JP5463195B2 - セラミック電子部品及び配線基板 - Google Patents
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Description
(1)主面と裏面とを有する誘電体基体と、前記誘電体基体の内部に配置される複数の内部電極層と、前記複数の内部電極層の少なくとも一部と接続するように前記誘電体基体内に延在するビア導体と、前記主面及び前記裏面のうちの少なくとも前記主面上に形成され、前記ビア導体に接続する表面電極とを備え、
前記表面電極は内側層と前記内側層を被覆する外側層とを有し、前記内側層は前記誘電体基体の主成分と同じ成分を含むセラミック部を含み、平面から見て前記内側層の前記誘電体基体と重なる部分である誘電体上内側層におけるセラミック部の体積割合が、前記内側層の前記ビア導体と重なる部分であるビア導体上内側層におけるセラミック部の体積割合よりも大きいことを特徴とするセラミック電子部品である。
(2)前記誘電体上内側層におけるセラミック部が、樹枝状であり、その少なくとも一部が前記外側層との界面から前記誘電体基体との界面まで延在することを特徴とし、
(3)前記誘電体上内側層におけるセラミック部の体積割合が10%以上60%以下であることを特徴とし、
(4)前記セラミック電子部品は、前記ビア導体が平面から見て、格子状に配置して成るビアアレイ型積層コンデンサであることを特徴とする。
前記別の課題を解決するための手段は、
(5)前記(1)〜(4)のいずれか1つに記載のセラミック電子部品をコア主面及びコア裏面を有する樹脂コア基板内、または、樹脂絶縁層及び導体層を積層した配線積層部内に内蔵して成ることを特徴とする配線基板である。
このようにして、積層コンデンサ1が得られる。
(1)未焼成誘電体層となるグリーンシートの作製
チタン酸バリウム粉末(97質量%)、MgO、SiO2、MnO2、及びY2O3を含む非還元性誘電体磁器組成物の粉末(レーザ回折式粒度分布計による平均粒径0.5μm)、分散剤としてポリカルボン酸系分散剤及び可塑剤としてフタル酸ジオクチルを、エタノール及びトルエンの混合溶媒中で湿式混合して混合粉末とし、この混合粉末にブチラール系バインダを添加してさらに混合してスラリーを調整した。得られたスラリーをドクターブレード法によりシートを成形し、このシートを加熱して溶剤を除去し、内層用の厚み7μmのグリーンシート及び表層用の厚み30μmのグリーンシートを作製した。
ニッケル粉末(導電性粒子,DSEM=0.6〜10μm)と、チタン酸バリウム粉末(レーザ回折式粒度分布計による平均粒径0.05〜0.1μm)と、セルロース系樹脂、テルピネオール及びブチルカルビトール系溶剤を含む有機ビヒクルとを三本ロールにより混練し、ペーストIを調整した。このペーストIは、ペーストIを100質量%とした場合に、ニッケル粉末とチタン酸バリウム粉末とからなる無機固形分を80質量%と有機ビヒクルを20質量%とを含有する。また、チタン酸バリウム粉末は、無機固形分を100体積部とした場合に、表1に示す割合で含有される。
前記ペーストIにおいて、チタン酸バリウム粉末(97質量%)に、さらにMgO、SiO2、MnO2、及びY2O3を含む非還元性誘電体磁器組成物の粉末を用いたこと以外は、ペーストIと同様にしてペーストIIを調整した。
ニッケル粉末(平均粒径DSEM=0.2μm)と、チタン酸バリウム粉末(レーザ回折式粒度分布計による平均粒径0.1μm)と、ペーストIで用いた有機ビヒクルと同じ有機ビヒクルとを三本ロールにより混練し、内部電極層用ペーストを調整した。なお、ニッケル粉末とチタン酸バリウム粉末と有機ビヒクルとの体積割合は、それぞれ12体積%、3体積%、85体積%であった。
