JP5531037B2 - シロキサン組成物、凝集物、および凝集物の製造方法 - Google Patents
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Description
したがって、高純度および高炭化率のバインダーを含み、圧縮して高温での接着強度が高い凝集物にすることができる組成物が求められている。
(R1 3SiO1/2) w (R1 2SiO2/2) x (R1SiO3/2) y (SiO4/2) z
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、-O=NR2R3、-OR2、-O-R4-OR2、およびエポキシ基で置換された有機基から選択され、R2はC1〜C8のヒドロカルビルであり、R3はR2または-Hであり、R4はヒドロカルビレンであり、w+x+y+z=1であり、y/(w+x+y+z)は少なくとも0.67である)
のシロキサン樹脂を含み、かつ、前記シロキサン樹脂が30〜115℃の軟化点を有するシロキサン組成物を対象とする。
(R1 3SiO1/2) w (R1 2SiO2/2) x (R1SiO3/2) y (SiO4/2) z
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、-O=NR2R3、-OR2、-O-R4-OR2、およびエポキシ基で置換された有機基から選択され、R2はC1〜C8のヒドロカルビルであり、R3はR2または-Hであり、R4はヒドロカルビレンであり、w+x+y+z=1であり、y/(w+x+y+z)は少なくとも0.67である)
のシロキサン樹脂を含み、かつ、前記シロキサンバインダーが30〜115℃の軟化点を有する、凝集物も対象とする。
(R1 3SiO1/2) w (R1 2SiO2/2) x (R1SiO3/2) y (SiO4/2) z
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、-O=NR2R3、-OR2、-O-R4-OR2、およびエポキシ基で置換された有機基から選択され、R2はC1〜C8のヒドロカルビルであり、R3はR2または-Hであり、R4はヒドロカルビレンであり、w+x+y+z=1であり、y/(w+x+y+z)は少なくとも0.67である)
のシロキサン樹脂を含み、かつ、前記バインダーが30〜115℃の軟化点を有する、凝集物の製造方法を対象とする。
(R1 3SiO1/2) w (R1 2SiO2/2) x (R1SiO3/2) y (SiO4/2) z
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、-O=NR2R3、-OR2、-O-R4-OR2、およびエポキシ基で置換された有機基から選択され、R2はC1〜C8のヒドロカルビルであり、R3はR2または-Hであり、R4はヒドロカルビレンであり、w+x+y+z=1であり、y/(w+x+y+z)は少なくとも0.67である)
のシロキサン樹脂を含み、かつ、前記シロキサン樹脂は30〜115℃の軟化点を有する。
(R1 3SiO1/2) w (R1 2SiO2/2) x (R1SiO3/2) y (SiO4/2) z
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、-O=NR2R3、-OR2、-O-R4-OR2、およびエポキシ基で置換された有機基から選択され、R2はC1〜C8のヒドロカルビルであり、R3はR2または-Hであり、R4はヒドロカルビレンであり、w+x+y+z=1であり、y/(w+x+y+z)は少なくとも0.67である)
のシロキサン樹脂を含み、かつ、このシロキサン樹脂は30〜115℃の軟化点を有する。
(PhSiO3/2)0.7(n-C3H7SiO3/2)0.3;
(PhMeSiO2/2)0.05(Ph2SiO2/2)0.1(MeSiO3/2)0.45(PhSiO3/2)0.40;(PhSiO3/2);および(MeSiO3/2)。ここで、Meはメチル基、Phはフェニル、および括弧外の下付き数字はモル分率を表す。また、前述の式において、単位の順番は特定されていない。
(R1 3SiO1/2) w (R1 2SiO2/2) x (R1SiO3/2) y (SiO4/2) z
