JP5403641B2 - 静電容量式タッチセンサ、電子機器及び透明導電膜積層体の製造方法 - Google Patents

静電容量式タッチセンサ、電子機器及び透明導電膜積層体の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、静電容量式タッチセンサ及び静電容量式センサを備える電子機器並びに、静電容量式タッチセンサなどで用いられる透明導電膜積層体の製造方法に関する。
従来から、透明タッチパネルや透明タッチスイッチなどには、文献1(国際公開第2006/126604号パンフレット)に記載されている透明導電膜を有する透明面状体が用いられている。
この透明導電膜がパターニングされて、透明導電膜には検出電極が形成されおり、透明導電膜の検出電極と外部の回路がフレキシブルプリント配線基板(以下FPCという)などで接続される。このような検出電極と指やペンとの間の静電容量の変化を外部の回路に伝えることによって、指やペンが透明面状体に接触した位置が外部の回路において検知できる。つまり、透明なシートに積層されかつパターニングされた透明導電膜にFPCを接続することによって、静電容量式タッチセンサが形成される。
このような静電容量式タッチセンサにおいては、プラスチックフィルムの上に透明導電膜を積層し、その透明導電膜を覆う透明な粘着層を形成して、透明導電膜を保護する絶縁層とプラスチックフィルムの間に透明導電膜をラミネートするのが一般的である。
そして、透明な粘着層には、エポキシ系やアクリル系などの樹脂が用いられ、粘着層の厚みは25μmから75μm程度である。25μmから75μmの厚みを有するエポキシ系やアクリル系の粘着層は、高温高湿の環境に晒されると外気の水分を吸収して表面が白化してしまう。
そこで、プラスチックフィルムの厚みを増したり、水蒸気バリア性の高いプラスチック製フィルムを用いたりして、水蒸気の侵入を少なくすることが考えられる。しかし、プラスチックフィルムの厚みを増したり、水蒸気バリア性の高いプラスチック製フィルムを用いたりすると、白化を防ぐことはできるものの光学特性が悪くなるという問題が発生する。
本発明の目的は、光学特性の悪化を防ぎつつ粘着層が水蒸気によって白化することを防止することのできる静電容量式タッチセンサを提供することにある。
本発明の一見地に係る静電容量式タッチセンサは、透明なプラスチック製シートと、プラスチック製シートの上に形成されている透明導電膜層と、透明導電膜層を覆うように透明導電膜層の上に形成されている透明な粘着層と、を備え、プラスチック製シートは、水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下であるものである。
この静電容量式タッチセンサでは、プラスチック製シートの水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下であるため、プラスチック製シートの上に積層される粘着層や透明導電膜層への水蒸気の侵入を防止することができる。加えて、プラスチック製シートの面内方向リタデーション値が20nm以下であるため、プラスチック製シートに水蒸気バリア性を持たせたにもかかわらず、色むらなどの発生や、使用者が見る色が液晶ディスプレイ装置から出射される光と異なる色になることなどの光学的な不具合を防止することができる。
静電容量式タッチセンサは、粘着層のプラスチック製シートと反対側に配置されている位相差フィルムと、位相差フィルムの上に配置されている偏光フィルムと、をさらに備えてもよい。
この静電容量式タッチセンサでは、ディスプレイ装置の種類によっては偏光フィルムを適切に配置することで、ディスプレイ装置の光源からの光の透過性を向上させることができる。偏光フィルムと位相差フィルムを用いることで、偏光フィルムと位相差フィルムを通過した光の反射を抑え、透明導電膜層に置ける光の反射を抑えて透明導電膜層のパターを見え難くすることができる。プラスチック製シートの面内方向リタデーション値を20nm以下とすることで、このような偏光フィルムと位相差フィルムの性能を低下させずに、十分に発揮させることができる。
プラスチック製シートは、一方面の上に透明導電膜層が形成され、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明なプラスチック製の基体シートと、基体シートの他方面に配置され、水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明な保護シートと、を含んでもよい。このとき、保護シートは、シクロオレフィン系樹脂で形成されていることが好ましい。また、基体シートは、ポリカーボネート系樹脂で形成されていることが好ましい。さらに、保護シートは、立体形状に成形されて粘着層の側面を覆っているものであってもよい。立体形状に成形された保護シートでは、側面からの粘着層への水蒸気の侵入も防止することができる。
プラスチック製シートは、水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明な基体シートであってもよい。このとき、基体シートは、シクロオレフィン系樹脂で形成されていることが好ましい。基体シートは、立体形状に成形されて粘着層の側面を覆っていてもよい。立体形状に成形された基体シートでは、側面からの粘着層への水蒸気の侵入も防止することができる。
静電容量式タッチセンサは、粘着層の上に配置されている、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である光学等方性シートと、光学等方性シートの上に形成されている他の透明導電膜層と、他の透明導電膜層の上に形成されている透明な他の粘着層と、をさらに備えてもよい。
電子機器は、筐体と、筐体内に配置されているディスプレイ装置と、筐体内でディスプレイ装置の上に配置されている、上述の静電容量式タッチセンサと、を備えて構成されてもよい。
本発明の他の見地に係る透明導電膜積層体の製造方法は、水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明なプラスチック製の保護シート上に、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明な基体シートを配置する工程と、基体シートの上に透明導電膜層を形成する導電膜層形成工程と、透明導電膜層を覆うように透明導電膜層の上に透明な粘着層を形成する粘着層形成工程と、粘着層の側面を保護シートで覆う側面被覆工程と、を備えるものである。
この製造方法では、粘着層の側面が保護シートで覆われている透明導電体膜積層体を容易に製造することができる。
透明導電膜積層体の製造方法は、被覆工程の前に、保護シートを立体形状に成形する成形工程をさらに備えてもよい。
本発明の他の見地に係る透明導電膜積層体の製造方法は、水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明なプラスチック製の基体シートの上に透明導電膜層を形成する導電膜層形成工程と、透明導電膜層を覆うように透明導電膜層の上に透明な粘着層を形成する粘着層形成工程と、粘着層の側面を基体シートで覆う側面被覆工程と、を備えるものである。
この製造方法では、粘着層の側面が基体シートで覆われている透明導電体膜積層体を容易に製造することができる。
透明導電膜積層体の製造方法は、被覆工程の前に、基体シートを立体形状に成形する成形工程をさらに備えてもよい。
本発明によれば、透過光に色むらが生じるという光学特性の悪化を防ぎつつ粘着層が水蒸気によって白化することを防止することができる。
