な性質を有する構造体となる。そのため、第1及び第2のコロイド粒子の含有割合及び/又は粒子径を調整することで、第1のコロイド粒子からなるコロイド結晶の反射ピークと、第2のコロイド粒子からなるコロイド結晶の反射ピークとの間の任意の位置に、反射ピークを有することができる。
 なお、コロイド構造体10は、母体3によりコロイド粒子を固定しているため、図1に示すように、隣接するコロイド粒子は互いに離間していることが好ましい。これにより、コロイド構造体10が疎充填のコロイド結晶となることから、高い光反射性を発揮することができる。ただ、全てのコロイド粒子が互いに離間している必要はなく、コロイド粒子の一部が接触していても上記効果を発揮することができる。
 なお、本実施形態のコロイド構造体10は、照射された光の一部はBragg反射し、反射されなかった光の一部は透過することができる。そのため、コロイド構造体10は、光の透過、反射及び回折の少なくともいずれか一つを制御する光学部材として適用することができる。具体的には、コロイド構造体10を、例えば、色材、光メモリ材料、表示デバイス、光スイッチ、センサーなどに適用することができる。また、コロイド構造体10は、後述するように、発光装置及び照明システムの光学フィルタとして用いることができる。
 コロイド構造体10において、コロイド粒子が高度な三次元規則配列構造をとることが可能ならば、コロイド構造体10は、フォトニック結晶としての性質を発揮することができる。そのため、このようなコロイド構造体10は、フォトニック結晶の性質である、特定周波数を有する光の閉じ込め効果、又は、複雑なフォトニックバンド構造に基づく周波数変換効果を利用した光学部材として用いることができる。
 また、上述のように、コロイド構造体10は色材として用いることができるため、コロイド構造体10を建築用材又は身飾品に適用することができる。
 次に、本実施形態に係るコロイド構造体の製造方法について説明する。なお、複数種類のコロイド粒子、第1のコロイド粒子、第2のコロイド粒子及び母体は、上述のコロイド構造体で説明したものと同じであるため、それらの説明は省略する。
 コロイド構造体の製造方法では、まず、第1のコロイド粒子と第2のコロイド粒子とを少なくとも含む複数種類のコロイド粒子を、一種類以上のモノマーと共に分散させることにより、コロイド分散液を調製する。具体的には、重合することにより母体3を形成するモノマーに、複数種類のコロイド粒子を添加する。この際、モノマーとしては液状のものを使用し、コロイド粒子としては粉末状のものを使用することができる。モノマーにコロイド粒子を分散させる方法は特に限定されず、例えば攪拌及び超音波照射により、分散させることができる。
 複数種類のコロイド粒子を含むコロイド分散液を調製する際には、第1のコロイド粒子の粉末と第2のコロイド粒子の粉末をそれぞれ秤量した後、これらをモノマーに添加することにより調製してもよい。ただ、コロイド構造体を製造する都度、微細な粉末を秤量するのは煩雑な場合がある。そのため、本実施形態では、第1のコロイド粒子が分散した第1のコロイド分散液と、第2のコロイド粒子が分散した第2のコロイド分散液とを混合することで、複数種類のコロイド粒子を含むコロイド分散液を調製してもよい。つまり、第1のコロイド粒子の粉末をモノマーに添加して分散させた第1のコロイド分散液と、第2のコロイド粒子の粉末をモノマーに添加して分散させた第2のコロイド分散液とを予め準備する。次いで、第1のコロイド粒子と第2のコロイド粒子との含有割合に応じて、第1のコロイド分散液と第2のコロイド分散液を秤量する。そして、秤量した第1のコロイド分散液と第2のコロイド分散液を混合することにより、複数種類のコロイド粒子を含むコロイド分散液を得ることができる。
 なお、活性エネルギー線によってモノマーを重合させる場合には、光重合開始剤などがコロイド分散液に添加されてもよい。光重合開始剤としては、ラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤、アニオン光重合開始剤など公知の光重合開始剤を用いることができる。
 次に、得られたコロイド分散液を基板上に塗布し、塗布膜を生成する。コロイド分散液を塗布する方法は特に限定されないが、例えばスプレーコート法、スピンコート法、スリットコート法、ロールコート法等が利用できる。なお、塗布膜を生成した後、塗布膜を静置することで、コロイド粒子が三次元かつ規則的に配列する。
 そして、塗布膜中のモノマーを重合させることにより、複数種類のコロイド粒子をポリマーで固定化する。モノマーを重合させる方法は特に限定されず、加熱によって重合させてもよく、活性エネルギー線(電磁波、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、γ線等)によって重合させてもよい。このような工程により、複数種類のコロイド粒子が母体中で規則的に配列したコロイド構造体を得ることができる。
 このように、コロイド構造体の製造方法は、平均粒子径が互いに異なる第1のコロイド粒子と第2のコロイド粒子を少なくとも含む複数種類のコロイド粒子を、一種類以上のモノマーと共に分散させることにより、コロイド分散液を調製する分散液調製工程を有する。さらに当該製造方法は、コロイド分散液を基板上に塗布し、塗布膜を生成する塗布膜生成工程と、塗布膜中のモノマーを重合させることにより、複数種類のコロイド粒子をポリマーで固定化するポリマー化工程を有する。ポリマー化工程において、複数種類のコロイド粒子はポリマー中で規則配列構造を形成する。そして、第1のコロイド粒子及び第2のコロイド粒子の粒子径の変動係数は、それぞれ20%未満である。
 従来のように、コロイド結晶膜中のコロイド粒子の濃度を変えることにより反射ピークを調整する場合には、コロイド結晶膜を製造する都度、コロイド粒子を構成する微細な粉体を秤量する必要が生じるため、製造工程が煩雑になる。しかしながら、本実施形態のコロイド構造体の製造方法では、予め調製した第1のコロイド分散液と第2のコロイド分散液とを混合することで、複数種類のコロイド粒子を含むコロイド分散液が得られる。そのため、従来よりも簡易な方法でコロイド構造体を得ることが可能となる。
[コロイド多重構造体]
 次に、本実施形態のコロイド多重構造体について、図面に基づき詳細に説明する。なお、上述のコロイド構造体と同一構成には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
 上述のように、本実施形態のコロイド構造体10は、複数種類のコロイド粒子と、当該コロイド粒子を固定している母体3とを含み、さらに複数種類のコロイド粒子は母体3中で規則配列構造を形成している。上述のように、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2の含有割合及び/又は粒子径を調整することで、反射ピーク波長をシフトさせることができる。そのため、高い光反射能を維持しつつも、簡易な方法で反射ピークを調整することが可能となる。
 ここで、光反射能を高めるためにコロイド構造体10を厚膜化しようとした場合、コロイド粒子の自己組織化が難しくなることから、コロイド粒子による規則配列構造が形成されない可能性がある。そして、コロイド粒子による規則配列構造が形成されない場合には、所望の反射特性を得ることが難しくなる恐れがある。
 そのため、本実施形態では、コロイド構造体10を複数層積層させることを特徴とする。具体的には、図4(a)に示すように、コロイド多重構造体20は、コロイド構造体10を複数備え、さらに複数のコロイド構造体10を積層している。上述のように、コロイド構造体10は所望の反射特性を有していることから、コロイド構造体10を積層することにより、単層を厚膜化した構造では得られなかった高い反射率(例えば50%以上)の光学部材を得ることができる。また、互いに異なる規則配列構造を有するコロイド構造体10を積層することにより、複数の波長の光を反射することが可能な光学部材を得ることができる。
 本実施形態のコロイド多重構造体20において、積層された複数のコロイド構造体10は、互いに異なる反射特性を持つ構成とすることができる。つまり、コロイド多重構造体に関し、複数のコロイド構造体から選択した2つのコロイド構造体において、一方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長と、他方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長との差は10nmを超えることが好ましい。
