WO2013095078A1 - 전도성 기판 및 이를 포함하는 전자소자 - Google Patents

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WO2013095078A1
WO2013095078A1 PCT/KR2012/011398 KR2012011398W WO2013095078A1 WO 2013095078 A1 WO2013095078 A1 WO 2013095078A1 KR 2012011398 W KR2012011398 W KR 2012011398W WO 2013095078 A1 WO2013095078 A1 WO 2013095078A1
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conductive
line
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display
conductive substrate
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황지영
황인석
손용구
구범모
성지현
김주연
박제섭
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주식회사 엘지화학
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    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a conductive substrate and an electronic device including the same. Specifically, the present invention relates to a conductive substrate that not only has excellent conductivity but also does not obscure a field of view, and an electronic device including the same.
  • the touch panel having the above function may be classified as follows according to a signal detection method.
  • the most common resistive and capacitive touch panels use a transparent conductive film such as an ITO film to recognize whether the touch is caused by electrical contact or change in capacitance.
  • the transparent conductive film as described above has a high resistance of 150 ohm / square or more, so the sensitivity is large at the time of enlargement, and as the size of the screen increases, the price of the ⁇ film is not easy to be commercialized.
  • an attempt has been made to implement an enlargement by using a metal pattern with high conductivity.
  • highly conductive metal patterns there are problems that obscure the field of view.
  • a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive pattern comprising a conductive line provided on the transparent substrate
  • the conductive pattern includes a cell closed by the conductive line, and defines a square value of 0.5 of the area of the cell as the Characteristic Length Lc of the cells,
  • a graph 1 representing the following equation 1 and a graph 2 representing the following equation 2 are shown with the average length Lc av of the characteristic lengths Lc of the cells as the X axis and the line width W of the conductive line as the Y axis. Wherein, at the intersection of the lower region of the graph 1 and the lower region of the graph 2, the line width W of the conductive line and the average length Lc av of the characteristic lengths of the cells are included.
  • W is the line width of the conductive line
  • Lc av is the average of the characteristic length of the cell closed by the conductive line
  • AR is the aperture ratio of the conductive pattern
  • Q is a constant.
  • a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive pattern comprising a conductive line provided on the transparent substrate
  • the conductive pattern includes a cell closed by the conductive line, and characterized in that the characteristic length Lc of the cells defined as 0.5 square values of the area of the cell satisfies Equation 3 below.
  • ⁇ is the number of subpixels that are listed in one direction in each pixel of the display to which the conductive substrate applied, "
  • ⁇ and Y 2 are each represented by the following formula:
  • Q is the diagonal length (inch) of the effective surface portion of the display to which the conductive substrate is applied.
  • a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive pattern including conductive lines provided on the transparent substrate
  • the conductive pattern includes a cell closed by the conductive line, and characterized in that the characteristic length Lc of the cell, which is defined as 0.5 square value of the area of the cell, satisfies Equation 4 below.
  • n is the number of sub pixels arranged in one direction in each pixel of the display to which the conductive substrate is applied
  • Lp is the characteristic length Lp of the pixel defined as the 0.5th square of the area of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied.
  • a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive pattern comprising a conductive line provided on the transparent substrate
  • Line width (W) of the conductive line is characterized in that the following relation 6 To provide a conductive substrate:
  • W is the line width of the conductive line
  • ⁇ 3 is a real number in the range ⁇ ⁇ ⁇ 3 ⁇ ⁇ 2 , where ⁇ and Y 2 are each represented by the following formula:
  • Q is the diagonal length (inch) of the effective surface portion of the display to which the conductive substrate is applied.
  • a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive pattern including a conductive line provided on the transparent substrate
  • the line width (W) of the conductive line provides a conductive substrate, characterized by satisfying the following relation:
  • W is the line width of the conductive line
  • Lp is the characteristic length (Lp) of the pixel defined as the 0.5 squared value of the area of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied.
  • a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive pattern comprising a conductive line provided on the transparent substrate
  • the line width (W) of the conductive line provides a conductive substrate characterized by satisfying the following relation:
  • W is the line width of the conductive line
  • ⁇ 3 is a real number (um) in the range ⁇ ⁇ ⁇ 3 ⁇ ⁇ 2 , where and Y 2 are each represented by the following formula:
  • Q is the validation of the display to which the conductive substrate is applied. Diagonal length in inches.
  • a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive pattern comprising a conductive line provided on the transparent substrate
  • the line width (W) of the conductive line provides a conductive substrate, characterized by satisfying the following relation:
  • W is the line width of the conductive line
  • Lp is the characteristic length (um) of the pixel defined as the 0.5 squared value of the area of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied.
  • a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive pattern including a conductive line provided on the transparent substrate, wherein the visible line width (W v ) of the conductive line satisfies the following Expression 12, and is greater than 0 and less than 3.6 dB.
  • W is the line width of the conductive line
  • R m is the reflectivity of the conductive line material constituting the conductive pattern.
  • another exemplary embodiment of the present invention provides an electronic device including the conductive substrate.
  • another exemplary embodiment of the present invention provides a display device including the conductive substrate.
  • the present invention when the correlation between the average of the characteristic length of the cell closed by the conductive line and the line width of the conductive line is used, it is possible to provide a conductive substrate having excellent conductivity but not covering the field of view. As a result, it may be usefully used in an electronic device in which visibility is important, such as a touch panel or an organic light emitting device.
  • the pitch according to the display and the pixel can be derived from the diagonal length (inch) of the effective screen portion of the display, and thus the pitch and the line width according to the pixel of the metal mesh pattern can be derived.
  • the viewing characteristics of the conductive pattern can be improved more effectively.
  • Fig. 1 shows the allowable area of the line width (W) of the conductive line defined by the graph of relations 1 and 2 defined in the present invention and the average value Lc av of the characteristic length of the cell closed by the conductive line according to the aperture ratio. It is shown.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating pixels and subpixels of a display according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a correlation between pixel pitches and diagonal lines (inch) of an effective screen portion of a display according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram schematically illustrating nonuniformity of color of pixels of a display according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a diagram schematically illustrating a region where a display is covered according to a metal mesh pattern according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 and 7 illustrate a process of forming a conductive pattern of a touch panel according to the present invention.
  • FIGS. 8 and 9 are diagrams showing conductive patterns according to examples and comparative examples of the present invention.
  • 10 is a view showing the configuration and structure (Scheme) of the device for measuring the clear reflection in accordance with an embodiment of the present invention.
  • 11 is a view schematically showing a relationship between visible line widths according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • CPD cycle per degree
  • FIG. 13 is a diagram illustrating a luring function according to CPD according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • Conductive substrate according to the present invention a conductive substrate comprising a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive line provided on the transparent substrate,
  • the conductive pattern includes a cell closed by the conductive line, and defines a square value of 0.5 of the area of the cell as the Characteristic Length (Lc) of the cells,
  • a graph 1 representing the following equation 1 and a graph 2 representing the following equation 2 are shown with the average length Lc av of the characteristic lengths Lc of the cells as the X axis and the line width W of the conductive line as the Y axis.
  • the line width W of the conductive line and the average length Lc av of the characteristic lengths of the cells are included.
  • W is the line width of the conductive line
  • Lc av is the average of the characteristic length of the cell closed by the conductive line
  • AR is the aperture ratio of the conductive pattern
  • ⁇ is a constant.
  • the visibility of the conductive pattern does not depend solely on one or two conditions such as the opening ratio or the width of the conductive line, and the various conditions such as the shape, size, and opening ratio of the conductive pattern and the line width and line spacing of the conductive line. It is derived from the finding that it depends on all of them.
  • the present invention if the conductive pattern includes cells closed by the conductive line, regardless of the shape of the conductive pattern, by adjusting the opening ratio or the line width of the conductive line within a specific range, the conductive pattern does not obscure the field of view Can be provided.
  • the characteristic length (Lc) of the cell closed by the conductive line is defined as 0.5 square value of the area of the cell.
  • the characteristic length of the cell may be an indicator of the shape and size of the conductive pattern and the line spacing of the conductive lines that affect the visibility of the conductive pattern.
  • relation 1 is a relation between the characteristic length of the sal and the width of the conductive line according to the opening ratio.
  • relation equation for determining visibility as well as the condition of the relation 1, relation 2 showing the relationship between the characteristic length of the sal and the width of the conductive line was derived.
  • the visibility of the conductive pattern can be reliably ensured by satisfying not only the conditions of the lower region of the graph of relation 1, but also the conditions of the lower region of the graph of relation 2 above.
  • ⁇ is a constant determined according to process materials or conditions, and may be generally determined by a real number of 0 to 2, and may be 2 as an example.
  • the touch panel employed in the display is configured through a fine metal mesh wire, the diagonal length of the effective screen portion of the display for concealing the metal wire of the touch panel made of metal while maintaining the display performance is maintained.
  • the relationship between line width and pitch of metal mesh lines according to (inch) is defined in relation to the reflectivity of the metal material.
  • the most important factor in constructing the touch panel using the metal mesh pattern has been mainly used to reduce the perception of the line through the miniaturization of the line width of the metal mesh pattern.
  • the perception of the line varies even with the pitch of the line and the distance between the lines constituting the mesh pattern along with the reduction of the line width.
  • this pitch size has a correlation with optical characteristics such as moire and transmittance, and thus has a disadvantage of lowering the freedom of design for a manufacturer when manufacturing a touch panel using a para mesh pattern. have.
  • the present invention preferentially set an appropriate pitch according to the diagonal length of the effective screen portion of the display. Also, such blood By adjusting the reflectivity of the metal, the problem of recognizing the line, which may occur in the existing invention according to the pitch, is changed, thereby minimizing the correlation between the pitch and the line width.
  • the present invention proposes a method for allowing a user to conceal acid as much as possible in the manufacture of a touch panel, and at the same time, freely set a pitch in moire or transmittance.
  • a display defines the size of pixels according to the distance a person looks at the display.
  • the pixel refers to an aggregate of sub pixels composed of R / G / B. Since most of the pixels are almost square, the pixel is a pixel.
  • the pitch of is the size of the pixel.
  • the pixels used for display are about 75 / ⁇ for mobile, about 150 // m for tablets, laptops, and monitors, depending on the distance used, and for TV models. It is common to have a pixel size of about 200 Hz. 2 shows a pixel and a subpixel of a display according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • displays typically have a defined pitch of pixels based on the average distance that people use the display.
  • the pitch of the pixels of such a display can be inferred from information on the display specification since the LCD can be assumed to have a square shape, for example.
  • the pitch of the pixel inferred through the PPKpixel per inch shown on the display is as follows.
  • the pixel pitch Ppixel may be represented by Equation 1 below.
  • A represents the maximum horizontal resolution of the display
  • B represents the maximum resolution of the vertical display
  • the pitch range of the metal mesh pattern through the following analysis.
  • the most preferable one is that in the display pixel because only one mesh line or the intersection point of the mesh is positioned per pixel when the mesh pattern is not rotated. It keeps the color evenly.
  • the display pixel is generally composed of three subpixels having a length ratio of about 3: 1, and in the case of an OLED, the pentile method is composed of four sub pixels.
  • the pitch of the mesh pattern When the pitch of the mesh pattern is introduced at 0.25 times or less of the pitch area of the pixel mentioned above, local pixel color unevenness may occur due to the line width of the mesh pattern or the intersection of the mesh patterns. Since there exists an area
  • the present inventors have introduced the pitch that the metal mesh pattern of the touch panel should have in the display.
  • Conductive substrate according to the present invention a conductive substrate comprising a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive line provided on the transparent substrate,
  • the conductive pattern includes a cell closed by the conductive line, and characterized in that the characteristic length Lc of the cells defined as the square of 0.5 of the area of the cell satisfies Equation 3 below.
  • ⁇ is the number of sub-pixels arranged in one direction in each pixel of the display to which the conductive substrate is applied
  • ⁇ and Y 2 are each represented by the following formula:
  • Q is the diagonal length (inch) of the effective surface portion of the display to which the conductive substrate is applied.
  • a conductive substrate comprising a conductive substrate including a transparent substrate and a conductive line provided on the transparent substrate,
  • the conductive pattern includes a cell closed by the conductive line, and characterized in that the characteristic length Lc of the cell, which is defined as 0.5 square value of the area of the cell, satisfies Equation 4 below.
  • n is the number of subpixels arranged in one direction in each pixel of the display to which the conductive substrate is applied
  • Lp is the characteristic length Lp of the pixel, which is defined as the 0.5 squared value of the area of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied.
  • the characteristic length Lc of the cells may satisfy the following Equation 5.
  • n is the number of subpixels arranged in one direction in each pixel of the display to which the conductive substrate is applied
  • Ppixel 1 is the pitch of the short width of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied
  • 1 1 ⁇ 1 2 is the pitch of the long width of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied.
