JP5432354B2 - 配線基板製造用の仮基板及びその製造方法 - Google Patents
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- 仮基板本体と、
前記仮基板本体の上に積層された下地層と、
前記下地層の上に積層され、第1金属箔上に第2金属箔が仮接着された2層構造からなる剥離性積層金属箔とを有し、
前記剥離性積層金属箔の大きさが前記下地層より一回り大きく、
前記剥離性積層金属箔は、前記第1金属箔を前記下地層側に向けて積層され、かつ、第2金属箔の厚みは第1金属箔の厚みより厚く設定され、
前記仮基板本体の表面に前記下地層と前記第1金属箔の周縁部とが接着されており、
前記仮基板本体を使用して配線基板を製造する際に、前記剥離性積層金属箔から前記第2金属箔が除去され、表面に前記第1金属箔が露出した状態にすることを特徴とする配線基板製造用の仮基板。 - 前記仮基板本体が織布又は不織布に樹脂を含浸させてなり、
前記樹脂により、前記仮基板本体の表面に前記下地層と前記剥離性積層金属箔の周縁部とが接着されていることを特徴とする請求項1に記載の配線基板製造用の仮基板。 - 前記仮基板本体の表面に、接着層を介して前記下地層と前記剥離性積層金属箔の周縁部とが接着されていることを特徴とする請求項1に記載の配線基板製造用の仮基板。
- 前記下地層は、金属箔、離型フィルム又は離型剤から形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板製造用の仮基板。
- 前記仮基板本体の表面及び裏面に前記下地層と前記剥離性積層金属箔とがそれぞれ積層されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の配線基板製造用の仮基板。
- 前記下地層が前記仮基板本体の表面に埋設されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に配線基板製造用の仮基板。
- 仮基板本体の上に、下地層と、前記下地層より一回り大きい、第1金属箔上に第2金属箔が仮接着された2層構造からなる剥離性積層金属箔とを順に積層する工程と、
前記仮基板本体、前記下地層、及び前記剥離性積層金属箔を加熱、加圧して、前記仮基板本体の表面に、前記下地層と前記第1金属箔の周縁部とを接着する工程と、
前記剥離性積層金属箔から前記第2金属箔を除去して、表面に前記第1金属箔が露出した状態とする工程とを有し、
前記第2金属箔の厚みは第1金属箔の厚みより厚く設定されることを特徴とする配線基板製造用の仮基板の製造方法。 - 前記積層する工程において、
前記仮基板本体が織布又は不織布に樹脂を含浸させてなる半硬化状態のプリプレグから形成され、
前記接着する工程において、
加圧、加熱により前記プリプレグを硬化させて前記仮基板本体を得ると共に、前記樹脂により前記仮基板本体の表面に前記下地層と前記第1金属箔の周縁部とを接着することを特徴とする請求項7に記載の配線基板製造用の仮基板の製造方法。 - 前記積層する工程において、
前記仮基板本体の表面に接着層が設けられ、
前記接着する工程において、
前記接着層により前記仮基板本体の表面に前記下地層と前記第1金属箔の周縁部とを接着することを特徴とする請求項7に記載の配線基板製造用の仮基板の製造方法。 - 前記下地層は、金属箔、離型フィルム又は離型剤から形成されることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか一項に記載の配線基板製造用の仮基板の製造方法。
- 前記積層する工程において、
前記仮基板本体の表面及び裏面に前記下地層と前記剥離性積層金属箔とをそれぞれ積層することを特徴とする請求項7乃至10のいずれか一項に記載の配線基板製造用の仮基板の製造方法。
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