第1実施形態に係る静電容量式タッチセンサを備える携帯電話機の分解斜視図。 図1の携帯電話機の断面形状を模式的に示した部分断面図。 図2の領域Iの拡大図。 図2に示す静電容量式タッチセンサの一製造工程を示す模式的な断面図。 図2に示す静電容量式タッチセンサの一製造工程を示す模式的な断面図。 図2に示す静電容量式タッチセンサの一製造工程を示す模式的な断面図。 変形例1−1の静電容量式タッチセンサの構成を示す模式的な断面図。 変形例1−2の静電容量式タッチセンサの一構成を示す模式的な断面図。 変形例1−2の静電容量式タッチセンサの他の構成を示す模式的な断面図。 第2実施形態に係る静電容量式タッチセンサの構成を示す模式的な断面図。 図10の静電容量式タッチセンサの一製造工程を示す模式的な断面図。 図10の静電容量式タッチセンサの他の製造工程を示す模式的な断面図。 変形例2−1の静電容量式タッチセンサの構成を示す模式的な断面図。 図13の領域Iの拡大図。 変形例2−2の静電容量式タッチセンサの一構成を示す模式的な断面図。 変形例2−2の静電容量式タッチセンサの他の構成を示す模式的な断面図。 第3実施形態に係る静電容量式タッチセンサの構成を示す模式的な断面図。
<第1実施形態>
本発明の第1実施形態に係る静電容量式タッチセンサを備える電子機器について、以下に携帯電話機を例に挙げて説明するが、静電容量式タッチセンサを備える電子機器は、携帯電話機以外の例えばパーソナルコンピュータや自動販売機など他の電子機器であってもよい。本発明の適用できる電子機器は、携帯電話機に限られるものではない。
(1)静電容量式タッチセンサを備える電子機器の概要
図1は、携帯電話機の構成の概要を示す分解斜視図である。図1において、携帯電話機10は、液晶ディスプレイ装置20と、液晶ディスプレイ装置20の上に配置されている静電容量式タッチセンサ30とを備えている。携帯電話機10の筐体11は、表側11aに凹部11bを有している。凹部11bには静電容量式タッチセンサ30が嵌め込まれる。そして、この凹部11bの中にはさらに凹部11cが形成されている。凹部11cには、液晶ディスプレイ装置20が嵌め込まれる。携帯電話機10などの電子機器では、このように、液晶ディスプレイ装置20の上に静電容量式タッチセンサ30が配置される。
静電容量式タッチセンサ30は、透明なタッチセンサ部30aと、タッチセンサ部30bの周囲に形成されている不透明な加飾部30bと、FPC30cと、FPC30cに搭載されているIC(integrated circuit)チップ30dとを備えている。FPC30cは、携帯電話機10の内部の回路(図示省略)に接続される。ただし、静電容量式タッチセンサには、ICチップのないFPCを有するタイプもある。
加飾部30bには、外観意匠を向上させるための絵柄層が適宜設けられてもよい。ポリビニル系、ポリアミド系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、アルキッド系などの樹脂をバインダーとし、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用いて絵柄層が形成される。このとき用いられる着色剤としては、アルミニウム、チタン、ブロンズ等の金属粒子やマイカに酸化チタンをコーティングしたパール顔料等がある。絵柄層の形成方法としては、グラビア、スクリーン、オフセットなどの汎用印刷法や各種コート法、塗装などの方法がある。
(2)透明導電膜積層体31
(2−1)構成の概要
図2は、図1の携帯電話機10の模式的な部分断面図である。タッチセンサ部30aと加飾部30bからなる部分は、図2に示す透明導電膜積層体31と他の部材32とから構成されている。他の部材32は、例えばガラス基材などである。
透明導電膜積層体31は、保護シート311と基体シート312と透明導電膜層313と粘着層314とで構成されている。透明導電膜積層体31は、似た構造が繰り返された2層構造になっている。1層目31aには、第1の層第1の基体シート312の片面(一方面)に第1の透明導電膜層313が形成されている。第1の基体シート312の反対側(他方面)に保護シート311が積層されている。第1の基体シート312及び第1の透明導電膜層313の上に、第1の透明導電膜層313を覆う第1の粘着層314が積層されている。
2層目31bには、第2の基体シート312があり、第2の基体シート312は第1の粘着層314の上に積層されている。第2の基体シート312の上に第2の透明導電膜層313が形成され、第2の基体シート312及び第2の透明導電膜層313の上に第2の粘着層314が積層されている。第2の粘着層314の上には他の部材32が積層されている。そして、保護シート311は、立体形状に形成され、1層目31a及び2層目31bの粘着層314の側面を被覆している。図3は、図2の一点鎖線の円で囲まれた領域Iの拡大図である。保護シート311は、図3に示すように他の部材32に密着するように形成されている。このような構造によって、2層目31bの粘着層314の側面が隙間なく覆われ、他の部材32と保護シート311との隙間から1層目31a及び2層目31bの粘着層314に水蒸気が侵入することが防止されている。保護シート311が高い水蒸気バリア性を有するので、保護シート311を透過して1層目31a及び2層目31bの粘着層314に水蒸気が侵入することも防止されている。例えば、図2に示すように、水滴Wが筐体11と透明導電膜積層体31との隙間12から携帯電話機10に侵入しても、上述のように透明導電膜積層体31の側面からは水蒸気の侵入が防止される。同様に、携帯電話機10の内部から隙間13に入り込む水蒸気W2に対しても保護シート311によって粘着層314への侵入を阻止できる。
なお、図2に示す透明導電膜積層体31においては、基体シート312と透明導電膜層313と粘着層314からなる構成が2回繰り返されているが、このような構成の繰り返しは3回以上であってもよい。
(2−2)基体シート312
基体シート312は、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下の透明なシートである。この基体シート312の厚みは、30〜2000μm程度が好ましい。面内方向リタデーション値を20nm以下にできる基体シート312の材料としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、セルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などのプラスチックフィルムが挙げられる。なかでも、ポリカーボネート系樹脂を用いたプラスチックフィルムは、製膜条件を好適にすることで上記面内方向リタデーション値を5nm以下にすることが可能であるため特に好ましい。なお、ここでいうポリカーボネート系樹脂の概念には、ポリカーボネート樹脂も含まれる。
本発明における面内リタデーション値は、大塚電子株式会社製の低リタデーション測定装置(型式:RE−100)を用いて測定されるものである。この低リタデーション測定装置の測定波長は、550nmである。なお、リタデーションとは、結晶その他の非等方性物質に入射した光が互いに垂直な振動方向を持つ2つの光波に分かれる現象である。複屈折を持つ材料に非偏光の光を入射すると、入射光は2つに分かれる。両者は振動方向が互いに直角で、一方を垂直偏光、他方を水平偏光という。垂直の方が異常光線、水平の方が常光線となり、常光線は伝搬速度が伝搬方向によらない光線で、異常光線は伝搬方向によって速度が異なる光線である。複屈折材料ではこの2つの光線の速度が一致する方向があり、これを光学軸という。面内方向リタデーション値とは、シート312の面内方向における遅相軸方向の屈折率をnx、シートの面内方向における進相軸方向の屈折率をny、及びシートの厚みをdとしたときに、(nx−ny)×dで計算される値である。
なお、ポリカーボネート系樹脂を含め上記面内方向リタデーション値が低いプラスチックフィルムの多くは、水蒸気透過度が高いため水蒸気を容易に透過する。ここでいう水蒸気透過度は、JISK7129のB法に準拠して、透過セルの温度40±0.5℃、相対湿度差90±2%、高湿度チャンバの相対湿度90±2%、及び低湿度チャンバの相対湿度0%の条件で測定したものをいう。水蒸気透過度が高いとは、シート全体の水蒸気透過度が上述の条件でJISK7129のB法に準拠して測定した場合に、10g/(m・24h)以上になる場合をいう。
