JP5363307B2 - 高純度のプラスグレル塩酸塩の製造方法 - Google Patents
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Description
(1) (工程i)化合物(III)を、溶媒中、塩素化剤を滴下若しくは添加することにより塩素化し、
(工程ii)得られた化合物(IV)を、溶媒中、塩基存在下、化合物(V)又はその塩と反応させ、
(工程iii)得られた化合物(II)に、溶媒中、塩基及びアシル化触媒存在下、アセチル化剤を反応させることによりアセチル化し、
(工程iv)得られた化合物(I)に、溶媒中、塩酸を添加することによりプラスグレル塩酸塩を製造する方法において、
工程iにおける塩素化剤を滴下若しくは添加するときの温度が−20℃乃至5℃であり、塩素化剤を滴下若しくは添加した後の反応温度が−20℃乃至5℃であることを特徴とする、プラスグレル塩酸塩の製造方法、
(2) 工程iにおける塩素化剤を滴下若しくは添加するときの温度が−10℃乃至5℃であり、塩素化剤を滴下若しくは添加した後の反応温度が−10℃乃至5℃であることを特徴とする(1)に記載の製造方法、
(3) 工程iにおける塩素化剤を滴下若しくは添加するときの温度が−5℃乃至5℃であり、塩素化剤を滴下若しくは添加した後の反応温度が−5℃乃至5℃であることを特徴とする(1)に記載の製造方法、
(4) 工程iにおける反応終了後の後処理の温度が−20℃乃至15℃であることを特徴とする、(1)乃至(3)のいずれか1項に記載の製造方法、
(5) 工程iにおける反応終了後の後処理の温度が−10℃乃至15℃であることを特徴とする(1)乃至(3)のいずれか1項に記載の製造方法、
(6) 工程iにおける反応終了後の後処理の温度が0℃乃至15℃であることを特徴とする(1)乃至(3)のいずれか1項に記載の製造方法、
(7) 塩素化剤が塩素ガスである、(1)乃至(6)のいずれか1項に記載の製造方法。
で表される基である(1)乃至(7)のいずれか1項に記載の製造方法、
(9) R1、R2及びR3が、独立して、炭素数1乃至5のアルキル基又はフェニル基である(8)に記載の製造方法、
(10) Rが、tert−ブチルジメチルシリル基である(1)乃至(7)のいずれか1項に記載の製造方法、
(11) 工程iiにおいて、得られた化合物(II)をエーテル類又はニトリル類より再結晶することを特徴とする(1)乃至(10)のいずれか1項に記載の製造方法、
(12) 工程iiにおいて、得られた化合物(II)をアセトニトリルより再結晶することを特徴とする(1)乃至(10)のいずれか1項に記載の製造方法、
(13) アセチル化剤が無水酢酸である、(1)乃至(12)のいずれか1項に記載の製造方法、
(14) 工程iiiにおいて、得られた化合物(I)を精製せずに、次の工程ivに使用することを特徴とする(1)乃至(13)のいずれか1項に記載の製造方法、
(15) (1)乃至(14)に記載の製造方法で製造された、0.3%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(16) (1)乃至(14)に記載の製造方法で製造された、0.1%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(17) (1)乃至(14)に記載の製造方法で製造された、0.04%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(18) (1)乃至(14)に記載の製造方法で製造された、0.03%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(19) (1)乃至(14)に記載の製造方法で製造された、0.02%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(20) 0.3%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(21) 0.1%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(22) 0.04%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(23) 0.03%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(24) 0.02%以下のCATPを含有することを特徴とするプラスグレル塩酸塩、
(25) (15)乃至(24)に記載のプラスグレル塩酸塩を有効成分として含有する医薬組成物、
(26) (15)乃至(24)に記載のプラスグレル塩酸塩を有効成分として含有する、温血動物用の血栓又は塞栓によって引き起こされる疾病の予防薬又は治療薬、
(27) (15)乃至(24)に記載のプラスグレル塩酸塩を有効成分として含有する、ヒト用の血栓症又は塞栓症の予防薬又は治療薬である。
本工程は、化合物(III)に、溶媒中、塩素化剤を滴下若しくは添加することにより塩素化し、化合物(IV)を製造する工程である。
本工程は、化合物(IV)を、溶媒中、塩基存在下、化合物(V)又はその塩と反応させることにより、化合物(II)を製造する工程である。
本工程は、化合物(II)に、溶媒中、塩基及びアシル化触媒存在下、アセチル化剤を反応させることによりアセチル化し、化合物(I)を製造する工程である。
本工程は、化合物(I)に、溶媒中、塩酸を滴下若しくは添加することによりプラスグレル塩酸塩を製造する工程である。
(1)2−フルオロ−α−シクロプロピルカルボニルベンジルクロライド(工程(i))