  • An important part of the pitch with the introduction of "previously defined metal mesh pattern may be referred to as part of the width of the mesh pattern.
  • the pixels on the display are W
  • the opening area can be recalculated as follows when the display is covered according to the line width of the metal mesh pattern.
  • the difference in aperture ratio should be about 3%. Therefore, based on this, the pitch of the pixel of the display and the metal mesh pattern of the touch panel should be determined. The correlation of line width was derived.
  • Conductive substrate according to the present invention a conductive substrate comprising a conductive substrate comprising a transparent substrate and a conductive line provided on the transparent substrate,
  • the line width (W) of the conductive line provides a conductive substrate characterized by satisfying the following relation:
  • W is the line width of the conductive line
  • Y 3 is a real number in the range ⁇ ⁇ 3 ⁇ ⁇ 2 , where and ⁇ 2 are each represented by the following formula:
  • Q is the diagonal length (inch) of the effective surface portion of the display to which the conductive substrate is applied.
  • the conductive substrate according to the present invention is a conductive substrate comprising a conductive pattern including a transparent substrate and a conductive line provided on the transparent substrate,
  • the line width (W) of the conductive line provides a conductive substrate, characterized by satisfying the following relation:
  • W is the line width of the conductive line
  • Lp is equal to 0.5 of the area of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied.
  • the line width (W) of the conductive line may satisfy the following Equation 8. ⁇ Relationship 8>
  • W is the line width of the conductive line
  • the conductive substrate according to the present invention is a conductive substrate comprising a conductive substrate including a transparent substrate and a conductive line provided on the transparent substrate,
  • the line width (W) of the conductive line provides a conductive substrate characterized by satisfying the following relation:
  • W is the line width of the conductive line
  • ⁇ 3 is a real number (um) in the range ⁇ ⁇ 3 ⁇ ⁇ 2 , where and Y 2 are each represented by the following formula:
  • Q is the diagonal length (inch) of the effective surface portion of the display to which the conductive substrate is applied.
  • the conductive substrate according to the present invention is a conductive substrate comprising a conductive pattern including a transparent substrate and a conductive line provided on the transparent substrate,
  • the line width (W) of the conductive line provides a conductive substrate, characterized by satisfying the following relation:
  • W is the line width of the conductive line
  • Lp is the characteristic length (um) of the pixel defined by the square of 0.5 of the area of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied.
  • the line width (W) of the conductive line may satisfy the following Equation 11. ⁇ Relationship 11>
  • w is the line width of the conductive line
  • Ppixel is the pitch of each pixel of the display to which the conductive substrate is applied.
  • the display is streaked through three colors of R, G, and B to express an image by making white and black.
  • the most important part in this regard is the part about the visibility of the metal mesh pattern in the black state.
  • the reason why the recognition of the metal mesh pattern in the black state is important is that the black state is defined as the most basic state in the LCD, and the expression of black color on the screen is the most important factor in the image quality of the display. This is because it has a very important effect on. From this point of view, the recognition of the metal wires in the metal mesh pattern in the contact state is a very important factor.
  • the factors affecting the recognition of the metal wires are not only the physical line width of the metal but also the material of the metals. Reflectivity is also very relevant.
  • the concept of a new visible line width including the reflectivity of the material forming the metal line as well as the existing physical line width in this respect is defined as follows.
  • the visible line width W v of the conductive line satisfies the following relational expression (12).
  • w is the line width of the conductive line
  • R m is the reflectivity of the conductive line material constituting the conductive pattern.
  • the display panel's pitch in pixels is pixcel
  • the line width of the mesh pattern is w
  • the reflectivity of the mesh pattern material is R m
  • the display panel is clear in the display off mode where the mesh pattern is applied. If the reflectivity is a, the total reflectivity of the display including the metal mesh pattern may be represented by the following equation.
  • W x R m can be replaced with the visible line width (W v ) summarized in the above relation 12, and since the value of the visible line width is 0 or more, the following equation 13 can be finally derived. ⁇ Relationship 13>
  • a may be 0.11 or less, but is not limited thereto.
  • b may be 0.03 or less, and may be 0.115 or less, but is not limited thereto.
  • the visible line width (W v ) according to the relation 13 may be greater than ⁇ 3.6, or less, and may be greater than 0 2.4 GHz or less, but is not limited thereto.
  • the clear reflection reflectance is measured by observing only the reflectivity of the surface to be measured after making the reflectance zero by using a black paste or a tape on the opposite side of the surface to which the reflectance is to be measured.
  • the incoming light source selected a diffuse light source that most closely resembled the ambient light conditions.
  • the measurement position which measures a reflectance at this time was based on the position inclined about 7 degree
  • the aspect ratio of the screen is 16: 9
  • the height of the screen is h
  • the diagonal length is d
  • the viewing angle of the user for viewing the display Is a
  • the width of the screen is w
  • the viewing distance between the eye and the screen is D '
  • D 1.62641 (Inches should be substituted in cm. Unit cm)
  • the ability to distinguish human objects is expressed in angular resolution. This indicates how many pairs of black and white lines can be distinguished within the range of 1 degree.
  • the black / white pair is called 1 cycle and is expressed as Cycle per degree (CPD) (FIG. 12). This is how many cycles there are in the w width corresponding to the 1 degree audio visual range at a distance D as shown below. 50 CPD, or 50 cycles, is known as the limit of the human retina (FIG. 13).
  • (number of pixels in the distance x 2) 7 ⁇ is the CPD value, and the upper and lower limits of the retina are distinguishable are 0.5 and 50, respectively.
  • the pitch of the pixel according to the produced display inch represented by the solid black line is converted into CPD.
  • the CPD value is about 9.8, which is about 20 pixels in the range of about 1 degree from the viewer's viewing distance. It can be interpreted to mean that the arrangement rules are followed, which may correspond to an area near 8, which is an area where the luminous function according to the CPD becomes Max in FIG. 13.
  • the conductive line may be made of straight lines, but various modifications such as curved lines, wavy lines, and zigzag lines are possible. In addition, at least two of the above-mentioned lines may be common.
  • the conductive pattern is a cell closed by the conductive line may include a polygonal pattern of three or more, for example, triangular, four, five, six or seven or more.
  • the conductive pattern may include a regular pattern.
  • the rule pattern means that the form of the pattern has regularity.
  • the former The conductive pattern may include a mesh in the form of a rectangle or a square, or a pattern in the form of a hexagon.
  • the conductive pattern In order to manufacture the above-described conductive pattern, first, determine the desired pattern shape, and then use a printing method, a photolithography method, a photography method, a method using a mask, a sputtering method, an inkjet method, or the like on a transparent substrate.
  • the line width is thin and precise conductive patterns can be formed.
  • the printing method may be performed by transferring a paste including a conductive pattern material onto a transparent substrate in a desired pattern shape and then baking the paste.
  • the transfer method is not particularly limited, and the pattern may be formed on a pattern transfer medium such as an intaglio or a screen, and a desired pattern may be transferred onto the transparent substrate using the pattern shape.
  • the method of forming the pattern shape on the pattern transfer medium may use a method known in the art.
  • the printing method is not particularly limited, and the printing method of offset printing, screen printing, gravure printing, flexo printing, inkjet printing, etc. may be used, among which
  • the printing method may use a roll to roll method, a roll to plate, a plate to roll, or a plate to late method.
  • Gravure offset printing may be performed by filling a paste on a patterned intaglio and then performing primary transfer with a blanket, followed by secondary transfer by bringing the blanket and the transparent substrate into close contact with each other.
  • gravure printing may be performed by winding a blanket with a pattern engraved thereon, filling a paste into a pattern, and then deforming the transfer method to a transparent substrate.
  • the above schemes as well as the above schemes may be used in combination. It is also possible to use a printing method known to those skilled in the art, such as a screen printing method.
  • the photolithography process is not limited to the above-described printing method. May be available.
  • the photolithography process is the after forming the conductive pattern material layer on the entire surface of the transparent substrate, forming a photoresist, the host layer thereon and selectively exposed and developed pattern of the photoresist layer by a ball purification, patterned
  • the photoresist layer may be used as an etching resist to pattern the conductive pattern and to remove the photoresist layer.
  • the present invention may also utilize a photography method.
  • the photosensitive material may be patterned by selective exposure and development processes. More detailed examples are as follows.
  • a negative photosensitive material is coated on a substrate on which a pattern is to be formed.
  • a polymer film such as PET or acetyl salloid may be used as the substrate.
  • the polymer film material coated with the photosensitive material will be referred to herein as a film.
  • the negative photosensitive material may be composed of silver halide (Silver Halide) in which a little Agl is mixed with AgBr, which is generally very sensitive to light and regularly reacts with light. Since the image processed by photographing a general negative photosensitive material is negative in contrast with a subject, contrast may be photographed by using a mask having a pattern shape, preferably an irregular pattern shape.
  • Plating may be further performed to increase the conductivity of the conductive pattern formed using photolithography and a photolithography process.
  • the plating is electroless
  • a plating method may be used, and copper or nickel may be used as the plating material, and nickel plating may be performed thereon after copper plating, but the scope of the present invention is not limited only to these examples.
  • the present invention may also use a method using a hard mask.
  • a mask having the shape of the desired conductive pattern may be placed close to the substrate and then patterned using a method of depositing a conductive quite turn material onto the substrate.
  • the deposition method may be thermal vapor deposition by heat or electron beam and PVE physical vapor deposition such as sputter, or chemical vapor deposition (CVD) using an organometallic material.
  • CVD chemical vapor deposition
  • the present invention can also be prepared via an imprinting process. After coating a resin capable of imprinting on a substrate on which conductive metals are deposited, it is printed using a mold pattern prepared in advance, followed by dry etching and etching processes. After patterning the metal wire, the resin may be removed, or the black imprinting resin may be patterned through a mold, and then partially filled with a conductive material between the patterns to use itself or may be transferred to another substrate. have.
  • the conductive pattern is a conductive line width of 20 micrometers or less And may include conductive lines having a line width of 15 micrometers or less, 10 micrometers or less, 7 micrometers or less, 4 micrometers or less, or 3 micrometers or less.
  • the line width of the conductive line can be adjusted within the range of 0.5 to 10 micrometers.
  • the aperture ratio of the conductive pattern that is, the area ratio of the transparent substrate not covered by the pattern is preferably 70% or more, 90% or more, 93% or more, 95% or more, 96% or more, 97% or more. , 98% or more, 99% or more.
  • the conductor may include a region in which the conductive pattern is not formed.
  • the conductive pattern may be blackened. This can further reduce the visibility even when the conductive pattern is made of a metallic material.
  • the paste black or black ink for forming the conductive pattern is added, or the printing is performed after printing and firing the paste or ink. As a result, the conductive pattern can be degraded.
  • Blackening materials that may be added to the ink or paste include metal oxides, carbon blocks, carbon nanotubes, pigmented pigments, and colored glass frits.
  • the post-firing cross-linking treatment is an oxidation solution such as Fe or Cu ions when the ink or paste is Ag-based. It can be treated by immersion in the solution, immersion in a halogen ion-containing solution such as chlorine ions, immersion in hydrogen peroxide, nitric acid, or the like with halogen gas.
  • blackening is a deposition layer on the face of a person and a layer for imparting conductivity thereon.
  • the method of deposition and patterning in one step in the subsequent etching process can be used.
  • a blackening layer is deposited through MoOxNy
  • an A1 layer is deposited thereon, and a resist ink is printed and etched on such a substrate
  • MoOxNy and A1 are an etchant such as a mixture of phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, and water.
  • the transparent substrate is not particularly limited, but the light transmittance is preferably 50% or more, preferably 75% or more, and more preferably 88% or more.
  • glass may be used as the transparent substrate, or a plastic substrate or a plastic film may be used.
  • the plastic substrate or film may be a material known in the art, for example selected from polyacrylic, polyurethane, polyester, polyepoxy, polyolefin, polycarbonate and cellulose. What formed with 1 or more types of resin can be used.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PVB polyvinylbutyral
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PES polyethersulfon
  • PC polycarbonate
  • acet Films having a visible light transmittance of 80% or more such as tilcells are preferable. It is preferable that the thickness of the said plastic film is 12.5-500 micrometers, It is more preferable that it is 50-450 micrometers, It is more preferable that it is 50-250 micrometers.
  • the plastic substrate may be a substrate having various functional layers such as a moisture barrier, a gas barrier layer for blocking gas, a strength reinforcement and transmittance improvement, and a hard coat layer for reducing haze value on one or both surfaces of the plastic film.
  • various functional layers such as a moisture barrier, a gas barrier layer for blocking gas, a strength reinforcement and transmittance improvement, and a hard coat layer for reducing haze value on one or both surfaces of the plastic film.
  • the functional layer that may be included in the plastic substrate is not limited to those described above, and various functional layers may be provided.
