JP2014523599A - 導電性基板およびこれを含む電子素子 - Google Patents

Abstract

本発明は、透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板、およびこれを含む電子素子に関する。
【選択図】図３

Description

本出願は、２０１１年１２月２３日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１１−０１４１７４７号の出願日の利益を主張し、その内容すべては本明細書に含まれる。

本発明は、導電性基板およびこれを含む電子素子に関する。より詳しくは、本発明は、導電性が優れているだけでなく、視野を遮らない導電性基板およびこれを含む電子素子に関する。

最近、スマートフォンやタブレットＰＣ、ＩＰＴＶなどの普及が加速化するに伴い、キーボードやリモコンのような別途の入力装置を使わず、人間の手が直接に入力装置となるタッチ機能の必要性が次第に増加している。さらに、特定ポイントの認識だけではなく、筆記が可能な多重認識（ｍｕｌｔｉ−ｔｏｕｃｈ）機能も追加で求められている。

このような機能を実行するタッチパネルは、信号の検出方式に応じて次のように分類することができる。

すなわち、直流電圧を印加した状態で圧力によって押された位置を電流または電圧値の変化によって感知する抵抗膜方式（ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ ｔｙｐｅ）、交流電圧を印加した状態でキャパシタンスカップリング（ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ）を利用する静電容量方式（ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ ｔｙｐｅ）、磁界を印加した状態で選択された位置を電圧の変化として感知する電子誘導方式（ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ ｔｙｐｅ）などがある。

これらのうちで最も普遍化している抵抗膜方式および静電容量方式のタッチパネルは、ＩＴＯフィルムのような透明導電膜を利用し、電気的な接触や静電容量の変化によってタッチを認識する。しかし、このような透明導電膜は、１５０ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ以上の高抵抗が大部分であるため大型化時には感度が低下し、スクリーンのサイズが大きくなるほどＩＴＯフィルムの価格が急増するという問題によって商用化が容易ではない。これを克服するために、伝導度が高い金属パターンを利用した方式によって大型化を実現しようという試みがなされている。しかし、伝導度が高い金属パターンの場合には、視野を遮るようになるという問題がある。

上述したように、金属パターンを利用した導電性基板の構成において、視野を遮らないための解決策を研究し続けた結果、本発明に至るようになった。

本発明の一実施形態は、
透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
前記セルの面積の０．５乗値を前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）として定義し、
前記セルの特性長さ（Ｌｃ）の平均（Ｌｃ_ａｖ）をＸ軸、前記導電性ラインの線幅（Ｗ）をＹ軸として関係式１を示すグラフ１と下記関係式２を示すグラフ２を図に示すとき、前記グラフ１の下部領域と前記グラフ２の下部領域の交差領域に前記導電性ラインの線幅（Ｗ）および前記セルの特性長さの平均（Ｌｃ_ａｖ）が含まれることを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式１＞
Ｗ＝［（１／ＡＲ^０．５）−１］Ｌｃ_ａｖ
＜関係式２＞
Ｗ＝１３ｅｘｐ（−０．００５２Ｌｃ_ａｖ）＋α
前記関係式１および２において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｌｃ_ａｖは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルの特性長さの平均であり、
ＡＲは前記導電性パターンの開口率であり、
αは定数である。

本発明の他の実施形態は、
透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
前記セルの面積の０．５乗値で定義される前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）が下記関係式３を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式３＞
Ｙ_１／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｙ_２
前記関係式３において、
ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルにおいて一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される、
Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。

本発明の他の実施形態は、
透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
前記セルの面積の０．５乗値で定義される前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）が下記関係式４を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式４＞
Ｌｐ／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｌｐ
前記関係式４において、
ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（Ｌｐ）である。

また、本発明の他の実施形態は、
透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式６を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式６＞
０．０３Ｙ_３≧Ｗ
前記関係式６において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｙ_３はＹ_１≦Ｙ_３≦Ｙ_２の範囲内の実数であるが、ここで、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。

また、本発明の他の実施形態は、
透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式７を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式７＞
０．０３Ｌｐ≧Ｗ
前記関係式７において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｌ_ｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（Ｌ_ｐ）である。

また、本発明の他の実施形態は、
透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式９を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式９＞
３Ｙ_３／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
前記関係式９において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｙ_３はＹ_１≦Ｙ_３≦Ｙ_２の範囲内の実数（μｍ）であるが、ここで、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。

また、本発明の他の実施形態は、
透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式１０を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式１０＞
３Ｌｐ／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
前記関係式１０において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（μｍ）である。

また、本発明の他の実施形態は、
透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、前記導電性ラインの可視線幅（Ｗ_ｖ）は下記関係式１２を満たし、０超過３．６μｍ以下であることを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式１２＞
Ｗ_ｖ＝Ｗ×Ｒ_ｍ
前記関係式１２において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｒ_ｍは、前記導電性パターンを構成する導電性ライン材料の反射度である。

また、本発明の他の実施形態は、前記導電性基板を含む電子素子を提供する。

さらに、本発明の他の実施形態は、前記導電性基板を含むディスプレイ装置を提供する。

本発明は、導電性ラインによって閉鎖されたセルの特性長さの平均と導電性ラインの線幅の相関関係を利用する場合、導電性に優れた、視野を遮らない導電性基板を提供することができる。これにより、タッチパネルや有機発光素子照明のように視野確保が重要な電子素子において有効に使用されることができる。

また、本発明によれば、ディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）からディスプレイのピクセルによるピッチを導き出すことができ、これによって金属メッシュパターンのピクセルによるピッチと線幅を導き出すことができるため、金属メッシュパターンの線幅やピッチなどとディスプレイのピクセルピッチなどの関係を調節することにより、導電性パターンの視野特性をより効果的に向上させることができる。

開口率に応じ、本発明で定義した関係式１と関係式２のグラフによって定義される導電性ラインの線幅（Ｗ）と導電性ラインによって閉鎖されるセルの特性長さの平均値（Ｌｃ_ａｖ）の許容領域を示した図である。 本発明の一実施形態に係るディスプレイのピクセルおよびサブピクセルを示した図である。 本発明の一実施形態に係るディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）に対するピクセルピッチの連関関係を示した図である。 本発明の一実施形態に係るディスプレイのピクセルの混色の不均一性を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態に係る金属メッシュパターンによってディスプレイが遮られる領域を概略的に示した図である。 本発明に係るタッチパネルの導電性パターンの形成工程の例示した図である。 本発明に係るタッチパネルの導電性パターンの形成工程の例示した図である。 本発明の実施例および比較例に係る導電性パターンを示した図である。 本発明の実施例および比較例に係る導電性パターンを示した図である。 本発明の一実施形態に係る明室反射度測定のための装置の構成および構造（Ｓｃｈｅｍｅ）を示した図である。 本発明の一実施形態に係る可視線幅の連関関係を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態に係るＣＰＤ（ｃｙｃｌｅ ｐｅｒ ｄｅｇｒｅｅ）の定義を示した図である。 本発明の一実施形態に係るＣＰＤによる視感関数を示した図である。

