JP5347291B2 - シリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法 - Google Patents
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Description
本発明は、シリコーン製のレンズを成型する際に使用する金属金型の洗浄に使用する洗浄剤を用いた洗浄方法に関する。
シリコーンレンズは、射出成形等の機械成形によって大量製造されているが、従来のアクリル樹脂、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂と違い、熱硬化性樹脂であるため金型が汚れる問題が起こってきた。
シリコーンレンズ成形に使われる金型は、おもにニッケルやクロムをメッキし、離型性を付与しているが、成型を繰り返すと表面にシリコーンの皮膜ができ、成型レンズの品位が低下する問題があった。そこで表面を洗浄し、シリコーンの皮膜を取り去る必要があるが、メッキ面は非常に精密な形状であり、強い洗浄剤で洗うと表面が劣化するおそれがあった。
また、市販のシリコーン洗浄剤は弱酸性のため、金型の変色等の問題があった。
また、市販のシリコーン洗浄剤は弱酸性のため、金型の変色等の問題があった。
なお、本発明に関連する公知文献としては、下記のものがある。
特開平６−８０９５１号公報
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、金型表面が劣化や変色することなく、金型表面の汚れを良好に除去できるシリコーンレンズ成型用金型洗浄剤を用いたシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、（Ａ）テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを０．５〜７５質量％含む水溶液からなる洗浄剤を用いてシリコーンレンズ成型用の金型を洗浄することで、金型表面が劣化や変色することなく金型汚れを除去できることを見出し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、下記に示すシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法を提供する。
〔請求項１〕
（Ａ）アルキル基の炭素数が１〜４であるテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを０．５〜７５質量％含む水溶液からなる洗浄剤を使用してシリコーンレンズ成型用金型を洗浄することを特徴とするシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
〔請求項２〕
テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドのアルキル基がメチル基又はエチル基である請求項１記載のシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
〔請求項３〕
上記洗浄液の温度を２５〜８０℃とする請求項１又は２記載のシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
〔請求項１〕
（Ａ）アルキル基の炭素数が１〜４であるテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを０．５〜７５質量％含む水溶液からなる洗浄剤を使用してシリコーンレンズ成型用金型を洗浄することを特徴とするシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
〔請求項２〕
テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドのアルキル基がメチル基又はエチル基である請求項１記載のシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
〔請求項３〕
上記洗浄液の温度を２５〜８０℃とする請求項１又は２記載のシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
本発明のシリコーンレンズ成型用金型洗浄剤を用いてシリコーンレンズ成型用金型を洗浄することにより金型の汚れを良好に除去でき、金型表面の劣化や変色もなく、シリコーンレンズを良好に成型できる。
本発明の金型洗浄剤において、（Ａ）成分のテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドとしては、通常、炭素数１〜４、好ましくは炭素数１〜２の低級アルキル基を有するものであることが好ましく、特にメチル基、エチル基を有するものであることが好ましい。この具体例としては、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＥＡＨ）が挙げられるが、特に、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）が好適である。
本発明の金型洗浄剤は、（Ａ）成分のテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを０．５〜７５質量％、好ましくは５〜５０質量％含む水溶液からなるものであり、上記テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを水に均一混合することによって調製されるものである。テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド量が少なすぎると汚れの溶解に時間がかかったり、汚れの溶解が不完全であったりし、多すぎると金属表面を変色させてしまう。
また、本発明の金型洗浄剤機能を阻害しない範囲であれば、従来公知の溶剤、界面活性剤等の各種添加剤を適宜配合することができる。