  • the conductive pattern may be directly formed on a component included in a device or device to which the conductive substrate of the present invention is applied, such as a display, a touch panel, or an organic light emitting diode lighting, for example.
  • the resistivity value of the conductive pattern material is preferably 1 microOhm cm or more and 100 micrometers or less, and more preferably 1 micron has a value of ⁇ cm or more and 5 microOhm cm or less.
  • Specific examples of conductive pattern materials include aluminum, copper, silver, gold, iron, molybdenum, nickel, carbon nanotubes (CNT), titanium and alloys thereof (Alloy) Black oxide, nitride or oxynitride Etc. can be used. However, aluminum is the best in terms of price and conductivity desirable.
  • the conductive pattern material may be converted into a particle form, and in this case, the particle form may be a particle having a single composition black or a mixed composition of the metals listed above.
  • the ink black paste when using the ink or paste containing the conductive pattern material, may further include an organic binder in addition to the conductive pattern material described above to facilitate the printing process. It is preferable that the organic binder has a property of volatilization in the firing process.
  • the organic binder include polyacrylic resins, polyurethane resins, polyester resins, polyolefin resins, polycarbonate resins, cellulose resins, polyimide resin polyethylene naphthalate resins, and modified epoxy resins. It is not limited only to.
  • the conductive substrate according to the present invention may be connected to a power source, wherein the resistance value per unit area in consideration of the opening ratio is O.Olohm / square to 100Ohm / square at room temperature, preferably 5ohm / square to 150ohm / square.
  • the conductive substrate according to the present invention can be used for the purpose of conducting a current or applying a voltage by external factors other than the configuration of the conductive substrate itself.
  • the conductive substrate according to the present invention can be used in various applications for which conductivity is required. For example, it can be used for electromagnetic shielding film, touch panel, light emitting device auxiliary electrode, solar cell auxiliary electrode and the like.
  • the auxiliary electrode for the light emitting device is specifically an organic light emitting device DLED) It may be a bright auxiliary electrode. .
  • an electronic device that includes a conductive substrate of the present invention described above.
  • the electronic device may further include a display pixel substrate provided on at least one side of the conductive organ, and each pixel of the display pixel substrate may include two or more subpixels. In this case, each pixel of the display pixel substrate may include three or four sub pixels.
  • the electronic device may be a touch panel, an organic light emitting device lighting, or an organic solar cell.
  • a display device including the conductive substrate of the present invention described above.
  • Touch panel according to the present invention is a lower base; Upper substrate; And an electrode layer provided on any one surface or both surfaces of the lower substrate and the surface in contact with the upper substrate.
  • the electrode layer may perform X-axis position detection and Y-axis position detection, respectively.
  • the electrode provided on the surface in contact with the lower substrate and the upper substrate of the lower substrate; And one or both of the electrode worm provided on the upper substrate and the surface in contact with the lower substrate of the upper substrate may be a conductive substrate according to the present invention described above.
  • the other may have a pattern known in the art.
  • an insulating layer or a spacer is provided between the lower substrate and the upper substrate so as to maintain a constant distance between the electrode layers and prevent connection. It may be provided. It is preferable that the said insulating layer is an adhesive or UV or thermosetting resin.
  • the touch panel may further include a ground connected to the conductive pattern described above. For example, the ground portion may be formed at an edge portion of a surface on which the conductive pattern of the transparent substrate is formed.
  • At least one surface of the conductive substrate may be provided with at least one of an antireflection film, a polarizing film, or a door film.
  • an antireflection film may further include a functional film of another kind.
  • Such a touch panel may be applied to display devices such as OLED display panels (OLEDs), liquid crystal displays (LC LcDs), cathode ray tubes (CRTs), and PDPs. .
  • the touch panel according to the present invention is not limited to the structure as described above, the structure in which both the first electrode and the second electrode is formed on one substrate, or the electrode filling of the lower substrate is laminated on the surface where the electrode layer of the upper substrate is not provided It also includes a structure.
  • an organic light emitting diode (OLED) auxiliary electrode including the conductive substrate of the present invention described above and an organic light emitting diode comprising the same
  • the organic light emitting device illumination according to the present invention comprises a crab 1 electrode, an auxiliary electrode disposed on the first electrode, an insulating layer disposed on the auxiliary electrode, at least one organic layer and a second electrode
  • the auxiliary electrode may be a conductive pattern according to the present invention.
  • the auxiliary electrode may be directly formed on the first electrode, or a conductive substrate including a transparent substrate and a conductive pattern may be positioned on the first electrode.
  • another embodiment according to the present invention provides an auxiliary electrode of an organic solar cell (solar cell) having the same or similar structure as the auxiliary electrode for an organic light emitting device (OLED) illumination and an organic solar cell comprising the same.
  • OLED organic light emitting device
  • a stripe pattern having a line width of 2.7 ⁇ was formed through a printing process, and a conductive pattern was formed through an etching and a peeling process.
  • the conductive pattern according to Example 1 is shown in FIG. 8, and the conductive pattern according to Comparative Example 1 is shown in FIG. 9. As shown in the results of FIGS. 8 and 9, it can be seen that a conductive pattern having a line width of more than 3% with respect to the pixel pitch of the display has disadvantageous visibility characteristics.
  • Examples 11 to 12 and Comparative Examples 11 to 12> As shown in Table 2, the clear reflection and visible line width of the conductive pattern were evaluated.

Abstract

본 발명은 투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판, 및 이를 전자소자에 관한 것이다.

Description

【명세서】
【발명의 명칭】
전도성 기판 및 이를 포함하는 전자소자
【기술분야】
본 출원은 2011년 12월 23일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제 10-2011-0141747호의 출원일의 이익을 주장하며， 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다,
본 발명은 전도성 기판 및 이를 포함하는 전자소자에 관한 것이다. 구체적 으로， 본 발명은 전도성이 우수할 뿐만 아니라 시야를 가리지 않는 전도성 기판 및 이를 포함하는 전자소자에 관한 것이다.
【배경기술】
최근， 스마트 폰 및 태블릿 PC, IPTV등의 보급이 가속화됨에 따라 키보드 나 리모컨과 같은 별도의 입력 장치 없이 사람의 손이 직접 입력 장치가 되는 터 치 기능에 대한 필요성이 점점 커지고 있다. 또한 특정 포인트 인식뿐만 아니라 필 기가 가능한 다중 인식 (multi-touch) 기능도 추가로 요구되고 있다.
상기와 같은 기능을 하는 터치 패널은 신호의 검출 방식에 따라 다음과 같 이 분류할 수 있다.
즉, 직류 전압을 인가한 상태에서 압력에 의해 눌려진 위치를 전류 또는 전 압 값의 변화를 통해 감지하는 저항막 방식 (resistive type), 교류 전압을 인가한 상태에서 캐패시턴스 커플링 (capacitance coupling)을 이용하는 정전 용량 방식 (capacitive type), 자계를 인가한 상태에서 선택된 위치를 전압의 변화로서 감지하 는 전자 유도 방식 (electromagnetic type) 등이 있다.
이 중, 가장 보편화된 저항막 방식 및 정전 용량 방식의 터치 패널은 ITO 필름과 같은 투명 도전막을 이용하여 전기적인 접촉이나 정전 용량의 변화에 의하 며 터치 여부를 인식한다. 하지만， 상기와 같은 투명 도전막은 150 ohm/square 이 상의 고저항이 대부분이어서 대형화시에 감도가 떨어지고， 스크린의 크기가 커질 수록 ΠΌ 필름의 가격이 급증한다는 문제로 상용화가 쉽지 않다. 이를 극복하기 위하여 전도도가 높은 금속 패턴을 이용한 방식으로 대형화를 구현하려는 시도가 이루어지고 있다. 그러나， 전도도가 높은 금속 패턴의 경우ᅳ 시야를 가리게 되는 문 제가 있다.
【발명의 상세한 설명】
【기술적 과제】
전술한 바와 같이， 금속 패턴을 이용한 전도성 기판을 구성함에 있어서， 시 야를 가리지 않기 위한 해결책을 거듭 연구한 끝에， 본 발명에 이르게 되었다. 【기술적 해결방법】
본 발명의 일 실시상태는, 투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀을 포함하고， 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값을 상기 샐들의 특성 길이 (Characteristic Length) (Lc)로 정의하고，
상기 셀들의 특성 길이 (Lc)의 평균 (Lcav)을 X축으로 하고 상기 전도성 라인 의 선폭 (W)을 Y축으로 하여 하기 관계식 1을 나타내는 그래프 1과 하기 관계식 2 를 나타내는 그래프 2를 도시하였을 때， 상기 그래프 1의 하부 영역과 상기 그래 프 2의 하부 영역의 교차 영역에 상기 전도성 라인의 선폭 (W) 및 상기 셀들의 특 성 길이의 평균 (Lcav)이 포함되는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 1>
W= [(Ι/AR0·5) - 1] Lcav
〈관계식 2>
W = 13exp(-0.0052Lcav)十 α
상기 관계식 1 및 2에 있어서,
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lcav는 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀의 특성 길이의 평균이며， AR은 상기 전도성 패턴의 개구율이고, Q 는 상수이다.
본 발명의 다른 실시상태는，
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀을 포함하고， 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값으로 정의되는 상기 샐들의 특성 길이 (Characteristic Length) (Lc)가 하기 관계식 3을 만족하는 것을 특징으로 하는 전 도성 기판을 제공한다:
〈관계식 3〉
Yi/n < Lc < 2Y2
상기 관계식 3에 있어서，
η은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽셀의 개수이고， '
Υι 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 m/1 inch
Y2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 ΛΤΙ/1 inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다. 본 발명의 다른 실시상태는,
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전.도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀을 포함하고， 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값으로 정의되는 상기 셀의 특성 길이 (Characteristic Length) (Lc)가 하기 관계식 4를 만족하는 것을 특징으로 하는 전 도성 기판을 제공한다:
〈관계식 4〉
Lp /n < Lc < 2 Lp
상기 관계식 4에 있어서，
n은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽샐의 개수이고, ,
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스폴레이의 각 픽셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽셀의 특성 길이 (Lp)이다.
또한， 본 발명의 다른 실시상태는，
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 6을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 6>
0.03 Y3 > W
상기 관계식 6에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Υ3는 Υι ≤ Υ3 ≤ Υ2의 범위 내의 실수이고， 여기서 Υι 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시 된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 ^m/l inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 um/l inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레 이 의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이 다.
또한， 본 발명의 다른 실시상태는，
투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 7을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 7>
0.03 Lp > W 상기 관계식 7에 있어서， ,
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽샐의 특성 길이 (Lp)이다.
또한， 본 발명의 다른 실시상태는，
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 9을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 9〉
3 Y3 /(100 X 101/2) > W
상기 관계식 9에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고,
Υ3는 ^ ≤ Υ3 ≤ Υ2의 범위 내의 실수 (um)이고， 여기서 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 /ΙΙ/1 inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 ^m/l inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
또한， 본 발명의 다른 실시상태는，
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 10을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 10>
3Lp /(100 X 101/2) > W
상기 관계식 10에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽셀의 특성 길이 (um)이다.
또한， 본 발명의 다른 실시상태는，
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서， 상기 전도성 라인의 가시선폭 (Wv)은 하기 관 계식 12를 만족하고， 0 초과 3.6卿 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제 공한다:
〈관계식 12〉 Wv = W x Rm
상기 관계식 12에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Rm는 상기 전도성 패턴을 구성하는 전도성 라인 재료의 반사도이다.
또한, 본 발명의 다른 실시상태는， 상기 전도성 기판을 포함하는 전자소자 를 제공한다.
또한， 본 발명의 다른 실시상태는， 상기 전도성 기판을 포함하는 디스플레 이장치를 제공한다.
[유리한 효과】
본 발명에 따라 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀의 특성 길이의 평균과 전 도성 라인의 선폭의 상관관계를 이용하는 경우， 전도성이 우수하면서도 시야를 가 리지 않는 전도성 기판을 제공할 수 있다. 이에 의하여 터치패널이나 유기발광소자 조명과 같이 시야 확보가 중요한 전자소자에서 유용하게 사용될 수 있다.
또한， 본 발명에 따르면, 디스플레이의 유효화면부의 대각선 길이 (inch)로부 터 디스플레이와픽셀에 따른 피치를 도출할 수 있고， 이에 따라 금속 메쉬패턴의 픽샐에 따른 피치와 선폭을 도출할 수 있으므로， 금속 메쉬패턴의 선폭， 피치 등과， 디스플레이의 픽셀 피치 등의 관계를 조절함으로써 전도성 패턴의 시야 특성을 보 다 효과적으로 향상시킬 수 있다. 【도면의 간단한 설명】
도 1은 개구율에 따라， 본 발명에서 정의한 관계식 1과 관계식 2의 그래프 에 의하여 정의되는 전도성 라인의 선폭 (W)과 전도성 라인에 의하여 폐쇄되는 셀 의 특성 길이의 평균값 (Lcav)의 허용영역을 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 디스플레이의 픽셀 및 서브픽셀을 나타낸 도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시상태에 따른 디스플레이의 유효화면부의 대각선 의 길이 (inch)에 대한픽셀 피치의 연관관계를 나타낸 도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시상태에 따른 디스플레이의 픽셀의 흔색의 불균일 성을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시상태에 따른 금속 메쉬패턴에 따라 디스플레이가 가려지는 영역을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 6 및 7은 본 발명에 따른 터치패널의 전도성 패턴의 형성 공정을 예시 한 것이다.
