JP5453845B2 - 液体オゾン蓄積用ベッセル - Google Patents

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Description

本発明は、オゾンガスを液化することにより濃縮した高濃度オゾンガスを供給する装置において、オゾンを蓄積するベッセル部分に関するものである。
近年オゾン(元素記号:O3)の利用が、その強い酸化力を利用して上下水処理を始めとして種々の分野で進展している。中でも、半導体素子の製造分野では、Siウエーハ洗浄やTEOS−CVD(Tetra Ethyl Ortho Silicate−Chemical Vapor Deposition)への適用が検討されつつある。Siウエーハ洗浄は、オゾンガスを純水に溶かしたオゾン水を洗浄液として用いるもので、希フッ酸水溶液等と併用することでSiウエーハ上の重金属や有機物を除去できることが発表されている(電子材料1999年3月号PP.13〜18)。TEOS−CVDは半導体素子を多層配線化する際の層間絶縁膜の形成に用いられ、電極によるウエーハ表面の凹凸を絶縁膜で平坦化できることが特長である。このTEOS−CVDにオゾンを添加することによって平坦化の性能が向上することが報告されている(Jpn.J.Appl.Phys.Vol.32(1993)PP.L110−L112)。
これらは10%程度の比較的低濃度のオゾンガスを利用した例であるが、80%以上の比較的高濃度のオゾンガスを利用することで従来のオゾンガス利用では考えられなかった新たな応用の可能性が指摘され始めている。一例を挙げれば、特開平8−335576号公報で開示されているSi半導体の酸化膜形成がある。この公報によれば、従来の熱酸化法では為し得ない比較的低温での酸化膜形成が可能で、亜酸化層や欠陥構造の少ない良質の酸化膜の形成が可能であることなどが紹介されている。
ところで、オゾンガスの生成には一般に無声放電方式が用いられる。これは放電により酸素ガスからオゾンと酸素の混合ガスを発生させるもので、発生効率の限度と爆発の危険性のため、常温常圧下で約10体積%以上のオゾンガスを生成することは困難であった。
そこで、発生したオゾンガスを液化貯蔵して、その後に気化させることにより80%以上の高濃度オゾンガスを生成する方法が特許文献1で紹介されている。この方法について図4に示す液体オゾン製造装置で説明する。
この液体オゾンの製造装置は、オゾンガス発生装置及び排気装置1の部分とオゾンを液化する液体オゾン生成装置2から構成されている。酸素ボンベ3から圧力調整バルブ4を介して酸素ガスがオゾナイザ5に送られる。オゾナイザ5では酸素ガスは無声放電により酸素にオゾンガスが混合されたオゾン含有酸素ガスとなり、流量を制御するためのマスフローコントローラ6及びオゾン含有ガス中の微粒子を除去するための微粒子除去フィルタ7を通ってオゾンガスを液化する液体オゾン生成装置2に導入される。
液体オゾン生成装置2では、図5にその詳細を示すように、オゾンガス発生装置1から導入された酸素ガスにオゾンガスが混合されたオゾン含有酸素ガスが、流量調整バルブ8とオゾン含有酸素ガス導入管25を介してオゾンチャンバ9に導入される。オゾンチャンバ9は、あらかじめコンプレッサ21で駆動されている冷凍機20により冷却されているコールドヘッド19に熱的に結合されており、温度センサ24とヒータ23及び温度制御装置22により0.1K以内の温度精度で精密に温度を制御可能であり、80K〜100Kの低温度に保たれている。
オゾンガスの液化の原理は、オゾンと酸素の蒸気圧の差によってオゾンガスだけを液化するものである。例えば、1気圧のもとではオゾンは161Kの沸点であるが、酸素は90Kの沸点を有する。したがって、90K以上161K未満の温度に冷却すれば、オゾンは大部分が液体、酸素は大部分が気体状態となるのでオゾンだけを液体として分離できる。
実際には高濃度オゾンの爆発性に対する安全上から減圧条件で取り扱うので、その際の温度と圧力条件下でのオゾンと酸素の蒸気圧の差で分離条件が決まる。例えば、温度90Kで圧力10mmHg(=13.3hPa)の場合を考えると、90Kではオゾンの蒸気圧はほぼ0mmHg(=0Pa)だが、酸素は約690mmHg(=918hPa)となりオゾンだけがこの条件下で液化される。
