JP5433339B2 - 真空脱ガス炉の浸漬管 - Google Patents
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Description
前記円筒部は、下端側外周に幅広な第1面取り部を有することを特徴とする。
更に、円筒部は、下端側内周に幅広な第2面取り部を有する構成としてもよい。第2面取り部は、円筒部の下端側内周に幅広に面取りされた形状で形成される。
5:第1面取り部 6:第2面取り部 7:スタッド 7a:ナット 10、100:浸漬管
Claims (4)
- 上部にフランジを有する円筒形状をなす芯金と、前記芯金の内側及び外側の上半分を覆う不定形耐火物により形成された上筒部と前記上筒部に埋設されたスタッドにより吊り下げ保持され前記上筒部の下方であって前記芯金の内側及び外側の下半分を覆う塩基性耐火物れんがにより形成された下筒部とからなる円筒部と、を備えた真空脱ガス炉の浸漬管において、
前記円筒部は、下端側外周に幅広な第1面取り部を有することを特徴とする真空脱ガス炉の浸漬管。 - 前記塩基性耐火物れんがは前記芯金の下半分を収納する凹部を有する周方向に分割された複数の分割れんがからなる請求項1に記載の真空脱ガス炉の浸漬管。
- 前記円筒部は、下端側内周に幅広な第2面取り部を有することを特徴とする請求項1または2の何れか1つに記載の真空脱ガス炉の浸漬管。
- 前記第1面取り部および第2面取り部は、傾斜面または曲面で形成されている請求項3に記載の真空脱ガス炉の浸漬管。
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