JP5404039B2 - 大気圧プラズマを生成する装置 - Google Patents
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Description
11 装置,列配置
11a,11b,11c,11d 装置
12 1次区域,1次領域
12a,12b,12c,12d 1次部分領域,リング本体
12e リング領域
13 2次区域,2次領域
14,15 部分領域
14a,14b,15a,15b 部分領域
14a,14b,14c,14d,15a,15b,15c 部分領域
16a,16b,16c 区域
17a,17b,17c 電極
19 電圧供給源,低電圧源,電源
19a,19b 電圧供給線
20 プラズマ,大気圧プラズマ
20a,20b,20c プラズマ雲,プラズマ
21 結合領域
22a,22b 境界層,境界面
23 絶縁要素,絶縁区間
24 自由空間,気体流路,貫通開口部,気体流スリット
24a,24b,24c,24d 貫通路
25 開口部
26 プラズマジェット
26a,26b,26c プラズマジェット
27 出口ノズル
28a,28b,28c 歯
29 ハウジング
30 流入口
31 層構造
31a,31b,31c,31d 層
B1,B2 側面
P 分極方向
PP 分極方向,半径方向
P1,P2,P3 分極方向
Q 横方向
L 長手方向
F 上面
F1,F2 前面
D 厚さ,幅
E 電場,角領域
S 方向
G 矢印
A 全長
IF 内周面,内面
AF 外面
M 出口
Ma,Mb,Mc,Md 出口領域
BH 構造高さ
Claims (42)
- 基板を加工するために大気圧プラズマ(20,20a,20b,20c,20d)を生成する設備(10)であって、この設備(10)は、圧電材から成る装置(11,11a,11b,11c)を備え、この装置(11,11a,11b,11c)は、少なくとも1つの1次領域(12,12a,12b,12c)及び1つの2次領域(13)を有し、低電圧の交流電圧を印加するための少なくとも2つの電極(17a,17b,17c)が、前記1次領域(12,12a,12b,12c)に配置されていて、電位差が、前記2次領域(13)の長手方向(L)に沿ってこの1次領域の励起に起因して生じる結果、前記大気圧プラズマが、前記2次領域の自由端部領域で生じる当該設備(10)において、
前記2次領域(13)が、長手方向(L)に沿って反対方向に分極している2つの部分領域(14,14a,14b,14c,15,15a,15b,15c)を有すること、及び
気体流路(24)が、前記2つの部分領域間に配置されていることを特徴とする設備。 - 前記2つの部分領域(14,14a,14b,14c,15,15a,15b,15c)は、互いにほぼ平行に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の設備。
- 1次領域(12,12a,12b,12c)の励起が、前記2つの部分領域(14,14a,14b,14c,15,15a,15b,15c)間の電位差を前記長手方向(L)に対して垂直方向(Q)に生成させることを特徴とする請求項1又は2に記載の設備。
- 前記2つの部分領域(14,14a,14b,14c,15,15a,15b,15c)は、互いに隣接して配置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の設備。
- 前記2つの部分領域(14,14a,14b,14c,15,15a,15b,15c)は、互いに密接していることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の設備。
- 前記2つの部分領域(14,15)は、正反対の方向に分極している1つの共通の加工品から形成されていることを特徴とする請求項5に記載の設備。
- 前記1次領域(12)及び前記2次領域(13)は、少なくとも3つの異なる方向(16a,16b,16c)に分極している1つの共通の加工品から形成されていることを特徴とする請求項5又は6に記載の設備。
- 前記1次領域(12)及び前記2次領域(13)並びに/又は前記部分領域(14,15)は、互いに固定されている複数の異なる加工品から形成されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の設備。
- 前記2つの部分領域(14,15)は、互いに僅かに間隔をあけていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の設備。
- 1つの1次領域(12a,12b)が、各部分領域(14,15)に付設されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の設備。