以下、本発明についてさらに詳細に説明する。

本発明に係る導電性基板は、透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
前記セルの面積の０．５乗値を前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）として定義し、
前記セルの特性長さ（Ｌｃ）の平均（Ｌｃ_ａｖ）をＸ軸、前記導電性ラインの線幅（Ｗ）をＹ軸として下記関係式１を示すグラフ１と下記関係式２を示すグラフ２を図に示すとき、前記グラフ１の下部領域と前記グラフ２の下部領域の交差領域に前記導電性ラインの線幅（Ｗ）および前記セルの特性長さの平均（Ｌｃ_ａｙ）が含まれることを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式１＞
Ｗ＝［（１／ＡＲ^０．５）−１］Ｌｃ_ａｖ
＜関係式２＞
Ｗ＝１３ｅｘｐ（−０．００５２Ｌｃ_ａｖ）＋α
前記関係式１および２において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｌｃ_ａｖは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルの特性長さの平均であり、
ＡＲは前記導電性パターンの開口率であり、
αは定数である。

従来には、電子素子に使用される導電性パターンとして、ストライプ形態やメッシュ形態といった簡単な形態のパターンが主に使用されていたが、最近ではモアレ回避などのために、電子素子で多様な形態の導電性パターンを利用した導電性基板を利用しようとする試みがなされている。

しかし、導電性パターンの形態が多様になるほど、タッチパネルのように視野確保が大きく求められる用途において、導電性パターンの可視性を低めるための基準を見つけ出すことができなかった。

さらに、導電性パターンの開口率を無制限に高めたり、導電性ラインの線幅を無制限に狭めたりすることは、製造技法上、そのような規模に達することができないという困難があるだけでなく、費用が大きく高まり、導電性などの該当の素子で求められる他の物性を満たすことができないという問題が発生するようになる。

本発明は、導電性パターンの可視性が、単に開口率や導電性ラインの幅のような１種類または２種類の条件のみに依存するのではなく、導電性パターンの形態、大きさおよび開口率、導電性ラインの線幅および線間隔のような多様な条件にすべて依存するという事実を明かしたことに基づいて導き出された。これにより、本発明は、導電性パターンが導電性ラインによって閉鎖されたセルを含む場合であれば、導電性パターンの形態に構わず、さらに開口率または導電性ラインの線幅を特定の範囲内で調節することにより、視野を遮らない導電性パターンを提供することができる。

本発明では、導電性ラインによって閉鎖されたセルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ：Ｌｃ）を前記セルの面積の０．５乗値で定義した。このように定義することにより、導電性パターンが導電性ラインによって閉鎖されたセルを含む限り、導電性パターンの形態に関係なく、視野を遮らない導電性パターンを構成するための条件を導き出すことができるようになった。前記セルの特性長さは、導電性パターンの可視性に影響を及ぼす導電性パターンの形態および大きさと、導電性ラインの線間隔の指標とすることができる。

本発明において、下記関係式１は、開口率による前記セルの特性長さと導電性ラインの幅との関係式である。
＜関係式１＞
Ｗ＝［（１／ＡＲ^０．５）−１］×Ｌｃ_ａｖ

一方、本発明では、前記関係式１の条件だけではなく、可視性を決める関係式として、前記セルの特性長さと導電性ラインの幅との関係を示した関係式２を導き出した。
＜関係式２＞
Ｗ＝１３ｅｘｐ（−０．００５２Ｌｃ_ａｖ）＋α

本発明では、前記関係式１のグラフの下部領域の条件だけでなく、前記関係式２のグラフの下部領域の条件をすべて満たすことにより、導電性パターンの可視性を確実に保障することができる。

前記関係式２において、αは、工程材料や条件に応じて定められる定数であって、一般的には０〜２の実数で定められるが、一例として２であることができる。

図１に、開口率に応じ、前記関係式１と関係式２のグラフによって定義される導電性ラインの線幅（Ｗ）と、導電性ラインによって閉鎖されるセルの特性長さの平均値（Ｌｃ_ａｖ）の許容領域を示した。図１に示された２つのグラフの下部重畳領域において、導電性ラインの線幅（Ｗ）と導電性ラインによって閉鎖されるセルの特性長さの平均値（Ｌｃ_ａｖ）を定めることにより、視野を遮らない導電性基板を提供することができる。

上述した関係式１と関係式２による条件を満たす限り本発明の範囲に含まれるが、以下ではさらに好ましい条件について記載する。

本発明は、ディスプレイに採用されるタッチパネルが微細な金属メッシュ線によって構成されることにおいて、使用者にとってディスプレイ性能をそのまま維持すると同時に、金属で構成されたタッチパネルの金属線を隠すためのディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）による金属メッシュ線の線幅とピッチの関係を、金属をなす物質の反射度と連携して定義する。

既存の金属メッシュパターンを利用したタッチパネルの場合、これを利用してタッチパネルを構成することにおいて最も重要な要素は、金属メッシュパターンの線幅の微細化による線の認知性の低減技術が主に使用されてきた。しかし、このような線幅の微細化技術の場合、線幅の縮小と共に、メッシュパターンを構成する線と線の間隔に該当するピッチ（Ｐｉｔｃｈ）の間隔にも線の認知性が異なるため、これに対する適切なピッチの選定が必要となる。このため、このようなピッチの大きさは、結果的にモアレ（Ｍｏｉｒｅ）や透過率のような光学的特性と互いに連関関係を結ぶこととにより、メッシュパターンを利用したタッチパネルの製作時に製作者のデザインの自由度を低下させる短所となる。

このような短所を克服するために、本発明では、ディスプレイの有効画面部の対角線長さによる適正ピッチ（ｐｉｔｃｈ）を優先的に設定した。また、このようなピッチ（ｐｉｔｃｈ）によって既存の発明で発生する、線が認知される問題点を、金属の反射度を調節することによって線の認知性を変化させ、ピッチ（ｐｉｔｃｈ）と線幅の連関性を最小化した。さらに、これにより、タッチパネルを製造するときに使用者にとって線を最大限に隠すと同時に、モアレ（Ｍｏｉｒｅ）や透過率において自由にピッチ（ｐｉｔｃｈ）を設定することができる方法を提示する。

一般的に、ディスプレイは、人間がディスプレイを眺める距離に応じてピクセル（ｐｉｘｅｌ）の大きさを定義するようになる。このとき、ピクセル（ｐｉｘｅｌ）とは、Ｒ／Ｇ／Ｂで構成されたサブピクセル（ｓｕｂ ｐｉｘｅｌ）の集合体を意味するが、大部分のピクセル（ｐｉｘｅｌ）の形状が正方形の形態に近いため、ピクセル（ｐｉｘｅｌ）のピッチ（ｐｉｔｃｈ）がピクセル（ｐｉｘｅｌ）の大きさを意味するようになる。現在、ディスプレイに使用されているピクセル（ｐｉｘｅｌ）は、使用距離に応じ、モバイル（Ｍｏｂｉｌｅ）の場合は約７５μｍ、タブレットやノート型パンコン、モニタのようなモデルの場合は約１５０μｍ、ＴＶモデルの場合は約２００μｍ水準のピクセルサイズであるのが一般的である。下記図２に、本発明の一実施形態に係るディスプレイのピクセルおよびサブピクセルを示した。