シクロプロピル 2−フルオロベンジルケトン100gとジクロロメタン886gとの混合物を氷で冷却しながら、攪拌して混合溶液を得た。得られた混合溶液に、液温を5℃を超えないように保ちながら、塩素ガス3.98g(0.1当量)を20分間かけて吹き込み、同温度で0.5時間攪拌した。更に、同温度で、塩素ガス39.8g(1当量)を220分間かけて吹き込み、同温度で1時間攪拌して反応させた。
5,6,7,7a−テトラヒドロ−4H−チエノ[3,2−c]ピリジン−2−オン・p−トルエンスルホン酸塩115g、tert−ブチルジメチルクロルシラン60.7g及びジクロロメタン277gの混合物にトリエチルアミン40.7gを加えて25℃で1時間攪拌して、混合溶液を得た。得られた混合溶液に、(1)で得られた2−フルオロ−α−シクロプロピルカルボニルベンジルクロライド78.1g、トリエチルアミン70.8g及びヨウ化ナトリウム1.57gを加えて、45℃で1時間攪拌し、さらに52℃で5時間攪拌して反応させた。
(2)で得られた2−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−5−(α−シクロプロピルカルボニル−2−フルオロベンジル)−4,5,6,7−テトラヒドロチエノ[3,2−c]ピリジン15.0g、トリエチルアミン5.10g、4−ジメチルアミノピリジン41.3mg及びアセトニトリル75gの混合物に、無水酢酸4.13gを溶解したアセトニトリル溶液3.90gを滴下し、0℃で1時間攪拌して反応させた。
融点:122−124℃。
(3)で得られた2−アセトキシ−5−(α−シクロプロピルカルボニル−2−フルオロベンジル)−4,5,6,7−テトラヒドロチエノ[3,2−c]ピリジン8.00g及び活性白土398mgにアセトン43gを加え、32℃で攪拌した。反応溶液を濾過し、アセトン4.41gで洗浄後、52℃で36%濃塩酸1.12gを1分間かけて滴下し、特開2002−145883公報に記載の方法で得られたB2結晶238mgを種晶として加え、同温度で1時間攪拌した。更に36%濃塩酸1.07gを1時間かけて滴下し、40℃で2時間、さらに30℃で1時間攪拌した。析出した結晶を濾取し、アセトン15.8gで洗浄した後、減圧下、50℃で5時間乾燥させ、標記化合物8.03gを得た。
融点:194−197℃。
(1)2−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−5−(α−シクロプロピルカルボニル−2−フルオロベンジル)−4,5,6,7−テトラヒドロチエノ[3,2−c]ピリジン(工程(ii))
実施例1−(2)で得られた再結晶操作をしていない化合物(II)40.0gに、アセトニトリル252gを加えて50℃で10分間攪拌した後、30℃に冷却した。次いで、同温度で水40gを30分間かけて滴下した後、0℃に冷却し、同温度で3時間攪拌した。析出した結晶を濾取し、予め冷却したアセトニトリル30gで洗浄した後、減圧乾燥を行って、標記化合物37.6gを得た。
(1)で得られた2−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−5−(α−シクロプロピルカルボニル−2−フルオロベンジル)−4,5,6,7−テトラヒドロチエノ[3,2−c]ピリジン22.5gを用い、実施例1(3)に準じて反応及び後処理を行うことにより、標記化合物16.4gを得た。
融点:122−124℃。
(2)で得られた2−アセトキシ−5−(α−シクロプロピルカルボニル−2−フルオロベンジル)−4,5,6,7−テトラヒドロチエノ[3,2−c]ピリジン8.00gを用いて、実施例1(4)に準じて反応及び後処理を行うことにより、標記化合物8.01gを得た。
融点:192−196℃。
(1)2−フルオロ−α−シクロプロピルカルボニルベンジルクロライド(工程(i))
シクロプロピル 2−フルオロベンジルケトン100gとジクロロメタン886gとの混合物を氷で冷却しながら、攪拌して混合溶液を得た。得られた混合溶液に、液温を5℃を超えないように保ちながら、塩素ガス3.98g(0.1当量)を20分間かけて吹き込み、同温度で0.5時間攪拌した。更に、同温度で塩素ガス39.8g(1当量)を220分間かけて吹き込み、次いで、徐々に液温を20℃に昇温し、1時間攪拌して反応させた。
(1)で得られた2−フルオロ−α−シクロプロピルカルボニルベンジルクロライド105g(純分78.3g)を用い、実施例1(2)乃至(4)に準じて反応及び後処理をそれぞれ行うことにより、標記化合物8.10gを得た。
融点:194−196℃。
(1)5−クロロ−1−(2−フルオロフェニル)ペンタン−2−オン
シクロプロピル 2−フルオロベンジルケトン5.00gに36%濃塩酸25mLを加え、100℃で2.5時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を冷却し、水50mL及びジクロロメタン50mLを加え、分液操作を行った。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mLで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮を行ってオイル状の標記化合物6.70gを得た。
(1)と同様の方法で得られた5−クロロ−1−(2−フルオロフェニル)ペンタン−2−オン9.44gにジクロロメタン63mLを加え、液温を15℃に保ちながら、塩素ガス119mLを1分間かけて吹き込み、同温度で0.5時間攪拌した。更に、同温度で塩素ガス1.19Lを10分間かけて吹き込み、ついで、同温度で1.5時間攪拌して反応させた。
(2)で得られた1,5−ジクロロ−1−(2−フルオロフェニル)ペンタン−2−オン1.21gを用い、実施例1(2)及び(3)に準じて反応及び後処理をそれぞれ行うことにより、標記化合物を含む粗体1.71gを得た。更にシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1→3/1(V/V))により精製し、オイル状の標記化合物0.77gを得た。
