JP5526908B2 - 積層型電子部品 - Google Patents
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Description
第3の特徴として、第1の層は無電解めっきにより形成されたものであり、第2以降の層は電解めっきにより形成されたものである。
硫酸銅5水和物:10g/リットル、
ホルムアルデヒド:4g/リットル、
酒石酸ナトリウムカリウム4水和物:30g/リットル、
ポリエチレングリコール:1g/リットル、および
水酸化ナトリウム:5g/リットル
を含む、浴温40℃の無電解銅めっき浴を用意し、この無電解銅めっき浴に上記回転バレルを浸漬し、0.5リットル/分のエアレーションを実施しながら、バレル周速2.6m/分にて回転させ、表1の「第1のめっき膜の厚み」における「第1の層」の欄に示す厚みが得られる時間、無電解銅めっきを実施した。
第2のめっき膜(ニッケルめっき膜)の形成前の中間製品について、第1のめっき膜(銅めっき膜)の連続性を、光学顕微鏡観察により評価した。積層体における、外部端子電極となる第1のめっき膜が形成されるべき端面の5%以上が露出している場合を不良と判定し、試料数100個中、少なくとも1個について不良であれば、表1の「膜の連続性」の欄に「NG」と表示し、それ以外を「G」と表示した。
完成品としての積層セラミックコンデンサに対して、せん断破壊を生じさせる荷重を加えて評価した。すなわち、各試料に係る積層セラミックコンデンサをはんだ付けにより基板に実装し、加重速度0.5mm/秒にて、両外部端子電極に平行に破壊が生じるまで荷重を加え、破壊が生じたときの破壊モード(破壊箇所)を観察した。第1のめっき膜(銅めっき膜)と第2のめっき膜(ニッケルめっき膜)との界面で剥離が生じたものを不良と判定し、試料数100個中、少なくとも1個について不良であれば、表1の「Niめっきとの接合性」の欄に「NG」と表示し、それ以外を「G」と表示した。
第2のめっき膜(ニッケルめっき膜)の形成前の中間製品について、第1のめっき膜(銅めっき膜)のめっき膨れを、光学顕微鏡観察により評価した。第1のめっき膜に径10μm以上のめっき膨れが見られた場合を不良と判定し、試料数100個中、少なくとも1個について不良であれば、表1の「めっき膨れ」の欄に「NG」と表示し、それ以外を「G」と表示した。
2 絶縁体層
3,4 内部電極
5 積層体
6,7 端面
8,9 外部端子電極
10 第1のめっき膜
11 第2のめっき膜
12 第3のめっき膜
13 第1の層
14 第2の層
Claims (2)
- 積層された複数の絶縁体層および前記絶縁体層間の界面に沿って形成された内部電極を含み、前記内部電極の端部が所定の面に露出している、積層体と、
前記積層体の前記所定の面上に形成され、かつ前記内部電極と電気的に接続された、外部端子電極と
を備え、
前記外部端子電極は、前記積層体の前記所定の面上に直接形成されるめっき膜を含み、
前記めっき膜は、特定金属をともに主成分とする複数の層からなる積層構造を有し、かつその合計厚みが3〜15μmであり、
前記複数の層のうち、前記積層体の前記所定の面上に直接接する第1の層の厚みに対する、前記第1の層上に形成される第2以降の層の合計厚みの比率は、2〜10であり、
前記第1の層は無電解めっきにより形成されたものであり、前記第2以降の層は電解めっきにより形成されたものである、
積層型電子部品。 - 前記複数の層のうち、最上層に含まれる金属粒子の粒径は0.5μm以上である、請求項1に記載の積層型電子部品。
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