本発明の金型洗浄剤は、シリコーンレンズ成型用金型の洗浄剤として用いることができ、該金型の洗浄方法としては、本発明の金型洗浄剤にシリコーンレンズ成型用金型を浸漬することが好ましい。洗浄条件としては特に制限されるものではないが、室温（２５℃）〜８０℃の温度にて１〜７２時間程度で、汚染状況に応じて適宜選定できる。
なお、金型としては、モールドベース等の金属製の金型本体の少なくともキャビティ面にニッケルメッキ、クロムメッキ等が施されたものが好適である。
なお、金型としては、モールドベース等の金属製の金型本体の少なくともキャビティ面にニッケルメッキ、クロムメッキ等が施されたものが好適である。
洗浄後は、水道水、純水等で洗浄し、乾燥もしくはアセトン、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等の溶剤で脱水して乾燥することで金型をいためずに洗浄できる。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
［実施例１］
インジェクション成型装置にてＮｉメッキを施した凸レンズをシリコーンレンズ剤（信越化学工業製 ＬＰＳ−Ｌ５００Ｄにて５０，０００ショット成型を行ったところ、金型表面に薄膜状の汚れが発生した。この金型を２５質量％ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）水溶液に浸漬し、室温（２５℃）にて４８時間放置したところ、汚れは完全に消えた。更に純水にてＴＭＡＨを洗浄後、アセトンにて脱水、乾燥を行ったところ、Ｎｉメッキ面の異常もなく良品の成型ができた。
インジェクション成型装置にてＮｉメッキを施した凸レンズをシリコーンレンズ剤（信越化学工業製 ＬＰＳ−Ｌ５００Ｄにて５０，０００ショット成型を行ったところ、金型表面に薄膜状の汚れが発生した。この金型を２５質量％ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）水溶液に浸漬し、室温（２５℃）にて４８時間放置したところ、汚れは完全に消えた。更に純水にてＴＭＡＨを洗浄後、アセトンにて脱水、乾燥を行ったところ、Ｎｉメッキ面の異常もなく良品の成型ができた。
［実施例２］
実施例１と同様に２５質量％ＴＭＡＨ水溶液に浸漬し、６０℃で２４時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消え、Ｎｉメッキ面の異常もなく良品の成型ができた。
実施例１と同様に２５質量％ＴＭＡＨ水溶液に浸漬し、６０℃で２４時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消え、Ｎｉメッキ面の異常もなく良品の成型ができた。
［実施例３］
実施例１と同様に１２．５質量％ＴＭＡＨ水溶液に浸漬し、６０℃で４８時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消え、Ｎｉメッキ面の異常もなく良品の成型ができた。
実施例１と同様に１２．５質量％ＴＭＡＨ水溶液に浸漬し、６０℃で４８時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消え、Ｎｉメッキ面の異常もなく良品の成型ができた。
［比較例１］
実施例１と同様に１０質量％ＮａＯＨ水溶液に浸漬し、６０℃で２４時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消えたが、Ｎｉメッキ面の変色が発生した。
実施例１と同様に１０質量％ＮａＯＨ水溶液に浸漬し、６０℃で２４時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消えたが、Ｎｉメッキ面の変色が発生した。
［比較例２］
実施例１と同様に市販のメタンスルホン酸系で有機溶剤含有型の弱酸性シリコーン溶解剤 ＫＳＲ−１（関東化学製）に浸漬し、６０℃で７２時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消えたが、Ｎｉメッキ面の変色が発生した。成型物の品位も低下した。
実施例１と同様に市販のメタンスルホン酸系で有機溶剤含有型の弱酸性シリコーン溶解剤 ＫＳＲ−１（関東化学製）に浸漬し、６０℃で７２時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消えたが、Ｎｉメッキ面の変色が発生した。成型物の品位も低下した。
［比較例３］
実施例１と同様に市販のメタンスルホン酸系で有機溶剤含有型の弱酸性シリコーン溶解剤 ＫＳＲ−２（関東化学製）に浸漬し、６０℃で４８時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消えたが、Ｎｉメッキ面の変色が発生した。成型物の品位も低下した。
実施例１と同様に市販のメタンスルホン酸系で有機溶剤含有型の弱酸性シリコーン溶解剤 ＫＳＲ−２（関東化学製）に浸漬し、６０℃で４８時間放置した以外は同じ工程を行ったところ、汚れは完全に消えたが、Ｎｉメッキ面の変色が発生した。成型物の品位も低下した。
Claims (3)
- （Ａ）アルキル基の炭素数が１〜４であるテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを０．５〜７５質量％含む水溶液からなる洗浄剤を使用してシリコーンレンズ成型用金型を洗浄することを特徴とするシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
- テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドのアルキル基がメチル基又はエチル基である請求項１記載のシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
- 上記洗浄液の温度を２５〜８０℃とする請求項１又は２記載のシリコーンレンズ成型用金型の洗浄方法。
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