ニッケル粉末(平均粒径DSEM=2.5μm)と、チタン酸バリウム粉末(レーザ回折式粒度分布計による平均粒径0.5μm)と、ペーストIで用いた有機ビヒクルと同じ有機ビヒクルとを三本ロールにより混練し、ビア導体層用ペーストを調整した。なお、ニッケル粉末とチタン酸バリウム粉末と有機ビヒクルとの体積割合は、それぞれ40体積%、16体積%、44体積%であった。
上記(3)で得られた内部電極層用ペーストの粘度を、溶剤で11Pa・sに調整し、この内部電極層用ペーストを、上記(1)で作製した内層用のグリーンシートと表層用のグリーンシートとの一面に、スクリーン印刷により印刷し、未焼成内部電極層を形成した。この際、未焼成内部電極層のクリアランスホールの直径は約400μmとした。次いで、未焼成内部電極層が形成された内層用の未焼成誘電体層100枚を積層し、この積層体の両面に表層用の未焼成誘電体層を積層し、圧着(60〜80℃、約300kgf/cm2)して、厚み1200μmの未焼成積層体を作製した。
上記(5)で得られた未焼成積層体に、レーザにより口径約120μmの貫通孔を450〜700μmのピッチで格子状に穿孔して、未焼成貫通積層体を形成した。
上記(4)で得られたビア導体用ペーストを、溶剤を用いて粘度が2500Pa・sになるように調整し、粘度の調整されたビア導体用ペーストを上記(6)で得られた未焼成貫通積層体の貫通孔内に、スクリーン印刷により充填して未焼成ビア導体を形成して、未焼成ビア積層体を作製した。
上記(7)で得られた未焼成ビア積層体をスクリーン印刷機にセットし、メッシュマスクを未焼成ビア積層体の上に重ね合わせるようにして配置した。なお、このメッシュマスクは、未焼成ビア導体が露出している部分がメッシュ部になっている。次いで、このメッシュマスクの上面に上記(2)で得られた表1に示す特性を有するビア導体上内側層用ペーストを、溶剤を用いて粘度が約100Pa・sとなるように調整して供給し、スキージの移動によって刷り込み、各メッシュ部に未焼成ビア導体上内側層を形成した。印刷後、メッシュマスクを取り外す。次いで、予定されている表面電極の大きさのメッシュ部を有するメッシュマスクを、未焼成ビア導体上内側層が形成されているパターンに合わせて、未焼成ビア積層体の上に重ね合わせるようにして配置する。このメッシュマスクの上面に上記(2)で得られた表1に示す特性を有する誘電体上内側層用ペーストを供給し、スキージの移動によって刷り込み、各メッシュ部に未焼成誘電体上内側層を形成した。印刷後、メッシュマスクを引き離し、スクリーン印刷機から未焼成ビア導体上内側層が形成された未焼成ビア積層体を取り出して乾燥を行い、未焼成内側層をある程度固化させて、未焼成内側層積層体を形成した。
上記(8)で得られた未焼成内側層積層体を、大気中で250〜300℃で10〜20時間脱脂した後、還元雰囲気下で1200〜1300℃で2時間焼成して、焼成体を形成した。
上記(9)で得られた焼成体をウェットブラストにより酸化層の除去をして、内側層の表面を清浄化した。次いで、ピロ燐酸銅浴による電解銅めっきにより内側層の全表面に外側層を形成した。外側層の厚みは10〜20μmであった。
こうして、積層コンデンサを製造した。
図4に示すように、上記(10)で得られた積層コンデンサを主面に垂直な断面で切断して鏡面研磨して、この切断面における内側層6をSEM(300倍)で写真撮影し、内側層6における誘電体層8上にある部分(誘電体上内側層10)における、非還元性誘電体磁器組成物又はチタン酸バリウムからなるセラミック部9とニッケル粉末により形成される導体部14の合計面積に対するセラミック部9の面積比(C)を画像解析により求めた。同様にして、内側層6におけるビア導体4上にある部分(ビア導体上内側層11)における、セラミック部9と導体部14の合計面積に対するセラミック部9の面積比の面積比(D)を画像解析により求めた。次いで、前記面積比(C)に対する前記面積比(D)の割合(D/C)を算出した。結果を表2に示す。