도 8 및 9는 본 발명의 실시예 및 비교예에 따른 전도성 패턴을 나타낸 도 이다.
도 10은 본 발명의 일 실시상태에 따른 명실반사도 측정을 위한 장치의 구 성 및 구조 (Scheme)를 나타낸 도이다. 도 11은 본 발명의 일 실시상태에 따른 가시선폭의 연관관계를 개략적으로 나타낸 도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시상태에 따른 CPD(cycle per degree)의 정의를 나타낸 도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시상태에 따른 CPD에 따른 시감 함수를 나타낸 도이다.
【발명을 실시를 위한 최선의 형태】
이하에서 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 전도성 기판은， 투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀을 포함하고, 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값을 상기 샐들의 특성 길이 (Characteristic Length) (Lc)로 정의하고，
상기 셀들의 특성 길이 (Lc)의 평균 (Lcav)을 X축으로 하고 상기 전도성 라인 의 선폭 (W)을 Y축으로 하여 하기 관계식 1을 나타내는 그래프 1과 하기 관계식 2 를 나타내는 그래프 2를 도시하였을 때， 상기 그래프 1의 하부 영역과 상기 그래 프 2의 하부 영역의 교차 영역에 상기 전도성 라인의 선폭 (W) 및 상기 셀들의 특 성 길이의 평균 (Lcav)이 포함되는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다: 〈관계식 1〉
W = [(1/AR0.5) - 1] Lcav
〈관계식 2>
W = 13exp(-0.0052Lcav) + α
상기 관계식 1 및 2에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lcav는 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀의 특성 길이의 평균이며， AR은 상기 전도성 패턴의 개구율이고,
α 는 상수이다.
종래에는 전자소자에 사용되는 전도성 패턴으로서 스트라이프 형태나 메쉬 형태의 간단한 형태의 패턴이 주로 사용되었으나， 최근에는 모아레 회피 등을 위하 여 전자소자에서 다양한 형태의 전도성 패턴을 이용한 전도성 기판을 이용하고자 하는 시도가 이루어지고 있다.
그러나, 전도성 패턴의 형태가 다양하게 될수록， 터치패널과 같이 시야 확 보가 크게 요구되는 용도에 있어서 전도성 패턴의 가시성을 낮추기 위한 기준을 찾을 수 없었다.
또한， 전도성 패턴의 개구율을 무한정 높이거나， 전도성 라인의 선폭을 무 한정 얇게 하는 것은 제조 기법상 그와 같은 규모에 도달하지 못하는 어려움이 있 을 뿐만 아니라， 비용이 크게 높아지고， 전도성 등 해당 소자에서 요구되는 다른 물성을 만족하지 못하는 문제가 발생하게 된다.
본 발명은 전도성 패턴의 가시성이 단순히 개구율이나 전도성 라인의 폭과 같은 1가지 또는 2가지 정도의 조건만 의존하지 않고， 전도성 패턴의 형태， 크기 및 개구율과 전도성 라인의 선폭 및 선간 간격과 같은 다양한 조건에 모두 의존한 다는 사실을 밝혀낸 것에 기초하여 도출되었다. 이에， 본 발명은 전도성 패턴이 전 도성 라인에 의하여 패쇄된 셀들을 포함하는 경우라면， 전도성 패턴의 형태와 상관 없이， 또한 개구율 또는 전도성 라인의 선폭을 특정 범위 내로 조절함으로써， 시야 를 가리지 않는 전도성 패턴을 제공할 수 있다.
본 발명에서는 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 샐의 특성 길이 (Characteristic Length, Lc)를 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값으로 정의하였다. 이와 같이 정의함으로써， 전도성 패턴이 전도성 라인에 의하여 패쇄된 셀들을 포함하는 한， 전도성 패턴의 형태와 상관없이 시야를 가리지 않는 전도성 패턴을 구성하기 위한 조건을 도출할 수 있게 된 것이다. 상기 셀의 특성 길이는 전도성 패턴의 가 시성에 영향을 미치는 전도성 패턴의 형태 및 크기와 전도성 라인의 선간 간격의 지표가 될 수 있다.
본 발명에 있어서， 하기 관계식 1은 개구율에 따른 상기 샐의 특성 길이와 전도성 라인의 폭과의 관계식이다. <관계식 1>
W = [(l/AR0-5) - 1 ] x Lcav
한편， 본 발명에서는 상기 관계식 1의 조건 뿐만 아니라， 가시성을 결정하 는 관계식으로서， 상기 샐의 특성 길이와 전도성 라인의 폭과의 관계를 나타낸 관 계식 2를 도출하였다.
〈관계식 2〉
W = 13exp(-0.0052Lcav) + α
본 발명에서는 상기 관계식 1의 그래프의 하부영 역 의 조건 뿐만 아니 라， 상 기 관계식 2의 그래프의 하부영 역 의 조건을 모두 만족함으로써 전도성 패턴의 가 시성을 확실히 보장할 수 있다.
상기 관계식 2에 있어서 α는 공정 재료나 조건에 따라 정해지는 상수로서， 일반적으로 0 내지 2의 실수로 정해질 수 있으며， 한 예로서 2일 수 있다.
도 1에， 개구율에 따른， 상기 관계식 1과 관계식 2의 그래프에 의하여 정 의 되는 전도성 라인의 선폭 (W)과 전도성 라인에 의하여 폐쇄되는 셀의 특성 길이 의 평균값 (Lcav)의 허용영 역을 도시하였다. 도 1에 도시된 2개의 그래프의 하부 중첩 영 역 에서 전도성 라인의 선폭 (W)과 전도성 라인에 의하여 폐쇄되는 셀의 특성 길 이의 평균값 (Lcav)을 결정 함으로써 시 야를 가라지 않는 전도성 기판을 제공할 수 있다. 전술한 관계식 1과 관계식 2에 따른 조건을 만족하는 한， 본 발명의 범위에 포함되나, 이하에서는 더욱 바람직한 조건들을 서술한다.
본 발명은 디스플레이에 채용되는 터치패널이 미세한 금속 메쉬선을 통하여 구성됨에 있어， 사용자로 하여금 디스플레이 성능을 그대로 유지하면서 동시에 금 속으로 구성된 터치패널의 금속선을 은폐하기 위한 디스플레이의 유효화면부의 대 각선 길이 (inch)에 따른 금속 메쉬선의 선폭과 피치의 관계를 금속을 이루는 물질 의 반사도와 연계하여 정의하고자 한다.
기존의 금속 메쉬패턴을 이용한 터치패널의 경우, 이를 이용하여 터치패널 을 구성하는데 있어 가장 증요한 요소는 금속 메쉬패턴의 선폭의 미세화를 통한 선의 인지성의 저감 기술이 주로 사용되어 왔다. 그러나， 이러한 선폭의 미세화 기 술의 경우， 선폭의 축소와 더불어 메쉬패턴을 구성하는 선과 선의 간격에 해당되는 피치 (Pitch)의 간격에도 선의 인지성이 달라짐에 따라， 이에 대한 적절한 피치의 선정이 필요하다. 아울러， 이러한 피치의 크기는 결과적으로 모아레 (Moire)나 투과 율과 같은 광학적 특성과 상호 연관 관계를 가짐에 파라， 메쉬패턴을 이용한 터치 패널의 제작시 제작자로 하여금 디자인의 자유도를 떨어뜨리는 단점을 지니고 있 다.
이러한 단점의 극복을 위하여， 본 발명에서는 디스플레이의 유효화면부의 대각선의 길이에 따른 적정 피치 (pitch)를 우선적으로 설정하였다. 또한， 이러한 피 치 (pitch)에 따라 기존의 발명에서 발생될 수 있는 선이 인지되는 문제점을 금속의 반사도를 조절함으로써 선의 인지성을 변화시켜， 피치 (pitch)와 선폭의 연관성을 최 소화하였다. 또한， 이에 따라 터치패널 제작시 사용자로 하여금 산을 최대한 은폐 함과 동시에 모아레 (Moire)나 투과율에 있어서 자유롭게 피치 (pitch)를 설정할 수 있는 방법을 제시하고자 한다.
일반적으로, 디스플레이는 사람이 디스플레이를 바라보는 거리에 따라 픽셀 (pixel)의 크기를 정의하게 된다. 이 때， 픽셀 (pixel)이라 함은 R/G/B로 구성된 서 브픽셀 (sub pixel)의 집합체를 의미하몌 대부분의 픽셀 (pixel)의 형상이 정사각형 형태에 가까운 것이 대부분이므로， 픽셀 (pixel)의 피치 (pitch)가 곧 픽셀 (pixel)의 크기를 의미하게 된다. 현재， 디스플레이에 사용되는 픽셀 (pixel)은 사용거리에 따 라 모바일 (Mobile)의 경우는 약 75/ζπι, 테블릿이나 노트북， 모니터 같은 모델의 경 우는 약 150//m, TV 모델의 경우는 약 200卿 수준의 픽셀 크기를 가지는 것이 일 반적이다. 하기 도 2에 본 발명의 일 실시상태에 따른 디스플레이의 픽셀 및 서브 픽셀을 나타내었다.
앞서 언급한 바와 같이， 디스플레이는 일반적으로 사람들이 디스플레이를 사용하는 평균 거리에 따라 픽셀 (Pixel)의 피치가 정의되게 된다. 이러한 디스플레 이의 픽셀 (pixel)의 피치 (pitch)는 LCD를 예로 들면， 일반적으로 정사각형의 형태 를 가정할 수 있으므로， 디스플레이의 사양에 대한 정보를 통하여 유추할 수 있다. 먼저 디스플레이에 표시되는 PPKpixel per inch)를 통하여 유추한 픽셀 (pixel)의 피치 (pitch)는아래와 같다.
PPI는 일반적으로 디스플레이의 유효화면부의 대각선 길이 1인치 내에 들 어가는 픽셀 (pixel)의 개수를 의미하게 된다. 따라서， 디스플레이에 표기되어 있는 PPI가 200이라 가정하면, 이 경우는 1인치 내에 약 200개의 픽샐 (pixel)이 존재한 다는 의미가 되므로， 픽셀 (pixel)의 피치 (pitch)는 Ppixel = 2.54cm/200 = 0.0127cm, 즉 약 127//Π1 수준의 픽샐 (pixel) 피치 (pitch)를 가지고 있는 것으로 해석할 수 있 다. 만약， 이러한 PPI에 대한 정보가 없는 경우쎄 있어서는 해상도에 표기된 숫자 를 통하여 이를 계산해 볼 수 있는데， 디스플레이에 대한 정보가 WXGA와 같이 표시된 경우에는 이에 해당하는 1280x800이 PPI를 유추할 수 있는 정보에 해당된 다. 이 외에도， 다양한 방법을 통하여 표시되는 최대 Resolution 정보값을 통하여 PPI를 유추할 수 있다. 일 예로 Resolution에 표기된 정보가 A χ B인 경우， 해당 디스플레이의 표시된 대각선 인치를 I라 하면, (Α2+Β2)1/2가 바로 디스플레이의 대 각선에 위치한 픽셀 (pixel)의 개수에 해당되며， 이를 통하여 PPI는 (A2+B2)172 /1가 바로 PPI에 해당된다. 즉， 이 때의 픽샐 피치는 Ppixel = 2.54cm χ I / (A2+B2)1/2 로 나타낼 수 있다.
요약하면， 픽셀의 피치 (Ppixel)는 하기 수학식 1로 나타낼 수 있다.
[수학식 1] Ppixei = 2.54cm I PPI = 2.54cm( 11 (A2+ B2)1/2 )
상기 수학식 1에서,
A는 디스플레이 가로방향 최대 해상도를 나타내고， B는 디스플레이 세로방 향 최대 해상도를 나타낸다.
앞서 언급한 PPI 또는 해상도를 이용하여 제품의 픽셀 크기를 환산한 결과 에 현재 시장에서 주로 유통되고 있는 제품을 검토하였다. 그 결과， 모바일의 경우 에는 77 - 200/zm 수준대까지의 다양한 픽셀 피치를 지니는 디스플레이가 채용되 고 있으며， 노트북의 경우에는 170 ~ 240/im, 모니터의 경우에는 250 ~ 300 ， TV 의 경우 230 ~ 635 수준의 디스폴레이가 주로 채용되고 있음을 확인할 수 있다. 상기 결과를 바탕으로 하여， 본 발명자들은 디스플레이의 유효화면부의 대 각선의 길이 (inch)에 대한 픽셀 피치의 연관관계를 도출하였으며， 그 결과를 하기 도 3에 나타내었다.