オゾンチャンバ9ではこのように、冷却された温度でのオゾンと酸素の蒸気圧の差によってオゾンガスだけを液化する。オゾンガスを液化する時は、酸化処理容器16との間のバルブ15を閉じ、オゾンキラー11につながるバルブ10を開いた状態とする。オゾンチャンバ9に接続されたオゾン排出管26とバルブ10を通った液化されない酸素ガスは、若干残留するオゾンガスを外部へ排出させないよう加熱して酸素に変えるオゾンキラー11に導入され、オゾンキラー11で加熱された酸素ガスを冷却するためのガス冷却器12と、真空ポンプ14からの炭化物などによるオゾンチャンバ9への汚染や混入を防ぐための液体窒素トラップ13を経て真空ポンプ14により外部へ排出される。
液化された液体オゾン27を酸化処理容器16内で酸化等の使用目的に利用する時は、流量調整バルブ8及びバルブ10を閉じ、バルブ15を開く。温度センサ24とヒータ23及び温度制御装置22によりコールドヘッド19に熱的に結合されたオゾンチャンバ9の温度を上昇させることにより、液体オゾンを気化しオゾンガスとしてオゾン排出管26とバルブ15を介して酸化処理容器16内に導入される。また、安全弁18は液体オゾン若しくは高濃度のオゾンガスが爆発性を有するので、万一の場合破壊してガスを排出するためのものである。
そして、特許文献2では、複数のオゾンチャンバを並列接続して、高濃度オゾンガスの連続供給を可能にしている。
また、図5のオゾンチャンバ9内に蓄積させた液体オゾンは、そのままでは危険が少ないが、外部要因により急激なオゾン蒸発が発生するとチャンバ9内で圧力の高いオゾンガスが充満し、オゾン爆発を起こすおそれがある。
このようなオゾン蒸発を誘引する要因として、オゾンチャンバ9外からの微粒子の侵入が挙げられる。
現在は、図6に示すようにオゾンチャンバ9につながる全ての配管(ガスの入口及び排気口)にインラインフィルタ28を設けてオゾンチャンバ9外からオゾンチャンバ9内へ微粒子が侵入することを防止している。
特公平5−17164号公報 特開2003−20209号公報
このように、発生させるオゾン量の増大とともに複数のオゾンチャンバを並列接続することが必要となり、その場合にオゾンチャンバへのガス配管に取り付けるインラインフィルタの数が増加するため、配管が複雑になり、かつ配管部分が大型化する問題があった。
そして、配管部分が大型化することによりオゾン発生装置全体の小型化が困難になる。また、デッドスペースが発生する、又は配管後の内面処理が困難になることにより、配管内の腐食が起こりやすくなる。腐食が発生すると、オゾンガスへの不純物の混入が増加し、安全性を損なう恐れがある。
さらに、配管長が長くなることにより、並列接続したオゾンチャンバへのガス流量、真空排気等のアンバランスが発生しやすくなる。
したがって、本発明の目的は、オゾン生成装置の小型化及び装置の安全性の向上を図ることができる液体オゾン蓄積用ベッセルを提供することにある。
上記目的を達成する本発明の液体オゾン蓄積用ベッセルは、前記ベッセルのオゾンチャンバへ導入されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタと前記オゾンチャンバから排出されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタが前記ベッセルと一体に備えられている。
すなわち、本発明の液体オゾン蓄積用ベッセルは、液化したオゾンを蓄積する、上部に開口部が形成された有底筒状のオゾンチャンバと、前記オゾンチャンバの開口部を閉塞する蓋部と、前記オゾンチャンバにオゾン含有ガスを供給するガス導入管と、前記オゾンチャンバからオゾンガスを排出するガス排出管と、を有し、前記オゾンチャンバに蓄積したオゾンを気化して高濃度オゾンガスを発生させる液体オゾン蓄積用ベッセルであって前記オゾンチャンバ内の底面に設けられ、一方の開口部が当該オゾンチャンバの底面により閉塞される筒状の第1のフィルタと、前記第1のフィルタの他方の開口部を閉塞する分離板と、前記第1のフィルタの他方の開口部に前記分離板を介して設けられ、一方の開口部が当該分離板により閉塞され、他方の開口部が前記蓋部により閉塞される筒状の第2のフィルタと、を有し、前記第1のフィルタの内周側にオゾン含有ガスを供給し、前記第1のフィルタの外周面と前記オゾンチャンバの内周面との間に液体オゾンを蓄積し、前記第2のフィルタの内周側から前記オゾンチャンバ内のガスを排出することを特徴とする。
