JP5416556B2 - 高炉セメント用収縮低減剤 - Google Patents
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Description
R1−[O−(A1O)m−R2]n (1)
(一般式(1)中、R1はR1−[OH]nで表される多価アルコール由来のR1を表し、nは3以上の整数であり、A1Oは炭素原子数2〜8のオキシアルキレン基を表し、R2は水素原子または炭素原子数1〜30の炭化水素基を表し、mはオキシアルキレン基A1Oの平均付加モル数を表し、mは10〜1000である。)
≪モルタルの混練≫
所定量の収縮低減剤(A成分)、消泡剤(D成分)を秤量し、水で希釈したもの225g、高炉セメントB種(太平洋セメント(株)製)または普通ポルトランドセメント(太平洋セメント(株)製)450g、セメント強さ試験用標準砂(JIS R5201−1997附属書2の5.1.3に規定:セメント協会)1350gを、ホバート型モルタルミキサー(ホバート社製、型番:N−50)を用い、JIS R5201−1997の方法に従い、モルタルの混練を行った。
モルタル空気量の測定は、500mlメスシリンダーを用い、JIS A1174(まだ固まらないポリマーセメントモルタルの単位容積重量試験方法及び空気量の重量による試験方法(重量方法))に準拠して実施した。
モルタルの混練を上記1と同様に実施した。次に、収縮低減性評価用のモルタル供試体(4×4×16cm)の作成を、JIS A1129に従って実施した。型枠には予めシリコングリースを塗布して止水すると共に容易に脱型できるようにした。また、供試体の両端にはゲージプラグを装着した。混練して得られたモルタルを流し込んだ型枠を容器に入れ、密閉し、20℃で保管し、初期養生を行った。1日後に脱型し、供試体に付着したシリコングリースを、たわしを用いて水で洗浄し、続いて、20℃の静水中で6日間養生(水中養生)した。JIS A1129に従い、ダイヤルゲージ((株)西日本試験機製)を使用し、静水中で6日間養生した供試体の表面の水を紙タオルで拭き取った後、直ちに測長し、この時点の長さを基準とした。その後、温度20℃、湿度60%に設定した恒温恒湿室内に保存し、適時測長した。この際、長さ変化比は、下記式で示されるように、基準モルタルの収縮量に対する、各成分添加モルタルの収縮量の比とし、値が小さいほど、収縮を低減できることを示す。
={(各成分添加モルタルの収縮量)/(基準モルタルの収縮量)}×100
耐凍結融解性の指標となるモルタルの気泡間隔係数の測定を、エアボイドアナライザー(AVA;商品名、ジャーマンインストゥルメンツ社製)を用いて行った。
まず、20℃に調温したAVA測定用溶液250mlと水約2000mlを測定した。次に、測定用カラムに充填した後、モルタル20mlを採取し、カラムの底部に注入した。注入後、モルタルを30秒間攪拌し、液中にモルタルの連行空気を十分に液中に放出させた。放出された気泡を経時測定することにより、気泡間隔係数の計算を行った。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、市販のトリメチロールプロパン190gおよび48%水酸化ナトリウム水溶液8.59gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換し、窒素雰囲気下で、80℃まで昇温して加熱撹拌した。加熱撹拌下、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内温を120℃まで上げて内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド1871.4gを添加し、トリメチロールプロパンの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ10モルずつ付加された中間体(1)を得た。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、中間体(1)340gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換し、窒素雰囲気下で、120℃まで昇温して加熱撹拌した。加熱撹拌下、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド2006.3gを添加し、トリメチロールプロパンの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ75モルずつ付加された高炉セメント用収縮低減剤(A−1)を得た。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、実施例1で得られた中間体(1)1844.4gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換し、窒素雰囲気下で、120℃まで昇温して加熱撹拌した。加熱撹拌下、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド1116.3gを添加し、トリメチロールプロパンの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ50モルずつ付加された高炉セメント用収縮低減剤(A−2)を得た。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、市販のペンタエリスリトール・エチレンオキシド4モル付加体220gおよび48%水酸化ナトリウム水溶液2.79gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換した後、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内温を120℃まで上げて内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド2359.1gを添加し、ペンタエリスリトールの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ20モルずつ付加された高炉セメント用収縮低減剤(A−3)を得た。