上述したように、ディスプレイは、一般的に人間がディスプレイを使用する平均距離に応じてピクセル（Ｐｉｘｅｌ）のピッチが定義されるようになる。このようなディスプレイのピクセル（ｐｉｘｅｌ）のピッチ（ｐｉｔｃｈ）は、ＬＣＤを例に挙げれば、一般的に正方形の形態を仮定することができるため、ディスプレイの仕様に対する情報に応じて類推することができる。

まず、ディスプレイに表示されるＰＰＩ（ｐｉｘｅｌ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）に応じて類推したピクセル（ｐｉｘｅｌ）のピッチ（ｐｉｔｃｈ）は、下記のとおりとなる。

ＰＰＩとは、一般的に、ディスプレイの有効画面部の対角線長さ１インチ内に入るピクセル（ｐｉｘｅｌ）の数を意味するようになる。したがって、ディスプレイに表記されているＰＰＩが２００であると仮定すれば、この場合は１インチ内に約２００個のピクセル（ｐｉｘｅｌ）が存在するという意味になるため、ピクセル（ｐｉｘｅｌ）のピッチ（ｐｉｔｃｈ）はＰ_{ｐｉｘｅｌ}＝２．５４ｃｍ／２００＝０．０１２７ｃｍ、すなわち約１２７μｍ水準のピクセル（ｐｉｘｅｌ）ピッチ（ｐｉｔｃｈ）と解釈することができる。もし、このようなＰＰＩに対する情報がない場合は、解像度に表記された数字によってこれを計算することができるが、ディスプレイに対する情報がＷＸＧＡのように表示された場合には、これに該当する１２８０×８００がＰＰＩを類推することができる情報となる。この他にも、多様な方法によって表示される最大Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ情報値によってＰＰＩを類推することができる。一例として、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎに表記された情報がＡ×Ｂの場合、該当のディスプレイの表示された対角線インチをＩとすれば、（Ａ^２＋Ｂ^２）^１／２がディスプレイの対角線に位置したピクセル（ｐｉｘｅｌ）の数となり、これによってＰＰＩは（Ａ^２＋Ｂ^２）^１／２／ＩがＰＰＩに該当する。すなわち、このときのピクセルピッチは、Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}＝２．５４ｃｍ×Ｉ／（Ａ^２＋Ｂ^２）^１／２と示すことができる。

要約すれば、ピクセルのピッチ（Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}）は、下記数式１で示すことができる。
［数１］
Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}＝２．５４ｃｍ／ＰＰＩ＝２．５４ｃｍ（Ｉ／（Ａ^２＋Ｂ^２）^１／２）
前記数式１において、
Ａはディスプレイ横方向の最大解像度を示し、Ｂはディスプレイ縦方向の最大解像度を示す。

上述したＰＰＩも、解像度を利用して製品のピクセルサイズを換算した結果として、現在に市場から主に流通されている製品を検討した。その結果、モバイルの場合には７７〜２００μｍ水準台までの多様なピクセルピッチを持つディスプレイが採用されており、ノート型パンコンの場合には１７０〜２４０μｍ、モニタの場合には２５０〜３００μｍ、ＴＶの場合には２３０〜６３５μｍ水準のディスプレイが主に採用されていることを確認することができる。

前記結果に基づき、本発明者は、ディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）に対するピクセルピッチの連関関係を導き出し、その結果を下記図３に示した。

上述して提示したディスプレイの有効画面部の対角線長さによるピクセルのピッチの範囲により、本発明では、下記のような解釈による金属メッシュパターンのピッチ範囲の定義が可能となる。まず、金属メッシュパターンがディスプレイ上に装着される場合において最も好ましいことは、メッシュパターンを回転しない状態を仮定したとき、ピクセル（Ｐｉｘｅｌ）１つあたりに１つだけのメッシュ線またはメッシュの交差点が位置することにより、ディスプレイピクセルにおける混色を均一に維持させるようになる。このような観点をさらに確張して解釈すれば、ディスプレイピクセルの場合、一般的に約３：１の長さ比を持つ３つのサブピクセルで構成され、ＯＬＥＤの場合、ペンチル方式の場合には４つのサブピクセルで構成されることを勘案しても、基本的に上述したピクセルのピッチ領域の０．２５倍以下でメッシュパターンのピッチを導入する場合には、メッシュパターンの線幅あるいはメッシュパターンの交差点によって局部的なピクセルの混色の不均一性が発生する恐れがあるため（ピクセル隠れが多発する領域が存在するため）、ピクセルのピッチに対比して０．２５倍以上に設定することが好ましい。

さらには、ピクセルのピッチ以上に金属メッシュパターンのピッチを設定する場合においては、ピクセルのピッチの２倍以上に金属メッシュパターンのピッチを設定する場合、図４に記載したように、金属メッシュパターンの線成分によって隠れたピクセルとそうでないピクセルが交互に現れることにより、全体的な混色の不均一性が発生することがある。

これにより、本発明者は、該当のディスプレイにおいてタッチパネルの金属メッシュパターンが持たなければならないピッチは導入した。

本発明に係る導電性基板は、透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
前記セルの面積の０．５乗値で定義される前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）が下記関係式３を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式３＞
Ｙ_１／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｙ_２
前記関係式３において、
ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。

また、本発明に係る導電性基板は、透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
前記セルの面積の０．５乗値で定義される前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）が下記関係式４を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式４＞
Ｌｐ／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｌｐ
前記関係式４において、
ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（Ｌｐ）である。

また、本発明において、前記セルの特性長さ（Ｌｃ）は、下記関係式５を満たすことができる。
＜関係式５＞
Ｐ_{ｐｉｘｅｌ１}／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｐ_{ｐｉｘｅｌ２}
前記関係式５において、
ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
Ｐ_{ｐｉｘｅｌ１}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの短い幅のピッチであり、Ｐ_{ｐｉｘｅｌ２}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの長い幅のピッチである。

上述して定義した金属メッシュパターンのピッチの導入に加えて重要なことは、メッシュパターンの線幅に対する部分であると言える。一般的に、ディスプレイのピクセルは、下記図５に記載したように３つのサブピクセルで構成されるようになるが、この場合において、それぞれのピクセルを最も多く隠す場合は、各サブピクセルの対角線にメッシュパターンの線が置かれている場合であると言え、これとは反対に最も短く隠れる場合は、各サブピクセルの短い辺と平行に隠れる場合であると言える。したがって、このような観点により、金属メッシュパターンの線幅に応じてディスプレイが隠れることにおいて、面積は下記のように再度計算することができる。