앞서 제시한 디스플레이의 유효화면부의 대각선의 길이에 따른 픽셀의 피치 의 범위를 통하여， 본 발명에서는 아래와 같은 해석을 통한 금속 메쉬패턴의 피치 범위의 정의가 가능하다. 먼저 금속 메쉬패턴이 디스플레이 위에 장착되는 경우에 있어서 가장 바람직한 것은 메쉬패턴을 회전하지 않은 상태를 가정하였을 때 픽셀 (Pixel) 하나당 단 1개의 메쉬선 또는 메쉬의 교차점이 위치함으로 인하여 디스플 레이 픽셀에서와 흔색을 균일하게 유지시켜 주는 것이다. 이러한 관점을 보다 확장 하여 해석하면， 디스플레이 픽셀의 경우 일반적으로 약 3:1의 길이 비를 지니는 3 개의 서브픽셀로 구성이 되고 OLED의 경우 펜타일 방식의 경우가 4개의 서브 픽 셀로 구성되는 것을 감안하더라도， 기본적으로 앞서 언급한 픽셀의 피치 영역의 0.25배 이하로 메쉬패턴의 피치를 도입할 경우에는 메쉬패턴의 선폭 혹은 메쉬패 턴의 교차점에 의하여 국부적인 픽셀의 흔색의 불균일성이 발생할 수 있으므로 (픽 셀 가림이 많이 발생하는 영역이 존재하므로)， 픽셀의 피치 대비 0.25배 이상으로 설정하는 것이 바람직하다. 나아가 픽셀의 피치 이상으로 금속 메쉬패턴의 피치를 설정하는 경우에 있어서는， 픽셀의 피치의 2배 이상으로 금속 메쉬패턴의 피치를 설정하는 경우 도 4에 기재한 바와 같이 금속 메쉬패턴의 선 성분에 의하여 가려 진 픽셀과 그렇지 않은 픽셀이 번갈아가며 나타남으로 인한 전체적인 흔색의 불균 일성이 발생할 수 있다.
이에 따라， 본 발명자들은 해당 디스플레이에 있어서 터치패널의 금속 메쉬 패턴이 가져야 할 피치는 도입하였다.
본 발명에 따른 전도성 기판은， 투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 샐을 포함하고， 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값으로 정의되는 상기 셀들의 특성 길이 (Characteristic Length) (Lc)가 하기 관계식 3을 만족하는 것을 특징으로 하는 전 W
20 도성 기판을 제공한다:
〈관계식 3>
Yi/n < Lc < 2Y2
상기 관계식 3에 있어서，
η은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽 셀의 개수이고，
Υι 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시된다:
Υι = (2.9Q + 68.1) X 1 /1 inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) X 1 /m/1 inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
또한， 본 발명 에 따른 전도성 기판은， 투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀을 포함하고, 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값으로 정 의되는 상기 셀의 특성 길이 (Characteristic Length) (Lc)가 하기 관계식 4를 만족하는 것을 특징으로 하는 전 도성 기판을 제공한다:
〈관계식 4> Lp /n < Lc < 2 Lp
상기 관계식 4에 있어서，
n은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽셀의 개수이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽셀의 특성 길이 (Lp)이다.
또한, 본 발명에 있어서， 상기 셀들의 특성 길이 (Lc)는 하기 관계식 5를 만 족할 수 있다.
〈관계식 5〉
Ppixel l/n < Lc < 2 Ppixel 2
상기 관계식 5에 있어서,
n은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽샐에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽셀의 개수이고，
Ppixel 1은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 짧은 폭의 피치이고， 1 1∞1 2은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 긴 폭의 피치이다. ' 앞서 정의한 금속 메쉬패턴의 피치의 도입과 더불어 중요한 부분은 메쉬패 턴의 선폭에 대한 부분이라 할 수 있다. 일반적으로 디스플레이의 픽셀은 하기 도 W
22
5에 기재한 바와 같이 3개의 서브픽셀로 구성되게 되는데， 이 경우에 있어서 각각 의 픽셀을 가장 많이 가릴 수 있는 경우는 각 서브픽샐의 대각선으로 메쉬패턴의 선이 놓이는 경우라 할 수 있으며， 반대로 가장 짧게 가려지는 경우는 각 서브픽샐 의 짧은 변과 평행하게 가려지는 경우라 할 수 있다. 따라서， 이러한 관점으로 금 속 메쉬패턴의 선폭에 따라 디스플레이가 가려짐에 있어 개구 면적은 아래와 같이 다시 계산될 수 있다.
앞서 언급한 바와 같이， 디스플레이에 따른 픽샐의 크기는 Ppixel = 2.54cm / PPI =2.54cm χ I I (A2+B2)1/2 이므로， 각각의 경우에 있어서의 픽셀의 가리기 전 대비 개구 면적은 각각 (p2 pixel ~~ P X W)/P' pixel 와 (Ppixel -ιο1/2 X P X W)2/P2 pixel 로 표시될 수 있다. 이러한 경우에 있어서 일반적으로 사람이 흔색의 관점에서 이 를 느끼지 않기 위해서는 일반적으로 약 3% 이내의 개구율 차이를 나타내어야 하 므로， 이를 바탕으로 하여， 디스플레이의 픽셀의 피치와 터치패널의 금속 메쉬패턴 의 선폭의 연관관계를 도출하였다.
본 발명에 따른 전도성 기판은， 투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 6을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 6> 0.03 Yg > W
상기 관계식 6에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Y3는 Υι≤ Υ3 ≤ Υ2의 범위 내의 실수이고， 여기서 및 Υ2는 각각 하기 식으로 표시 된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 j¾m/l inch
상기 식 에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
또한， 본 발명 에 따른 전도성 기판은, 투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비 된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 7을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 7>
0.03 Lp > W
상기 관계식 7에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 각 픽 셀의 면적 의 0.5 제 W
24 곱값으로 정의되는 픽 셀의 특성 길이 (Lp)이다.
또한， 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 8을 만족할 수 있다. 〈관계식 8>
0.03 Ppixel > W
상기 관계식 8에 있어서 ,
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고,
상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀의 피치 이다. 또한， 본 발명 에 따른 전도성 기판은， 투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비 된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 9을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 9〉
3 Y3 /(100 X 101/2) > W
상기 관계식 9에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Υ3는 ≤ Υ3 ≤ Υ2의 범위 내의 실수 (um)이고， 여기서 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시 된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 卿/1 inch Y. 2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 / Ι/1 inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
또한， 본 발명에 따른 전도성 기판은， 투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서 ,
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 10을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판을 제공한다:
〈관계식 10>
3Lp /(100 X 101/2) > W
상기 관계식 10에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정 의 되는 픽 셀의 특성 길이 (um)이다.
'또한， 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 11를 만족할 수 있다. 〈관계식 11〉
3 PpixeiAlOO X 101/2) > W
상기 관계식 11에 있어서，
w는 상기 전도성 라인의 선폭이고， Ppixel은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽샐의 피치이다. 일반적으로 디스플레이는 R, G, B의 3색을 통하여 이를 흔색하여， 백색 및 검은색을 만들어 영상을 표현하게 된다. 이러한 관점에서 가장 중요한 부분은 바로 블랙 (Black) 상태에서의 금속 메쉬패턴의 시인성에 대한 부분이라 할 수 있다. 이 러한 블랙 상태의 금속 메쉬패턴의 인지성이 증요한 이유는 바로， 블랙 상태를 LCD의 경우 가장 기본적인 상태로 정의하고 있음과 더불어 화면에 있어서도 검은 색상의 표현이 디스플레이의 화질에 가장 중요한 요소인 명암비에 매우 중요한 영 향을 미치기 때문이라 할 수 있다. 이러한 관점에서 금속 메쉬패턴을 이루고 있는 금속선의 블택 상태에서의 인지성은 매우 중요한 요소라 할 수 있으며， 이러한 금 속선의 인지성에 영향을 미치는 요소는 비단 금속의 물리적인 선폭 뿐만이 아니라 금속을 이루고 있는 물질의 반사도도 매우 큰 연관 관계를 지니고 있다. 본 발명에 서는 이러한 관점에서 기존의 물리적인 선폭만이 아닌 금속선을 이루는 물질의 반 사도를 포함하는 새로운 가시선폭의 개념을 아래와 같이 정의한다.
본 발명에 있어서， 상기 전도성 라인의 가시선폭 (Wv)은 하기 관계식 12를 만족한다.
〈관계식 12〉
Wv = W X Rm
상기 관계식 12에 있어서， w는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Rm는 상기 전도성 패턴을 구성하는 전도성 라인 재료의 반사도이다.
반사도 관점으로 살펴 보면， 디스플레이의 픽 셀의 피 치를 ppixcel, 메쉬 패턴의 선폭을 w, 메쉬 패턴 재료의 반사도를 Rm, 메쉬 패턴이 적용되는 디스플레이 오프 (off) 모드에서 의 디스플레이 패 널의 명실 반사도를 a라 하면， 금속 메쉬 패턴을 포 함하는 디스플레이의 총 반사도는 하기 식으로 나타낼 수 있다.
Ppixcel X W X Rm + (P2 pixcel " P x W) x a
여가서， 육안에 의하여 구별불가능한 경우 [ /bo - 1 ]의 절대값을 b, 디스 플레이 오프 (off) 모드에서의 전도성 패턴이 구비된 디스플레이 패널의 명실 반사 도를 bb 디스플레이 오프 (off) 모드에서 의 전도성 패턴이 구비되지 않은 디스플레 이 패널만의 명실 반사도를 b0라 하면， 상기 식은 하기 식으로 정리될 수 있다.
(1-b) X a X P2 pixcei≤ Ppixcel x W x Rm + (P2pixcei - P x W) x a < (1+ b) x a x
P pixcel
상기 식을 정 리하면 아래와 같다.
a X (W - b X PpiXCei) < W χ Rm < a χ (W + b x PpixCei)
이 때， W x Rm 은 상기 관계식 12에서 정리 한 가시선폭 (Wv)으로 대체할 수 있고， 가시선폭의 값은 0 이상이므로， 최 종적으로 하기 관계식 13과 같은 식을 도 출할 수 있다. 〈관계식 13〉
0 < a χ W - b χ Ppixcei) < Wv < a x (W + b χ Ppixcei)
또한， 상기 관계식 13으로부터 0 < (W - b X PpixCei) 이므로， b < W/Ppixcel 의 관계를 가짐을 알 수 있다.
상기 관계식 13에서， a는 0.11 이하일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아 니다. 또한， b는 0.03 이하일 수 있고, 0.115 이하일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서， 상기 관계식 13에 따른 가시선폭 (Wv)은 ◦ 초과 3.6， 이하일 수 있고， 0 초과 2.4卿 이하일 수 있으나， 이에만 한정되는 것은 아니다. 본 발명에 있어서， 명실 반사도란， 반사율을 측정하고자 하는 면의 반대면 을 블랙 페이스트 (Black paste) 또는 테이프 (tape) 등을 이용하여 반사율을 0으로 만든 후 측정하고자 하는 면의 반사도만을 측정하여 관찰한 값으로, 이 때 들어오 는 광원은 주변 빛 (ambient light) 조건과 가장 유사한 디퓨즈 (diffuse) 광원을 선 택하였다. 또한, 이 때 반사율을 측정하는 측정 위치는 적분구 반원의 수직선에서 약 7도 기울어진 위치를 기본으로 하였다. 하기 도 10은 이러한 반사율 측정을 위 한 장치의 구성 및 구조 (Scheme)를 나타내고 있다.
하기 도 11과 같이， 스크린의 가로， 세로 비율을 16:9로 하고, 스크린의 높 이를 h， 대각선 길이를 d라고 하고, 사용자가 디스플레이晕 보는데 있어서 시야각 을 a라 하며， 스크린의 가로 길이를 w, 눈과 스크린 사이의 시청 거리를 D라고 하 면'
w = D X tan(a/2) χ 2 대각선 길이에 해당되는 인치는
h = wx 9/ 16
I = (w2 + h2)1/2 = [(D χ tan(a/2) χ 2)2 + (D χ tan(a/2) χ 2 χ 9 / 16)2]1/2 인간의 시각은 한쪽 눈만 뜰 경우 수평 160도， 수직 175도의 시야를 가지 며， 양안을 다 뜰 경우에는 수평 200도， 수직 135도이고， 양쪽 눈을 모두 떴을 때 겹치는 시야각은 수평 120도， 수직 135도로 알려져 있다. 즉， 두 눈을 모두 뜨고 볼 때는 가로로 120도 정도에 들어오는 물체만 식별할 수 있다는 의미이며, 이러 한 120도 중에서 집중이 가능한 시야각은 약 30도 정도이므로， 일반적으로 사용자 의 디스플레이 시청시 시야각을 30도로 가정하면， 수식은 아래와 같이 요약된다.