また、本発明の液体オゾン蓄積用ベッセルの他の態様は、上記液体オゾン蓄積用ベッセルにおいて、前記オゾンチャンバ内の底面にフッ素樹脂ブロックを介して前記第1のフィルタを設けることを特徴とする。
また、本発明の液体オゾン蓄積用ベッセルの他の態様は、上記液体オゾン蓄積用ベッセルにおいて、前記オゾンチャンバ内の底面にフィルタ台を介して前記第1のフィルタを設けることを特徴とする。
また、本発明の液体オゾン蓄積用ベッセルの他の態様は、上記液体オゾン蓄積用ベッセルにおいて、前記ガス導入管を、前記オゾンチャンバの底面に貫設することを特徴とする。
また、本発明の液体オゾン蓄積用ベッセルの他の態様は、上記液体オゾン蓄積用ベッセルにおいて、前記ガス導入管を、前記蓋部及び前記分離板に貫設することを特徴とする。
以上のように、本発明の液体オゾン蓄積用ベッセルによれば、チャンバ内にオゾン生成時又は配管の腐食等により生じる微粒子の侵入を防止するフィルタを前記ベッセルに一体に備えることができる。この構成により配管内のデッドスペースを減らすことができる。
したがって、以上の発明によれば、オゾン発生装置の安全性が向上するとともに、接続配管が単純化され、オゾン発生装置の小型化ができる。
(a)本発明の第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルの構成を示す断面図、(b)本発明の第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルのオゾン蓄積時の断面図、(c)本発明の第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルのオゾン供給時の断面図。 (a)本発明の第2実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルの構成を示す断面図、(b)本発明の第2実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルのオゾン蓄積時の断面図。 (a)本発明の第3実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルの構成を示す断面図、(b)本発明の第3実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルのオゾン蓄積時の断面図。 従来技術に係る液体オゾン製造装置の概略断面図。 従来技術に係る液体オゾン製造装置の詳細な概略断面図。 従来技術に係るオゾンチャンバの配管構造を示す概略断面図。
図1は、本発明の第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル30の断面図であり、図1(a)は装置の構成を示す断面図、図1(b)は、オゾン蓄積時の装置断面図、図1(c)は、オゾン供給時の装置断面図である。
図1(a)に示すように、第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル30は、液体オゾンを蓄積するオゾンチャンバ31、オゾンガスを含有するガスが供給されるガス導入管32及びオゾン含有ガスに含まれるその他のガス(例えば酸素)や高濃度のオゾンガスが排出されるガス排出管33を備えている。
オゾンチャンバ31の蓋部38内のガス導入管32接続部分には、導入されたガスに含まれる微粒子を除去するためのフィルタ34が内蔵するように備えられる。このフィルタ34を介して、オゾン含有ガスがオゾンチャンバ31に導入される。
さらに、オゾンチャンバ31内には、外部に供されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ35が備えられる。このフィルタ35を介して、蓄積されたオゾンが外部装置(図示省略)に供給される。
フィルタ35は、例えば円筒形であり、フィルタ35の上端がオゾンチャンバ31の天井面に、フィルタ35の下端がオゾンチャンバ31の底面に接続されることで、オゾンチャンバ31内において液体オゾン貯留部(フィルタ35の外周部)41とオゾン排気部(フィルタ35の中空部)42が形成される。オゾン排気部42は、ガス排出管33と連通している。
このとき、フィルタ35の上端及び下端には、フッ素樹脂シール36が備えられる。フッ素樹脂シール36は、フィルタ35を透過せずにオゾン排気部42と液体オゾン貯留部41間でのガス移動を防止する。