 具体的には、図4(a)に示すコロイド多重構造体20において、コロイド構造体10aとコロイド構造体10bは互いに異なる規則配列構造を有していることが好ましい。そして、コロイド構造体10aの反射スペクトルのピーク波長と、コロイド構造体10bの反射スペクトルのピーク波長との差が10nmを超えることが好ましい。これにより、コロイド多重構造体20は、コロイド構造体10aが持つ反射特性と、コロイド構造体10bが持つ反射特性とを併せ持つものとなるため、反射特性の多様化が容易な光学部材を得ることができる。また、コロイド構造体10aとコロイド構造体10bが互いに異なる反射特性を持つことにより、二つの波長の光を反射することが可能なコロイド多重構造体20を得ることができる。
 本実施形態のコロイド多重構造体20において、積層された複数のコロイド構造体10は、実質的に等しい反射特性を持つ構成とすることができる。つまり、コロイド多重構造体に関し、複数のコロイド構造体から選択した2つのコロイド構造体において、一方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長と、他方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長との差は、10nm以下であることが好ましい。
 具体的には、図4(a)に示すコロイド多重構造体20において、コロイド構造体10aとコロイド構造体10bは殆ど同じ規則配列構造を有していることが好ましい。そして、コロイド構造体10aの反射スペクトルのピーク波長と、コロイド構造体10bの反射スペクトルのピーク波長との差が10nm以下であることが好ましい。これにより、コロイド多重構造体20において、コロイド構造体10aが持つ反射特性と、コロイド構造体10bが持つ反射特性が殆ど同じとなることから、反射率が増強した光学部材を得ることができる。なお、複数のコロイド構造体10から選択した2つのコロイド構造体10において、一方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長と、他方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長との差は、5nm以下であることがより好ましい。
 本実施形態に係るコロイド多重構造体20は、図4(a)に示すように、基板4に支持されることにより、多重構造物200を形成してもよい。言い換えれば、多重構造物200は、コロイド多重構造体20と、コロイド多重構造体20を支持する基板4とを備えている。これにより、コロイド多重構造体20の強度が向上することから、コロイド多重構造体20の取り扱い性を高めることが可能となる。また、基板4に複数のコロイド構造体10を設け、さらにコロイド構造体10を保護膜で被覆する場合、図4(a)に示す構成では、一方の面4a側にのみ保護膜を設ければよい。そのため、多重構造物200の製造工程を簡略化することが可能となる。
 図4(b)に示すように、本実施形態のコロイド多重構造体20Aは、隣接するコロイド構造体10の間、つまりコロイド構造体10aとコロイド構造体10bの間に接着層21を設けてもよい。これにより、コロイド構造体10の間の密着性を高めて、コロイド構造体10の剥離を抑制することが可能となる。また、コロイド多重構造体20Aは、基板4に支持されることにより、多重構造物200Aを形成してもよい。なお、図示しないが、コロイド構造体10bと基板4との間に接着層21を設けてもよい。
 接着層21を構成する材料は特に限定されないが、コロイド構造体10の母体3と屈折率が近い材料を用いることが好ましい。これにより、コロイド構造体10と接着層21との間のフレネル反射を抑制し、特定波長の光の透過率を高めることが可能となる。なお、接着層としては、例えばアクリル樹脂を含むアクリル系接着剤を用いることができる。
 上述のように、多重構造物200は、基板4の一方の面4aのみにコロイド多重構造体20を設けることができる。ただ、本実施形態はこのような構成に限定されず、図4(c)に示すように、基板4の一方の面4a、及び一方の面4aと反対側の他方の面4bの両方にコロイド構造体10を設けてもよい。このように、多重構造物200Bにおいて、複数のコロイド構造体10が基板4の両面に配置されることにより、多重構造物200Bの強度が向上し、取り扱い性を高めることが可能となる。また、基板4の一方の面4a及び他方の面4bは共に平坦な面である。そのため、平坦な面4a及び面4bに設けられたコロイド構造体10では、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2が規則配列構造を形成しやすくなることから、所望の光の反射率を高めることが可能となる。さらに、コロイド構造体10a,10bの構成材料を共通化することで、コロイド構造体10a,10bの線膨張率を殆ど等しくすることができる。そのため、基板4の面4a及び面4bの両方にコロイド構造体10を設けることにより、多重構造物200Bの反りを抑制することが可能となる。
 上述のように、本実施形態のコロイド多重構造体は、コロイド構造体10を複数備えている。そのため、コロイド多重構造体は、図4(a)及び図4(b)に示すような二層のコロイド構造体10を備えた構成に限定されず、図5(a)及び図5(b)に示すような三層のコロイド構造体10を備えた構成とすることができる。また、図示しないが、コロイド多重構造体は、四層以上のコロイド構造体10を備えた構成とすることもできる。
 具体的には、図5(a)に示すように、コロイド多重構造体20Bは、コロイド構造体10a,10b,10cを積層した構成とすることができる。なお、図5(a)では、コロイド構造体10aとコロイド構造体10bとの間、及びコロイド構造体10bとコロイド構造体10cとの間に接着層を設けず、コロイド構造体は互いに接触する構成となっている。また、コロイド構造体10a、コロイド構造体10b及びコロイド構造体10cは、互いに異なる反射特性を持つ構成であってもよく、実質的に等しい反射特性を持つ構成であってもよい。なお、コロイド多重構造体20Bは、図5(a)に示すように、基板4に支持されることにより、多重構造物200Cを形成してもよい。
 図5(b)のように、コロイド多重構造体20Cは、コロイド構造体10a,10b,10cを備え、コロイド構造体10aとコロイド構造体10bとの間、及びコロイド構造体10bとコロイド構造体10cとの間に接着層21を設けた構成とすることができる。なお、コロイド多重構造体20Cは、図5(b)に示すように、基板4に支持されることにより、多重構造物200Dを形成してもよい。さらに、図5(c)に示すように、基板4の一方の面4aにコロイド多重構造体20を積層し、他方の面4bにコロイド構造体10を積層することにより、多重構造物200Eを形成することもできる。
 上述のように、コロイド多重構造体20は、複数のコロイド構造体10を積層した構成を有している。ただ、本実施形態のコロイド多重構造体はこのような構成に限定されず、例えば、図6(a)に示すような構成とすることもできる。コロイド多重構造体20Dは、コロイド構造体10とコロイド結晶体10Aとを備える。コロイド結晶体10Aは、一種類のみのコロイド粒子5と、当該一種類のみのコロイド粒子5を固定している母体6とを含み、一種類のみのコロイド粒子5は母体6中で規則配列構造を形成している。これにより、コロイド多重構造体20は、コロイド構造体10が持つ反射特性と、コロイド結晶体10Aが持つ反射特性とを併せ持つものとなるため、反射特性の多様化が容易な光学部材を得ることができる。
 上述のように、コロイド構造体10は、第1のコロイド粒子1と第2のコロイド粒子2とを少なくとも含んでおり、さらにこれらの平均粒子径が互いに異なっている。これに対して、コロイド結晶体10Aは、コロイド粒子として一種類のコロイド粒子5のみを含んでいる。コロイド結晶体10Aは、コロイド構造体10と同様に、コロイド粒子5同士が互いに接触してなる密充填のコロイド結晶を有しているわけではなく、コロイド粒子5同士が互いに離間した疎充填のコロイド結晶を有している。このような疎充填のコロイド結晶を有することにより、コロイド結晶体10Aに照射された光の一部はBragg反射し、反射されなかった光の一部はコロイド結晶体10Aを透過することができる。なお、コロイド粒子5が母体6中でとる規則配列構造は、コロイド構造体10と同様に、例えば最密充填構造、面心立方構造又は体心立方構造であることが好ましい。