- 前記2つの1次領域(12a,12b)は、同期して配置されていて、移相なしに励起可能であることを特徴とする請求項10に記載の設備。
- 前記2つの1次領域(12a,12b)の各々は、一対の電極(17a,17b;17b,17c)を有することを特徴とする請求項10又は11に記載の設備。
- 少なくとも1つの共通の電極(17b)が、前記2つの1次領域(12a,12b)に付設されていることを特徴とする請求項12に記載の設備。
- 自由空間(24)が、前記2つの部分領域(14,15)間に配置されていることを特徴とする請求項1〜4又は6〜13のいずれか1項に記載の設備。
- 多数の部分領域(14a,14b,14c,15a,15b)が、直線状に列を成して、前記長手方向に対して垂直方向に配置されていることを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の設備。
- 前記部分領域の分極方向が、前記列に沿って交互することを特徴とする請求項15に記載の設備。
- 多数の部分領域(14a,14b,14c,15a,15b,15c)が、ラスター状の平面に沿って配置されていることを特徴とする請求項1〜16のいずれか1項に記載の設備。
- 前記部分領域(14a,14b,14c,15a,15b,15c)の分極方向が、前記長手方向に対して垂直方向にある第1方向(Q)に沿って交互し、そしてこの第1方向に対して垂直にかつ前記長手方向に対して垂直にある第2方向(S)に沿って交互することを特徴とする請求項17に記載の設備。
- 基板を加工するために大気圧プラズマ(20,20a,20b,20c)を生成する設備(10)であって、この設備(10)は、圧電材から成る装置(11,11a,11b,11c)を備え、この装置(11,11a,11b,11c)は、少なくとも1つの1次領域(12,12a,12b,12c)及び1つの2次領域(13)を有し、低電圧の交流電圧を印加するための少なくとも2つの電極(17a,17b,17c)が、前記1次領域(12,12a,12b,12c)に配置されていて、電位差が、前記2次領域(13)の長手方向(L)に沿って前記1次領域の励起に起因して生じる結果、前記大気圧プラズマが、前記2次領域の自由端部領域で生じる当該設備(10)において、
前記2次領域(13)が、同じ分極方向に沿って分極している2つの別々の部分領域(14,14a,14b,14c,15,15a,15b,15c)から形成されていること、
1つの1次領域(12a,12b)が、各部分領域に付設されていること、
前記2つの1次領域(12a,12b)が、反転して配置されていること、及び
気体流路(24)が、前記2つの部分領域間に配置されていることを特徴とする設備。 - 前記2つの1次領域(12a,12b)は、一致する分極方向を有し、180°移相して励起可能であることを特徴とする請求項19に記載の設備。
- 前記2つの1次領域(12a,12b)は、正反対の分極方向を有し、位相を同じくして、すなわち位相を揃えてかつ移相なしに励起可能であることを特徴とする請求項19に記載の設備。
- 前記2つの1次領域(12a,12b)の各々が、一対の電極(17a,17b;17b,17c)を有することを特徴とする請求項19〜21のいずれか1項に記載の設備。
- 前記2つの1次領域(12a,12b)は、少なくとも1つの共通の電極(17b)を有することを特徴とする請求項22に記載の設備。
- 前記2つの部分領域(14,15,14a,15a,14b,15b,14c,15c)は、互いにほぼ平行に配置されていることを特徴とする請求項19〜23のいずれか1項に記載の設備。
- 前記2つの部分領域(14,14a,14b,14c,15,15a,15b,15c)は、互いに隣接して配置されていることを特徴とする請求項19〜24のいずれか1項に記載の設備。
- 1つの1次領域(12a,12b)及び1つの部分領域(14,15)はそれぞれ、1つの共通の加工品から形成されていることを特徴とする請求項19〜25のいずれか1項に記載の設備。
- 前記2つの部分領域は、互いに僅かに間隔をあけていることを特徴とする請求項25に記載の設備。
- 自由空間(24)が、前記2つの部分領域(14,15)間に配置されていることを特徴とする請求項27に記載の設備。
- 多数の部分領域(14a,14b,14c)が、直線状に列を成して、前記長手方向(L)に対して垂直方向(Q)に配置されていることを特徴とする請求項19〜25のいずれか1項に記載の設備。
- 付随する1次領域(12a,12b,12c)の反転が、前記部分領域(14a,14b,14c)の列に沿って交互することを特徴とする請求項29に記載の設備。
- 多数の部分領域(14a,14b,14c)が、ラスター状の平面に沿って配置されていることを特徴とする請求項19〜30のいずれか1項に記載の設備。