そして、オゾンチャンバ31底部の外周部には、冷却ブロック37が備えられている。液体オゾンを蓄積する場合、冷却ブロック37が、例えば、ヘリウム冷凍機等でオゾンチャンバ31を冷却する等の手段により、オゾンチャンバ31をオゾンガスのみが液化する温度に設定する。そして、オゾンを供給する場合には、冷却ブロック37により、オゾンチャンバ31の温度は、液体オゾンが気化する温度に制御される。
先ず、本発明に係るオゾン蓄積用ベッセル30が液体オゾン39を蓄積する場合について図1(b)を参照して詳細に説明する。
オゾンガス発生装置(図示省略)より供給されるオゾン含有ガス(オゾン濃度10数%)は、ガス導入管32よりオゾンチャンバ31に導入される。この時、導入されたガスは、フィルタ34により濾過されるので、オゾンチャンバ31内に微粒子が混入しないようになっている。
オゾンチャンバ31の底部は、冷却ブロック37により冷却されており、オゾンチャンバ31内の液体オゾン貯留部41にはオゾンガスのみが液化し、液体オゾン39が蓄積される。残りのガス(例えば、酸素ガス)は、フィルタ35を透過してオゾン排気部42に入り、ガス排出管33から液体オゾン蓄積用ベッセル30の外部へ排出される。このようにして、液体オゾン蓄積用ベッセル30内に液体オゾン39が蓄積される。
次に、高濃度オゾンガスを供給する場合について、図1(c)を参照して説明する。冷却ブロック37により、オゾンチャンバ31内は液体オゾン39が気化する温度に設定され、蓄積していた液体オゾン39をオゾンガスとして取り出す。液体オゾン39が気化し、液体オゾン貯留部41に高濃度のオゾンガスが蓄積される。
液体オゾン貯留部41の高濃度オゾンガスは、真空排気により、フィルタ35を透過してオゾン排気部42に入り、ガス排出管33を介して液体オゾン蓄積用ベッセル30から外部装置(図示省略)へ供給される。
以上のように、第1実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル30は、導入されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ34及び外部に供されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ35をオゾンチャンバ31内に一体に備える。
このような構造をとることにより、蓄積用ベッセル30を複数個並列接続する場合の接続配管を単純化し、高濃度オゾン供給装置を小型化することができる。
本発明の第2の実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルについて図2を参照して詳細に説明する。
図2は、本発明の第2実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル40の断面図であり、図2(a)は装置の構成を示す断面図、図2(b)は、オゾン蓄積時の装置断面図である。
図2(a)に示すように、第2実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル40は、液体オゾンを蓄積するオゾンチャンバ31、オゾンガスを含有するガスが供給されるガス導入管32及びオゾン含有ガスに含まれるその他のガス(例えば、酸素)や高濃度のオゾンガスが排出されるガス排出管33を備えている。
オゾンチャンバ31内には、導入されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ44及び外部に供されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ45が備えられる。
フィルタ44とフィルタ45は、フィルタ間でのガス移動を防止するための分離板43を上下から挟装した状態でオゾンチャンバ31内に備えられる。
そして、フィルタ44を介して、オゾン含有ガスがオゾンチャンバ31に導入され、フィルタ45を介して、蓄積されたオゾンが外部装置(図示省略)に供給される。
フィルタ44は、例えば円筒状であり、フィルタ44の上端が分離板43の下面に、フィルタ44の下端がオゾンチャンバ31の底面に接続されることで、オゾンチャンバ31内において、オゾン導入部(フィルタ44の中空部)46と液体オゾン貯留部41が形成されている。オゾン導入部46は、ガス導入管32と連通している。
このとき、フィルタ44を透過せずにオゾン導入部46と液体オゾン貯留部41間でガスが移動することを防止するために、フィルタ44の下端には、フッ素樹脂ブロック48が備えられる。