求めた面積比(D/C)は、誘電体上内側層におけるセラミック部の体積割合(A)とビア導体上内側層におけるセラミック部の体積割合(B)との比(B/A)に等しいと推定される。
(1)電気抵抗値の測定
上記(5)で得られた積層コンデンサにおける近接する2つの表面電極に、それぞれ2本のプローブをあてて、4端子法により電気抵抗値を測定した。近接する2つの表面電極の電気抵抗値を10箇所測定し、これらの相加平均を算出した。なお、この電気抵抗値は、ビア導体2本分の電気抵抗値である。結果を表2に示す。
上記(10)で得られた積層コンデンサの主面側に短冊状の切り込みを入れ(縦12mm×横3mm×深さ0.03mm)、0.5mm径のニッケル線を横方向の中心部に全長さ(すなわち、12mm)に亘ってはんだ付けし、ニッケル線のはんだ付けされていない側の端部をクランプで挟持して、積層コンデンサの主面に対して直角方向に20mm/分の速度で引っ張り、最大50N測定可能なロードセルにより剥離加重を測定した。なお、はんだ付けの長さが12mmと長いため、一部に表面電極が形成されていない部分、すなわちクリアランスホールに対応する部分もある。また、剥離界面は、目視により確認した。結果を表2に示す。
上記(10)で得られた積層コンデンサを主面に垂直な断面で切断して鏡面研磨し、この切断面における内側層をSEMにより観察し、セラミック部の形態について調べた。セラミック部が連なって5μm以上の長さになり、枝状に分かれている場合を樹枝形状があると判断した。結果を表2に示す。
2 誘電体基体
2a 主面
2b 裏面
3a、3b 内側電極層
4a,4b ビア導体
5a,5b 表面電極
6 内側層
7 外側層
8 誘電体層
9 セラミック部
10 誘電体上内側層
11 ビア導体上内側層
12、13 界面
14 導体部
15 クリアランスホール
50 配線基板
51a コア主面
51b コア裏面
53 樹脂コア基板
54a,54b 配線積層部
55 収容部
56 スルーホール導体
57 絶縁性硬化体
58 充填剤
59a,59b 導体層
60a,60b、61a,61b 樹脂絶縁層
62a,62b レジスト層
63a,63b 接続端子
70 半導体素子
Claims (5)
- 主面と裏面とを有する誘電体基体と、前記誘電体基体の内部に配置される複数の内部電極層と、前記複数の内部電極層の少なくとも一部と接続するように前記誘電体基体内に延在するビア導体と、前記主面及び前記裏面のうちの少なくとも前記主面上に形成され、前記ビア導体に接続する表面電極とを備え、
前記表面電極は内側層と前記内側層を被覆する外側層とを有し、前記内側層は前記誘電体基体の主成分と同じ成分を含むセラミック部を含み、平面から見て前記内側層の前記誘電体基体と重なる部分である誘電体上内側層におけるセラミック部の体積割合が、前記内側層の前記ビア導体と重なる部分であるビア導体上内側層におけるセラミック部の体積割合よりも大きいことを特徴とするセラミック電子部品。 - 前記誘電体上内側層におけるセラミック部が、樹枝状であり、その少なくとも一部が前記外側層との界面から前記誘電体基体との界面まで延在することを特徴とする請求項1に記載のセラミック電子部品。
- 前記誘電体上内側層におけるセラミック部の体積割合が10%以上60%以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のセラミック電子部品
- 前記セラミック電子部品は、前記ビア導体が平面から見て、格子状に配置して成るビアアレイ型積層コンデンサであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載のセラミック電子部品をコア主面及びコア裏面を有する樹脂コア基板内、または、樹脂絶縁層及び導体層を積層した配線積層部内に内蔵して成ることを特徴とする配線基板。
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