(2−3)保護シート311
保護シート311は、上述の条件でJISK712のB法に準拠して測定した場合に、水蒸気透過度が1g/(m・24h)以下であり、かつ波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明なプラスチック製シートである。この保護シート311の厚みは、30〜2000μm程度が好ましい。保護シート311の材料としては、シクロオレフィン系樹脂のプラスチックフィルムが挙げられる。シクロオレフィン系樹脂フィルムは水蒸気バリア性が高くかつ面内方向リタデーション値が低いだけでなく、立体加工もしやすい。水蒸気透過度が1g/(m・24h)以下であり、かつ波長550nmにおける面内方向リタデーション値が5nm以下であるシクロオレフィン系樹脂として、例えば日本ゼオン株式会社製のZEONOR(登録商標)が好適に用いられる。
(2−4)透明導電膜層313
透明導電膜層313は、インジウムスズ酸化物、亜鉛酸化物などの金属酸化物や、樹脂バインダーとカーボンナノチューブや金属ナノワイヤなどとからなる層が挙げられ、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、鍍金法、グラビア、スクリーン、オフセットなどの汎用の印刷法、各種コーターによる方法、塗装、ディッピングなどの方法で形成される。透明導電膜層313は、厚さ数十nm程度から数μm程度、光線透過率80%以上、表面抵抗値数mΩから数百Ωの値に設定されることが好ましい。
(2−5)粘着層314
粘着層314は、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、ゴム系樹脂などからなる層が挙げられ、グラビア、スクリーン、オフセットなどの汎用の印刷法、各種コーターによる方法、塗装、ディッピングなどの方法で形成される。粘着層314は、厚さが数μm程度から数十μm程度に形成され、強固な粘着性・各種耐性を示すことが好ましい。
(3)透明導電膜積層体の製造方法
(3−1)立体形状の保護シートを用いる方法
保護シート311を粘着層314の側面まで被覆するような構造に形成する製造方法としては、図4に示す工程を経て、立体形状に形成された保護シート311を基体シート312に積層する方法がある。図4に示すように、粘着層314等の側面に保護シート311の外周加工部311aが達するように、保護シート311は予め成形されている。保護シート311を粘着層314等の側面を被覆するように予め立体形状に成形する方法としては、プレス成形、真空成形、圧空成形などが挙げられる。プレス成形は、保護シート311の軟化温度よりも高い温度で行ない、例えば保護シート311が軟化温度120℃のシクロオレフィン系樹脂からなる場合には160℃に加熱して保護シート311の形成が行われる。立体形状に形成された保護シート311を基体シート312に積層する方法としては、接着剤等を介してラミネートする方法などが挙げられる。
(3−2)保護シートを立体形状に成形しながら行なう方法
保護シート311を粘着層314の側面まで被覆するような構造に形成する製造方法としては、図5に示す工程を経て、粘着層314等の側面を覆うように、粘着層314等の側面に沿わせて立体形状に加工しながら保護シート311を基体シート312に積層する方法がある。
粘着層314等の側面に沿うよう立体形状に加工しながら保護シート311を基体シート312に積層する方法としては、シリコンパットなどのゴム質の押圧材100で押圧する方法などが挙げられる。押圧材100で押圧する方法では、まず、保護シート311を軟化温度以上に加熱して保護シート311が軟化している状態にする。次に、ゴム質の押圧材100で押圧することにより、保護シート311を粘着層314の側面に沿うように成形しながら、保護シート311を粘着層314の側面にラミネートする。例えば保護シート311が軟化温度120℃のシクロオレフィン系樹脂からなる場合には、150℃に加熱されているシリコンパットで保護シート311を押圧することにより透明導電膜積層体31の形成が行われる。側面に保護シート311をラミネートするために、上述の方法と同様に接着剤を予め保護シート311に塗布しておいてもよく、また粘着層314の粘着剤を利用してもよい。
(3−3)保護シートを積層した後に立体形状に成形する方法
保護シート311を粘着層314の側面まで被覆するような構造に形成する製造方法としては、保護シート311を基体シート312に積層した後、図6に示す工程を経て、保護シート311を粘着層314等の側面に沿うように加工する方法がある。
保護シート311を基体シート312に積層した後、保護シート311を粘着層314等の側面に沿うように加工する方法としては、貼り付けした保護シート311に高温高圧の圧縮空気110等を吹き付ける成形などが挙げられる。保護シート311を軟化温度以上に加熱して、軟化温度以上の高温の圧縮空気を吹き付ける。例えば、保護シート311が軟化温度120℃のシクロオレフィン系樹脂からなる場合には、温度150℃、圧力10気圧の圧縮空気の力により保護シート311の外周加工部311aを粘着層314の側面に密着させる。透明導電膜積層体31の側を耐熱性シートなどで覆って、耐熱性のシートなどを介して間接的に圧縮空気の力を保護シート311に伝えるようにしてもよい。また、圧縮空気を他の部材32の側から吹き付けて、保護シート311の軟化温度以上に加熱された金型に保護シート311の側を押し付ける圧空成形によって成形してもよい。
<変形例1−1>
上記実施形態では、透明導電膜積層体31に、基体シート312や透明導電膜層313や粘着層314がそれぞれ2層ずつ積層されている場合を示したが、図7に示すように、これらの層が1層ずつ積層されていてもよい。図7においては図示を省略しているが、図1に示したFPC30cを透明導電膜積層体31Aの透明導電膜層313に接続することによって、静電容量式タッチセンサ30Aが構成される。この静電容量式タッチセンサ30Aも、図1に示した液晶ディスプレイ装置20と組み合わせて、携帯電話機10などの電子機器内に搭載することができる。
<変形例1−2>
上記実施形態の透明導電膜積層体31や変形例1−1に示した透明導電膜積層体31Aは、粘着層314の側面を保護シート311の外周加工部311aで覆っている。しかし、携帯電話機10の表側11aの側の防水性が高い場合などには、粘着層314の側面まで保護シート311で覆う必要がない場合もある。そのような時には、図8の透明導電膜積層体31Bや図9の透明導電膜積層体31Cのように、保護シート315を基体シート312の他方面に積層するだけでよく、構成や製造方法が簡単になる。図8及び図9においては図示を省略しているが、図1に示したFPC30cを透明導電膜積層体31B,31Cの透明導電膜層313に接続することによって、静電容量式タッチセンサ30B,30Cが構成される。この静電容量式タッチセンサ30B,30Cも、図1に示した液晶ディスプレイ装置20と組み合わせて、携帯電話機10などの電子機器内に搭載することができる。
<実施例1>
(1)透明導電膜積層体の作製
基体シートとして厚さ50μmのポリカーボネート系樹脂フィルムを用い、その表面にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成した。使用したポリカーボネート系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は20nm以下であり、水蒸気透過度が10g/(m・24h)以上であった。さらに、透明導電膜層が形成されたポリカーボネート系樹脂フィルムの上に、厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層をスクリーン印刷で形成した。このようにして作成した透明導電膜積層体を10セット用意した。