 コロイド結晶体10Aに含まれるコロイド粒子5は、コロイド構造体10と同様に、無機材料及び樹脂材料の少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。また、コロイド粒子5は無機材料のみから形成されていてもよく、樹脂材料のみから形成されていてもよく、無機材料及び樹脂材料の両方から形成されていてもよい。
 コロイド粒子5の平均粒子径は、0.01μm~10μmであることが好ましく、10nm~1000nmであることがより好ましく、50nm~300nmであることがさらに好ましく、70nm~280nmであることが特に好ましい。また、コロイド粒子5の粒子径の変動係数は、20%未満であることが好ましい。これにより、コロイド粒子5が母体6中で規則配列構造を形成しやすくなる。なお、コロイド粒子5の粒子径の変動係数は、15%未満であることがより好ましく、12%未満であることがさらに好ましく、10%未満であることが特に好ましく、8%未満であることが最も好ましい。
 コロイド結晶体10Aにおいて、コロイド粒子5を固定している母体6は、コロイド構造体10と同様に樹脂を含んでいることが好ましい。コロイド粒子5を構成する無機材料及び樹脂材料、並びに母体6を構成する樹脂は、コロイド構造体10で説明したものと同じものを使用することができる。
 本実施形態のコロイド多重構造体20Dにおいて、積層されたコロイド構造体10とコロイド結晶体10Aは、互いに異なる反射特性を持つ構成とすることができる。つまり、コロイド多重構造体20Dに関し、コロイド構造体10の反射スペクトルのピーク波長と、コロイド結晶体10Aの反射スペクトルのピーク波長との差は、10nmを超えることが好ましい。これにより、コロイド多重構造体20Dは、コロイド構造体10が持つ反射特性と、コロイド結晶体10Aが持つ反射特性とを併せ持つものとなるため、反射特性の多様化が容易な光学部材を得ることができる。また、コロイド構造体10とコロイド結晶体10Aが互いに異なる反射特性を持つことにより、二つの波長の光を反射することが可能なコロイド多重構造体20Dを得ることができる。
 コロイド多重構造体20Dにおいて、積層されたコロイド構造体10とコロイド結晶体10Aは、実質的に等しい反射特性を持つ構成とすることができる。つまり、コロイド多重構造体20Dに関し、コロイド構造体10の反射スペクトルのピーク波長と、コロイド結晶体10Aの反射スペクトルのピーク波長との差は、10nm以下であることが好ましい。また、コロイド構造体10の反射スペクトルのピーク波長と、コロイド結晶体10Aの反射スペクトルのピーク波長との差は、5nm以下であることがより好ましい。これにより、コロイド多重構造体20Dにおいて、コロイド構造体10が持つ反射特性と、コロイド結晶体10Aが持つ反射特性が殆ど同じとなることから、反射率が増強された光学部材を得ることができる。
 なお、コロイド結晶体10Aは、コロイド粒子5の材料、母体6の材料、コロイド粒子5の濃度及びコロイド粒子5の平均粒子径の少なくとも一つを変えることにより、反射スペクトルにおける反射ピーク波長をシフトさせることができる。そのため、これらを調整することにより、コロイド構造体10の反射スペクトルのピーク波長と、コロイド結晶体10Aの反射スペクトルのピーク波長との差を上記範囲内にすることができる。
 図6(a)に示すコロイド多重構造体20Dは、上層がコロイド結晶体10Aであり、下層がコロイド構造体10となっている。ただ、コロイド多重構造体20Dはこのような構成に限定されず、上層がコロイド構造体10であり、下層がコロイド結晶体10Aであってもよい。
 コロイド多重構造体20Dは、図6(a)に示すように、基板4に支持されることにより、多重構造物200Fを形成してもよい。言い換えれば、多重構造物200Fは、コロイド多重構造体20Dと、コロイド多重構造体20Dを支持する基板4とを備えている。これにより、コロイド多重構造体20Dの強度が向上することから、コロイド多重構造体20Dの取り扱い性を高めることが可能となる。
 図6(b)に示すように、コロイド多重構造体20Eは、コロイド構造体10とコロイド結晶体10Aとの間に接着層21を設けてもよい。これにより、コロイド構造体10とコロイド結晶体10Aとの間の密着性を高めて、剥離を抑制することが可能となる。なお、コロイド多重構造体20Eは、基板4に支持されることにより、多重構造物200Gを形成してもよい。
 図6(a)に示す多重構造物200Fのように、基板4の一方の面4aのみにコロイド多重構造体20Dを設けることができる。ただ、本実施形態はこのような構成に限定されず、図6(c)に示す多重構造物200Hのように、基板4の一方の面4aにコロイド結晶体10Aを設け、一方の面4aと反対側の他方の面4bにコロイド構造体10を設けてもよい。
 コロイド構造体10とコロイド結晶体10Aとを積層したコロイド多重構造体は、図6に示すように、コロイド構造体10及びコロイド結晶体10Aを一層ずつ備える構成に限定されない。例えば、当該コロイド多重構造体は、複数のコロイド構造体10及び/又は複数のコロイド結晶体10Aを備える構成であってもよい。
 具体的には、図7(a)に示すように、コロイド多重構造体20Fは、一層のコロイド結晶体10Aと、二層のコロイド構造体10とを積層した構成とすることができる。なお、コロイド多重構造体20Fは、図7(a)に示すように、基板4に支持されることにより、多重構造物200Iを形成してもよい。また、図7(b)に示すように、コロイド多重構造体20Gは、一層のコロイド結晶体10Aと二層のコロイド構造体10を備える。そして、コロイド結晶体10Aとコロイド構造体10aとの間、及びコロイド構造体10aとコロイド構造体10bとの間に接着層21を設けた構成とすることができる。なお、コロイド多重構造体20Gは、図7(b)に示すように、基板4に支持されることにより、多重構造物200Jを形成してもよい。さらに、図7(c)に示すように、基板4の一方の面4aに一層のコロイド結晶体10Aと一層のコロイド構造体10aを積層し、他方の面4bにコロイド構造体10bを積層することにより、多重構造物200Kを形成することもできる。
 なお、図7において、コロイド結晶体10Aとコロイド構造体10の積層順序は特に限定されない。例えば、図7(a)に示すコロイド多重構造体20Fにおいて、コロイド結晶体10Aは上層に限定されず、中層であってもよく、また、下層であってもよい。
 次に、コロイド多重構造体の製造方法について説明する。本実施形態のコロイド多重構造体の製造方法は、コロイド構造体10の製造方法と同様に、最初に、母体3のモノマー中に複数種類のコロイド粒子を分散させ、得られたコロイド分散液を基板4などに塗布して硬化させる。次に、得られたコロイド構造体10に表面に、さらにコロイド分散液を塗布して硬化させることにより、コロイド多重構造体20を得ることができる。
 例えば、コロイド構造体10aとコロイド構造体10bが殆ど同じ規則配列構造を有しているコロイド多重構造体20は、次のように得ることができる。まず、母体3のモノマー中に複数種類のコロイド粒子を分散させることにより、第1のコロイド分散液を調製する。次に、得られた第1のコロイド分散液を基板4に塗布して硬化させることにより、コロイド構造体10bを得る。次に、コロイド構造体10bの表面に第1のコロイド分散液を塗布して硬化させることに、コロイド構造体10aを得ることができる。
 また、コロイド構造体10aとコロイド構造体10bが互いに異なる規則配列構造を有しているコロイド多重構造体20は、次のように得ることができる。まず、母体3のモノマー中に複数種類のコロイド粒子を分散させることにより、第1のコロイド分散液を調製する。同様に、母体3のモノマー中に複数種類のコロイド粒子を分散させることにより、第2のコロイド分散液を調製する。この際、第1のコロイド分散液と第2のコロイド分散液は、母体3の原料、コロイド粒子の材料、コロイド粒子の濃度及びコロイド粒子の平均粒子径の少なくとも一つを異ならせることが好ましい。そして、第1のコロイド分散液を基板4に塗布して硬化させることにより、コロイド構造体10bを得る。次に、コロイド構造体10bの表面に第2のコロイド分散液を塗布して硬化させることに、コロイド構造体10aを得ることができる。