上述したように、ディスプレイによるピクセルの大きさはＰ_{ｐｉｘｅｌ}＝２．５４ｃｍ／ＰＰＩ＝２．５４ｃｍ×Ｉ／（Ａ^２＋Ｂ^２）^１／２であるため、それぞれの場合における、ピクセルの隠れる前に対比する面積はそれぞれ（Ｐ^２ _{ｐｉｘｅｌ}−Ｐ×Ｗ）／Ｐ^２ _{ｐｉｘｅｌ}と（Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}−１０^１／２×Ｐ×Ｗ）^２／Ｐ^２ _{ｐｉｘｅｌ}と表示することができる。このような場合において、一般的に人間が混色の観点においてこれを感じないためには、一般的に約３％以内の開口率差を示さなければならないため、これに基づき、ディスプレイのピクセルのピッチとタッチパネルの金属メッシュパターンの線幅の連関関係を導き出した。

本発明に係る導電性基板は、透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式６を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式６＞
０．０３Ｙ_３≧Ｗ
前記関係式６において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｙ_３はＹ_１≦Ｙ_３≦Ｙ_２の範囲内の実数であるが、ここで、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。

また、本発明に係る導電性基板は、透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式７を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式７＞
０．０３Ｌｐ≧Ｗ
前記関係式７において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（Ｌｐ）である。

また、前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式８を満たすことができる。
＜関係式８＞
０．０３Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}≧Ｗ
前記関係式８において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルのピッチである。

また、本発明に係る導電性基板は、透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式９を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式９＞
３Ｙ_３／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
前記関係式９において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｙ_３はＹ_１≦Ｙ_３≦Ｙ_２の範囲内の実数（μｍ）であるが、ここで、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。

また、本発明に係る導電性基板は、透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式１０を満たすことを特徴とする導電性基板を提供する。
＜関係式１０＞
３Ｌｐ／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
前記関係式１０において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（μｍ）である。

また、前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式１１を満たすことができる。
＜関係式１１＞
３Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
前記関係式１１において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルのピッチである。

一般的に、ディスプレイはＲ、Ｇ、Ｂの３色によってこれを混色し、白色および黒色を生成して映像を表現するようになる。このような観点において最も重要なことは、ブラック（Ｂｌａｃｋ）状態における金属メッシュパターンの視認性に対する部分であると言える。このようなブラック状態の金属メッシュパターンの認知性が重要である理由は、ブラック状態を、ＬＣＤの場合には最も基本的な状態として定義していることに加え、画面においても黒色上の表現がディスプレイの画質に最も重要な要素であるコントラスト比に、極めて重要な影響を及ぼすからであると言える。このような観点において、金属メッシュパターンをなしている金属線のブラック状態における認知性は極めて重要な要素であると言え、このような金属線の認知性に影響を及ぼす要素は、金属の物理的な線幅だけではなく、金属をなしている物質の反射度とも極めて高い連関関係を持っている。本発明では、このような観点において、既存の物理的な線幅だけではなく、金属線をなす物質の反射度を含む新たな可視線幅の概念を下記のように定義する。

本発明において、前記導電性ラインの可視線幅（Ｗ_ｖ）は、下記関係式１２を満たす。
＜関係式１２＞
Ｗｖ＝Ｗ×Ｒ_ｍ
前記関係式１２において、
Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
Ｒ_ｍは、前記導電性パターンを構成する導電性ライン材料の反射度である。

反射度の観点から詳察すれば、ディスプレイのピクセルのピッチをＰ_{ｐｉｘｃｅｌ}、メッシュパターンの線幅をＷ、メッシュパターン材料の反射度をＲ_ｍ、メッシュパターンが適用されるディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおけるディスプレイパネルの明室反射度をａとすれば、金属メッシュパターンを含むディスプレイのすべて反射度は、下記式で示すことができる。
Ｐ_{ｐｉｘｃｅｌ}×Ｗ×Ｒ_ｍ＋（Ｐ^２ _{ｐｉｘｃｅｌ}−Ｐ×Ｗ）×ａ

ここで、肉眼によって区別が不可能である場合、［ｂ_１／ｂ_０−１］の絶対値をｂ、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられたディスプレイパネルの明室反射度をｂ１、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられていないディスプレイパネルだけの明室反射度をｂ_０とすれば、前記式は下記式で整理することができる。
（１−ｂ）×ａ×Ｐ^２ _{ｐｉｘｃｅｌ}≦Ｐ_{ｐｉｘｃｅｌ}≦Ｗ×Ｒ_ｍ＋（Ｐ^２ _{ｐｉｘｃｅｌ}−Ｐ×Ｗ）×ａ≦（１＋ｂ）×ａ×Ｐ^２ _{ｐｉｘｃｅｌ}

前記式を整理すれば、下のとおりとなる。
ａ×（Ｗ−ｂ×Ｐ_{ｐｉｘｃｅｌ}）≦Ｗ×Ｒ_ｍ≦ａ×（Ｗ＋ｂ×Ｐ_{ｐｉｘｃｅｌ}）

このとき、Ｗ×Ｒ_ｍは、前記関係式１２で整理した可視線幅（Ｗ_ｖ）に代替することができ、可視線幅の値は０以上であるため、最終的に下記関係式１３のような式を導き出すことができる。
＜関係式１３＞
０≦ａ×（Ｗ−ｂ×Ｐ_{ｐｉｘｃｅｌ}）≦Ｗ_ｖ≦ａ×（Ｗ＋ｂ×Ｐ_{ｐｉｘｃｅｌ}）

また、前記関係式１３から０≦（Ｗ−ｂ×Ｐ_{ｐｉｘｃｅｌ}）であるため、ｂ≦Ｗ／Ｐ_{ｐｉｘｃｅｌ}の関係を持つことが分かる。

前記関係式１３において、ａは０．１１以下であることができるが、これだけに限定されるものではない。また、ｂは０．０３以下であることができ、０．１１５以下であることができるが、これだけに限定されるものではない。

本発明において、前記関係式１３による可視線幅（Ｗ_ｖ）は、０超過３．６μｍ以下であることができ、０超過２．４μｍ以下であることができるが、これだけに限定されるものではない。

本発明において、明室反射度とは、反射率を測定しようとする面の反対面をブラックペースト（Ｂｌａｃｋ ｐａｓｔｅ）またはテープ（ｔａｐｅ）などを利用して反射率を０に生成した後、測定しようとする面の反射度のみを測定して観察した値であって、このときに入ってくる光源は、周辺光（ａｍｂｉｅｎｔ ｌｉｇｈｔ）条件と最も類似するディフューズ（ｄｉｆｆｕｓｅ）光源を選択した。また、このとき、反射率を測定する測定位置は、積分球半円の垂直線から約７度傾いた位置を基本とした。下記図１０は、このような反射率測定のための装置の構成および構造（Ｓｃｈｅｍｅ）を示している。

下記図１１のように、スクリーンの横／縦の比率を１６：９とし、スクリーンの高さをｈ、対角線長さをｄとし、使用者がディスプレイを見る視野角をａとし、スクリーンの横長さをｗ、目とスクリーンの間の視聴距離をＤとすれば、
ｗ＝Ｄｔａｎ（ａ／２）×２
対角線長さに該当するインチは
ｈ＝ｗ×９／１６
Ｉ＝（ｗ^２＋ｈ^２）^１／２＝［（Ｄ×ｔａｎ（ａ／２）×２）^２＋（Ｄ×ｔａｎ（ａ／２）×２×９／１６）^２］^１／２

