JP5332510B2 - 透明導電性基板、及び電気化学表示素子 - Google Patents
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Description
前記透明基板の上に形成されたパターン化された金属電極膜と、
前記金属電極膜を含む前記透明基板の上に形成された透明絶縁膜と、
前記透明絶縁膜の上に形成された透明導電膜と、を備え、
前記透明導電膜は、前記透明絶縁膜に設けられた開口部を通して前記金属電極膜に電気的に接続されている透明導電性基板であって、
前記金属電極膜のパターン形状は、縦横にそれぞれ延在する縦パターンおよび横パターンからなる格子状に形成されていることを特徴とする透明導電性基板。
前記周縁横パターンの線幅は、前記横パターンの線幅以上、複数の前記横パターンの線幅の総和以下、
前記周縁縦パターンの線幅は、前記縦パターンの線幅以上、複数の前記縦パターンの線幅の総和以下、であることを特徴とする前記1に記載の透明導電性基板。
前記開口部の幅は、前記縦パターンおよび前記横パターンの線幅よりも狭いことを特徴とする前記1または2に記載の透明導電性基板。
前記透明導電性基板に対向し電解質を挟んで配され、基板の表面に電極膜が形成された電極基板と、を有することを特徴とする電気化学表示素子。
本発明の実施形態に係わる電気化学表示素子1に用いられるエレクトロクロミック色素は、電子の供受により光吸収状態を変化させる化合物であり、有機化合物や金属錯体を用いることができる。有機化合物としては、ピリジン化合物や導電性高分子、スチリル化合物を用いることができ、特開2002−328401号公報に記載の各種ビオロゲン化合物、特表2004−537743号に記載の色素、その他公知の色素を用いることができる。また、ロイコ型色素を用いる場合には、必要に応じて顕色剤あるいは消色剤を併用してもよい。
本発明の実施形態に係わる電気化学表示素子1に用いられる銀または銀を化学構造中に含む化合物とは、例えば、酸化銀、硫化銀、金属銀、銀コロイド粒子、ハロゲン化銀、銀錯体化合物、銀イオン等の化合物の総称であり、固体状態、液体への可溶化状態、気体状態等の相の状態種、また、中性、アニオン性、カチオン性等の荷電状態種は、特に限定されない。
〔電解液〕
電解質とは、通常、水等の溶媒に溶けて、その溶液がイオン伝導性を示す物質を示すが、本実施形態においては、電解質、非電解質を問わず他の金属、化合物等を含有させた混合物を電解質という。
(低粘度電解質、ゲル状電解質)
電解質層は、通常、液体電解質とポリマー電解質とに分類される。ポリマー電解質は、さらに、実質的に固体化合物からなる固体電解質と高分子化合物と液体電解質からなるゲル状電解質に分類される。また、流動性の観点からは、固体電解質は実質的に流動性がなく、一方、ゲル状電解質は液体電解質と固体電解質の中間の流動性を有している。
最初に、前述の図2を用いて透明導電性基板2の実施例を説明する。
交差部のパターン203aの径d1:14μmΦ
ピッチ:141μm
縦パターン203vの本数:599本
横パターン203hの本数:799本
周縁縦パターン203Vの線幅Vw:3mm(>599×0.007/2)
周縁横パターン203Hの線幅Hw:3mm(>799×0.007/2)
次に、スピンコート法を用いてPC403(JSR社製の感光アクリル樹脂)を1.5μmの膜厚で成膜した後、露光、現像し、金属電極膜203の交差部のパターン203aの上に開口部202aを有する透明絶縁膜202を形成した(図2(c1)、図2(c2))。開口部202aの径d2は、10μmΦとした。また、透明絶縁膜202は、開口部202aを除き、金属電極膜203の大半(金属電極膜203全面の約96%)を覆って形成した。
実施例2は、本発明の実施形態に係わる電気化学表示素子1の実施例である。図5に実施例2による電気化学表示素子1の製造方法を示す。図5(a)乃至図5(e)は、電気化学表示素子1の製造工程を示す断面模式図である。
2 透明導電性基板
201 透明基板
202 透明絶縁膜
203 金属電極膜
204 透明導電膜
206 樹脂膜
3 電極基板
301 基板
303 電極膜
5 錯乱層
6 電解液
7 シール材
Claims (6)
- 透明基板と、
前記透明基板の上に形成されたパターン化された金属電極膜と、
前記金属電極膜を含む前記透明基板の上に形成された透明絶縁膜と、
前記透明絶縁膜の上に形成された透明導電膜と、を備え、
前記透明導電膜は、前記透明絶縁膜に設けられた開口部を通して前記金属電極膜に電気的に接続されている透明導電性基板であって、
前記金属電極膜のパターン形状は、縦横にそれぞれ延在する縦パターンおよび横パターンからなる格子状に形成されており、
前記開口部は、前記縦パターンおよび前記横パターンの上に形成され、
前記開口部の幅は、前記縦パターンおよび前記横パターンの線幅よりも狭く、
前記縦パターンおよび前記横パターンの線幅は、前記開口部に対応する領域で、広くなっていることを特徴とする透明導電性基板。 - 前記金属電極膜の周縁には、前記縦パターンおよび前記横パターンを囲ってそれぞれと接続する周縁横パターンおよび周縁縦パターンからなる矩形状のパターンが形成され、
前記周縁横パターンの線幅は、前記横パターンの線幅以上、複数の前記横パターンの線幅の総和以下、
前記周縁縦パターンの線幅は、前記縦パターンの線幅以上、複数の前記縦パターンの線幅の総和以下、であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性基板。 - 前記開口部は、前記縦パターンと前記横パターンとが交差する領域の上に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の透明導電性基板。
- 前記透明絶縁膜は、前記金属電極膜の表面の80%以上、99%以下の領域を覆っていることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の透明導電性基板。
- 前記開口部の上に位置する前記透明導電膜の上には、樹脂膜が形成されていることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の透明導電性基板。
- 透明導電性基板と、
前記透明導電性基板に対向し電解質を挟んで配され、基板の表面に電極膜が形成された電極基板と、を有し、
前記透明導電性基板は、
透明基板と、
前記透明基板の上に形成されたパターン化された金属電極膜と、
前記金属電極膜を含む前記透明基板の上に形成された透明絶縁膜と、
前記透明絶縁膜の上に形成された透明導電膜と、を備え、
前記透明導電膜は、前記透明絶縁膜に設けられた開口部を通して前記金属電極膜に電気的に接続されており、
前記金属電極膜のパターン形状は、縦横にそれぞれ延在する縦パターンおよび横パターンからなる格子状に形成されている
ことを特徴とする電気化学表示素子。
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