 このように、本実施形態のコロイド多重構造体20は、コロイド構造体10を複数備えている。そのため、単層を厚膜化した構造では得られなかった高い反射率の光学部材を得ることができる。また、互いに異なる規則配列構造を有するコロイド構造体10を積層することにより、複数の波長の光を反射することが可能な光学部材を得ることができる。
 また、従来の薄膜状のフィルタを単純に複数積層しただけの光学フィルタでは、最表層のフィルタの表面及び各フィルタの界面で、フレネル反射が生じてしまう。そのため、特定波長の反射率は向上するが、その他の波長の透過率は大幅に低下してしまう。しかしながら、コロイド多重構造体20は、コロイド分散液を塗布して硬化する工程を繰り返すことにより調製していることから、各コロイド構造体10の界面におけるフレネル反射を大きく低減することができる。また、各コロイド構造体10における母体3として、屈折率が近似した樹脂を使用することで、フレネル反射をさらに低減することが可能となる。
[発光装置]
 次に、本実施形態に係る発光装置について説明する。本実施形態の発光装置は、光源31と、光源31が放つ一次光が照射される光学フィルタ300とを備える。光学フィルタ300は、コロイド構造体10、構造物100、コロイド多重構造体20及び多重構造物200からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する。そして、光源31が放つ一次光L1の一部が光学フィルタ300を透過する。発光装置は、このような光学フィルタ300を備えることによって、特定の波長の光を反射し、所望の光成分を放射することができる。
 図8は、発光装置の一例として、LEDモジュール30(Light-emitting diodeモジュール)を示している。本実施形態において、光源31は、LED素子からなり、回路基板32に実装された発光素子であるが、これに限定されない。
 発光素子は、例えば380nm~500nmの波長範囲内に主な発光ピークを有し、青色の光を出射する青色LED素子や紫色の光を出射する紫色LED素子を用いることができる。このような発光素子としては、例えば窒化ガリウム系のLED素子が挙げられる。
 本実施形態に係る発光装置は、光源31と光学フィルタ300とを備えているが、さらに波長変換部材33を備えてもよい。具体的には、図8に示すように、発光装置であるLEDモジュール30は、波長変換部材33をさらに備えてもよい。本実施形態において、波長変換部材33は光源31を覆っている。波長変換部材33は、シリコーン樹脂等の透光性材料内に、例えば青色蛍光体、緑色蛍光体、黄色蛍光体及び赤色蛍光体の少なくとも一種以上の蛍光体34を含有している。青色蛍光体は、光源31の出射光により励起され、青色光を出射する。緑色蛍光体及び黄色蛍光体も光源31の出射光により励起され、それぞれ緑色光及び黄色光を出射する。
 青色蛍光体は470nm~500nmの波長領域に発光ピークを持ち、緑色蛍光体は500nm~540nmの波長領域に発光ピークを持ち、黄色蛍光体は545nm~595nmの波長領域に発光ピークを持つものである。青色蛍光体としては、例えばBaMgAl1017:Eu2+、CaMgSi:Eu2+、BaMgSi:Eu2+、Sr10(POCl:Eu2+などが挙げられる。緑色蛍光体としては、例えば(Ba,Sr)SiO:Eu2+、CaMg(SiOCl:Eu2+、CaMg(SiOCl:Eu2+,Mn2+が挙げられる。黄色蛍光体としては、例えば(Sr,Ba)SiO:Eu2+、(Y,Gd)Al12:Ce3+、α-Ca-SiAlON:Eu2+が挙げられる。
 赤色蛍光体は、光源31や、緑色蛍光体及び黄色蛍光体の少なくとも一方の出射光により励起され、赤色光を出射する。赤色蛍光体は、600nm~650nmの波長領域に発光ピークを持つものである。赤色蛍光体としては、例えばSrSi:Eu2+、CaAlSiN:Eu2+、SrAlSi:Eu2+、CaS:Eu2+、LaS:Eu3+、YMg(AlO)(SiO:Ce3+が挙げられる。
 図8に示すように、LEDモジュール30の出射面側には、光学フィルタ300が配置されている。そして、光源31から出射された一次光L1の一部は、波長変換部材33及び光学フィルタ300を透過する。一方、一次光L1の一部は、上述したように光学フィルタ300で反射される。波長変換部材33の蛍光体34は、一次光L1によって励起され得るが、光学フィルタ300で反射された一次光L1の反射光Rによって励起されてもよい。すなわち、蛍光体34が一次光L1又は反射光Rのいずれか一方によって励起され、二次光L2を発してもよい。そして、光学フィルタ300を透過した透過光Tは、LEDモジュール30から出射される。
 波長変換部材33の蛍光体34が反射光Rで励起されると、反射光Rに対して長波長側にシフトした二次光L2が出射される。二次光L2は、光学フィルタ300によって反射されない波長を有する場合、光学フィルタ300を透過して外部に出射される。この場合、反射光Rは再利用されて外部に出射されるため、LEDモジュール30の発光効率を向上させることができる。
[照明システム]
 次に、本実施形態に係る照明システムについて説明する。本実施形態に係る照明システムは、発光装置を備える。
 図9では、照明システムの一例として、LEDモジュール30を備えたデスクスタンド40を示す。図9に示すように、デスクスタンド40は、略円板状のベース41上に照明本体42が取り付けられている。照明本体42はアーム43を有し、アーム43の先端側の灯具44はLEDモジュール30を備える。照明本体42にはスイッチ45が設けられ、スイッチ45をオン・オフ操作することでLEDモジュール30の点灯状態が変更されるようになっている。
 図10(a)に示すように、灯具44は、略円筒状のベース部46と、LEDモジュール30と、カバー50とを備える。LEDモジュール30は、光源ユニット47と、配向制御部48と、光学フィルタ300からなるフィルタ49とを備える。図10(b)に示すように、光源ユニット47は、回路基板32と、回路基板32に実装された光源31と、回路基板32の上に配置され、光源31を覆う波長変換部材33とを備えている。波長変換部材33は蛍光体34を含有している。配向制御部48は、光源ユニット47の光を所望の配光に制御するために用いられるものであり、本実施形態ではレンズを備えている。ただし、配向制御部48としては、レンズの他に、照明システムの構成によって反射板や導光板を有していてもよい。
 このように、本実施形態の照明システムは、耐久性に優れ、波長制御が容易なコロイド構造体10、構造物100、コロイド多重構造体20及び多重構造物200からなる群より選ばれる少なくとも一つを用いているため、所望の分光特性を容易に得ることができる。つまり、本実施形態の照明システムは、例えば出射光が照射される紙面の白色度を高め、視認性を向上させることが可能となる。また、肌色を良好に見せ、さらに食材や植物の色を鮮やかに演出することも可能となる。
 以下、実施例及び比較例により本実施形態を更に詳しく説明するが、本実施形態はこれらに限定されるものではない。
 実施例1-1乃至1-3及び比較例1-1乃至1-3、並びに実施例2の試験サンプルを製造するに際し、次の原料を用いた。
(コロイド粒子)
 ・シリカ粒子1;平均粒子径(D50):150nm、粒子径の変動係数:5%
 ・シリカ粒子2;平均粒子径(D50):180nm、粒子径の変動係数:5%
 ・シリカ粒子3;平均粒子径(D50):200nm、粒子径の変動係数:5%
 なお、シリカ粒子1~3は、Stober法にて合成した。
(モノマー)
 ・トリエチレングリコールジメタクリレートモノマー;新中村化学工業株式会社製、NKエステル3G
(光重合開始剤)
 ・2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン;BASF社製IRGACURE(登録商標)1173
[実施例1-1]
 まず、シリカ粒子1を含有量が30体積%になるようにモノマー中に添加した。次に、室温(25℃)条件下において、20kHzの超音波を10分間印加することにより、シリカ粒子1をモノマー中に分散させた。このようにして、コロイド粒子(シリカ粒子1)がモノマー中に均一に分散したコロイド分散液1を得た。