人間の視覚は、片目だけ開いた場合には水平１６０度、垂直１７５度の視野を持ち、両目をすべて開いた場合には水平２００度、垂直１３５度であり、両目をすべて開いたときに重なる視野角は水平１２０度、垂直１３５度であると知られている。すなわち、両目すべてを開いて見るときには、横から約１２０度で入ってくる物体だけを識別することができるという意味となり、このような１２０度のうちで集中が可能な視野角は約３０度であるため、一般的に使用者のディスプレイ視聴の時視野角を３０度と仮定すれば、数式は下記のように要約される。
Ｄ＝１．６２６４Ｉ（インチをｃｍに換算して代入しなければならない。単位ｃｍ）

人間の事物を区分する能力は、角解像度（ａｎｇｌｅ ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ）で表現される。これは、１度範囲内に区分することができる黒線と白線のペアの数がいくつであるのかを示すものであって、黒／白のペアを１サイクルとし、Ｃｙｃｌｅ ｐｅｒ ｄｅｇｒｅｅ（ＣＰＤ）と表現される（図１２）。これは、下記のようにＤだけ離隔した距離において、１度視聴覚範囲に該当するｗ幅にどれだけ多くのサイクルが存在するのかに関するものであるが、周知によれば５０ＣＰＤ、すなわち５０サイクルが人間網膜の限界として知られている（図１３）。

このようなＣＰＤの距離による関数は、図１２のように、距離Ｄに応じてＤ＝ｗ／ｔａｎ（１度／２）×２と定義されるが、このとき、これをｗに対する式で換算すれば、ｗ＝２Ｄｔａｎ（０．５度）＝０．０１７４５Ｄとなる。

このとき、（ｗ距離内に入っているピクセルの個数×２）がＣＰＤ値であり、網膜が区分することができる限界の上限および下限はそれぞれ０．５と５０である。

これは、ピクセルのペアとして解釈することができるため、結局、該当のピクセルは１と１００に該当し、まず、距離Ｄによるインチ数式を上のｗ＝２Ｄｔａｎ（０．５度）＝０．０１７４５６Ｄに代入すればＤ＝１．６２６４Ｉであるため、ｗ＝０．０２８４Ｉ（ｃｍ）に換算することができる。

網膜の限界に対応する値はＰ＝ｗとＰ＝ｗ／１００であるため、それぞれをインチとピクセルのピッチに換算すればそれぞれ
１Ｐ＝０．０２８４Ｉ→Ｐ＝０．０１４２Ｉ（ｃｍ）
１００Ｐ＝０．０２８４Ｉ→Ｐ＝０．０００２８Ｉ（ｃｍ）となる。

単位がｃｍであるため、これをマイクロメータで換算すれば、
Ｐ＝２８４Ｉ
Ｐ＝２．８１Ｉ（μｍ）

Ｉをインチに代入したとき、ピクセルピッチが計算されるように数式を変えれば、
Ｐ＝１１１．８Ｉ
Ｐ＝１．１０Ｉ

これをグラフに表示すれば、図３の点線領域に該当する。

しかし、このような領域すべてがディスプレイ製造の領域とはならず、現在、一般的に製造されているディスプレイのインチに対するピクセルピッチの上限および下限、さらに主に製造されるインチによるピクセルは、図３の赤色実線および青色実線、そして黒色実線で表現されている。このとき、黒色実線で表現された主に製作されるディスプレインチによるピクセルのピッチをＣＰＤで換算すれば約９．８のＣＰＤ値となるが、これは視聴者が眺める距離から約１度の範囲に約２０個のピクセルを配列する規則によるものであるという意味に解釈することができ、これは、図１３において、ＣＰＤによる視感関数がＭａｘになる領域である８付近の領域に該当することができる。

本発明において、前記導電性ラインは直線からなることもできるが、曲線、波線、ジグザグ線などの多様な変形が可能である。また、前記形態の線のうちの少なくとも２種が混在した形態であることもできる。

本発明において、前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されるセルであって、３角以上、例えば、３角形、４角形、５角形、６角形、または７角形以上の多角形パターンを含むことができる。

本発明において、前記導電性パターンは、規則パターンを含むことができる。ここで、規則パターンとは、パターンの形態が規則性を持つことを意味する。例えば、前記導電性パターンは、長方形または正方形のようなメッシュ形態や、六角形のような形態のパターンを含むことができる。

上述した導電性パターンを製作するためには、まず、目的とするパターン形態を決めた後、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを利用した方法、スパッタリングまたはインクジェット法などを利用することにより、透明基材上に線幅が薄くて精密な導電性パターンを形成することができる。

前記印刷法は、導電性パターン材料を含むペーストを目的とするパターン形態であって、透明基材上に転写した後に焼成する方式で実行することができる。前記転写方法としては特に限定されるものではないが、凹版またはスクリーンなどのパターン転写媒体に前記パターン形態を形成し、これを利用して所望するパターンを透明基材に転写することができる。前記パターン転写媒体にパターン形態を形成する方法は、当技術分野で周知の方法を利用することができる。

前記印刷法としては特に限定されるものではなく、オフセット印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷などの印刷法を使用することもでき、これらのうちの１種以上の複合方法を使用することもできる。前記印刷法は、ロール対ロール（ｒｏｌｌ ｔｏ ｒｏｌｌ）方法、ロール対平板（ｒｏｌｌ ｔｏ ｐｌａｔｅ）、平板対ロール（ｐｌａｔｅ ｔｏ ｒｏｌｌ）、または平板対平板（ｐｌａｔｅ ｔｏ ｐｌａｔｅ）方法を使用することができる。

本発明では、精密な導電性パターンを実現するために、リバースオフセット印刷法を応用することが好ましい。図６には、リバースオフセット印刷方法を利用した直接間接工程を例示している。図６によれば、ブラケットと呼ばれるシリコン系ゴムの上に、エッチング（Ｅｔｃｈｉｎｇ）の際にレジスト（Ｒｅｓｉｓｔ）の役割を行うことができるインクを全面にコーティングした後、これを１次クリシェと呼ばれるパターンが刻まれている凹版を利用して必要のない部分を取り除き、２次にブラケットに残っている印刷パターンを金属などが蒸着されているフィルムあるいはガラスのような基材に転写した後、これを焼成およびエッチング工程を経ることによって所望するパターンを形成する方法を実行することができる。このような方法を利用する場合、属が蒸着された基材を利用するによって全領域における線高の均一性が確保され、厚さ方向の抵抗を均一に維持することができるという長所がある。

本発明が適用されるさらに他の例は、図７のようなグラビアオフセット（Ｇｒａｖｕｒｅ ｏｆｆｓｅｔ）方式を利用するものである。グラビアオフセット印刷は、パターンが刻まれた凹版にペーストを満たした後、ブラケットで１次転写をさせた後、ブラケットと透明基材を密着させて２次転写をさせる方式で実行されることができる。この他にも、グラビア印刷は、ロール上にパターンが刻まれたブラケットを巻いてペーストをパターン内に満たした後、透明基材に転写させる方式によって変形して実行することができる。本発明では、このような方式だけではなく、このような方式が複合的に使用されることもできる。さらに、その他の当業者に周知の印刷方式、例えば、スクリーン印刷方式などを使用することもできる。