フッ素樹脂ブロック48の形状は、例えば円筒状であり、その高さは蓄積させる液体オゾンの最大液面高さより高くなっている。
また、フィルタ45は、例えば円筒状であり、フィルタ45の上端がオゾンチャンバ31の天井面に、フィルタ45の下端が分離板43の上面に接続されることで、オゾンチャンバ31内において、オゾン排気部(フィルタ45の中空部)47と液体オゾン貯留部41が形成されている。オゾン排気部47は、ガス排出管33と連通している。
このとき、フィルタ45を透過せずにオゾン排気部47と液体オゾン貯留部41間でのガスが移動することを防止するために、フィルタ45の上端には、フッ素樹脂シール36が備えられる。
ガス導入管32はオゾンチャンバ31の底部に備えられ、オゾン導入部46に、ガスを供給する。
ガス排出管33は、オゾンチャンバ31の蓋部38に備えられ、オゾン排気部47のガスが外部に排出される。
オゾンチャンバ31底部の外周部には、冷却ブロック37が備えられている。液体オゾンを蓄積する場合、冷却ブロック37は、例えば、ヘリウム冷凍機等でオゾンチャンバ31を冷却し、オゾンチャンバ31内は、オゾンガスのみが液化する温度に設定される。そして、オゾンを供給する場合には、冷却ブロック37が、オゾンチャンバ31内の温度を液体オゾンが気化する温度となるように温度制御する。
先ず、本発明の第2実施形態に係るオゾン蓄積用ベッセル40が液体オゾン39を蓄積する場合について図2(b)を参照して詳細に説明する。
オゾンガス発生装置(図示省略)より供給されるオゾン含有ガス(オゾン濃度10数%)は、ガス導入管32よりオゾン導入部46に導入される。
そして、導入されたガスは、フィルタ44を介して、液体オゾン貯留部41に移動するので、導入されたガスが直接液体オゾン39に吹き付けられることがなく、さらにオゾンチャンバ31内に微粒子が混入しないようになっている。
オゾンチャンバ31は、冷却ブロック37により冷却されており、オゾンチャンバ31内にはオゾンガスのみが液化し、液体オゾン39が蓄積される。残りの酸素ガスは、フィルタ45を透過してオゾン排気部47に入り、ガス排出管33から液体オゾン蓄積用ベッセル40の外部へ排出される。このようにして、液体オゾン蓄積用ベッセル40内に液体オゾン39が蓄積される。
次に、高濃度オゾンガスを供給する場合について説明する。冷却ブロック37がオゾンチャンバ31の温度を液体オゾン39が気化する温度に制御し、液体オゾン39をオゾンガスとして取り出す。液体オゾン39が気化し、液体オゾン貯留部41に高濃度のオゾンガスが蓄積される。液体オゾン貯留部41の高濃度オゾンガスは、真空排気により、フィルタ45を透過してオゾン排気部47に入り、ガス排出管33と介して液体オゾン蓄積用ベッセル40から外部装置(図示省略)へ供給される。
以上のように、第2実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル40は、オゾンチャンバ31内に液体オゾン蓄積用ベッセル40の導入ガス中の微粒子を除去するためのフィルタ44、及び外部に供されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ45を高濃度オゾン蓄積用ベッセル40と一体に備える。
このような構造をとることにより、導入されたガスが直接液体オゾンに吹き付けられず、さらにオゾンチャンバ31内への微粒子の侵入を防止できるので、安全性が向上するとともに、液体オゾン蓄積用ベッセル40を複数個並列接続する場合の接続配管を単純化し、高濃度オゾン供給装置を小型化することができる。
本発明の第3の実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル50について図3を参照して詳細に説明する。
図3は、本発明の第3実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル50の断面図であり、図3(a)は装置の構成を示す断面図、図3(b)は、オゾン蓄積時の装置断面図である。
図3(a)に示すように、第3実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル50は、液体オゾンを蓄積するオゾンチャンバ31、オゾンガスを含有するガスが供給されるガス導入管32及び、オゾン含有ガスに含まれるその他のガス(例えば、酸素)や、高濃度のオゾンガスが排出されるガス排出管33を備えている。