 同様に、シリカ粒子2を含有量が30体積%になるようにモノマー中に添加した。次に、室温(25℃)条件下において、20kHzの超音波を10分間印加することにより、シリカ粒子2をモノマー中に分散させた。このようにして、コロイド粒子(シリカ粒子2)がモノマー中に均一に分散したコロイド分散液2を得た。
 次に、コロイド分散液1とコロイド分散液2とを3:1の質量比で混合し、さらに光重合開始剤を1.0質量%添加した。そして、この分散液を、室温(25℃)条件下において、200mm角で1.0mm厚のガラス基板にバーコーターを用いて塗布した。この際、バーコーターは、番手が#18のものを使用した。そして、得られた塗布膜に紫外光を照射してモノマーを重合させることにより、ガラス基板上に層厚が約40μmのコロイド構造体を形成した試験サンプルを得た。
[実施例1-2]
 分散液中におけるコロイド分散液1とコロイド分散液2との混合比率を質量比で2:1としたこと以外は実施例1-1と同様にして、本例の試験サンプルを得た。
[実施例1-3]
 まず、シリカ粒子3を含有量が30体積%になるようにモノマー中に添加した。次に、室温(25℃)条件下において、20kHzの超音波を10分間印加することにより、シリカ粒子3をモノマー中に分散させた。このようにして、コロイド粒子(シリカ粒子3)がモノマー中に均一に分散したコロイド分散液3を得た。
 次に、実施例1-1のコロイド分散液2とコロイド分散液3とを、1:4の質量比で混合し、さらに光重合開始剤を1.0質量%添加した。そして、この分散液を、室温(25℃)条件下において、200mm角で1.0mm厚のガラス基板にバーコーターを用いて塗布した。この際、バーコーターは、番手が#18のものを使用した。そして、得られた塗布膜に紫外光を照射してモノマーを重合させることにより、ガラス基板上に層厚が約40μmのコロイド構造体を形成した試験サンプルを得た。
[比較例1-1]
 まず、シリカ粒子1を含有量が28体積%になるようにモノマー中に添加した。次に、室温(25℃)条件下において、20kHzの超音波を10分間印加することにより、シリカ粒子1をモノマー中に分散させた。このようにして、コロイド粒子(シリカ粒子1)がモノマー中に均一に分散し、含有量が28体積%であるコロイド分散液を得た。
 次に、コロイド分散液に光重合開始剤を1.0質量%添加した。そして、この分散液を、室温(25℃)条件下において、200mm角で1.0mm厚のガラス基板にバーコーターを用いて塗布した。この際、バーコーターは、番手が#18のものを使用した。そして、得られた塗布膜に紫外光を照射してモノマーを重合させることにより、ガラス基板上に、層厚が約40μmであり、かつ、コロイド粒子の含有量が28体積%であるコロイド結晶体を形成した試験サンプルを得た。
 上述と同様にして、層厚が約40μmであり、かつ、コロイド粒子の含有量がそれぞれ30体積%、32体積%、34体積%、36体積%であるコロイド結晶体を形成した試験サンプルも作製した。
[比較例1-2]
 まず、シリカ粒子2を含有量が26体積%になるようにモノマー中に添加した。次に、室温(25℃)条件下において、20kHzの超音波を10分間印加することにより、シリカ粒子2をモノマー中に分散させた。このようにして、コロイド粒子(シリカ粒子2)がモノマー中に均一に分散し、含有量が26体積%であるコロイド分散液を得た。
 次に、コロイド分散液に光重合開始剤を1.0質量%添加した。そして、この分散液を、室温(25℃)条件下において、200mm角で1.0mm厚のガラス基板にバーコーターを用いて塗布した。この際、バーコーターは、番手が#18のものを使用した。そして、得られた塗布膜に紫外光を照射してモノマーを重合させることにより、ガラス基板上に、層厚が約40μmであり、かつ、コロイド粒子の含有量が26体積%であるコロイド結晶体を形成した試験サンプルを得た。
 上述と同様にして、層厚が約40μmであり、かつ、コロイド粒子の含有量がそれぞれ28体積%、30体積%、32体積%、36体積%であるコロイド結晶体を形成した試験サンプルも作製した。
[比較例1-3]
 まず、シリカ粒子3を含有量が26体積%になるようにモノマー中に添加した。次に、室温(25℃)条件下において、20kHzの超音波を10分間印加することにより、シリカ粒子3をモノマー中に分散させた。このようにして、コロイド粒子(シリカ粒子3)がモノマー中に均一に分散し、含有量が26体積%であるコロイド分散液を得た。
 次に、コロイド分散液に光重合開始剤を1.0質量%添加した。そして、この分散液を、室温(25℃)条件下において、200mm角で1.0mm厚のガラス基板にバーコーターを用いて塗布した。この際、バーコーターは、番手が#18のものを使用した。そして、得られた塗布膜に紫外光を照射してモノマーを重合させることにより、ガラス基板上に、層厚が約40μmであり、かつ、コロイド粒子の含有量が26体積%であるコロイド結晶体を形成した試験サンプルを得た。
 上述と同様にして、層厚が約40μmであり、かつ、コロイド粒子の含有量がそれぞれ28体積%、30体積%であるコロイド結晶体を形成した試験サンプルも作製した。
[評価]
 (反射スペクトル測定)
 上記のように作製した各例の試験サンプルの反射スペクトルを、紫外可視分光光度計(株式会社島津製作所製UV-2600)を用いて測定した。実施例1-1及び1-2の試験サンプルの反射スペクトルは450nm~580nmの波長範囲を測定し、実施例1-3の試験サンプルの反射スペクトルは500nm~630nmの波長範囲を測定した。図11では実施例1-1の試験サンプルの反射スペクトルを示し、図12では実施例1-2の試験サンプルの反射スペクトルを示し、図13では実施例1-3の試験サンプルの反射スペクトルを示す。
 なお、図11及び図12には、コロイド分散液1及びコロイド分散液2にそれぞれ光重合開始剤を1.0質量%添加した後、実施例1-1と同様にしてコロイド結晶体を形成したサンプルの反射スペクトルも示す。また、図13には、コロイド分散液2及びコロイド分散液3にそれぞれ光重合開始剤を1.0質量%添加した後、実施例1-3と同様にしてコロイド結晶体を形成したサンプルの反射スペクトルも示す。
 図11及び図12のように、実施例1-1及び1-2の試験サンプルの反射ピーク波長は、コロイド粒子としてシリカ粒子1のみを含むコロイド結晶の反射ピーク波長と、コロイド粒子としてシリカ粒子2のみを含むコロイド結晶の反射ピーク波長との間に存在する。そのため、シリカ粒子1とシリカ粒子2とを混和させてコロイド結晶化することにより、反射ピーク波長を制御できることが分かる。
 また、図13に示すように、実施例1-3の試験サンプルの反射ピーク波長は、コロイド粒子としてシリカ粒子2のみを含むコロイド結晶の反射ピーク波長と、コロイド粒子としてシリカ粒子3のみを含むコロイド結晶の反射ピーク波長との間に存在する。そのため、シリカ粒子2とシリカ粒子3とを混和させてコロイド結晶化することにより、反射ピーク波長を制御できることが分かる。
 さらに図11及び図12のように、実施例1-1及び1-2の試験サンプルの反射ピークは反射率が55%を超えており、シリカ粒子1のみを含むコロイド結晶の反射ピーク、及びシリカ粒子2のみを含むコロイド結晶の反射ピークよりも反射率が高いことが分かる。同様に、図13に示すように、実施例1-3の試験サンプルの反射ピークも反射率が55%を超えており、シリカ粒子2のみを含むコロイド結晶の反射ピーク、及びシリカ粒子3のみを含むコロイド結晶の反射ピークよりも反射率が高いことが分かる。そのため、複数種類のコロイド粒子を使用してコロイド構造体を形成することにより、光反射能の低下を抑制できることが分かる。
 図14では、実施例1-1乃至1-3の試験サンプルの反射スペクトルを合わせて示す。実施例1-1は、シリカ粒子1を含むコロイド分散液1とシリカ粒子2を含むコロイド分散液2とを3:1の質量比で混合したものであり、実施例1-2は、コロイド分散液1とコロイド分散液2とを2:1の質量比で混合したものである。図14に示すように、二種類のコロイド粒子の配合比を変化させることにより、細かい間隔でピーク波長を制御できることが分かる。