本発明では、上述した印刷法に限定されるものではなく、フォトリソグラフィ工程を使用することもできる。例えば、フォトリソグラフィ工程は、透明基材の全面に導電性パターン材料層を形成し、その上にフォトレジスト層を形成し、選択的露光および現像工程によってフォトレジスト層をパターン化した後、パターン化されたフォトレジスト層をエッチングレジストを利用して導電性パターンをパターン化し、フォトレジスト層を取り除く方式によって実行されることができる。

また、本発明は、フォトグラフィ方法を利用することもできる。例えば、透明基材上にハロゲン化銀を含んだ写真感光材料を塗布した後、前記感光材料を選択的露光および現像工程によってパターンを形成することもできる。さらに詳細な例を挙げれば、下記のとおりとなる。まず、パターンを形成しようとする基材上にネガティブ用感光材料を塗布する。このとき、基材としては、ＰＥＴ、アセチルセルロイドなどの高分子フィルムを使用することができる。感光材料が塗布された高分子フィルム材を、ここではフィルムと称する。前記ネガティブ用感光材料は、一般的に、光に対して極めて敏感で規則的な反応をするＡｇＢｒに若干のＡｇＩを混ぜたハロゲン化銀（Ｓｉｌｖｅｒ Ｈａｌｉｄｅ）で構成することができる。一般的なネガティブ用感光材料を撮影して現像処理された画像は、被写体とコントラストが反対となる陰画であるため、形成しようとするパターン形状、好ましくは不規則なパターン形状のマスク（ｍａｓｋ）を利用して撮影を行うことができる。

フォトリソグラフィとフォトグラフィ工程を利用して形成された前記導電性パターンの伝導度を高めるために、メッキ処理を追加で行うこともできる。前記メッキは無電解メッキ方法を利用することができ、メッキ材料としては銅またはニッケルを使用することができ、銅メッキを行った後、その上にニッケルメッキを行うことができるが、本発明の範囲がこれだけに限定されるものではない。

また、本発明は、ハード（ｈａｒｄ）マスクを利用した方法を利用することもできる。例えば、目的とする導電性パターンの形状を持つマスクを基材の近くに位置させた後、導電性パターン材料を基材に蒸着する方式を利用してパターン化することもできる。このとき、蒸着をする方式は、熱または電子ビームによる熱蒸着法、およびスパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）のようなＰＶＤ（ｐｈｙｓｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方式を利用することもでき、有機金属（ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ）材料を利用したＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方式を利用することもできる。

また、本発明は、インプリンティング（Ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程によって製造することができる。導電性金属などが蒸着された基材上にインプリンティング（Ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）が可能な樹脂をコーティングした後、これを予め準備していたモールドパターン（ｍｏｌｄ ｐａｔｔｅｒｎ）を利用して印刷した後、乾式エッチング（Ｄｒｙ ｅｔｃｈｉｎｇ）およびエッチング（Ｅｔｃｈｉｎｇ）工程を経て金属線をパターン化した後に樹脂を取り除いたり、インプリンティング用樹脂をモールドによってパターン化した後にパターンの間を導電性物質で部分充填してそれ自体を使用したり、あるいはこれを他の基材に転写する方法を採択することができる。

本発明において、前記導電性パターンは、線幅２０マイクロメータ以下の導電性ラインを含むことができ、１５マイクロメータ以下、１０マイクロメータ以下、７マイクロメータ以下、４マイクロメータ以下、または３マイクロメータ以下の線幅を持つ導電性ラインを含むことができる。

本発明において、前記導電性ラインの線幅は、０．５〜１０マイクロメータ範囲内で調節されることができる。

本発明において、導電性パターンの開口率、すなわち、パターンによって覆われない透明基材の面積の比率は７０％以上であることが好ましく、９０％以上、９３％以上、９５％以上、９６％以上、９７％以上、９８％以上、９９％以上であることもできる。

本発明の一実施形態によれば、前記伝導体は、導電性パターンが形成されない領域を含むことができる。

本発明の一実施形態によれば、前記導電性パターンは黒化されることができる。これにより、導電性パターンが金属材料からなる場合でも、可視性をさらに減少させることができる。直接に導電性材料を印刷してパターンを形成する場合には、前記導電性パターンを黒化させるために、導電性パターン形成のためのペーストあるいはインクに黒化物質を添加したり、前記ペーストあるいはインクを印刷および焼成した後に黒化処理を行うことにより、導電性パターンを黒化させることができる。

前記インクあるいはペーストで添加される黒化物質としては、金属酸化物、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、黒色顔料、着色されたガラスフリットなどがある。焼成後の黒化処理は、インクあるいはペーストがＡｇ系列の場合は酸化溶液、例えば、ＦｅまたはＣｕイオン含有溶液に浸漬、塩素イオンなどのハロゲンイオン含有溶液に浸漬、過酸化水素、窒酸などへの浸漬、ハロゲンガスへの処理などによって処理することができる。

金属材料を直接に印刷する方法ではなく、エッチングによって形成する方法の場合のさらに他の形態の黒化の例は、人間が眺める面に黒化層を蒸着した後、伝導度を付与するための層をその上に蒸着し、後続エッチング工程時に一度でパターニングする方法を使用することができる。一例として、ＭｏＯｘＮｙによって黒化層を蒸着した後、Ａｌ層をその上に蒸着し、このような基材上にレジストインクを印刷してエッチングする場合、ＭｏＯｘＮｙとＡｌがリン酸、窒酸、酢酸、水の混合液のようなエッチング液（Ｅｔｃｈａｎｔ）に同時にパターン化されることにより、所望する面の黒化を処理することができる。

本発明において、前記透明基材としては特に限定されるものではないが、光透過率が５０％以上、好ましくは７５％以上、さらに好ましくは８８％以上のものが好ましい。具体的に、前記透明基材としてはガラスを使用することができ、プラスチック基板またはプラスチックフィルムを使用することもできる。前記プラスチック基板またはフィルムとしては、当技術分野で周知の材料を使用することができるが、例えば、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエポキシ系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系、およびセルロース系のうちから選択された１種以上の樹脂で形成されたものを使用することができる。さらに具体的に、ＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＶＢ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｂｕｔｙｒａｌ）、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アセチルセルロイドのような可視光透過率８０％以上のフィルムが好ましい。前記プラスチックフィルムの厚さは１２．５〜５００マイクロメータであることが好ましく、５０〜４５０マイクロメータであることがより好ましく、５０〜２５０マイクロメータであることがさらに好ましい。前記プラスチック基板は、プラスチックフィルムの片面または両面に、水分、ガス遮断のためのガスバリア層、強度補強および透過率向上、ヘイズ（Ｈａｚｅ）値低下のためのハードコート層のような多様な機能成層が積層された構造を持つ基板であることができる。前記プラスチック基板に含まれる機能性層は上述したものに限定されるものではなく、多様な機能成層を備えることができる。