D = 1.62641 (인치를 cm로 환산해서 대입하여야 함. 단위 cm) 사람의 사물을 분간할 수 있는 능력은 각 해상도 (angle resolution)로 표현 된다. 이는 1도 범위 안에 구분할 수 있는 검정 선과 하얀 선 한쌍의 수가 몇 개인 가를 나타내는 것으로, 검정 /하양 한쌍을 1 사이클이라 하며， Cycle per degree(CPD)로 표현된다 (도 12). 이는 아래와 같이 D만큼 떨어진 거리에서 1도 시청각 범위에 해당하는 w폭에 얼마나 많은 사이클이 존재하느냐 인데， 알려진 바 로는 50CPD, 즉 50 사이클이 인간 망막의 한계로 알려져 있다 (도 13). 이러한 CPD의 거리에 따른 함수는 도 12와 같이 거리 D에 따라서 Ό = w I tan (1도 /2) χ 2 로 정의 되고， 이 때 이를 w에 대한 식으로 환산하면， w 二 2Dtan(0.5도) = 0.01745D 가 된다.
이 때， (w 거리 내에 들어 있는 픽셀의 개수 X 2)7} 바로 CPD값이며 망막 이 구분할 수 있는 한계의 상한 및 하한은 각각 0.5와 50이다.
이는 픽샐의 쌍으로 해석할 수 있으므로， 결국 해당 픽셀은 1와 100에 해 당되며， 앞서 거리 D에 따른 인치 수식을 위의 w = 2Dtan(0.5도) = 0.017456D에 대입하면, D = 1.62641 이므로， w = 0.02841 (cm)로 환산할 수 있다.
망막의 한계에 대웅하는 값은 P=w와 P=w/100이므로 각각을 인치와 픽샐 의 피치로 환산하면， 각각
1P=0.0284I ^ P=0.0142I (cm)
100P=0.0284I - P=0.00028I (cm) 이다.
단위가 cm 이므로 이를 마이크로미터로 환산하면,
P=284I
P=2.81I (urn)
I를 인치로 대입했을 때 바로 픽샐 피치가 계산되도록 수식을 바꾸면，
P=L11.8I P=1.10I
이를 그래프에 표시하면 도 3의 점선 영역에 해당된다.
그러나， 이러한 영역들 모두가 디스플레이 제조의 영역은 될 수 없으며, 현 재 일반적으로 제조되고 있는 디스플레이의 인치에 대한 픽셀 피치의 상한 및 하 한 그리고 주로 제조되는 인치에 따른 픽샐은 도 3의 붉은색 실선 및 파란색 실선 그리고 검은색 실선으로 표현된다. 이 때， 검은색 실선으로 표현된 주로 제작되는 디스플레이 인치에 따른 픽셀의 피치를 CPD로 환산해 보면， 대략 9.8 정도의 CPD값으로 이는 시청자가 바라보는 거리에서 약 1도의 범위에 약 20개의 픽셀을 배열하는 규칙을 따르고 있다는 의미로 해석할 수 있으며， 이는 도 13에서 CPD에 따른 시감 함수가 Max가 되는 영역인 8 근처의 영역에 해당될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 전도성 라인은 직선들로 이루어질 수도 있으나, 곡 선， 물결선， 지그재그선 등 다양한 변형이 가능하다-. 또한， 상기 형태들의 선들 증 적어도 2가지가 흔재된 형태일 수도 있다.
본 발명에 있어서， 상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄되 는 셀들로서 3각 이상， 예컨대 3각형, 4각형， 5각형， 6각형 또는 7각형 이상의 다각 형 패턴을 포함할 수 있다.
본 발명에 있어서， 상기 전도성 패턴은 규칙 패턴을 포함할 수 있다. 여기 서, 규칙 패턴이란， 패턴의 형태가 규칙성을 갖는 것을 의미한다. 예컨대， 상기 전 도성 패턴은 직사각형 또는 정사각형과 같은 메쉬 형태나, 육각형과 같은 형태의 패턴을 포함할 수 있다.
전술한 전도성 패턴을 제작하기 위하여는， 우선 목적하는 패턴 형태를 결정 한 후， 인쇄법， 포토리소그래피법， 포토그래피법， 마스크를 이용한 방법， 스퍼터링 법, 또는 잉크젯 법 등을 이용함으로써 투명기재 상에 선폭이 얇으며 정밀한 전도 성 패턴을 형성할 수 있다.
상기 인쇄법은 전도성 패턴 재료를 포함하는 페이스트를 목적하는 패턴 형 태로 투명기재 상에 전사한 후 소성하는 방식으로 수행될 수 있다. 상기 전사방법 으로는 특별히 한정되지 않으나， 요판 또는 스크린 등 패턴 전사 매체에 상기 패턴 형태를 형성하고， 이를 이용하여 원하는 패턴을 투명기재에 전사할 수 있다. 상기 패턴 전사 매체에 패턴 형태를 형성하는 방법은 당 기술분야에 알려져 있는 방법 을 이용할 수 있다.
상기 인쇄법으로는 특별히 한정되지 않으며, 오프셋 인쇄, 스크린 인쇄， 그 라비아 인쇄， 플렉소 인쇄, 잉크젯 인쇄 둥의 인쇄법이 사용될 수 있으며， 이들 중
1종 이상의 복합방법이 사용될 수도 있다. 상기 인쇄법은 롤 대 를 (roll to roll) 방 법， 롤 대 평판 (roll to plate), 평판 대 를 (plate to roll) 또는 평판 대 평판 (plate to late) 방법을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 정밀한 전도성 패턴을 구현하기 위해서 리버스 오프셋 인쇄 법을 웅용하는 것이 바람직하다. 도 6은 리버스 오프셋 인쇄방법을 이용한 직접 간 접 공정을 예시한 것이다. 도 6에 따르면， 블랑켓이라 부르는 실리콘계 고무 위에 식각 (Etching)시 레지스트 (Resist) 역할을 수행할 수 있는 잉크를 전면적에 걸쳐 코팅한 후， 이를 1차 클리쉐라 부르는 패턴이 새겨져 있는 요판을 통하여 필요없는 부분을 제거하고， 2차로 블랑켓에 남아 있는 인쇄 패턴을 금속 등이 증착되어 있는 필름 혹은 유리와 같은 기재에 전사한 후 이를 소성 및 에칭공정을 거쳐 원하는 패턴을 형성하는 방법을 수행할 수 있다. 이러한 방법을 이용하는 경우 금속이 증 착된 기재를 이용함에 따라 전 영역에서의 선고의 균일성이 확보됨에 따라 두께 방향의 저항을 균일하게 유지할 수 있다는 장점을 지니고 있다.
본 발명이 적용될 수 있는 또 다른 예는 도 7과 같은 그라비아 오프셋 (Gravure offset) 방식을 이용하는 것이다. 그라비아 오프셋 인쇄는 패턴이 새겨진 요판에 페이스트를 채운 후 블랑킷으로 1차 전사를 시킨 후, 블랑킷과 투명기재를 밀착시켜 2차 전사를 시키는 방식으로 수행될 수 있다. 이 외에도 그라비아 인쇄는 를 위에 패턴이 새겨진 블랑킷을 감고 페이스트를 패턴 안에 채운 후， 투명기재에 전사시키는 방식으로 변형하여 수행될 수 있다. 본 발명에서는 상기 방식뿐만 아니 라 상기 방식들이 복합적으로 사용될 수도 있다. 또한 그외의 당업자들에게 알려진 인쇄 방식， 예컨대 스크린 인쇄 방식 등을 사용할 수도 있다.
본 발명에서는 전술한 인쇄법에 한정되지 않고， 포토리소그래피 공정을 사 용할 수도 있다. 예컨대， 포토리소그래피 공정은 투명기재의 전면에 전도성 패턴 재료층을 형성하고， 그 위에 포토레지'스트층을 형성하고， 선택적 노광 및 현상 공 정에 의하여 포토레지스트층을 패턴화한 후， 패턴화된 포토레지스트층을 에칭 레지 스트로 이용하여 전도성 패턴을 패턴화하고， 포토레지스트층을 제거하는 방식으로 수행될 수 있다.
본 발명은 또한 포토그래피 방법을 이용할 수도 있다. 예를 들어 투명기재 상에 할로겐화은을 포함한 사진 감광재료를 도포한 후， 상기 감광재료를 선택적 노 광 및 현상 공정에 의하여 패턴을 형성할 수도 있다. 좀 더 상세한 예를 들면 하기 와 같다. 우선， 패턴을 형성하고자 하는 기재 위에 네거티브용 감광재료를 도포한 다. 이 때, 기재로는 PET, 아세틸 샐를로이드 등의 고분자 필름이 사용될 수 있다. 감광재료가 도포된 고분자 필름재를 여기서 필름이라 칭하기로 한다. 상기 네거티 브용 감광재료는 일반적으로 빛에 대해 매우 민감하고 규칙적인 반웅을 하는 AgBr에 약간의 Agl 를 섞은 할로겐화은 (Silver Halide)으로 구성할 수 있다. 일반 적인 네거티브용 감광재료를 촬영하여 현상 처리된 화상은 피사체와 명암이 반대 인 음화이므로, 형성하고자 하는 패턴 형상， 바람직하게는 불규칙한 패턴 형상을 갖는 마스크 (mask)를 이용하여 촬영을 진행할 수 있다.
포토리소그래피와 포토그래피 공정을 이용하여 형성된 상기 전도성 패턴의 전도도를 높이기 위하여 도금처리를 추가로 수행할 수도 있다. 상기 도금은 무전해 도금 방법을 이용할 수 있으며， 도금 재료로는 구리 또는 니켈을 사용할 수 있으며， 구리도금을 수행한 후 그 위에 니켈 도금을 수행할 수 있으나， 본 발명의 범위가 이들 예로만 한정되는 것은 아니다.
본 발명은 또한 하드 (hard) 마스크를 이용한 방법을 이용할 수도 있다. 예 를 들어 목적하는 전도성 패¾의 형상을 갖는 마스크를 기재 가까이에 위치 한 후， 전도성 꽤턴 재료를 기재에 증착하는 방식을 사용하여 패턴화할 수도 있다. 이 때 증착을 하는 방식은 열 또는 전자빔에 의한 열 증착법 및 스퍼터 (sputter)와 같은 PVE physical vapor deposition) 방식을 이용할 수도 있고， 유기금속 (organometal) 재료를 이용한 CVD(chemical vapor deposition) 방식을 이용할 수 도 있다.
본 발명은 또한 임프린팅 (Imprinting) 공정을 통하여 제조할 수 있다. 전도 성 금속 등이 증착된 기재 위에 임프린팅 (Imprinting)이 가능한 수지를 코팅한 후 이를 미리 준비된 몰드 패턴 (mold pattern)을 이용하여 인쇄한 후 건식 식각 (Dry etching) 및 식각 (Etching) 공정을 거쳐 금속선을 패턴화한 후 수지를 제거하거나 흑은 임프린팅용 수지를 몰드를 통하여 패턴화한 후 패턴 사이사이를 전도성 물질 로 부분 충진하여 그 자체를 사용하거나 혹은 이를 다른 기재에 전사하는 방법을 택할 수 있다.
본 발명에 있어서， 상기 전도성 패턴은 선폭 20 마이크로미터 이하의 전도 성 라인을 포함할 수 있으며, 15 마이크로미터 이하， 10마이크로미터 이하， 7 마이 크로미터 이하， 4 마이크로미터 이하， 또는 3 마이크로미터 이하의 선폭을 갖는 전 도성 라인을 포함할 수 있다. 본 발명에 있어서， 상기 전도성 라인의 선폭은 0.5 내지 10 마이크로미터 범위 내에서 조절될 수 있다.
본 발명에 있어서， 전도성 패턴의 개구율， 즉 패턴에 의하여 덮여지지 않 는 투명기재의 면적 비율은 70 % 이상인 것이 바람직하며， 90% 이상， 93% 이상， 95% 이상， 96% 이상， 97% 이상， 98% 이상， 99% 이상일 수 있다.
본 발명의 하나의 실시상태에 따르면， 상기 전도체는 전도성 패턴이 형성되 지 않은 영역을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 전도성 패턴은 흑화될 수 있다. 이 에 의하여 전도성 패턴이 금속 재료로 이루어지는 경우에도 가시성을 더욱 감소시 킬 수 있다. 직접 전도성 재료를 인쇄하여 패턴을 형성하는 경우에는 상기 전도성 패턴을 혹화시키기 위하여, 전도성 패턴 형성을 위한 페이스트 흑은 잉크에 혹화물 질을 첨가하거나， 상기 페이스트 혹은 잉크를 인쇄 및 소성 후 혹화처리를 수행함 으로써 전도성 패턴을 혹화시킬 수 있다.