 また、実施例1-1及び1-2は150nmのシリカ粒子1と180nmのシリカ粒子2とを混和させたコロイド構造体であり、実施例1-3は180nmのシリカ粒子2と200nmのシリカ粒子3とを混和させたコロイド構造体である。図14に示すように、二種類のコロイド粒子の組み合わせを変えることにより、大きな間隔でピーク波長を制御できることが分かる。
 図15では、比較例1-1乃至1-3の試験サンプルの反射スペクトルを、紫外可視分光光度計(株式会社島津製作所製UV-2600)を用いて測定した結果を示す。図15に示すように、比較例1-1乃至1-3のいずれでも、コロイド粒子であるシリカ粒子の濃度が減少するにつれて、反射ピークが高波長側にシフトすることが分かる。つまり、コロイド粒子の濃度を変化させることで、コロイド結晶の反射ピークを制御できることが分かる。
 ただ、図15に示すように、比較例1-1では、シリカ粒子1の濃度が減少するにつれて、反射率が低下することが分かる。比較例1-2では、シリカ粒子2の濃度が28~32体積%の試験サンプルに比べて、26体積%及び36体積%の試験サンプルは、反射率が大きく低下することが分かる。比較例1-3では、シリカ粒子3の濃度が高まるにつれて、反射率が低下することが分かる。このように、コロイド粒子の濃度を調整することでコロイド結晶の反射ピークが制御できるものの、光反射能が大きく変化することが分かる。
 (走査型電子顕微鏡観察)
 実施例1-1及び実施例1-3の試験サンプルの表面を走査型電子顕微鏡で観察した。さらに、実施例1-1の試験サンプルの断面を走査型電子顕微鏡で観察した。
 図16では、実施例1-1の試験サンプルの表面を走査型電子顕微鏡で観察した結果を示している。図16に示すように、平均粒子径が150nmのシリカ粒子1(51)及び平均粒子径が180nmのシリカ粒子2(52)は、両方とも規則的に配列していることが分かる。また、シリカ粒子1とシリカ粒子2の数の割合が約3:1となっていることも分かる。そして、実施例1-1の試験サンプルでは、シリカ粒子1とシリカ粒子2がそれぞれ分離して凝集することにより共晶状態となっているわけではなく、シリカ粒子1とシリカ粒子2が混和して固溶体のような状態となっていることが分かる。
 図17では、実施例1-3の試験サンプルの表面を走査型電子顕微鏡で観察した結果を示している。図17に示すように、平均粒子径が180nmのシリカ粒子2(52)及び平均粒子径が200nmのシリカ粒子3(53)は、両方とも規則的に配列していることが分かる。また、シリカ粒子2とシリカ粒子3の数の割合が約1:4となっていることも分かる。そして、実施例1-3の試験サンプルでは、シリカ粒子2とシリカ粒子3がそれぞれ分離して凝集することにより共晶状態となっているわけではなく、シリカ粒子2とシリカ粒子3が混和して固溶体のような状態となっていることが分かる。
 図18では、実施例1-1の試験サンプルの断面を走査型電子顕微鏡で観察した結果を示し、図19では、図18における符号Bの領域を拡大して示している。図19に示すように、試験サンプルの断面でも、シリカ粒子1(51)とシリカ粒子2(52)が共に規則的に配列していることが分かる。また、シリカ粒子1とシリカ粒子2がそれぞれ分離して凝集することにより共晶状態となっているわけではなく、シリカ粒子1とシリカ粒子2が混和して固溶体のような状態となっていることも分かる。
 このように、実施例1-1の試験サンプルでは、シリカ粒子1とシリカ粒子2は、互いに混和してコロイド結晶化しており、さらに母体であるポリマー中で三次元規則配列構造を形成していることが分かる。
[実施例2]
 まず、実施例1-1で調製した、平均粒子径が150nmのシリカ粒子1を含むコロイド分散液1と、平均粒子径が180nmのシリカ粒子2を含むコロイド分散液2とを3:1の質量比で混合した。そして、当該混合物に、光重合開始剤を1.0質量%添加することにより、コロイド構造体用分散液を調製した。
 次に、平均粒子径が180nmのシリカ粒子2を含むコロイド分散液2に、光重合開始剤を1.0質量%添加することにより、コロイド結晶体用分散液を調製した。
 そして、コロイド構造体用分散液を、室温(25℃)条件下において、200mm角で1.0mm厚のガラス基板にバーコーターを用いて塗布した。この際、バーコーターは、番手が#18のものを使用した。そして、得られた塗布膜に紫外光を照射してモノマーを重合させることにより、ガラス基板上にコロイド構造体を形成した。
 さらに、コロイド結晶体用分散液を、室温(25℃)条件下において、コロイド構造体の表面にバーコーターを用いて塗布した。この際、バーコーターは、番手が#18のものを使用した。そして、得られた塗布膜に紫外光を照射してモノマーを重合させることにより、コロイド構造体上にコロイド結晶体を形成した。このようにして、ガラス基板上にコロイド多重構造体を形成した試験サンプルを得た。
[評価]
 上記のように作製した実施例2の試験サンプルの反射スペクトルを、紫外可視分光光度計(株式会社島津製作所製UV-2600)を用いて測定した。実施例2の試験サンプルの反射スペクトルは300nm~800nmの波長範囲を測定した。
 図20に示すように、実施例2の反射スペクトルには、500nm~520nmの付近において反射率の極大値が約45%のピークと、540nm~560nmの付近において反射率の極大値が約55%のピークが見られた。このことから、互いに異なる規則配列構造を有するコロイド構造体及びコロイド結晶体を積層することにより、二つの波長の光を反射することが可能なコロイド多重構造体が得られることが分かる。
 以上、本実施形態を説明したが、本実施形態はこれらに限定されるものではなく、本実施形態の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。
 特願2018-116859号(出願日:2018年6月20日)及び特願2018-213641号(出願日:2018年11月14日)の全内容は、ここに援用される。
 本開示によれば、光反射能の低下を抑制しつつも、反射スペクトルにおける反射ピーク波長を簡易な方法で調整することが可能なコロイド構造体、コロイド多重構造体、及び当該コロイド構造体の製造方法を提供することができる。
 1 第1のコロイド粒子
 2 第2のコロイド粒子
 3 母体
 10,10a,10b コロイド構造体
 10A コロイド結晶体
 20,20A,20B,20C,20D,20E,20F,20G コロイド多重構造体

Claims (12)

  1.  複数種類のコロイド粒子と、
     前記コロイド粒子を固定している母体と、
    を含み、
     前記複数種類のコロイド粒子は、平均粒子径が互いに異なる第1のコロイド粒子と第2のコロイド粒子とを少なくとも含み、
     前記第1のコロイド粒子及び前記第2のコロイド粒子の粒子径の変動係数は、それぞれ20%未満であり、
     前記複数種類のコロイド粒子は前記母体中で規則配列構造を形成している、コロイド構造体。
  2.  前記複数種類のコロイド粒子が混和してコロイド結晶化したコロイド固溶体を成している、請求項1に記載のコロイド構造体。
  3.  コロイド粒子として前記第1のコロイド粒子のみを含むコロイド結晶の反射ピーク波長をλ1とし、コロイド粒子として前記第2のコロイド粒子のみを含むコロイド結晶の反射ピーク波長をλ2とした場合、反射スペクトルの反射ピーク波長λが前記λ1と前記λ2との間に存在する、請求項1又は2に記載のコロイド構造体。
  4.  前記第1のコロイド粒子の平均粒子径をd1とし、前記第2のコロイド粒子の平均粒子径をd2とした場合、平均粒子径の比d1/d2が、1.05以上1.60未満である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のコロイド構造体。
  5.  隣接する前記コロイド粒子の中心間距離が100nm以上300nm以下である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のコロイド構造体。
  6.  請求項1乃至5のいずれか一項に記載のコロイド構造体を複数備える、コロイド多重構造体。
  7.  前記複数のコロイド構造体から選択した2つのコロイド構造体において、一方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長と、他方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長との差は、10nmを超える、請求項6に記載のコロイド多重構造体。