前記導電性パターンは、ディスプレイ、タッチパネル、有機発光素子照明のように、本発明の導電性基板が適用される素子または装置に含まれる部品、例えば、基板上に直接に形成されることもできる。

本発明において、前記導電性パターンの材料としては、電気伝導度が優れた金属を使用することが好ましい。また、前記導電性パターン材料の比抵抗値は１ｍｉｃｒｏＯｈｍ ｃｍ以上１００ｍｉｃｒｏＯｈｍ ｃｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは１ｍｉｃｒｏＯｈｍ ｃｍ以上５ｍｉｃｒｏＯｈｍ ｃｍ以下の値であることが好ましい。導電性パターン材料の具体的な例としては、アルミニウム、銅、銀（ｓｉｌｖｅｒ）、金、鉄、モリブデン、ニッケル、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、チタニウムおよびこの合金（Ａｌｌｏｙ）あるいは酸化物、窒化物または酸化窒化物などを使用することができる。ただし、アルミニウムが価格および伝導度の側面において最も好ましい。前記導電性パターン材料は、直接印刷の場合には粒子形態に変換して使用することもできるが、このときの粒子形態は、上述して列挙した金属の単一組成あるいは混合組成を持つ粒子が可能である。

本発明において、前記導電性パターン材料を含むインクあるいはペーストを利用する場合、前記インクあるいはペーストは、印刷工程が容易になるように、上述した導電性パターン材料の他に有機バインダをさらに含むこともできる。前記有機バインダは、焼成工程で揮発する性質を持つことが好ましい。前記有機バインダとしては、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、および変性エポキシなどがあるが、これだけに限定されるものではない。

本発明に係る導電性基板は電源に連結することができるが、このとき、開口率を考慮した単位面積あたりの抵抗値は、常温で０．０１ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ〜１０００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ、好ましくは５ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ〜１５０ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅである。

本発明に係る導電性基板は、導電性基板自体の構成以外の外部要因によって電流を伝導させたり電圧を印加させたりする用途として利用されることができる。本発明に係る導電性基板は、導電性が求められる用途に多様に使用されることができる。例えば、電磁波遮断フィルム、タッチパネル、発光素子補助電極、太陽電池補助電極などに使用されることができる。前記発光素子用補助電極は、具体的に、有機発光素子（ＯＬＥＤ）照明用補助電極であることができる。

本発明の一実施形態によれば、上述した本発明の導電性基板を含む電子素子を提供する。前記電子素子は、前記導電性基板の少なくとも片側に備えられたディスプレイピクセル基板をさらに含み、前記ディスプレイピクセル基板の各ピクセルは、２つ以上のサブピクセルを含むことができる。このとき、前記ディスプレイピクセル基板の各ピクセルは、３つまたは４つのサブピクセルを含むことができる。

前記電子素子は、タッチパネル、有機発光素子照明、または有機太陽電池であることができる。

また、本発明の一実施形態によれば、上述した本発明の導電性基板を含むディスプレイ装置を提供する。本発明に係るタッチパネルは下部基材、上部基材、および前記下部基材の上部基材に接する面および前記上部基材の下部基材に接する面のいずれか片面または両面に備えられた電極層を含むことができる。前記電極層はそれぞれ、Ｘ軸位置検出およびＹ軸位置検出の機能を行うことができる。

このとき、前記下部基材および前記下部基材の上部基材に接する面に備えられた電極層、および前記上部基材および前記上部基材の下部基材に接する面に備えられた電極層のうちの１つまたは２つすべてが、上述した本発明に係る導電性基板であることができる。前記電極層のいずれか１つだけが本発明に係る導電性基板である場合、残りの１つは当技術分野で周知のパターンを持つことができる。

前記上部基材と前記下部基材すべての一面に電極層が備えられて２層の電極層が形成される場合、前記電極層の間隔を一定に維持し、接続が起こらないように前記下部基材と上部基材の間に絶縁層またはスペーサが備えられることができる。

前記絶縁層は、粘着剤またはＵＶ、あるいは熱硬化性樹脂であることが好ましい。前記タッチパネルは、上述した導電性パターンと連結した接地部をさらに含むことができる。例えば、前記接地部は、前記透明基材の導電性パターンが形成された面の端部に形成されることができる。

また、前記導電性基板の少なくとも一面には、反射防止フィルム、偏光フィルム、耐指紋フィルムのうちの少なくとも１つが備えられることができる。設計の仕様に応じ、上述した機能性フィルム以外の種類の機能性フィルムをさらに含むこともできる。このようなタッチパネルは、ＯＬＥＤディスプレイパネル（ＯＬＥＤ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣ ＬｃＤ）、および陰極選管（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ：ＣＲＴ）、ＰＤＰのようなディスプレイ装置に適用されることができる。

本発明に係るタッチパネルは、このような構造に限定されるものではなく、１つの基材に第１電極と第２電極がすべて形成された構造や、下部基材の電極層が上部基材の電極層が備えられていない面に積層される構造も含む。

本発明の他の実施形態によれば、上述した本発明の導電性基板を含む有機発光素子（ＯＬＥＤ）照明用補助電極、およびこれを含む有機発光素子照明を提供する。一例として、本発明に係る有機発光素子照明は、第１電極、第１電極上に配置された補助電極、前記補助電極上に配置された絶縁層、少なくとも一層の有機物層、および第２電極を含み、前記補助電極は本発明に係る導電性パターンであることを特徴とすることができる。前記補助電極は、第１電極上に直接に形成されることができ、第１電極上に透明基材および導電性パターンを含む導電性基板が位置することができる。

また、本発明に係るさらに他の実施形態は、有機発光素子（ＯＬＥＤ）照明用補助電極と同一または類似した構造を採用している有機太陽電池（ｓｏｌａｒ ｃｅｌｌ）の補助電極およびこれを含む有機太陽電池を提供する。

以下、本発明の理解を助けるために、好ましい実施例を提示する。
しかし、下記の実施例は本発明を例示するためものに過ぎず、これによって本発明の範囲が限定されるものではない。

＜実施例１＞
ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）基材上にＡｌ金属を蒸着した後、２．７μｍの線幅のストライプパターンをプリンティング工程によって形成し、エッチングおよび剥離工程を経て導電性パターンを形成した。

＜比較例１＞
ＰＥＴ基材上にＡｌ金属を蒸着した後、１０μｍの線幅のストライプ（Ｓｔｒｉｐｅ）パターンをプリンティング工程によって形成した後、エッチングおよび剥離工程を経てサンプルを形成した。

前記実施例１に係る導電性パターンを下記図８に示し、前記比較例１に係る導電性パターンを下記図９に示した。図８および図９の結果のように、ディスプレイのピクセルピッチに対して３％超過である線幅の導電性パターンは、視認性特性が不利であることが分かる。

＜実施例２〜１０および比較例２〜１０＞
下記表１のように、ディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）、ディスプレイのピクセルピッチ、金属メタルメッシュパターンのピッチ、線幅などを評価し、これによる適用適合性の可否を評価した。

＜実施例１１〜１２および比較例１１〜１２＞
下記表２のように、導電性パターンの明室反射度および可視線幅を評価した。

Claims (42)