ついで、上記透明導電膜積層体の5セットには、基体シートの粘着層形成面と反対の面に厚さ100μm、軟化温度120℃のシクロオレフィン系樹脂フィルムからなる保護シートを積層しつつ、150℃に加熱されているシリコンパットで背面から保護シートを押圧した。使用したシクロオレフィン系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は5nm以下であり、水蒸気透過度は1g/(m・24h)であった。シリコンパットにより押圧した領域は基体シートのサイズより大きく設定しており、押圧することにより、基体シート及び粘着層の側面に沿って粘着層の側面にまで、軟化した保護シートを積層した。残りの5セットには保護シートを積層しなかった。なお、10セットの透明導電膜積層体の上には他の部材としてガラス基材を積層した。
(2)透明導電膜積層体の耐性評価
以上の保護シートを積層した5セット及び積層しなかった5セットを、60℃90RH%の耐湿試験機に入れ、10日間放置した後、表面状態を目視により確認した。保護シートを積層した5セットは全て異常がなかった。しかし、保護シートを積層しなかった5セットについては全て粘着層が白化しており、うち1セットについては透明導電膜層も若干白化していた。
<実施例2>
(1)透明導電膜積層体の作製
基体シートとして厚さ50μmのポリカーボネート系樹脂フィルムを用い、その表面にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成した。使用したポリカーボネート系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は20nm以下であり、水蒸気透過度が10g/(m・24h)以上であった。さらに、透明導電膜層が形成されたポリカーボネート系樹脂フィルムの上に、厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層をスクリーン印刷で形成した。粘着層の上に同じポリカーボネート系樹脂フィルムを積層して、その上にさらに前述の方法で厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層を形成した。このような方法を繰り返し、基体シートと透明導電膜層と粘着層からなる層を全部で三層積層した。このように作成した透明導電膜積層体を10セット用意した。
そして、厚さ100μm、軟化温度120℃のシクロオレフィン系樹脂フィルムを160℃に加熱し、プレス成形によってシクロオレフィン系樹脂フィルムの外周に200μm程度の立ち上がりを形成して、立体形状の保護シートを準備した。使用したシクロオレフィン系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は5nm以下であり、水蒸気透過度は1g/(m・24h)であった。ついで、上記透明導電膜積層体の5セットには、この立体形状の保護シートの内面にエポキシ系の接着剤を塗布し、積層された最下層の基体シートの粘着層形成面と反対の側から保護シートを貼り付けた。保護シートの平面状の内面の領域は基体シートの外形サイズと一致しており、ラミネートすることにより最下層の基体シートが保護シートにより被覆されるとともに、上層の基体シートの側面及び粘着層の側面も被覆された。残りの5セットには保護シートを積層しなかった。なお、10セットの透明導電膜積層体の上には他の部材としてガラス基材を積層した。
(2)透明導電膜積層体の耐性評価
以上の保護シートを貼り付けした5セット及び貼り付けなかった5セットを、60℃90RH%の耐湿試験機に入れ、10日間放置した後、表面状態を目視により確認した。保護シートを貼り付けた5セットは全て異常がなかった。しかし、保護シートを貼り付けなかった5セットについては全て粘着層が白化しており、うち3セットについては透明導電膜層もかなり白化していた。
<実施例3>
(1)透明導電膜積層体の作製
基体シートとして厚さ50μmのポリカーボネート系樹脂フィルムを用い、その表面にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成した。使用したポリカーボネート系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は20nm以下であり、水蒸気透過度が10g/(m・24h)以上であった。さらに、透明導電膜層が形成されたポリカーボネート系樹脂フィルムの上に、厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層をスクリーン印刷で形成した。粘着層の上に同じポリカーボネート系樹脂フィルムを積層して、その上にさらに前述の方法で厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層を形成した。このようにして基体シートと透明導電膜層と粘着層からなる層を全部で二層積層した透明導電膜積層体を10セット用意した。
ついで、上記透明導電膜積層体の5セットには、積層された下層の基体シートの粘着層形成面と反対の面に軟化温度120℃のシクロオレフィン系樹脂フィルムからなる保護シートをエポキシ系の接着剤を介して貼り付けした。使用したシクロオレフィン系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は5nm以下であり、水蒸気透過度は1g/(m・24h)であった。保護シートを基体シートの外形サイズより大きく設定しており、上記の貼り付け工程では保護シートの外周部分は接着していなかったが、その後10気圧、温度150℃の圧空成形により、保護シートの外周部分が上層の基体シート及び粘着層の側面に沿って貼り付けた。残りの5セットには保護シートを積層しなかった。なお、10セットの透明導電膜積層体の上には他の部材としてガラス基材を積層した。
(2)透明導電膜積層体の耐性評価
以上の保護シートを貼り付けした5セット及び貼り付けなかった5セットを、60℃90RH%の耐湿試験機に入れ、10日間放置した後、表面状態を目視により確認した。保護シートを貼り付けた5セットは全て異常がなかった。しかし、貼り付けなかった5セットについては全て粘着層が白化しており、うち1セットについては透明導電膜層がかなり白化していた。
<特徴>
(1)
基体シート312に用いられるポリカーボネート系樹脂など、面内方向リタデーション値が低いプラスチックフィルムの多くは、水蒸気透過度が高いため水蒸気を容易に透過する。そのため、ポリカーボネート系樹脂などからなる基体シート312だけでは、基体シート312を透過した水蒸気によって粘着層314が(条件によっては透明導電膜層313も)白化する問題が発生する。
しかし、第1実施形態の静電容量式タッチセンサ30,30A,30B,30Cでは、保護シート311(プラスチック製シート)の水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下であるため、基体シート312の上に積層される粘着層314や透明導電膜層313への水蒸気の侵入を防止することができる。
特に、粘着性・各種耐性にすぐれた粘着層はたいてい湿気を吸着して白化する問題が顕著であるため、粘着性や各種の対性に優れた粘着剤を用いるときには高い効果が発揮される。
ポリカーボネート系樹脂からなる基体シート312及びシクロポリオレフィン系樹脂からなる保護シート311(プラスチック製シート)は、ともに面内方向リタデーション値が20nm以下であるため、図2に示すようなサングラスなどの偏光板21を介して液晶ディスプレイ装置20からの出射光25を見たときの色むらなどの発生や、使用者が見る色が液晶ディスプレイ装置20から出射される光と異なる色になることなどの光学的な不具合を防止することができる。
(2)
保護シート311の外周加工部311aが、第1及び第2の粘着層314の側面を覆っている静電容量式タッチセンサ30,30Aでは、側面から粘着層314への水蒸気の侵入が防止され、粘着層314の白化を防止する効果が向上する。
<第2実施形態>
本発明の第2実施形態に係る静電容量式タッチセンサについて図10乃至図12を用いて説明する。図10乃至図12には、静電容量式タッチセンサ40の構成のうち、透明導電膜積層体41と他の部材42とが図示されている。後述する透明導電膜積層体41の透明導電膜層412に、図1に示したFPC30cを接続することによって、第2実施形態の静電容量式タッチセンサ40が構成される。第2実施形態の静電容量式タッチセンサ40も、第1実施形態の静電容量式タッチセンサ30と同様に、図1に示した液晶ディスプレイ装置20と組み合わせて、携帯電話機10などの電子機器内に搭載することができる。
(1)透明導電膜積層体41
(1−1)構成の概要
図10は、静電容量式タッチセンサ40の構成を説明するための模式的な断面図である。静電容量式タッチセンサ40は、図10に示す透明導電膜積層体41と他の部材42と、図示を省略しているFPCから構成されている。他の部材42は、例えばガラス基材などである。
透明導電膜積層体41は、基体シート411と透明導電膜層412と粘着層413と光学等方性シート414とで構成されている。基体シート411の片面(一方面)に第1の透明導電膜層412が形成されている。基体シート411及び第1の透明導電膜層412の上に、第1の透明導電膜層412を覆う第1の粘着層413が形成されている。
第1の粘着層413の上に、光学等方性シート414が積層され、光学等方性シート414の上に第2の透明導電膜層412が形成されている。光学等方性シート414及び第2の透明導電膜層412の上には第2の粘着層413が形成されている。そして、第2の粘着層413の上には他の部材42が積層されている。基体シート411は、立体形状に形成され、第1および第2の粘着層413の側面を被覆している。
基体シート411は、他の部材42に接触するように形成されている。このような構造によって、第1及び第2の粘着層413の側面が覆われ、他の部材42と基体シート411との隙間から第1及び第2の粘着層413に水蒸気が侵入することが防止されている。この基体シート411が高い水蒸気バリア性を有するので、基体シート411を透過して粘着層413に水蒸気が侵入することも防止されている。例えば、図2の携帯電話機10に用いる静電容量式タッチセンサ30を静電容量式タッチセンサ40に置換えた場合、水滴W1が筐体11と透明導電膜積層体41との隙間12から携帯電話機10に侵入しても、上述のように透明導電膜積層体41の側面からは水蒸気の侵入が防止される。同様に、携帯電話機10の内部からの水蒸気W2に対しても基体シート411によって粘着層413への侵入を阻止できる。
なお、図10に示す透明導電膜積層体41は、透明導電膜層412と粘着層413からなる構成が2回繰り返されているが、第2の粘着層413の上に、さらに光学等方性シート414と透明導電膜層412と粘着層413の層を設けるなど、透明導電膜層412が3回以上繰り返されるような構成であってもよい。
(1−2)基体シート411
基体シート411は、上述の条件でJISK712のB法に準拠して測定した場合に、水蒸気透過度が1g/(m・24h)以下であり、かつ波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明なプラスチック製シートである。この基体シート411の厚みは、30〜2000μm程度が好ましい。基体シート411の材料としては、シクロオレフィン系樹脂のプラスチックフィルムが挙げられる。シクロオレフィン系樹脂フィルムは水蒸気バリア性が高くかつ面内方向リタデーション値が低いだけでなく、立体加工もしやすい。水蒸気透過度が1g/(m・24h)以下であり、かつ波長550nmにおける面内方向リタデーション値が5nm以下であるシクロオレフィン系樹脂として、例えば日本ゼオン株式会社製のZEONOR(登録商標)が好適に用いられる。
(1−3)透明導電膜層412及び粘着層413
透明導電膜層412及び粘着層413は、第1実施形態の透明導電膜層313及び粘着層314と同じに形成できるので、説明を省略する。 (1−4)光学等方性シート414
光学等方性シート414は、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下の透明なプラスチックフィルムで構成されている。この光学等方性シート414の厚みは、30〜2000μm程度が好ましい。面内方向リタデーション値を20nm以下にできる光学等方性シート414の材料としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、セルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などのプラスチックフィルムが挙げられる。なかでも、ポリカーボネート系樹脂を用いたプラスチックフィルムは、製膜条件を好適にすることで上記面内方向リタデーション値を5nm以下にすることが可能であるため特に好ましい。
(2)透明導電膜積層体の製造方法
(2−1)立体形状の基体シートを用いる方法
基体シート411を粘着層314の側面まで被覆するような構造に形成する製造方法としては、予め立体形状に成形された基体シート411を用いて粘着層413等の側面を被覆する方法がある。この方法においては、まず、基体シート411上に第1の透明導電膜層412及び第1の粘着層413を形成する。その後、第1の透明導電膜層412及び第1の粘着層413が形成された基体シート411を立体形状に形成する。その後、該基体シート411の底面上に光学等方性シート414を形成し、該光学等方性シート414上に第2の透明導電膜層412及び第2の粘着層413を形成する。
また、図11に示す工程を経て透明導電膜積層体41を形成することもできる。図11に示されているのは、第1の透明導電膜層412及び第1の粘着層413が形成されかつ立体形状に成形された基体シート411に、第2の透明導電膜層412及び第2の粘着層413並びに他の部材42が積層された光学等方性シート414を組み合わせてラミネートする方法である。
基体シート411を粘着層413等の側面を被覆するように予め立体形状に形成する方法としては、プレス成形、真空成形、圧空成形などが挙げられる。プレス成形は、基体シート411の軟化温度よりも高い温度で行ない、例えば基体シート411が軟化温度120℃のシクロオレフィン系樹脂からなる場合には160℃に加熱して基体シート411の形成が行われる。立体形状に形成された基体シート411に光学等方性シート414を積層する方法としては、接着剤等を介してラミネートする方法などが挙げられる。
(2−2)基体シートに積層した後に立体形状に成形する方法
基体シート411を粘着層314の側面まで被覆するような構造に形成する製造方法としては、基体シート411上への積層が終了した後に、図12に示す工程を経て、基体シート411を粘着層314等の側面に沿うように加工する方法がある。この方法では、まず、基体シート411上に第1の透明導電膜層412及び第1の粘着層413を形成する。次に、第1の粘着層413の上に光学等方性シート414を形成し、さらに光学等方性シート414上に第2の透明導電膜層412及び第2の粘着層413を形成する。その後、基体シート411を光学等方性シート414上の第2の粘着層413の側面まで覆うように加工する。
基体シート411を粘着層314等の側面に沿うように加工する方法としては、貼り付けした基体シート411に高温高圧の圧縮空気110等を吹き付ける成形などが挙げられる。基体シート411を軟化温度以上に加熱して、軟化温度以上の高温の圧縮空気を吹き付ける。例えば、基体シート411が軟化温度120℃のシクロオレフィン系樹脂からなる場合には、温度150℃、圧力10気圧の圧縮空気の力により基体シート411の外周加工部311aを粘着層413の側面に密着させる。透明導電膜積層体31の側を耐熱性シートなどで覆って、耐熱性のシートなどを介して間接的に圧縮空気の力を基体シート411に伝えるようにしてもよい。また、圧縮空気を他の部材32の側から吹き付けて、基体シート411の軟化温度以上に加熱された金型に基体シート411の側を押し付ける圧空成形によって成形してもよい。
<変形例2−1>
上記実施形態の透明導電膜積層体41で、透明導電膜層412や粘着層413が2層ずつ積層されている場合を示したが、図13に示すように、これらの層が1層ずつ積層されていてもよい。図13において一点鎖線の円で囲まれた領域IIの拡大図を図14に示す。図14に示すように、透明導電膜積層体41では、他の部材42ではなくて、光学等方性シート414の方に基体シート411が密着する。それにより、基体シート411と光学等方性シート414との隙間がなくなり、水蒸気の侵入が防止される。図13においては図示を省略しているが、図1に示したFPC30cを透明導電膜積層体41Aの透明導電膜層412に接続することによって、静電容量式タッチセンサ40Aが構成される。この静電容量式タッチセンサ40Aも、図1に示した液晶ディスプレイ装置20と組み合わせて、携帯電話機10などの電子機器内に搭載することができる。
<変形例2−2>
上記実施形態の透明導電膜積層体41や変形例2−1に示した透明導電膜積層体41Aは、粘着層413の側面を基体シート411の外周加工部411aで覆っている。しかし、携帯電話機10の表側11aの側の防水性が高い場合などには、粘着層413の側面まで基体シート411で覆う必要がない場合もある。そのような時には、図15の透明導電膜積層体41Bや図16の透明導電膜積層体41Cのように、基体シート415で粘着層413の側面を覆わない構成としてもよく、構成や製造方法が簡単になる。図15及び図16においては図示を省略しているが、図1に示したFPC30cを透明導電膜積層体41B,41Cの透明導電膜層412に接続することによって、静電容量式タッチセンサ40B,40Cが構成される。この静電容量式タッチセンサ40B,40Cも、図1に示した液晶ディスプレイ装置20と組み合わせて、携帯電話機10などの電子機器内に搭載することができる。
<実施例4>
(1)透明導電膜積層体の作製
基体シートとして厚さ50μmのシクロオレフィン系樹脂フィルムを用い、その表面にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成した。使用したシクロオレフィン系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は5nm以下であり、水蒸気透過度は1g/(m・24h)であった。さらに、透明導電膜層が形成されたシクロオレフィン系樹脂フィルムの上に、厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層をスクリーン印刷で形成した。このようにして作成した透明導電膜積層体を5セット用意した。
また、比較のため、基体シートとして厚さ50μmのポリカーボネート系樹脂フィルムを用い、その表面にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成した。使用したポリカーボネート系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は20nm以下であり、水蒸気透過度が10g/(m・24h)以上であった。さらに、透明導電膜層が形成されたポリカーボネート系樹脂フィルムの上に、厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層をスクリーン印刷で形成した。このようにして作成した透明導電膜積層体を5セット用意した。なお、10セットの透明導電膜積層体の上には他の部材としてガラス基材を積層した。
(2)透明導電膜積層体の耐性評価
上記のシクロオレフィン系樹脂フィルムを基体シートとする5セットおよびポリ
カーボネート系樹脂フィルムを基体シートとする5セットを、60℃90RH%の耐湿試
験機に入れ、10日間放置した後、表面状態を目視により確認した。シクロオレフィン系樹脂フィルムを基体シートとする5セットついては、2セットのみに若干の粘着層の白化がみられた。しかし、ポリカーボネート系樹脂フィルムを基体シートとする5セットについては、全て粘着層が白化しており、うち2セットについては透明導電膜層も若干白化していた。
<実施例5>
(1)透明導電膜積層体の作製
基体シートとして厚さ50μmのシクロオレフィン系樹脂フィルムを用い、その表面にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成したシートを10セット用意した。使用したシクロオレフィン系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は5nm以下であり、水蒸気透過度は1g/(m・24h)であった。
用意した10セットのうち5セットついては、基体シートを160℃に加熱してプレス成形を行い、外周に200μm程度の立ち上がりのある立体形状に基体シートを成形した。
一方、光学等方性シートとして厚さ50μmのポリカーボネート系樹脂フィルムを用い、ポリカーボネート系樹脂フィルムの表面にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成した。使用したポリカーボネート系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は20nm以下であり、水蒸気透過度が10g/(m・24h)以上であった。透明導電膜層を形成したポリカーボネート系樹脂フィルムの上に厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層をスクリーン印刷で形成し、その上に別の部材としてガラス基材を積層した。このように光学等方性シートと透明導電膜層と粘着層と他の部材とからなるシート積層物を10セット用意した。
ついで、10セット全ての透明導電膜積層体の透明導電膜層上に厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層を吹きつけ塗装で形成した。
基体シートを立体形状にした5セットついては、この立体形状の基体シートの平面状の内面に上記のシート積層物をポリカーボネート系樹脂フィルム側が接するように貼り付けた。基体シートの平面の領域は光学等方性シートの外形サイズと一致しており、貼り付けることにより、光学等方性シートおよびその上に形成された粘着層の側面が基体シートの立ち上がり部分により被覆された。
立体形状にしなかった残り5セットの基体シートは、単に上記のシート積層物をポリカーボネート系樹脂フィルム側が接するように貼り付けた。
(2)透明導電膜積層体の耐性評価
基体シートを立体形状にした5セットおよび立体形状にしなかった5セットを、60℃90RH%の耐湿試験機に入れ、10日間放置した後、表面状態を目視により確認した。基体シートを立体形状にした5セットは全て異常がなかった。しかし、立体形状にしなかった5セットのうちの3セットの粘着層が端部のところでかなり白化していた。
<実施例6>
(1)透明導電膜積層体の作製
基体シートとして厚さ50μmのシクロオレフィン系樹脂フィルムを用い、その上にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成した。使用したシクロオレフィン系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は5nm以下であり、水蒸気透過度は1g/(m・24h)であった。さらに、透明導電膜層が形成されたシクロオレフィン系樹脂フィルムの上に、厚さ25μmのポリウレタン系の粘着層をスクリーン印刷で形成し、その粘着層の上に光学等方性シートとして厚さ50μmのポリカーボネート系樹脂フィルムを積層した。使用したポリカーボネート系樹脂フィルムの面内方向リタデーション値は20nm以下であり、水蒸気透過度が10g/(m・24h)以上であった。その積層したポリカーボネート系樹脂フィルム上にインジウムスズ酸化物からなる厚さ200nmの透明導電膜層をスパッタリング法で形成した。さらに、透明導電膜層が形成されたポリカーボネート系樹脂フィルムの上に25μmのポリウレタン系の粘着層をスクリーン印刷で形成した後、さらにその上に別の部材としてガラス基材を積層した。このように基体シートと透明導電膜層と粘着層と光学等方性シートと透明導電膜層と粘着層と他の部材とからなる透明導電膜積層体を10セット用意した。
ついで、用意した透明導電膜積層体の10セットのうちの5セットには、温度150℃圧力10気圧の圧空成形によって加工を行なった。基体シートは光学等方性シートの外形サイズより大きく設定しており、用意した透明導電膜積層体の10セットは基体シートの外周部分の粘着層が他の層に接着していなかった。しかし、圧空成形による加工を施した5セットは、基体シートの外周部分が立体加工され、上層の光学等方性シートおよび粘着層の側面と接着された。残りの5セットについては、圧空成形による立体加工を行なわなかった。
(2)透明導電膜積層体の耐性評価
基体シートを立体加工した5セットおよび立体加工しなかった5セットを、60℃90RH%の耐湿試験機に入れ、10日間放置した後、表面状態を目視により確認した。基体シートを立体加工した5セットは全て異常がなかった。しかし、立体加工しなかった5セットについては5セット全ての粘着層が白化し、特に粘着層の端部が白化しており、うち1セットについては透明導電膜層も若干白化していた。
<特徴>
(1)
従来から基体シートや光学等方性シート414に用いられていたポリカーボネート系樹脂など、面内方向リタデーション値が低いプラスチックフィルムの多くは、水蒸気透過度が高いため水蒸気を容易に透過する。そのため、ポリカーボネート系樹脂などからなる基体シートや光学等方性シート414を透過した水蒸気によって粘着層413が(条件によっては透明導電膜層412も)白化する問題が発生する。
しかし、第2実施形態の静電容量式タッチセンサ40では、基体シート411(プラスチック製シート)の水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下であるため、基体シート411の上に積層される粘着層413や透明導電膜層412への水蒸気の侵入を防止することができる。
特に、粘着性・各種耐性にすぐれた粘着層はたいてい湿気を吸着して白化する問題が顕著であるため、粘着性や各種の対性に優れた粘着剤を用いるときには高い効果が発揮される。
ポリカーボネート系樹脂からなる光学等方性シート414及びシクロポリオレフィン系樹脂からなる基体シート411は、ともに面内方向リタデーション値が20nm以下であるため、図2に示すようなサングラスなどの偏光板21を介して液晶ディスプレイ装置20からの出射光25を見たときの色むらなどの発生や、使用者が見る色が液晶ディスプレイ装置20から出射される光と異なる色になることなどの光学的な不具合を防止することができる。
(2)
基体シート411の外周加工部411aが、第1及び第2の粘着層413の側面を覆っている静電容量式タッチセンサ40,40Aでは、側面から粘着層413への水蒸気の侵入が防止され、粘着層413の白化を防止する効果が向上する。
<第3実施形態>
本発明の第3実施形態に係る静電容量式タッチセンサについて図17を用いて説明する。図17は携帯電話機10Aの部分断面図である。図17において、図2と同じ符号を付したものは図2と同じものであるので説明を省略する。
(1)概要
図17の携帯電話機10Aが図2の携帯電話機10と異なる点は、液晶ディスプレイ装置20の上に配置されている位相差フィルム22と、静電容量式タッチセンサ50の構成である。静電容量式タッチセンサ50は、図17に示す透明導電膜積層体51及び他の部材52と、図示を省略しているFPCから構成されている。他の部材51は例えばガラス基材であり、FPCは図1に示したFPC30cと同様に透明導電膜積層体51の透明導電膜層412に接続されている。
(2)透明導電膜積層体51
(2−1)構成の概要
透明導電膜積層体51は、基体シート411と透明導電膜層412と粘着層413と光学等方性シート414と偏光フィルム511と位相差フィルム512とを備えている。透明導電膜積層体51は、偏光フィルム511及び位相差フィルム512を除く構成が図16に示す透明導電膜積層体41Cと同じである。そのため、ここでは偏光フィルム511及び位相差フィルム512について説明し、基体シート411と透明導電膜層412と粘着層413と光学等方性シート414については説明を省略する。
位相差フィルム512は、第2の粘着層413の上に積層され、その位相差フィルム512の上に偏光フィルム511が積層されている。偏光フィルム511の上には、ガラス基材などからなる他の部材52が積層されている。
(2−2)偏光フィルム511
偏光フィルム511は、入射する光を直線偏光に変換する。偏光フィルム511は、例えば、染色されたポリビニルアルコール(PVA)とそれを両側から支える支持体としてのトリアセチルセルロース(TAC)から構成される三層構造を有するものである。偏光フィルム511は、光学特性として、単体透過率40%以上、偏光度99%以上のものを使用することが好ましい。
(2−3)位相差フィルム512
位相差フィルム512は、偏光フィルム511よりも光学等方性シート414側に設けられ、直線偏光された光を円偏光に変換する。位相差フィルム512は、人間の視感度が最も高い550nmの波長の1/4の長さに当たる137nm程度の位相差値を有するものであることが好ましい。位相差フィルム512は、例えば、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリアリレート樹脂(PAR)、ノルボルネン系樹脂のフィルムを予め設定された延伸条件で製膜して所望の位相差値を得たものである。ノルボルネン系樹脂のフィルムとしては、株式会社JSR製の ARTON(登録商標)や日本ゼオン株式会社製のZEONOR(登録商標)等のフィルムが挙げられる。
<変形例3−1>
上記実施形態の透明導電膜積層体51で、透明導電膜層412や粘着層413が2層ずつ積層されている場合を示したが、図13に示すように、これらの層が1層ずつ積層されていてもよい。また、透明導電膜積層体51は、粘着層413の側面を基体シート411の外周加工部で覆っていない。しかし、携帯電話機10の表側11aの側の防水性が低い場合などには、粘着層413や偏光フィルム511と位相差フィルム512との側面が基体シート411で覆われている図10や図13に示されているような構成にすることもできる。
また、実施形態の透明導電膜積層体51では、基体シート411に高い水蒸気バリア性と低い面内方向リタデーション値のシクロオレフィン系樹脂を用いたが、第1実施形態のように、基体シート411に代えて保護シート311と基体シート312を組み合わせたものを用いてもよい。
<実施例7>
(1)透明導電膜積層体の作製 実施例1のシクロオレフィン系樹脂フィルムを用いた透明導電膜層シートにおいて、ガラス基材と透明導電膜層との間に、偏光度99.5%、単体透過率43%の光学特性を有する110μmの三層構造偏光フィルム(30μmのポリビニルアルコール(PVA)とそれを両側から支える40μmの支持体トリアセチルセルロース(TAC)とから構成)と、その吸収軸が偏光フィルムの吸収軸と約45度傾いた135nmの位相差値を有する70μmのポリアリレート樹脂を主成分とする位相差フィルムとを、この順に積層した。
(2)透明導電膜積層体の耐性評価 このような構成にして、実施例1と同様に評価をした結果、実施例1のシクロオレフィン系樹脂フィルムを用いた透明導電膜層シートと同様の粘着層の白化防止効果がみられ、かつ実施例1のシクロオレフィン系樹脂フィルムを用いた透明導電膜層シートよりも透明導電膜層412の反射を抑えられるため、透明導電膜層のパターンの境界部分が見えにくくなっていた。実施例1で比較に用いた保護シートを積層しなかったものに比べ、耐性に優れかつ透明導電膜層のパターンが見えてしまうという不具合を防止できる透明導電膜積層体が得られた。
<特徴>
(1)
第3実施形態の透明導電膜積層体51は、第2実施形態の透明導電膜積層体41Cの構成を含んでいるので、粘着層413や透明導電膜層412の白化の防止に関しては、第2実施形態と同様の効果を奏する。
また、色むらなどの発生や、使用者が見る色が液晶ディスプレイ装置20から出射される光と異なる色になることなどの光学的な不具合を防止することができる点についても、第2実施形態と同様の効果を奏する。
(2)
偏光フィルム511を基体シート411の下部に設置される液晶ディスプレイ装置20の偏光板と吸収軸が同じになるように配置すれば、液晶ディスプレイ装置20の情報表示時に液晶ディスプレイ装置20の光源からの出射光25がより透過するようにできる。
さらに、位相差フィルム512を設けることで偏光フィルム511と位相差フィルム512を通過した光の反射を抑えることができるため透明導電膜層412の反射がほとんどなくなる。その結果、透明導電膜層412のパターンが見えてしまうことを防止でき、透明導電膜層412のパターンが見えることによって液晶ディスプレイ装置20の情報表示が見づらくなるのを防止することができる。
10,10A 携帯電話機
11 筐体
20 液晶ディスプレイ装置
22 位相差フィルム
30,30A,30B,30C,40,40A,40B,40C,50 静電容量式タッチセンサ
31,31A,31B,31C,41,41A,41B,41C,51 透明導電膜積層体
311 保護シート
312,411,415 基体シート
313,412 透明導電膜層
314,413 粘着層
414 光学等方性シート
511 偏光フィルム
512 位相差フィルム
国際公開第2006/126604号パンフレット

Claims (15)

  1. 透明なプラスチック製シートと、
    前記プラスチック製シートの上に形成されている透明導電膜層と、
    前記透明導電膜層を覆うように前記透明導電膜層の上に形成されている透明な粘着層とを備え、
    前記プラスチック製シートは、水蒸気透過度が1g/(m・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下であり、
    前記粘着層は、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、ゴム系樹脂のいずれかである、光学特性の悪化を防ぎつつ前記粘着層が水蒸気によって白化することを防止した、静電容量式タッチセンサ。
  2. 前記粘着層の前記プラスチック製シートと反対側に配置されている位相差フィルムと、
    前記位相差フィルムの上に配置されている偏光フィルムと、をさらに備える、
    請求項1に記載の静電容量式タッチセンサ。
  3. 前記プラスチック製シートは、
    一方面の上に前記透明導電膜層が形成され、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明なプラスチック製の基体シートと、
    前記基体シートの他方面に配置され、水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明な保護シートと、を含む、
    請求項1又は請求項2に記載の静電容量式タッチセンサ。
  4. 前記保護シートは、シクロオレフィン系樹脂で形成されている、
    請求項3に記載の静電容量式タッチセンサ。
  5. 前記基体シートは、ポリカーボネート系樹脂で形成されている、
    請求項4に記載の静電容量式タッチセンサ。
  6. 前記保護シートは、立体形状に成形されて前記粘着層の側面を覆っている、
    請求項3から5のいずれか一項に記載の静電容量式タッチセンサ。
  7. 前記プラスチック製シートは、
    水蒸気透過度が1g/(m2・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明な基体シートである、
    請求項1又は請求項2に記載の静電容量式タッチセンサ。
  8. 前記基体シートは、シクロオレフィン系樹脂で形成されている、
    請求項7に記載の静電容量式タッチセンサ。
  9. 前記基体シートは、立体形状に成形されて前記粘着層の側面を覆っている、
    請求項7又は請求項8に記載の静電容量式タッチセンサ。
  10. 前記粘着層の上に配置されている、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である光学等方性シートと、
    前記光学等方性シートの上に形成されている他の透明導電膜層と、
    前記他の透明導電膜層の上に形成されている透明な他の粘着層と、
    をさらに備える、請求項1から9のいずれか一項に記載の静電容量式タッチセンサ。
  11. 筐体と、
    前記筐体内に配置されているディスプレイ装置と、
    前記筐体内で前記ディスプレイ装置の上に配置されている、請求項1から請求項10のいずれかに記載の静電容量式タッチセンサと、
    を備える、電子機器。
  12. 水蒸気透過度が1g/(m・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明なプラスチック製の保護シート上に、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明な基体シートを配置する工程と、
    前記基体シートの上に透明導電膜層を形成する導電膜層形成工程と、
    前記透明導電膜層を覆うように前記透明導電膜層の上に、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、ゴム系樹脂のいずれかである透明な粘着層を形成する粘着層形成工程と、
    前記粘着層の側面を前記保護シートで覆う側面被覆工程とを備える、光学特性の悪化を防ぎつつ前記粘着層が水蒸気によって白化することを防止した透明導電膜積層体の製造方法。
  13. 前記被覆工程の前に、前記保護シートを立体形状に成形する成形工程をさらに備える、
    請求項12に記載の透明導電膜積層体の製造方法。
  14. 水蒸気透過度が1g/(m・day・atm)以下でありかつ、波長550nmにおける面内方向リタデーション値が20nm以下である透明なプラスチック製の基体シートの上に透明導電膜層を形成する導電膜層形成工程と、
    前記透明導電膜層を覆うように前記透明導電膜層の上に、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、ゴム系樹脂のいずれかである透明な粘着層を形成する粘着層形成工程と、
    前記粘着層の側面を前記基体シートで覆う側面被覆工程とを備える、光学特性の悪化を防ぎつつ前記粘着層が水蒸気によって白化することを防止した透明導電膜積層体の製造方法。
  15. 前記被覆工程の前に、前記基体シートを立体形状に成形する成形工程をさらに備える、
    請求項14に記載の透明導電膜積層体の製造方法。
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