- 付随する1次領域(12a,12b,12c)の反転が、前記長手方向に対して垂直方向にある第1方向(Q)に沿って交互し、そしてこの第1方向に対して垂直にかつ前記長手方向に対して垂直にある第2方向(S)に沿って交互する請求項31に記載の設備。
- 基板を加工するために大気圧プラズマ(20,20a,20b,20c)を生成する設備(10)であって、この設備(10)は、圧電材から成る装置(11,11a,11b,11c)を備え、この装置(11,11a,11b,11c)は、少なくとも1つの1次領域(12,12a,12b,12c,12d)及び長手方向(L)に延在する1つの2次領域(14)を有し、低電圧の交流電圧を印加するための少なくとも2つの電極(17a,17b,17c)が、前記1次領域(12,12a,12b,12c,12d)に配置されていて、電位差が、長手方向(L)に沿ってこの1次領域の励起に起因して生じる結果、前記大気圧プラズマが、前記2次領域の自由端部領域で生じる当該設備(10)において、
独立した第2の1次領域(12b)及び長手方向に延在する独立した第2の2次領域(15)を有する第2装置(11b)が設けられていること、
前記2つの2次領域(14,15)が、互いに平行に指向されていてかつ前記長手方向に対して垂直方向に互いに間隔をあけて配置されていること、及び
前記2つの2次領域が、これらの2次領域の間に長手方向(L)に延在する気体流路(24)を形成することを特徴とする設備(10)。 - 多数の2次領域(14,15,14a,15a,14b,15b,14c,15c)が、直線状に列を成して配置されていて、これらの2次領域の間に長手方向(L)に延在する多数の気体流路(24a,24b,24c)を形成する請求項33に記載の設備。
- 多数の2次領域(14,15,14a,15a,14b,15b,14c,15c)が、平面に沿って、ラスター状に配置されていて、これらの2次領域の間に長手方向(L)に延在する気体流路を形成することを特徴とする請求項33に記載の設備。
- 基板を加工するために大気圧プラズマを生成する設備(10)であって、この設備(10)は、圧電材から成る装置(11)を備え、この装置(11)は、少なくとも1つの1次領域(12)及び1つの2次領域(13)を有し、低電圧の交流電圧を印加するための少なくとも2つの電極(17a,17b)が、前記1次領域(12)に配置されていて、電位差が、前記2次領域(13)の長手方向(L)に沿ってこの1次領域の励起に起因して生じる結果、前記大気圧プラズマが、前記2次領域の自由端部領域で生じる当該設備(10)において、
前記2次領域(13)が、1つの気体流路(24)の内壁を形成する湾曲された内面(IF)を有することを特徴とする設備(10)。 - 前記湾曲された内面(IF)は、前記大気圧プラズマ(20)用の境界面であることを特徴とする請求項36に記載の設備。
- 基板を加工するために大気圧プラズマを生成する設備(10)であって、この設備(10)は、圧電材から成る装置(11)を備え、この装置(11)は、少なくとも1つの1次領域(12)及び1つの2次領域(13)を有し、低電圧の交流電圧を印加するための少なくとも2つの電極(17a,17b)が、前記1次領域(12)に配置されていて、電位差が、前記2次領域(13)の長手方向(L)に沿ってこの1次領域の励起に起因して生じる結果、前記大気圧プラズマが、前記2次領域の自由端部領域で生じる当該設備(10)において、
長手方向(L)に延在して貫通している1つの気体流路(24)が、前記2次領域(13)内に配置されていること、及び
この2次領域(13)が、この気体流路(24)を完全に包囲することを特徴とする設備(10)。 - 前記2次領域(13)は、その内面(IF)によって前記気体流路(24)の内壁を提供することを特徴とする請求項38に記載の設備。
- 前記気体流路(24)は、前記1次領域(12)を貫通することを特徴とする請求項38又は39に記載の設備。
- 前記装置(11)は、ほぼ管形に形成されていることを特徴とする請求項38〜40のいずれか1項に記載の設備。
- 基板を加工するために大気圧プラズマを生成する設備(10)であって、この設備(10)は、圧電材から成る装置(11)を備え、この装置(11)は、少なくとも1つの1次領域(12)及び1つの2次領域(13)を有し、低電圧の交流電圧を印加するための少なくとも2つの電極(17a,17b)が、前記1次領域(12)に配置されていて、電位差が、前記2次領域(13)の長手方向(L)に沿ってこの1次領域の励起に起因して生じる結果、前記大気圧プラズマが、前記2次領域の自由端部領域で生じる当該設備(10)において、
長手方向に延在し貫通している互いに平行な複数の気体流路(24)が、前記2次領域(13)内に配置されていることを特徴とする設備(10)。
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