  8.  前記複数のコロイド構造体から選択した2つのコロイド構造体において、一方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長と、他方のコロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長との差は、10nm以下である、請求項6に記載のコロイド多重構造体。
  9.  請求項1乃至5のいずれか一項に記載のコロイド構造体と、
     一種類のみのコロイド粒子と、前記一種類のみのコロイド粒子を固定している母体とを含み、前記一種類のみのコロイド粒子は前記母体中で規則配列構造を形成しているコロイド結晶体と、
     を備える、コロイド多重構造体。
  10.  前記コロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長と、前記コロイド結晶体の反射スペクトルのピーク波長との差は、10nmを超える、請求項9に記載のコロイド多重構造体。
  11.  前記コロイド構造体の反射スペクトルのピーク波長と、前記コロイド結晶体の反射スペクトルのピーク波長との差は、10nm以下である、請求項9に記載のコロイド多重構造体。
  12.  平均粒子径が互いに異なる第1のコロイド粒子と第2のコロイド粒子とを少なくとも含む複数種類のコロイド粒子を、一種類以上のモノマーと共に分散させることにより、コロイド分散液を調製する分散液調製工程と、
     前記コロイド分散液を基板上に塗布し、塗布膜を生成する塗布膜生成工程と、
     前記塗布膜中の前記モノマーを重合させることにより、前記複数種類のコロイド粒子をポリマーで固定化するポリマー化工程と、
     を有し、
     前記ポリマー化工程において、前記複数種類のコロイド粒子は前記ポリマー中で規則配列構造を形成し、
     前記第1のコロイド粒子及び前記第2のコロイド粒子の粒子径の変動係数は、それぞれ20%未満である、コロイド構造体の製造方法。
PCT/JP2019/023093 2018-06-20 2019-06-11 コロイド構造体、コロイド多重構造体、及びコロイド構造体の製造方法 WO2019244713A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/973,935 US20210246330A1 (en) 2018-06-20 2019-06-11 Colloidal structure, multi-colloidal structure, and production method for colloidal structure
EP19823361.1A EP3812428A4 (en) 2018-06-20 2019-06-11 COLLOIDAL STRUCTURE, MULTICOLLOIDAL STRUCTURE AND MANUFACTURING PROCESS FOR COLLOIDAL STRUCTURE
CN201980040603.5A CN112424290B (zh) 2018-06-20 2019-06-11 胶体结构体、胶体多重结构体和胶体结构体的制造方法
JP2020525588A JP7304544B2 (ja) 2018-06-20 2019-06-11 コロイド構造体、コロイド多重構造体、及びコロイド構造体の製造方法

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018116859 2018-06-20
JP2018-116859 2018-06-20
JP2018-213641 2018-11-14
JP2018213641 2018-11-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019244713A1 true WO2019244713A1 (ja) 2019-12-26

Family

ID=68983411

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2019/023093 WO2019244713A1 (ja) 2018-06-20 2019-06-11 コロイド構造体、コロイド多重構造体、及びコロイド構造体の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20210246330A1 (ja)
EP (1) EP3812428A4 (ja)
JP (1) JP7304544B2 (ja)
CN (1) CN112424290B (ja)
WO (1) WO2019244713A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021182096A1 (ja) * 2020-03-10 2021-09-16 パナソニックIpマネジメント株式会社 発光装置、照明システム及び光通信システム
WO2023223937A1 (ja) * 2022-05-18 2023-11-23 公立大学法人名古屋市立大学 固定化2次元コロイド結晶及びその製造方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5541620B2 (ja) 1975-10-13 1980-10-25
JP2005338243A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Toyota Central Res & Dev Lab Inc コロイド結晶積層体及びその製造方法
JP2009139796A (ja) * 2007-12-10 2009-06-25 Toyota Central R&D Labs Inc 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止膜用鋳型、反射防止膜用鋳型を用いて得られた反射防止膜及びレプリカ膜を用いて得られた反射防止膜
JP2010058091A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Toyota Central R&D Labs Inc 微粒子分散体
WO2016093121A1 (ja) * 2014-12-12 2016-06-16 公立大学法人名古屋市立大学 コロイド共晶、コロイド共晶固化体、及びそれらの製造方法
JP2017223915A (ja) * 2016-06-17 2017-12-21 凸版印刷株式会社 構造色フィルム形成用コーティング組成物、構造色フィルム及びその製造方法
JP2018116859A (ja) 2017-01-19 2018-07-26 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置の製造方法及び表示装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004514558A (ja) 2000-11-30 2004-05-20 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング 乳白色効果を有する粒子
GB0308937D0 (en) * 2003-04-17 2003-05-28 Eastman Kodak Co Inkjet recording element comprising particles and polymers
JP5541620B2 (ja) * 2009-10-19 2014-07-09 株式会社豊田中央研究所 コロイド結晶膜の製造方法、その方法により得られるコロイド結晶膜、及びそれを用いて得られるコロイド結晶顔料
JP2012224735A (ja) * 2011-04-19 2012-11-15 Sumitomo Chemical Co Ltd 樹脂組成物、光学フィルムおよび液晶表示装置
JP6097619B2 (ja) * 2012-04-06 2017-03-15 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板及びこれを用いた画像表示装置