상기 잉크 혹은 페이스트에 첨가될 수 있는 흑화물질로는 금속 산화물, 카 본 블택， 카본나노튜브， 혹색 안료， 착색된 글래스 프릿 등이 있다. 소성 후 혹화 처리는 잉크 혹은 페이스트가 Ag 계열일 경우 산화용액， 예컨대 Fe 또는 Cu 이온 함유 용액에 침지， 염소 이온 등 할로겐 이온 함유 용액에 침지， 과산화수소， 질산 등에의 침지， 할로겐 가스로의 처 리 등을 통하여 처 리할 수 있다.
금속재료를 직 접 인쇄하는 방법 이 아닌 에 칭을 통하여 형성하는 방법의 경 우 또 다른 형 태의 흑화의 예는 사람이 바라보는 면에 혹화층을 증착한 후 전도도 부여를 위 한 층을 그 위 에 증착하여 후속 에 칭 공정시 한번에 패터 닝 하는 방법을 사용할 수 있다. 일 예로 MoOxNy를 통하여 흑화층을 증착한 후 A1 층을 그 위 에 증착하고, 이 러한 기 재 위에 레지스트 잉크를 인쇄하여 식각하는 경우 MoOxNy와 A1은 인산， 질산， 초산， 물의 흔합액과 같은 식각액 (Etchant)에 동시 에 패턴화됨으 로 원하는 면의 혹화를 처 리할 수 있다.
본 발명에 있어서， 상기 투명 기 재로는 특별히 한정되지 않으나, 빛 투과율 이 50% 이상， 바람직 하게는 75% 이상， 더욱 바람직하게는 88% 이상인 것 이 바람 직하다. 구체적으로， 상기 투명 기 재로는 유리를 사용할 수도 있고， 플라스틱 기판 또는 플라스틱 필름을 사용할 수 있다. 상기 플라스틱 기판 또는 필름으로는 당기 술분야에 알려져 있는 재료를 사용할 수 있으며 , 예컨대 폴리아크릴계， 폴리우레탄 계， 폴리 에스테르계， 폴리에폭시 계， 폴리올레핀계， 폴리카보네 이트계 및 셀를로오스 계 중에서 선택된 1종 이상의 수지로 형성된 것을 사용할 수 있다. 더욱 구체 적으로， PET(Polyethylene terephthalate), PVB(polyvinylbutyral), PEN(polyethylene naphthalate), PES(polyethersulfon), PC(polycarbonate), 아세 틸 셀를로이드와 같은 가시광 투과율 80% 이상의 필름이 바람직하다. 상기 플라스 틱 필름의 두께는 12.5 내지 500 마이크로미터인 것이 바람직하고， 50 내지 450 마이크로미터인 것이 더욱 바람직하며 , 50 내지 250 마이크로미터인 것이 더욱 바람직하다. 상기 플라스틱 기판은 플라스틱 필름의 일면 또는 양면에 수분， 가스차단을 위한 가스배리어층, 강도보강 및 투과율 향상， 헤이즈 (Haze)값 저하를 위한 하드코트층과 같은 다양한 기능성층이 적층된 구조의 기판일 수 있다. 상기 플라스틱 기판에 포함될 수 있는 기능성 층은 전술한 것들로 한정되는 것은 아니 며， 다양한 기능성층이 구비될 수 있다.
상기 전도성 패턴은 디스플레이， 터치패널， 유기발광소자 조명과 같이 본 발명의 전도성 기판이 적용될 소자 또는 장치에 포함되는 부품， 예컨대 기판 상에 직접 형성될 수도 있다.
본 발명에 있어서， 상기 전도성 패턴의 재료로는 전기 전도도가 우수한 금 속을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 전도성 패턴 재료의 비저항 값은 1 microOhm cm 이상 100 micro이m cm 이하인 것이 바람직하며， 더욱 바람직하게 는 1 micro이 πη cm 이상 5 microOhm cm 이하의 값을 가지는 것이 좋다. 전도성 패턴 재료의 구체적인 예로서， 알루미늄， 구리， 은 (silver), 금， 철， 몰리브데늄， 니 켈, 탄소나노튜브 (CNT), 타이타늄 및 이의 합금 (Alloy) 흑은 산화물， 질화물 또는 산화질화물 등아 사용될 수 있다. 단, 알루미늄이 가격 및 전도도 측면에서 가장 바람직하다. 상기 전도성 패턴 재료는 직접 인쇄의 경우 입자 형태로 변환하여 사 용할 수 있으며， 이 때 입자형태는 앞서 열거한 금속의 단일 조성 흑은 흔합 조성 을 지니는 입자가 가능하다.
본 발명에 있어서， 상기 전도성 패턴 재료를 포함하는 잉크 혹은 페이스트 를 이용하는 경우， 상기 잉크 흑은 페이스트는 인쇄 공정이 용이하도록 전술한 전 도성 패턴 재료 이외에 유기 바인더를 더 포함할 수도 있다. 상기 유기 바인더는 소성 공정에서 휘발되는 성질을 갖는 것이 바람직하다. 상기 유기 바인더로는 폴리 아크릴계 수지， 폴리우레탄계 수지， 폴리에스테르계 수지， 폴리을레핀계 수지， 폴리 카보네이트계 수지, 셀를로우즈 수지， 플리이미드계 수지 폴리에틸렌 나프탈레이트 계 수지 및 변성 에폭시 등이 있으나， 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 전도성 기판은 전원에 연결될 수 있으며, 이 때 개구율을 고려한 단위 면적당 저항값은 상온에서 O.Olohm/square 내지 lOOOohm/square, 바람직하게는 5ohm/square 내지 150ohm/square이다.
본 발명에 따른 전도성 기판은 전도성 기판 자체의 구성 이외의 외부 요인 에 의하여 전류를 전도시키거나 전압을 인가시키는 용도로 이용될 수 있다. 본 발 명에 따른 전도성 기판은 전도성이 요구되는 용도에 다양하게 사용될 수 있다. 예 컨대， 전자파 차폐 필름， 터치 패널， 발광소자 보조전극, 태양전지 보조전극 등에 사용될 수 있다. 상기 발광소자용 보조전극은 구체적으로 유기발광소자 DLED) 조 명용 보조전극일 수 있다. .
본 발명의 '하나의 실시상태에 따르면， 전술한 본 발명의 전도성 기판을 포 함하는 전자소자를 제공하다. 상기 전자소자는 상기 전도성 기관의 적어도 일측에 구비된 디스플레이 픽셀 기판을 더 포함하고 상기 디스플레이 픽셀 기판의 각 픽 셀은 2 이상의 서브 픽셀을 포함할 수 있다. 이 때， 상기 디스플레이 픽셀 기판의 각 픽셀은 3개 또는 4개의 서브 픽셀을 포함할 수 있다.
상기 전자소자는 터치패널， 유기발광소자 조명 또는 유기태양전지일 수 있 다.
또한， 본 발명의 하나의 실시상태에 따르면， 전술한 본 발명의 전도성 기판 을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 터치 패널은 하부 기 재; 상부 기재; 및 상기 하부 기재의 상부 기재에 접하는 면 및 상기 상부 기재의 하부 기재에 접하는 면 중 어느 한 면 또는 양면에 구비된 전극층을 포함할 수 있다. 상기 전극층은 각각 X축 위치 검출 및 Y축 위치 검출 기능을 할 수 있다. 이 때， 상기 하부 기재 및 상기 하부 기재의 상부 기재에 접하는 면에 구비 된 전극충; 및 상기 상부 기재 및 상기 상부 기재의 하부 기재에 접하는 면에 구 비된 전극충 중 하나 또는 두 개 모두가 전술한 본 발명에 따른 전도성 기판일 수 있다. 상기 전극층 중 어느 하나만이 본 발명에 따른 전도성 기판인 경우， 나 머지 다른 하나는 당 기술분야에 알려져 있는 패턴을 가질 수 있다. 상기 상부 기재와 상기 하부 기재 모두의 일면에 전극층이 구비되어 2층의 전극층이 형성되는 경우， 상기 전극층의 간격을 일정하게 유지하고 접속이 일어나 지 않도록 상기 하부 기재와 상부 기재 사이에 절연층 또는 스페이서가 구비될 수 있다. 상기 절연층은 점착제 또는 UV혹은 열 경화성 수지인 것이 바람직하다. 상기 터치패널은 전술한 전도성 패턴과 연결된 접지부를 더 포함할 수 있다. 예컨 대， 상기 접지부는 상기 투명기재의 전도성 패턴이 형성된 면의 가장자리부에 형성 될 수 있다.
또한, 상기 전도성 기판의 적어도 일면에는 반사방지필름， 편광필름， 내지 문 필름 중 적어도 하나가 구비될 수 있다. 설계사양에 따라 전술한 기능성 필름 이외에 다른 종류의 기능성 필름을 더 포함할 수도 있다. 상기와 같은 터치패널 은 OLED 디스플레이 패널 (OLED Display Panel, PDP), 액정디스플레이 (Liquid Crystal Display,LC LcD), 및 음극선관 (Cathodeᅳ Ray Tube, CRT), PDP와 같은 디 스플레이 장치에 적용될 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널은 상기와 같은 구조에 한정되지 않고， 하나의 기 재에 제 1 전극과 제 2 전극이 모두 형성된 구조나， 하부기재의 전극충이 상부기재 의 전극층이 구비되지 않은 면에 적층되는 구조도 포함한다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면， 전술한 본 발명의 전도성 기판을 포함하는 유기발광소자 (OLED) 조명용 보조전극 및 이를 포함하는 유기발광소자 조명을 제공한다. 하나의 예로서， 본 발명에 따른 유기발광소자 조명은 게 1 전극， 제 1 전극 상에 배치된 보조전극， 상기 보조전극 상에 배치된 절연층， 적어도 한 층 의 유기물층 및 제 2 전극을 포함하고， 상기 보조전극은 본 발명에 따른 전도성 패 턴인 것을 특징으로 할 수 있다. 상기 보조전극은 제 1 전극 상에 직접 형성될 수도 있고， 제 1 전극 상에 투명 기재 및 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판이 위치할 수도 있다.
또한, 본 발명에 따른 또 하나의 실시상태는 유기발광소자 (OLED) 조명용 보조전극과 동일 또는 유사한 구조를 채용하고 있는 유기 태양 전지 (solar cell)의 보조전극 및 이를 포함하는 유기 태양 전지를 제공한다.
【발명의 실시를 위한 형태】
이하， 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며， 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
〈실시예 1>
PETCpolyethylene terephthalate) 기재 상에 A1금속을 증착한 후， 2.7卿의 선폭을 지니는 스트라이프 패턴을 프린팅 공정을 통하여 형성하고 에칭 및 박리 공정을 거쳐 전도성 패턴을 형성하였다.
〈비교예 1> PET 기재상에 Al금속을 증착한 후, ΙΟ ι의 선폭을 지니는 스트라이프 (Stripe) 패턴을 프린팅 공정을 통하여 형성한 후 에칭 및 박리 공정을 거쳐 샘플 을 형성하였다.
상기 실시예 1에 따른 전도성 패턴을 하기 도 8에 나타내었고， 상기 비교예 1에 따른 전도성 패턴을 하기 도 9에 나타내었다. 도 8 및 9의 결과와 같이， 디스 플레이의 픽셀 피치에 대하여 3% 초과인 선폭을 지니는전도성 패턴은 시인성 특 성이 불리하게 나타남을 알수 있다.
〈실시예 2 ~ 10및 비교예 2 ~ 10>
하기 표 1과 같이 디스플레이의 유효화면부의 대각선의 길이 (inch), 디스플 레이의 픽셀 피치, 금속 메탈메쉬 패턴의 피치， 선폭 등을 평가하고, 이에 따른 적 용 적합성 여부를 평가하였다.
[표 1]
Figure imgf000045_0001
Figure imgf000046_0001
<실시예 11 ~ 12 및 비교예 11 ~ 12> 하기 표 2와 같이 전도성 패턴의 명실 반사도 및 가시선폭을 평가하였다.
[표 2]
Figure imgf000047_0001

Claims

【청구의 범위】
【청구항 1】
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀올 포함하고， 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값을 상기 셀들의 특성 길이 (Characteristic Length) x)로 정의하고，
상기 셀들의 특성 길이 (Lc)의 평균 (Lcav)을 X축으로 하고 상기 전도성 라인 의 선폭 (W)을 Y축으로 하여 하기 관계식 1을 나타내는 그래프 1과 하기 관계식 2 를 나타내는 그래프 2를 도시하였을 때， 상기 그래프 1의 하부 영역과 상기 그래 프 2의 하부 영역의 교차 영역에 상기 전도성 라인의 선폭 (W) 및 상기 셀들의 특 성 길이의 평균 (Lcav)이 포함되는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 1>
W= [(Ι/AR0·5) - 1] Lcav
〈관계식 2〉
W = 13exp(-0.0052Lcav) + Q
상기 관계식 1 및 2에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고， 1^^는 상기 전도성 라인에. 의하여 폐쇄된 셀의 특성 길이의 평균이며 , AR은 상기 전도성 패턴의 개구율이고，
Q 는 상수이다.