マススペクトル(CI,m/z):410[M+H]+。
1H−NMRスペクトル(400MHz,CDCl3)δppm:1.97−2.05(m,2H),2.26(s,3H),2.66−2.76(m,3H),2.79(t,J=5.4Hz,2H),2.85−2.90(m,1H),3.43−3.59(m,4H),4.74(s,1H),6.25(s,1H),7.10−7.20(m,2H),7.31−7.36(m,1H),7.42−7.47(m,1H)。
(プラスグレル塩酸塩中のプラスグレル含量及びCATP含量の測定方法)
プラスグレル塩酸塩中のプラスグレル含量及びCATP含量は次のようにして測定した。
測定条件(液体クロマトグラフ法)
検出器:紫外吸光光度計(測定波長;240nm)
分析カラム:Cadenza CD−C18、内径;4.6mm、長さ;15cm、粒径;3μm
ガードカラム:なし
カラム温度:40℃
移動相:0.01mol/Lリン酸二水素カリウム水溶液:テトラヒドロフラン:アセトニトリル=13:5:2(V/V/V)
流量:1.0mL/min。
(プラスグレル塩酸塩中のCATP含量)
――――――――――――――――――――――――――――――――――
プラスグレル塩酸塩中のCATP含量(%)
――――――――――――――――――――――――――――――――――
実施例1 0.031
実施例2 0.014
― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―
参考例1 0.042
――――――――――――――――――――――――――――――――――
プラスグレル含量及びCATP含量は前記の液体クロマトグラフ法で測定した面積百分率(%)で表される。実施例1及び2並びに参考例1で得られたプラスグレル塩酸塩の液体クロマトグラフィーの結果を、それぞれ図1、2及び3に示す。
Claims (14)
- (工程i)式
で表される化合物を、溶媒中、塩素化剤を滴下若しくは添加することにより塩素化し、
(工程ii)得られた式
で表される化合物を、溶媒中、塩基存在下、一般式
[式中、Rは水酸基の保護基を示す。]
で表される化合物又はその塩と反応させ、
(工程iii)得られた一般式
[式中、Rは前記と同意義を示す。]
で表される化合物に、溶媒中、塩基及びアシル化触媒存在下、アセチル化剤を反応させることによりアセチル化し、
(工程iv)得られた式
で表される化合物に、溶媒中、塩酸を滴下若しくは添加することにより式
で表されるプラスグレル塩酸塩を製造する方法において、
工程iにおける塩素化剤を滴下若しくは添加するときの温度が−20℃乃至5℃であり、塩素化剤を滴下若しくは添加した後の反応温度が−20℃乃至5℃であることを特徴とする、プラスグレル塩酸塩の製造方法。 - 工程iにおける塩素化剤を滴下若しくは添加するときの温度が−10℃乃至5℃であり、塩素化剤を滴下若しくは添加した後の反応温度が−10℃乃至5℃であることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
- 工程iにおける塩素化剤を滴下若しくは添加するときの温度が−5℃乃至5℃であり、塩素化剤を滴下若しくは添加した後の反応温度が−5℃乃至5℃であることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
- 工程iにおける反応終了後の後処理のときの温度が−20℃乃至15℃であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 工程iにおける反応終了後の後処理のときの温度が−10℃乃至15℃であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 工程iにおける反応終了後の後処理のときの温度が0℃乃至15℃であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 塩素化剤が塩素ガスである、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の製造方法。
- Rが、一般式
[式中、R1、R2及びR3は、独立して、炭素数1乃至10のアルキル基又はアリール基を示す。]
で表される基である、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の製造方法。 - R1、R2及びR3が、独立して、炭素数1乃至5のアルキル基又はフェニル基である請求項8に記載の製造方法。
- Rが、tert−ブチルジメチルシリル基である、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の製造方法。
- 工程iiにおいて、得られた一般式(II)で表される化合物をエーテル類又はニトリル類より再結晶することを特徴とする、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の製造方法。
- 工程iiにおいて、得られた一般式(II)で表される化合物をアセトニトリルより再結晶することを特徴とする、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の製造方法。
- アセチル化剤が無水酢酸である、請求項1乃至12のいずれか1項に記載の製造方法。
- 工程iiiにおいて、得られた式(I)で表される化合物を精製せずに、次の工程ivに使用することを特徴とする、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の製造方法。
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