オゾンチャンバ31内には、導入ガス中の微粒子を除去するためのフィルタ44及び外部に供されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ45が備えられる。
フィルタ44とフィルタ45は、フィルタ間でのガス移動を防止するための分離板43を上下から挟装するように、オゾンチャンバ31内に備えられる。
そして、フィルタ44を介して、オゾン含有ガスがオゾンチャンバ31に導入され、フィルタ45を介して、蓄積されたオゾンが外部装置(図示省略)に供給される。
フィルタ44は、例えば円筒状であり、フィルタ44の上端が分離板43の下面に、フィルタ44の下端がオゾンチャンバ31の底面に接続されることで、オゾンチャンバ31内において、オゾン導入部(フィルタ44の中空部)46と液体オゾン貯留部41が形成されている。オゾン導入部46は、ガス導入管32と連通している。
このとき、フィルタ44を透過せずにオゾン導入部46と液体オゾン貯留部41間でガスが移動することを防止するために、フィルタ44の下端には、フィルタ台49が備えられる。
フィルタ台49の形状は、例えば円柱状であり、その高さは蓄積させる液体オゾンの最大液面高さより高くなっている。また、フィルタ台49の材質は、フッ素樹脂、石英ガラス、アルミナ等低熱伝導性物質を適宜用いる。
また、フィルタ45は、例えば円筒状であり、フィルタ45の上端がオゾンチャンバ31の天井面に、フィルタ45の下端が分離板43の上面に接続されることで、オゾンチャンバ31内において、オゾン排気部(フィルタ45の中空部)47と液体オゾン貯留部41が形成されている。オゾン排気部47は、ガス排出管33と連通している。
このとき、フィルタ45を透過せずにオゾン排気部47と液体オゾン貯留部41間でのガスが移動することを防止するために、フィルタ45の上端には、フッ素樹脂シール36が備えられる。
ガス導入管32はオゾンチャンバ31の蓋部38に備えられるとともに、ガス導入管32が分離板43に貫設され、オゾン導入部46にガスを供給する。
ガス排出管33は、オゾンチャンバの蓋部38に備えられ、オゾン排気部47のガスが液体オゾン蓄積ベッセル50の外部に排出される。
そして、オゾンチャンバ31底部の外周部には、冷却ブロック37が備えられている。液体オゾン39を蓄積する場合、冷却ブロック37は、例えば、ヘリウム冷凍機等でオゾンチャンバ31を冷却し、オゾンチャンバ31内は、オゾンガスのみが液化する温度に設定される。そして、オゾンを供給する場合には、冷却ブロック37が、オゾンチャンバ31の温度を液体オゾン39が気化する温度に制御する。
先ず、本発明の第3実施形態に係るオゾン蓄積用ベッセル50が液体オゾン39を蓄積する場合について図3(b)を参照して詳細に説明する。
オゾンガス発生装置(図示省略)より供給されるオゾン含有ガス(オゾン濃度10数%)が、ガス導入管32よりオゾン導入部46に導入される。そして、供給されたガスは、フィルタ44を介して、液体オゾン貯留部41に移動するので、導入されたガスが直接液体オゾン39に吹き付けられることがなく、さらにオゾンチャンバ31内に微粒子が混入しないようになっている。
オゾンチャンバ31は、冷却ブロック37により冷却されており、オゾンチャンバ31内にはオゾンガスのみが液化し、液体オゾン39が液体オゾン貯留部41に蓄積される。残りの酸素ガスは、フィルタ45を透過してオゾン排気部47に入り、ガス排出管33から液体オゾン蓄積用ベッセル50の外部へ排出される。このようにして、液体オゾン蓄積用ベッセル50内に液体オゾン39が蓄積される。
次に、高濃度オゾンガスを供給する場合について説明する。冷却ブロック37が、オゾンチャンバ31を液体オゾン39が気化する温度に設定し、液体オゾン39をオゾンガスとして取り出す。
液体オゾン39が気化し、液体オゾン貯留部41に高濃度のオゾンガスが蓄積される。液体オゾン貯留部41の高濃度オゾンガスは、真空排気により、フィルタ45を透過してオゾン排気部47に入り、ガス排出管33を介して液体オゾン蓄積用ベッセル50から外部装置(図示省略)へ供給される。
以上のように、第3実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセル50は、オゾンチャンバ31内に導入ガス中の微粒子を除去するためのフィルタ44及び外部に供されるガス中の微粒子を除去するためのフィルタ45を高濃度オゾン蓄積用ベッセル50と一体に備える。