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、-O=NR2R3、-OR2、-O-R4-OR2、およびエポキシ基で置換された有機基から選択され、R2はC1〜C8のヒドロカルビルであり、R3はR2または-Hであり、R4はヒドロカルビレンであり、w+x+y+z=1であり、y/(w+x+y+z)は少なくとも0.67である)
のシロキサン樹脂を含み、かつ、前記シロキサン樹脂は30〜115℃の軟化点を有する。
(R1 3SiO1/2) w (R1 2SiO2/2) x (R1SiO3/2) y (SiO4/2) z
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、-O=NR2R3、-OR2、-O-R4-OR2、およびエポキシ基で置換された有機基から選択され、R2はC1〜C8のヒドロカルビルであり、R3はR2または-Hであり、R4はヒドロカルビレンであり、w+x+y+z=1であり、y/(w+x+y+z)は少なくとも0.67である)
のシロキサン樹脂を含み、かつ、このシロキサン樹脂は30〜115℃の軟化点を有する。本方法のシロキサン組成物は、上記により定義および例示したものと同じである。
実施例1〜13のそれぞれにおいて、表1に示したシロキサン組成物をそれぞれ用いて炭化した練炭を調製した。組成物(2.8g)を、5000 lbf(22,241 N)の圧力下、プランジャ/圧縮機中、油圧プレスで圧縮して、直径1.91cm、高さ0.81cmの円筒状の練炭を形成させた。次いで、練炭をLindbergチューブ加熱炉中、750℃で2時間、窒素気流下で炭化させた。炭化した練炭の物理的性質を表2に示した。
表1に示したシロキサン組成物を、Komarek DM-100 Briquetting Machine中、2.5rpmの送り速度、および6.89MPa(1000psig)のローラーゲージ圧を用いて圧縮することにより調製した。練炭3つは室温に保ち;練炭3つは空気中、175℃で30分加熱し;練炭3つは空気中、215℃で30分加熱した。各練炭は、2.44mの高さから硬い表面(リノリウムを敷いた床)に落下させた。破片を集め、直径6mmの円形の穴を有するふるいを通してふるい分けをした。ふるい上に保持された割合を、次の関係:
保持%=ふるい上に保持された破片の質量/もとの練炭の質量×100
に従って各練炭について算出した。室温に保った練炭、175℃に加熱した練炭、および215℃に加熱した練炭の保持%の平均値は、それぞれ98±2、99±2、および99±4であった。
Claims (6)
- シロキサン組成物を圧縮して凝集物を形成させる工程と、前記凝集物を炭化させる工程とを含む、炭化した凝集物の製造方法であって、
前記シロキサン組成物が、0.1〜3000μmの中央粒径を有する固体微粒子 70〜99重量部と、5〜250μmの中央粒径を有するバインダー 1〜30重量部とを含み、
前記組成物が粉末であり、
前記バインダーが、式:
(R 1 3 SiO 1/2 ) w (R 1 2 SiO 2/2 ) x (R 1 SiO 3/2 ) y (SiO 4/2 ) z
(式中、R 1 はそれぞれ独立に、ヒドロキシおよび炭素原子1〜10個を有するヒドロカルビルから選択され、w+x+y+z=1であり、y/(w+x+y+z)は少なくとも0.67である)
のシロキサン樹脂を含み、前記シロキサン樹脂中の基R 1 の少なくとも70mol%がアリールであり、かつ、前記シロキサン樹脂が30〜115℃の軟化点を有する、方法。 - 前記固体微粒子が、カーボンブラック、またはカーボンブラックとケイ砂との混合物である、請求項1に記載の方法。
- 前記シロキサン樹脂がR1SiO3/2単位(式中、R1は、それぞれ独立に、ヒドロキシおよび炭素原子1〜10個を有するヒドロカルビルから選択される)からなる、請求項1または2に記載の方法。
- 前記シロキサン樹脂がPhSiO3/2単位およびn-C3H7SiO3/2単位からなる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 炭化した凝集物が、練炭、シート、およびペレットから選択される形態である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項5の方法により製造された、炭化した凝集物。
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