JP5477687B2 - スイッチング素子、スイッチング素子の動作方法、スイッチング素子の製造方法、書き換え可能な論理集積回路およびメモリ素子 - Google Patents
スイッチング素子、スイッチング素子の動作方法、スイッチング素子の製造方法、書き換え可能な論理集積回路およびメモリ素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5477687B2 JP5477687B2 JP2009089632A JP2009089632A JP5477687B2 JP 5477687 B2 JP5477687 B2 JP 5477687B2 JP 2009089632 A JP2009089632 A JP 2009089632A JP 2009089632 A JP2009089632 A JP 2009089632A JP 5477687 B2 JP5477687 B2 JP 5477687B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- conductive layer
- ion conductive
- switching element
- state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009089632A JP5477687B2 (ja) | 2009-04-01 | 2009-04-01 | スイッチング素子、スイッチング素子の動作方法、スイッチング素子の製造方法、書き換え可能な論理集積回路およびメモリ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009089632A JP5477687B2 (ja) | 2009-04-01 | 2009-04-01 | スイッチング素子、スイッチング素子の動作方法、スイッチング素子の製造方法、書き換え可能な論理集積回路およびメモリ素子 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010245132A JP2010245132A (ja) | 2010-10-28 |
| JP2010245132A5 JP2010245132A5 (enExample) | 2012-05-10 |
| JP5477687B2 true JP5477687B2 (ja) | 2014-04-23 |
Family
ID=43097862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009089632A Expired - Fee Related JP5477687B2 (ja) | 2009-04-01 | 2009-04-01 | スイッチング素子、スイッチング素子の動作方法、スイッチング素子の製造方法、書き換え可能な論理集積回路およびメモリ素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5477687B2 (enExample) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103650142B (zh) * | 2011-01-20 | 2016-05-11 | 松下知识产权经营株式会社 | 电阻变化元件及其制造方法 |
| JP5547111B2 (ja) * | 2011-02-15 | 2014-07-09 | 株式会社東芝 | 不揮発性抵抗変化素子および不揮発性抵抗変化素子の製造方法 |
| JP5895932B2 (ja) * | 2011-05-10 | 2016-03-30 | 日本電気株式会社 | 抵抗変化素子、それを含む半導体装置およびそれらの製造方法 |
| JP6233306B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2017-11-22 | 日本電気株式会社 | スイッチング素子およびスイッチング素子の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI233204B (en) * | 2002-07-26 | 2005-05-21 | Infineon Technologies Ag | Nonvolatile memory element and associated production methods and memory element arrangements |
| US8203133B2 (en) * | 2004-12-28 | 2012-06-19 | Nec Corporation | Switching element, reconfigurable logic integrated circuit and memory element |
| JP5054936B2 (ja) * | 2005-06-22 | 2012-10-24 | パナソニック株式会社 | 電気機械メモリ、それを用いた電気回路及び電気機械メモリの駆動方法 |
| JP4792009B2 (ja) * | 2007-06-12 | 2011-10-12 | 株式会社東芝 | 情報記録再生装置 |
| JP2009043873A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Sony Corp | 記憶素子および記憶装置 |
-
2009
- 2009-04-01 JP JP2009089632A patent/JP5477687B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010245132A (ja) | 2010-10-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5218053B2 (ja) | スイッチング素子、半導体装置、書き換え可能な論理集積回路、およびメモリ素子 | |
| JP5135798B2 (ja) | スイッチング素子、スイッチング素子の駆動方法、書き換え可能な論理集積回路、およびメモリ素子 | |
| JP6344243B2 (ja) | スイッチング素子、および半導体スイッチング装置の製造方法 | |
| US8203133B2 (en) | Switching element, reconfigurable logic integrated circuit and memory element | |
| CN104659206B (zh) | 形成电压特性改进的电阻式随机存取存储器及其形成方法 | |
| US20090039336A1 (en) | Semiconductor device | |
| US9245924B2 (en) | Phase change memory element | |
| JP6112106B2 (ja) | 抵抗変化素子、その抵抗変化素子を有する半導体装置、その半導体装置の製造方法およびその抵抗変化素子を用いたプログラミング方法 | |
| US10312288B2 (en) | Switching element, semiconductor device, and semiconductor device manufacturing method | |
| JP2006319028A (ja) | スイッチング素子、書き換え可能な論理集積回路、およびメモリ素子 | |
| US9159917B2 (en) | Nonvolatile memory element and method of manufacturing nonvolatile memory element | |
| US10074801B2 (en) | Resistive random access memory device | |
| JP2010245132A (ja) | スイッチング素子、スイッチング素子の動作方法、スイッチング素子の製造方法、書き換え可能な論理集積回路およびメモリ素子 | |
| JPWO2007091532A1 (ja) | スイッチング素子、書き換え可能な論理集積回路、およびメモリ素子 | |
| JP2011211165A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
| JP2013077681A (ja) | 抵抗変化素子及びそのプログラミング方法 | |
| JP7165976B2 (ja) | 抵抗変化素子、および抵抗変化素子の製造方法 | |
| US7772035B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
| JP2012216724A (ja) | 抵抗記憶装置およびその書き込み方法 | |
| JP2009267204A (ja) | 回路装置および制御方法 | |
| JP7572058B2 (ja) | 非線形抵抗素子、スイッチング素子、及び非線形抵抗素子の製造方法 | |
| JP4575407B2 (ja) | 記憶装置 | |
| JP2013120845A (ja) | メタルブリッジ型記憶装置 | |
| JP2006324425A (ja) | 記憶素子の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120313 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120313 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131024 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131217 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131226 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140117 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140130 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5477687 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |