JP5382733B2 - パーフルオロエラストマー組成物およびその製造方法 - Google Patents
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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Description
パーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)の含有量の異なる2種以上のパーフルオロエラストマー(A)を含む含フッ素エラストマー組成物に関する。
式(III):
式(IV):
式(V):
であることが好ましい。
を含む含フッ素エラストマー組成物であって、
第1の硬化性パーフルオロポリマー中の第1のパーフルオロアルキルビニルエーテルの含有量が、第2の硬化性パーフルオロポリマー中の第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルの含有量と異なる含フッ素エラストマー組成物である。
式(III):
式(IV):
式(V):
などの各種化合物から選んでよい。
テトラフルオロエチレン、第1のパーフルオロアルキルビニルエーテルと同じかまたは異なっていてもよい第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルおよび少なくとも1つの第1の硬化部位含有モノマーと同じかまたは異なっていてもよい硬化部位を有する少なくとも1つの第2の硬化部位含有モノマーを含む第2の硬化性パーフルオロポリマーであって、ポリマー中のテトラフルオロエチレンと第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルのモル比が約65:35〜95:5である第2の硬化性パーフルオロポリマー、および
少なくとも1つの第1の硬化部位含有モノマーと少なくとも1つの第2の硬化部位含有モノマーを硬化し得る少なくとも1つの硬化剤
を含む硬化性パーフルオロエラストマー組成物の発明を含む。
テトラフルオロエチレン、第1のパーフルオロアルキルビニルエーテルと同じかまたは異なっていてもよい第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルおよび少なくとも1つの第1の硬化部位含有モノマーと同じかまたは異なっていてもよい硬化部位を有する少なくとも1つの第2の硬化部位含有モノマーを含む第2のパーフルオロポリマーから形成された第2のパーフルオロエラストマーであって、第2の硬化性ポリマー中のテトラフルオロエチレンと第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルのモル比が約65:35〜95:5である第2のパーフルオロエラストマー
を含む硬化したパーフルオロエラストマー組成物の発明を含む。
テトラフルオロエチレン、第1のパーフルオロアルキルビニルエーテルと同じかまたは異なっていてもよい第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルおよび少なくとも1つの第1の硬化部位含有モノマーと同じかまたは異なっていてもよい硬化部位を有する少なくとも1つの第2の硬化部位含有モノマーを含む第2の硬化性パーフルオロポリマーから形成された第2のパーフルオロエラストマーであって、第2の硬化性ポリマー中のテトラフルオロエチレンと第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルのモル比が約65:35〜95:5である第2のパーフルオロエラストマー
を含む硬化したパーフルオロエラストマー組成物からなる成形品の発明を含む。
(ii)テトラフルオロエチレン、第1のパーフルオロアルキルビニルエーテルと同じかまたは異なっていてもよい第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルおよび少なくとも1つの第1の硬化部位含有モノマーと同じかまたは異なっていてもよい硬化部位を有する少なくとも1つの第2の硬化部位含有モノマーを含む第2の硬化性パーフルオロポリマーであって、ポリマー中のテトラフルオロエチレンと第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルのモル比が約65:35〜95:5である第2の硬化性パーフルオロポリマー、および
(iii)少なくとも1つの第1の硬化部位含有モノマーの硬化部位および少なくとも1つの第2の硬化部位含有モノマーの硬化部位を硬化し得る少なくとも1つの硬化剤
を配合して硬化性パーフルオロエラストマー組成物を調製し,
(b)パーフルオロエラストマー組成物中の第1および第2の硬化性パーフルオロポリマーを硬化させて、硬化したパーフルオロエラストマー組成物を形成する
硬化したパーフルオロエラストマー組成物の製造方法の発明を含む。ここで、かかる成形品は、半導体処理チャンバーまたはその他の反応チャンバーを封止するための扉の表面などの金属または金属合金の表面に接着され得るシール部材であってもよい。
CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)m(CF2)n−X1 (A)
(式中、mは0〜5の整数、nは1〜3の整数、X1はニトリルまたはシアノなどの窒素含有基、カルボキシル基および/またはアルコキシカルボニル基)
ここで、窒素含有基などの官能基は架橋のための部位である。式(A)の化合物は単独で用いてもよく、または任意の各種のものを組み合わせて用いてもよい。架橋という観点からは、架橋性官能基は窒素含有基、好ましくはニトリル基が好ましい。
CY2=CY(CF2)n−X2 (1)
(式中、YはHまたはF、nは1〜約8の整数である)
CF2=CFCF2Rf 2−X2 (2)
(式中、Rf 2は(−OCF2)n−、−(OCF2)n−であり、nは0〜約5の整数である)
CF2=CFCF2(OCF(CF3)CF2)m
(OCH2CF2CF2)nOCH2CF2−X2 (3)
(式中、mは0〜約5の整数、nは0〜約5の整数である)
CF2=CFCF2(OCH2CF2CF2)m
(OCF(CF3)CF2)nOCF(CF2)−X2 (4)
(式中、mは0〜約5の整数、nは0〜約5の整数である)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))mO(CF2)n−X2 (5)
(式中、mは0〜約5の整数、nは1〜約8の整数である)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))m−X2 (6)
(式中、mは1〜約5の整数)
CF2=CFOCF2(CF(CF3)OCF2)nCF(−X2)CF3 (7)
(式中、nは1〜約4の整数)
CF2=CFO(CF2)nOCF(CF3)−X2 (8)
(式中、nは2〜約5の整数)
CF2=CFO(CF2)n−(C6H4)−X2 (9)
(式中、nは1〜約6の整数)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))nOCF2CF(CF3)−X2 (10)
(式中、nは1〜約2の整数)
CH2=CFCF2O(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)−X2 (11)
(式中、nは0〜約5の整数)
CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)m(CF2)n−X2 (12)
(式中、mは0〜約4の整数、nは1〜約3の整数である)
CH2=CFCF2OCF(CF3)OCF(CF3)−X2 (13)
CH2=CFCF2OCH2CF2−X2 (14)
CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)mCF2CF(CF3)−X2 (15)
(式中、mは0以上の整数である)
CF2=CFOCF(CF3)CF2O(CF2)n−X2 (16)
(式中、nは1以上の整数)
CF2=CFOCF2OCF2CF(CF3)OCF2−X2 (17)
(式中、X2は、ニトリル(−CN)、カルボキシル(−COOH)またはアルコキシカルボニル基(−COOR5、R5はフルオロ化またはパーフルオロ化されていてもよい炭素数1〜約10のアルキル基)などのモノマー反応性部位のサブユニットである)で表されるモノマーなどがあげられる。これらの中で、パーフルオロポリマーを硬化して得られるパーフルオロエラストマーの耐熱性が優れ、また、パーフルオロエラストマーを重合反応により合成する際に、連鎖移動による分子量低下を抑えるために、水素原子を含まないパーフルオロ化合物を用いることが好ましい。また、TFEとの重合反応性に優れる点からCF2=CFO−構造を持つ化合物が好ましい。
CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)m(CF2)n−X1 (A)
(式中、mは0〜5の整数、nは1〜3の整数、X1はニトリル基、カルボキシル基またはアルコキシカルボニル基)
で表されるような単量体などがあげられ、これらをそれぞれ単独で、または任意に組み合わせて用いることができる。
CY2=CY(CF2)n−X2 (1)
(式中、Yは水素原子またはフッ素原子、nは1〜8の整数である)
CF2=CFCF2Rf 2−X2 (2)
(式中、Rf 2は−(OCF2)n−、−(OCF2)n−であり、nは0〜5の整数である)
CF2=CFCF2(OCF(CF3)CF2)m
(OCH2CF2CF2)nOCH2CF2−X2 (3)
(式中、mは0〜5の整数、nは0〜5の整数である)
CF2=CFCF2(OCH2CF2CF2)m
(OCF(CF3)CF2)nOCF(CF3)−X2 (4)
(式中、mは0〜5の整数、nは0〜5の整数である)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))mO(CF2)n−X2 (5)
(式中、mは0〜5の整数、nは1〜8の整数である)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))m−X2 (6)
(式中、mは1〜5の整数)
CF2=CFOCF2(CF(CF3)OCF2)nCF(−X2)CF3 (7)
(式中、nは1〜4の整数)
CF2=CFO(CF2)nOCF(CF3)−X2 (8)
(式中、nは2〜5の整数)
CF2=CFO(CF2)n−(C6H4)−X2 (9)
(式中、nは1〜6の整数)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))nOCF2CF(CF3)−X2 (10)
(式中、nは1〜2の整数)
CH2=CFCF2O(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)−X2 (11)
(式中、nは0〜5の整数)
CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)m(CF2)n−X2 (12)
(式中、mは0〜5の整数、nは1〜3の整数である)
CH2=CFCF2OCF(CF3)OCF(CF3)−X2 (13)
CH2=CFCF2OCH2CF2−X2 (14)
CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)mCF2CF(CF3)−X2 (15)
(式中、mは0以上の整数である)
CF2=CFOCF(CF3)CF2O(CF2)n−X2 (16)
(式中、nは1以上の整数)
CF2=CFOCF2OCF2CF(CF3)OCF2−X2 (17)
(一般式(1)〜(17)中、X2は、ニトリル基(−CN基)、カルボキシル基(−COOH基)またはアルコキシカルボニル基(−COOR5基、R5は炭素数1〜10のフッ素原子を含んでいてもよいアルキル基)である)で表される単量体などがあげられる。これらの中で、パーフルオロエラストマー(A)の耐熱性が優れ、また、パーフルオロエラストマーを重合反応により合成する際に、連鎖移動による分子量低下を抑えるために、水素原子を含まないパーフルオロ化合物が好ましい。また、テトラフルオロエチレンとの重合反応性に優れる点からCF2=CFO−構造を持つ化合物が好ましい。
ては、式(II):
式(III):
式(IV):
式(V):
ドライエッチング装置
プラズマエッチング装置
反応性イオンエッチング装置
反応性イオンビームエッチング装置
スパッタエッチング装置
イオンビームエッチング装置
ウェットエッチング装置
アッシング装置
(2)洗浄装置
乾式エッチング洗浄装置
UV/O3洗浄装置
イオンビーム洗浄装置
レーザービーム洗浄装置
プラズマ洗浄装置
ガスエッチング洗浄装置
抽出洗浄装置
ソックスレー抽出洗浄装置
高温高圧抽出洗浄装置
マイクロウェーブ抽出洗浄装置
超臨界抽出洗浄装置
(3)露光装置
ステッパー
コータ・デベロッパー
(4)研磨装置
CMP装置
(5)成膜装置
CVD装置
スパッタリング装置
(6)拡散・イオン注入装置
酸化拡散装置
イオン注入装置
実施例で用いた化合物を以下に示す。硬化剤または架橋剤として、以下に示す化合物(NPh−AF)を用いた。
着火源をもたない内容積6リットルのステンレススチール製オートクレーブに、純水2.34リットルおよび乳化剤として
製造例2:パーフルオロエラストマー(2)の合成
着火源をもたない内容積6リットルのステンレススチール製オートクレーブに、純水2.34リットルおよび乳化剤として
実施例1で得られたパーフルオロエラストマー(1)、実施例2で得られたパーフルオロエラストマー(2)および架橋剤としてNPh−AF(上に示す)を表2で示す配合量にて混合し、オープンロールにて混練して架橋可能な含フッ素エラストマー組成物を調製した。
各架橋用組成物についてJSR型キュラストメーターII型により、180℃にて加硫曲線を求め、最低トルク(ML)、最大トルク(MH)、誘導時間(T10)および最適加硫時間(T90)を求める。
JIS K6301に準じて厚さ2mmの架橋物の常態(25℃)での100%モジュラス(M100)、引張強度(TB)、伸び(EB)および硬度(Hs)を測定する。
パーフルオロエラストマーとしてパーフルオロエラストマー(1)および(2)の併用の代わりにパーフルオロエラストマー(1)のみを用いた以外は、実施例3と同様にして組成物を調製し、架橋時の架橋性および常態物性を実施例3と同様にして測定した。結果を表2に示す。
パーフルオロエラストマーとしてパーフルオロエラストマー(1)および(2)の併用の代わりにパーフルオロエラストマー(2)のみを用いた以外は、実施例3と同様にして組成物を調製し、架橋時の架橋性および常態物性を実施例3と同様にして測定した。結果を表2に示す。
実施例4〜14のエラストマー組成物は、パーフルオロポリマーと所望の添加剤とを混合または配合して調製した。ポリマーおよび添加剤は、ニュージャージー州、S.ハッケンザックのC.W.ブラベンダー インスツルメント社製の市販の密閉式混合機またはニューヨーク州、ファーミングデールのMorijama製の市販の密閉式混合機などを用いて混合してもよい。実施例4〜12では、この技術の分野で公知の通常のゴム混合方法を用いて、6インチ径の2本ロールミキサー(「オープンミルミキサー」ともいう)で混合して調製した。1回分の重量500gに対して、ロール温度は約50℃でロール速度は約25〜35rpmであった。
本明細書中で述べたように、本明細書中の各種の含フッ素エラストマーおよびパーフルオロエラストマー混合物を金属やその他の基材に接着し、成形して、接着品を作製することができる。接着サンプルを作製し、ASTM−D−429のメソッドAに準じて、室温で0.4mm/sec(1インチ/min)の速度で2枚の金属プレートを引っ張り、接着力を記録することによって接着サンプルの評価を行った。本発明に準じた2種のパーフルオロポリマーの混合物を2枚の円形の金属プレート表面の間に成形した。各表面は接着プロセス前に接着剤で処理された。2平方インチ(12.9cm2)の表面積を有する金属プレートは、使用前に36サイズのグリットでサンドブラスト処理された。
Claims (8)
- テトラフルオロエチレン、第1のパーフルオロアルキルビニルエーテル並びにニトリル、カルボキシルおよびアルコキシカルボニルよりなる群から選ばれる少なくとも1つの官能基を有する少なくとも1つの第1の硬化部位含有モノマーを含む第1の硬化性パーフルオロポリマー、および、
テトラフルオロエチレン、第2のパーフルオロアルキルビニルエーテル並びにニトリル、カルボキシルおよびアルコキシカルボニルよりなる群から選ばれる少なくとも1つの官能基を有する少なくとも1つの第2の硬化部位含有モノマーを含む第2の硬化性パーフルオロポリマー
を含む含フッ素エラストマー組成物であって、
第1の硬化性パーフルオロポリマー中の第1のパーフルオロアルキルビニルエーテルの含有量が第2の硬化性パーフルオロポリマー中の第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルの含有量と異なり、
第1の硬化性パーフルオロポリマー中の第1のパーフルオロアルキルビニルエーテルの含有量と第2の硬化性パーフルオロポリマー中の第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルの含有量との差が5〜25モル%であり、
第1の硬化性パーフルオロポリマー中の、テトラフルオロエチレンと第1のパーフルオロアルキルビニルエーテルのモル%比が、50:50〜65:35であり、
第2の硬化性パーフルオロポリマー中の、テトラフルオロエチレンと第2のパーフルオロアルキルビニルエーテルのモル%比が、65:35〜85:15である
含フッ素エラストマー組成物。 - テトラフルオロエチレン単位、パーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)並びにニトリル基、カルボキシル基およびアルコキシカルボニル基よりなる群から選ばれる少なくとも1つを有するモノマー単位(b)を含むパーフルオロエラストマー(A)を含む含フッ素エラストマー組成物であって、
パーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)の含有量の異なる2種以上のパーフルオロエラストマー(A)を含み、
2種以上のパーフルオロエラストマー(A)におけるいずれか2種のパーフルオロエラストマー(A)のパーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)の含有量の差が5〜25モル%であり、
該2種のパーフルオロエラストマー(A)のうち、パーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)の含有量のより大きいパーフルオロエラストマー(A1)中のパーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)の含有量は、38〜50モル%であり、
該2種のパーフルオロエラストマー(A)のうち、パーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)の含有量のより小さいパーフルオロエラストマー(A2)中のパーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)の含有量は、18〜35モル%である
含フッ素エラストマー組成物。 - モノマー単位(b)がニトリル基含有モノマー単位である請求項2記載の含フッ素エラストマー組成物。
- パーフルオロアルキルビニルエーテル単位(a)がパーフルオロメチルビニルエーテル単位である請求項2又は3記載の含フッ素エラストマー組成物。
- さらに、モノマー単位(b)におけるニトリル基、カルボキシル基およびアルコキシカルボニル基よりなる群から選ばれる少なくとも1つと架橋可能な架橋剤(B)を含む請求項2〜4のいずれかに記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 架橋剤(B)の配合量が、全パーフルオロエラストマー100質量部に対して、0.3〜10.0質量部である請求項5記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 請求項1記載の含フッ素エラストマー組成物を用いた半導体製造装置用シール材。
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