このような構造をとることにより、導入されたガスが直接液体オゾン39に吹き付けられることがなく、さらにオゾンチャンバ31内への微粒子の侵入を防止でき、安全性が向上する。
また、液体オゾン蓄積用ベッセル50を複数個並列接続する場合の接続配管を単純化し、高濃度オゾン供給装置を小型化することができる。
上記本発明の第1実施形態から第3実施形態に係る液体オゾン蓄積用ベッセルによれば、ベッセルに外付けしていたフィルタを内蔵することにより、接続配管が単純化され、配管全体を小型化することができる。すなわち、オゾン供給装置を小型化することができる。
また、配管内のデッドスペースが減少することで管内面の腐食が発生しにくくなり、オゾンガスへの不純物の混入が減少するとともに、腐食部分でのオゾン反応による爆発現象の発生を抑制することができ、安全性が向上する。
そして、並列接続した液体オゾン蓄積用ベッセル間の接続配管を短くすることにより、オゾン蓄積若しくはオゾン供給時のガスフローを均一化することができる。
30、40、50…液体オゾン蓄積用ベッセル
31…オゾンチャンバ
32…ガス導入管
33…ガス排出管
34、35、44、45、…フィルタ
38…蓋部
43…分離板

Claims (5)

  1. 液化したオゾンを蓄積する、上部に開口部が形成された有底筒状のオゾンチャンバと、
    前記オゾンチャンバの開口部を閉塞する蓋部と、
    前記オゾンチャンバにオゾン含有ガスを供給するガス導入管と、
    前記オゾンチャンバからオゾンガスを排出するガス排出管と、を有し、
    前記オゾンチャンバに蓄積したオゾンを気化して高濃度オゾンガスを発生させる液体オゾン蓄積用ベッセルであって
    前記オゾンチャンバ内の底面に設けられ、一方の開口部が当該オゾンチャンバの底面により閉塞される筒状の第1のフィルタと、
    前記第1のフィルタの他方の開口部を閉塞する分離板と、
    前記第1のフィルタの他方の開口部に前記分離板を介して設けられ、一方の開口部が当該分離板により閉塞され、他方の開口部が前記蓋部により閉塞される筒状の第2のフィルタと、を有し、
    前記第1のフィルタの内周側にオゾン含有ガスを供給し、前記第1のフィルタの外周面と前記オゾンチャンバの内周面との間に液体オゾンを蓄積し、前記第2のフィルタの内周側から前記オゾンチャンバ内のガスを排出する
    ことを特徴とする液体オゾン蓄積用ベッセル。
  2. 前記オゾンチャンバ内の底面にフッ素樹脂ブロックを介して前記第1のフィルタを設ける
    ことを特徴とする請求項1に記載の液体オゾン蓄積用ベッセル。
  3. 前記オゾンチャンバ内の底面にフィルタ台を介して前記第1のフィルタを設ける
    ことを特徴とする請求項1に記載の液体オゾン蓄積用ベッセル。
  4. 前記ガス導入管を、前記オゾンチャンバの底面に貫設する
    ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の液体オゾン蓄積用ベッセル。
  5. 前記ガス導入管を、前記蓋部及び前記分離板に貫設する
    ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の液体オゾン蓄積用ベッセル。
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JPS6351918A (ja) * 1986-08-22 1988-03-05 Tadahiro Omi 半導体製造装置用ガス精製器
JPH0784984B2 (ja) * 1991-03-18 1995-09-13 大陽東洋酸素株式会社 フィルタを用いた低温液化ガスのパーティクル低減方法
JP3384623B2 (ja) * 1994-08-09 2003-03-10 日本精線株式会社 半導体製造プロセスガス用濾過部材
JP3195572B2 (ja) * 1997-07-15 2001-08-06 エア・ウォーター株式会社 ガス混合器
JP2002053309A (ja) * 2000-08-10 2002-02-19 Nippon Sanso Corp オゾン供給装置及び方法
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