US20130327392A1 (en) * 2012-06-07 2013-12-12 California Institute Of Technology Chemically Linked Colloidal Crystals and Methods Related Thereto
CN108026384B (zh) * 2015-09-24 2021-03-12 关西涂料株式会社 覆盖有丙烯酸类树脂的二氧化硅粒子分散体的制造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5541620B2 (ja) 1975-10-13 1980-10-25
JP2005338243A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Toyota Central Res & Dev Lab Inc コロイド結晶積層体及びその製造方法
JP2009139796A (ja) * 2007-12-10 2009-06-25 Toyota Central R&D Labs Inc 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止膜用鋳型、反射防止膜用鋳型を用いて得られた反射防止膜及びレプリカ膜を用いて得られた反射防止膜
JP2010058091A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Toyota Central R&D Labs Inc 微粒子分散体
WO2016093121A1 (ja) * 2014-12-12 2016-06-16 公立大学法人名古屋市立大学 コロイド共晶、コロイド共晶固化体、及びそれらの製造方法
JP2017223915A (ja) * 2016-06-17 2017-12-21 凸版印刷株式会社 構造色フィルム形成用コーティング組成物、構造色フィルム及びその製造方法
JP2018116859A (ja) 2017-01-19 2018-07-26 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置の製造方法及び表示装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021182096A1 (ja) * 2020-03-10 2021-09-16 パナソニックIpマネジメント株式会社 発光装置、照明システム及び光通信システム
JPWO2021182096A1 (ja) * 2020-03-10 2021-09-16
EP4119842A4 (en) * 2020-03-10 2023-09-06 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. LIGHT EMITTING DEVICE, LIGHTING SYSTEM AND OPTICAL COMMUNICATIONS SYSTEM
JP7417879B2 (ja) 2020-03-10 2024-01-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 発光装置、照明システム及び光通信システム
US12018834B2 (en) 2020-03-10 2024-06-25 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Light-emitting device, lighting system, and optical communication system
WO2023223937A1 (ja) * 2022-05-18 2023-11-23 公立大学法人名古屋市立大学 固定化2次元コロイド結晶及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20210246330A1 (en) 2021-08-12
CN112424290A (zh) 2021-02-26
CN112424290B (zh) 2023-08-22
EP3812428A4 (en) 2021-08-11
JPWO2019244713A1 (ja) 2021-07-08
JP7304544B2 (ja) 2023-07-07
EP3812428A1 (en) 2021-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6020684B1 (ja) 光波長変換シート、これを備えるバックライト装置、および画像表示装置
KR20160140717A (ko) 파장 변환 시트, 백라이트 유닛 및 형광체용 보호 필름
JP2017137451A (ja) 光波長変換組成物、波長変換部材、光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
JP2016194558A (ja) 量子ドットシート、バックライト装置、および表示装置
JP6679988B2 (ja) 光波長変換シート、これを備えるバックライト装置、画像表示装置、および光波長変換シートの製造方法
JP2017142360A (ja) 光波長変換シート、バックライト装置、画像表示装置、および光波長変換シートの製造方法
JP2011221376A (ja) 色補正機能を有するプリズムシート及び面光源装置
JP2018124412A (ja) 光波長変換組成物、光波長変換粒子、光波長変換部材、光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
CN110797330A (zh) 大角度出光光源、面光源模组及出光光源的制备方法
JP2017120319A (ja) 光波長変換シート、バックライト装置、画像表示装置、および光波長変換層用組成物
JP6586805B2 (ja) エッジライト型バックライト及び液晶表示装置
WO2019244713A1 (ja) コロイド構造体、コロイド多重構造体、及びコロイド構造体の製造方法
CN109135628B (zh) 一种量子点胶水组合物及一种量子点薄膜
JP2017076482A (ja) 光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
JP2017201386A (ja) 光波長変換粒子、光波長変換粒子分散液、光波長変換組成物、光波長変換部材、光波長変換シート、バックライト装置、画像表示装置、および光波長変換粒子の製造方法
JP2017161938A (ja) 光波長変換シート、これを備えるバックライト装置、および画像表示装置
KR102520352B1 (ko) 배리어 필름, 그리고 이것을 이용한 파장 변환 시트, 백라이트 및 액정 표시 장치
JP7485189B2 (ja) バックライトモジュール、および表示装置
KR20170023376A (ko) 양자점 광변환 시트
JP2016194561A (ja) 量子ドットシート、バックライト装置、および表示装置
CN111430516B (zh) 量子点发光装置以及显示装置
CN113330340B (zh) 胶体晶体结构体以及使用了该胶体晶体结构体的发光装置及照明系统
US11353642B2 (en) Optical filter, multiplex optical filter, and light emitting device and illumination system using the same
JP6152917B2 (ja) 光波長変換シート、これを備えるバックライト装置、および画像表示装置
KR20230053722A (ko) 파장 변환 시트용 필름, 그리고 이것을 이용한 파장 변환 시트, 백라이트 및 액정 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19823361

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2020525588

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2019823361

Country of ref document: EP

Effective date: 20210120