【청구항 2】
청구항. 1에 있어서， 상기 셀들의 특성 길이 (Lc)를 X축으로 하고 상기 전도 성 라인의 선폭 (W)을 Y축으로 하여 상기 관계식 1을 나타내는 그래프 1과 상기 관계식 2를 나타내는 그래프 2를 도시하였을 때， 상기 그래프 1의 하부 영 역과 상 기 그래프 2의 하부 영 역 의 교차 영 역에 상기 전도성 라인의 선폭 (W) 및 상기 셀 들의 특성 길이 (Lc)가 포함되는 것을 특징 으로 하는 전도성 기판.
【청구항 3】
청구항 1 또는 2에 있어서， 상기 샐들의 특성 길이 (Lc)는 하기 관계식 3을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 3〉
Yi/n < Lc < 2Y2
상기 관계식 3에 있어서 ,
η은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 샐에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽 셀의 개수이고，
Yi 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시된다: Yi = (2.9Q + 68.1) χ 1 u /l inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) x 1 mi inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
【청구항 4】
청구항 1 내지 3 증 어느 한 항에 있어서， 상기 샐들의 특성 길이 (Lc)는 하 기 관계식 4를 만족하는 것을 특징 으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 4>
Lp /n < Lc < 2 Lp
상기 관계식 4에 있어서 ,
n은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽 샐의 개수이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽 셀의 특성 길이 (Lp)이다.
【청구항 5】
청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 있어서， 상기 셀들의 특성 길이 (Lc)는 하 기 관계식 5를 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 5〉 Ppixel l/n≤ Lc≤ 2 PpiXel 2
상기 관계식 5에 있어서， - n은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽 셀의 개수이고，
Ppixel 1은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 각 픽 셀의 짧은 폭의 피치 이고， ^1 2은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 각 픽 셀의 긴 폭의 피치 이다.
【청구항 6】
청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 6을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 6〉
0.03 Y3 ≥ W
상기 관계식 6에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Υ3는 ≤ Υ3 ≤ Υ2의 범위 내의 실수이고， 여기서 Yi 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 卿/1 inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 μη\/1 inch 상기 식에 있어서 , Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
[청구항 7】
청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 7을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 7>
0.03 Lp > W
상기 관계식 7에 있어서 , ' W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀의 면적 의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽 셀의 특성 길이 (Lp)이다.
【청구항 8】
청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서 , 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 8을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 8>
0.03 Ppixel > W
상기 관계식 8에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고， ^은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀의 피치 이 다.
【청구항 9】
청구항 1 내지 8 증 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 9를 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 9〉
3 Y3 /(100 X 101/2) > W
상기 관계식 9에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Υ3는 Yi ≤ Υ3 ≤ Υ2의 범위 내의 실수 (卿)이 고, 여 기서 ^ 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 ^ni/l inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 μ\α/1 inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이 다.
【청구항 10】
청구항 1 내지 9 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 10을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 10> 3Lp /(100 x 101/2) > W
상기 관계식 10에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 각 픽 셀의 면적 의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽 셀의 특성 길이 (/mi)이다.
【청구항 11]
청구항 1 내지 10 중 어느 한 항에 있어서 , 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 11를 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 11>
3 PpixeiAlOO X 101/2) > W
상기 관계식 11에 있어서，
w는 상기 전도성 라인의 선폭이고,
Ppixei은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀의 피 치 이다.
【청구항 12]
청구항 1 내지 11 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 라인의 가시선폭 (Wv)은 하기 관계식 12를 만족하고， 0 초과 3.6 이하인 것을 특징으로 하는 전 도성 기판:
〈관계식 12> Wv = W x Rm '
상기 관계식 12에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Rm는 상기 전도성 패턴을 구성 하는 전도성 라인 재료의 반사도이 다.
【청구항 13】
청구항 12에 있어서， 상기 전도성 패턴이 적용되는 디스플레이 오프 (off) 모 드에서의 디스플레이 패널의 명실 반사도는 ai l 이하인 것을 특징으로 하는 전도 성 기판.
【청구항 14】
청구항 12에 있어서， 육안에 의하여 구별불가능한 경우, 디스플레이 오프 (off) 모드에서의 전도성 패턴이 구비된 디스플레이 패널의 명실 반사도를 ， 디스 플레이 오프 (off) 모드에서의 전도성 패턴이 구비되지 않은 디스플레이 패 널만의 명실 반사도를 b0라 하고， [bi/bo - 1 ]의 절대값이 0.03 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 기판.
【청구항 15】
청구항 12에 있어서， 육안에 의하여 구별불가능한 경우, 디스플레이 오프 (off) 모드에서의 전도성 패턴이 구비 된 디스플레이 패널의 명실 반사도를 ！ ， 디스 플레이 오프 (off) 모드에서의 전도성 패턴이 구비되지 않은 디스플레이 패널만의 54 명실 반사도를 b0라 하고， [！ /bo― 1 ]의 절대값이 0.115 이하인 것을 특징으로 하 는 전도성 기판.
【청구항 16]
청구항 1 내지 15 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 패턴은 규칙 패턴 을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판.
【청구항 17】
청구항 1 내지 16 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 패턴은 불규칙 패 턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판.
【청구항 18]
청구항 1 내지 17 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 패턴은 3각 이상 의 다각형 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판.
【청구항 19】
청구항 1 내지 18 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 패턴은 선폭 20 마이크로미 터 이하의 전도성 라인을 포함하는 것을 특징 으로 하는 전도성 기판.
【청구항 20】
청구항 1 내지 19 중 어느 한 항에 있어서 , 상기 전도성 패턴은 선폭 0.5 내지 10 마이크로미터의 전도성 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판.
【청구항 21 ] 청구항 1 내지 20 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 패턴의 개구율은 90% 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 기판：
【청구항 22】
청구항 1 내지 21 중 어느 한 항에 있어서 , 상기 전도성 패턴의 개구율은 95% 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 기판.
【청구항 23】
청구항 1 내지 22 중 어느 한 항에 있어서， 상기 전도성 패턴은 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 전도성 기판.
【청구항 24】
청구항 1 내지 23 중 어느 한 항에 있어서 , 상기 전도성 패턴은 금속층 및 상기 금속층의 적 어도 일면에 구비된 암색화층을 포함하는 것을 특징으로 하는 전 도성 기판.
【청 구항 25】
투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비 된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 셀을 포함하고， 상기 셀의 면적의 0.5 제곱값으로 정의되는 상기 셀들의 특성 길이
(Characteristic Length) (Lc)가 하기 관계식 3을 만족하는 것을 특징으로 하는 전 도성 기판:
〈관계식 3〉
Yi/n < Lc < 2Y2
상기 관계식 3에 있어서，
η은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스풀레이의 각 픽 셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽 셀의 개수이고，
Υι 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 ^m/l inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 m/1 inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
【청구항 26】
투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 패턴은 상기 전도성 라인에 의하여 폐쇄된 샐을 포함하고， 상기 셀의 면적 의 0.5 제곱값으로 정의되는 상기 셀의 특성 길이
(Characteristic Length) (Lc)가 하기 관계식 4를 만족하는 것을 특징 로 하는 전 도성 기판: 〈관계식 4>
Lp /n < Lc < 2 Lp
상기 관계식 4에 있어서，
n은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽셀의 개수이고'
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽셀의 특성 길이 (Lp)이다.
【청구항 27]
청구항 26에 있어서， 상기 셀들의 특성 길이 (Characteristic Length) (Lc)가 하기 관계식 5를 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 5>
Ppixel l/n < Lc≤ 2 Ppixel 2
상기 관계식 5에 있어서,
n은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀에서 한쪽 방향으 로 나열되는 서브픽셀의 개수이고， ¬삐 1은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 짧은 폭의 피치이고， ^12은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 긴 폭의 피치이다.
【청구항 28】
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 6을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 6>
- 0.03 Y3 > W
상기 관계식 6에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Υ3는 ≤ Υ3 ≤ Υ2의 범위 내의 실수이고， 여기서 Υι 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 m/1 inch
Y2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 μη\/1 inch
상기 식에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
【청구항 29】
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서, 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 7을 만，하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 7>
0.03 Lp > W
상기 관계식 7에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽 셀의 특성 길이 (Lp)이다.
【¾구항 30】
청구항 29에 있어서， 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 8을 만족 하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 8〉
0.03 Ppixel > W
상기 관계식 8에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Ppixel은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽 샐의 피 치 이다.
【청구항 31]
투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 9을 만족하는 것을 특징 으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 9>
3 Y3 /(100 X 101/2) > W
상기 관계식 9에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고,
^는 < Y3 < Υ2의 범위 내의 실수 (um)이고， 여기서 및 Y2는 각각 하기 식으로 표시 된다:
Yi = (2.9Q + 68.1) X 1 / m/1 inch
Y 2 = (13.3Q + 98.1) χ 1 / inch
상기 식 에 있어서， Q는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이 의 유효화 면부의 대각선 길이 (inch)이다.
【청구항 32]
투명 기 재 및 상기 투명 기 재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서，
상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 10을 만족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판: 61
〈관계식 10〉
3Lp /(100 χ 101/2) > W
상기 관계식 10에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Lp는 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽셀의 면적의 0.5 제 곱값으로 정의되는 픽샐의 특성 길이 ( )이다.
【청구항 33]
청구항 32에 있어서， 상기 전도성 라인의 선폭 (W)은 하기 관계식 11를 만 족하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판:
〈관계식 11〉
3 Ppixei/(100 X 101/2) > W
상기 관계식 11에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
Ppixel은 상기 전도성 기판이 적용되는 디스플레이의 각 픽샐의 피치이다.
【청구항 34】
투명 기재 및 상기 투명 기재 상에 구비된 전도성 라인을 포함하는 전도성 패턴을 포함하는 전도성 기판으로서， 상기 전도성 라인의 가시선폭 (wv)은 하기 관 계식 12를 만족하고， 0초과 3.6//m 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 기판: 〈관계식 12>
Wv = W X Rm
상기 관계식 12에 있어서，
W는 상기 전도성 라인의 선폭이고，
1^는 상기 전도성 패턴을 구성하는 전도성 라인 재료의 반사도이다.
【청구항 35】
청구항 34에 있어서 , 상기 전도성 패턴이 적용되는 디스플레이 오프 (off) 모 드에서의 디스플레이 패널의 명실 반사도는 0.11 이하인 것을 특징으로 하는 전도 성 기판.
【청구항 36】
청구항 34에 있어서， 육안에 의하여 구별불가능한 경우, 디스플레이 오프 (off) 모드에서 의 전도성 패턴이 구비된 디스플레이 패널의 명실 반사도를 bi, 디스 플레이 오프 (off) 모드에서의 전도성 패턴이 구비되지 않은 디스플레이 패널만의 명실 반사도를 b0라 하고， [b /bo - 1 ]의 절대값이 0.03 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 기판.
【청구항 37】
청구항 34에 있어서 , 육안에 의하여 구별불가능한 경우, 디스플레이 오프 (off) 모드에서의 전도성 패턴이 구비 된 디스플레이 패널의 명실 반사도를 t , 디스 플레이 오프 (Off) 모드에서의 전도성 패턴이 구비되지 않은 디스플레이 패널만의 명실 반사도를 b0라 하고， [bi/bo - 1]의 절대값이 0.115 이하인 것을 특징으로 하 는 전도성 기판.
【청구항 38】
청구항 1 내지 37 중 어느 하나의 항에 따른 전도성 기판을 포함하는 전자 소자.
【청구항 39】
청구항 38에 있어서， 상기 전자 소자는 상기 전도성 기판의 적어도 일측에 구비된 디스플레이 픽셀 기판을 더 포함하고， 상기 디스플레이 픽샐 기판의 각 픽 샐은 2 이상의 서브 픽셀을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자소자.
【청구항 40】
청구항 39에 있어서, 상기 디스플레이 픽셀 기판의 각 픽셀은 3개 또는 4 개의 서브 픽셀을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자소자.
【청구항 41]
청구항 38 내지 40중 어느 한 항에 있어서, 상기 전자소자는 터치패널， 유 기발광소자 조명 또는 유기태양전지인 것인 전자소자.
【청구항 42]
청구항 1 내지 37 중 어느 하나의 항에 따른 전도성 기판을 포함하는 디스 플레이 장치.
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