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、市販のペンタエリスリトール・エチレンオキシド4モル付加体140gおよび48%水酸化ナトリウム水溶液1.40gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換した後、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内温を120℃まで上げて内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド697.3gを添加し、ペンタエリスリトールの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ10モルずつ付加された高炉セメント用収縮低減剤(A−4)を得た。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、市販のソルビトール350gおよび水酸化ナトリウム1.44gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換し、窒素雰囲気下で、80℃まで昇温して加熱撹拌した。加熱撹拌下、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内温を120℃まで上げて内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド2359gを添加し、ソルビトールの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ5モルずつ付加された中間体(2)を得た。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、中間体(2)1461gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換し、窒素雰囲気下で、120℃まで昇温して加熱撹拌した。加熱撹拌下、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド1284gを添加し、ソルビトールの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ10モルずつ付加された高炉セメント用収縮低減剤(A−5)を得た。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、市販のポリグリセリン(グリセリン20量体)250gおよび水酸化ナトリウム1.19gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換し、窒素雰囲気下で、120℃まで昇温して加熱撹拌した。加熱撹拌下、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内温を120℃まで上げて内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド744.1gを添加し、ポリグリセリンの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ5モルずつ付加された中間体(3)を得た。
温度計、撹拌機、窒素およびエチレンオキシド導入管を備えたステンレス製高圧反応容器に、中間体(3)443.5gを仕込んだ。反応容器内を窒素置換し、窒素雰囲気下で、120℃まで昇温して加熱撹拌した。加熱撹拌下、微量の窒素を流通させながら、反応容器内を減圧し、内圧50mmHgで1時間脱水を行った。1時間脱水後、窒素で加圧し、内温を150℃まで上げて、安全圧下(反応容器内の窒素分圧の方がエチレンオキシド分圧より常に高くなるような条件)で内温を150±5℃に維持しながらエチレンオキシド332gを添加し、ポリグリセリンの活性水素にエチレンオキシドがそれぞれ10モルずつ付加された高炉セメント用収縮低減剤(A−6)を得た。
高炉セメント用収縮低減剤(A−1)を高炉セメントB種に添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
高炉セメント用収縮低減剤(A−2)を高炉セメントB種に添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
高炉セメント用収縮低減剤(A−3)を高炉セメントB種に添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
高炉セメント用収縮低減剤(A−4)を高炉セメントB種に添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
高炉セメント用収縮低減剤(A−5)を高炉セメントB種に添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
高炉セメント用収縮低減剤(A−6)を高炉セメントB種に添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
高炉セメント用収縮低減剤(A−1)を普通ポルトランドセメントに添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
高炉セメント用収縮低減剤(A−3)を普通ポルトランドセメントに添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
市販の収縮低減剤(商品名「ヒビダン」、竹本油脂株式会社)を高炉セメントB種に添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
市販の収縮低減剤(商品名「ヒビガード」、株式会社フローリック)を高炉セメントB種に添加した際のモルタル物性を評価した。モルタル組成および評価結果を表1に示す。
Claims (3)
- 一般式(1)で表されるポリオキシアルキレン化合物(A)を主成分とする高炉セメント用収縮低減剤であって、
該ポリオキシアルキレン化合物(A)が、トリメチロールアルカンおよびペンタエリスリトールから選ばれる少なくとも1種の化合物のアルキレンオキシド付加物である、
高炉セメント用収縮低減剤。
R1−[O−(A1O)m−R2]n (1)
(一般式(1)中、R1はR1−[OH]nで表される多価アルコール由来のR1を表し、nは3以上の整数であり、A1Oは炭素原子数2〜8のオキシアルキレン基を表し、R2は水素原子または炭素原子数1〜30の炭化水素基を表し、mはオキシアルキレン基A1Oの平均付加モル数を表し、mは10〜1000である。) - 前記一般式(1)中のmが10〜200である、請求項1に記載の高炉セメント用収縮低減剤。
- 前記ポリオキシアルキレン化合物(A)を表す一般式(1)中、A1Oで表されるオキシアルキレン基の95〜100モル%がオキシエチレン基である、請求項1または2に記載の高炉セメント用収縮低減剤。
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