1. 透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
   前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
   前記セルの面積の０．５乗値を前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）として定義し、
   前記セルの特性長さ（Ｌｃ）の平均（Ｌｃ_ａｖ）をＸ軸、前記導電性ラインの線幅（Ｗ）をＹ軸として関係式１を示すグラフ１と下記関係式２を示すグラフ２を図に示すとき、前記グラフ１の下部領域と前記グラフ２の下部領域の交差領域に前記導電性ラインの線幅（Ｗ）および前記セルの特性長さの平均（Ｌｃ_ａｖ）が含まれることを特徴とする、導電性基板。
   ＜関係式１＞
   Ｗ＝［（１／ＡＲ^０．５）−１］Ｌｃ_ａｖ
   ＜関係式２＞
   Ｗ＝１３ｅｘｐ（−０．００５２Ｌｃ_ａｖ）＋α
   前記関係式１および２において、
   Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
   Ｌｃ_ａｖは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルの特性長さの平均であり、
   ＡＲは前記導電性パターンの開口率であり、
   αは定数である。
2. 前記セルの特性長さ（Ｌｃ）をＸ軸、前記導電性ラインの線幅（Ｗ）をＹ軸として前記関係式１を示すグラフ１と前記関係式２を示すグラフ２を図に示すとき、前記グラフ１の下部領域と前記グラフ２の下部領域の交差領域に前記導電性ラインの線幅（Ｗ）および前記セルの特性長さ（Ｌｃ）が含まれることを特徴とする、請求項１に記載の導電性基板。
3. 前記セルの特性長さ（Ｌｃ）は、下記関係式３を満たすことを特徴とする、請求項１または２に記載の導電性基板：
   ＜関係式３＞
   Ｙ_１／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｙ_２
   前記関係式３において、
   ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
   Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
   Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
   Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
   前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。
4. 前記セルの特性長さ（Ｌｃ）は、下記関係式４を満たすことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の導電性基板。
   ＜関係式４＞
   Ｌｐ／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｌｐ
   前記関係式４において、
   ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
   Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（Ｌｐ）である。
5. 前記セルの特性長さ（Ｌｃ）は、下記関係式５を満たすことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の導電性基板。
   ＜関係式５＞
   Ｐ_{ｐｉｘｅｌ１}／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｐ_{ｐｉｘｅｌ２}
   前記関係式５において、
   ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
   Ｐ_{ｐｉｘｅｌ１}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの短い幅のピッチであり、Ｐ_{ｐｉｘｅｌ２}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの長い幅のピッチである。
6. 前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式６を満たすことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の導電性基板。
   ＜関係式６＞
   ０．０３Ｙ_３≧Ｗ
   前記関係式６において、
   Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
   Ｙ_３はＹ_１≦Ｙ_３≦Ｙ_２の範囲内の実数であるが、ここで、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
   Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
   Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
   前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。
7. 前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式７を満たすことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の導電性基板。
   ＜関係式７＞
   ０．０３Ｌｐ≧Ｗ
   前記関係式７において、
   Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
   Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（Ｌｐ）である。
8. 前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式８を満たすことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の導電性基板。
   ＜関係式８＞
   ０．０３Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}≧Ｗ
   前記関係式８において、
   Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
   Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルのピッチである。
9. 前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式９を満たすことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の導電性基板。
   ＜関係式９＞
   ３Ｙ_３／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
   前記関係式９において、
   Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
   Ｙ_３はＹ_１≦Ｙ_３≦Ｙ_２の範囲内の実数（μｍ）であるが、ここで、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
   Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
   Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
   前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。
10. 前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式１０を満たすことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の導電性基板。
    ＜関係式１０＞
    ３Ｌｐ／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
    前記関係式１０において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（μｍ）である。
11. 前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式１１を満たすことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の導電性基板。
    ＜関係式１１＞
    ３Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
    前記関係式１１において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルのピッチである。
12. 前記導電性ラインの可視線幅（Ｗ_ｖ）は下記関係式１２を満たし、０超過３．６μｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の導電性基板。
    ＜関係式１２＞
    Ｗ_ｖ＝Ｗ×Ｒ_ｍ
    前記関係式１２において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｒ_ｍは、前記導電性パターンを構成する導電性ライン材料の反射度である。
13. 前記導電性パターンが適用されるディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおけるディスプレイパネルの明室反射度は、０．１１以下であることを特徴とする、請求項１２に記載の導電性基板。
14. 肉眼によって区別が不可能である場合、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられたディスプレイパネルの明室反射度をｂ_１、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられていないディスプレイパネルだけの明室反射度をｂ_０とし、［ｂ_１／ｂ_０−１］の絶対値が０．０３以下であることを特徴とする、請求項１２に記載の導電性基板。
15. 肉眼によって区別が不可能である場合、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられたディスプレイパネルの明室反射度をｂ_１、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられていないディスプレイパネルだけの明室反射度をｂ_０とし、［ｂ_１／ｂ_０−１］の絶対値が０．１１５以下であることを特徴とする、請求項１２に記載の導電性基板。
16. 前記導電性パターンは、規則パターンを含むことを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の導電性基板。
17. 前記導電性パターンは、不規則パターンを含むことを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の導電性基板。
18. 前記導電性パターンは、３角以上の多角形パターンを含むことを特徴とする、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の導電性基板。
19. 前記導電性パターンは、線幅２０マイクロメータ以下の導電性ラインを含むことを特徴とする、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の導電性基板。
20. 前記導電性パターンは、線幅０．５〜１０マイクロメータの導電性ラインを含むことを特徴とする、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の導電性基板。
21. 前記導電性パターンの開口率は、９０％以上であることを特徴とする、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の導電性基板。
22. 前記導電性パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の導電性基板。
23. 前記導電性パターンは、金属からなることを特徴とする、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の導電性基板。
24. 前記導電性パターンは、金属層および前記金属層の少なくとも一面に備えられた顔色化層を含むことを特徴とする、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の導電性基板。
25. 透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
    前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
    前記セルの面積の０．５乗値で定義される前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）が下記関係式３を満たすことを特徴とする、導電性基板。
    ＜関係式３＞
    Ｙ_１／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｙ_２
    前記関係式３において、
    ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
    Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
    Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
    Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
    前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。
26. 透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
    前記導電性パターンは、前記導電性ラインによって閉鎖されたセルを含み、
    前記セルの面積の０．５乗値で定義される前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）が下記関係式４を満たすことを特徴とする、導電性基板。
    ＜関係式４＞
    Ｌｐ／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｌｐ
    前記関係式４において、
    ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
    Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（Ｌｐ）である。
27. 前記セルの特性長さ（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ Ｌｅｎｇｔｈ）（Ｌｃ）が下記関係式５を満たすことを特徴とする、請求項２６に記載の導電性基板。
    ＜関係式５＞
    Ｐ_{ｐｉｘｅｌ１}／ｎ≦Ｌｃ≦２Ｐ_{ｐｉｘｅｌ２}
    前記関係式５において、
    ｎは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルから一側方向に羅列するサブピクセルの個数であり、
    Ｐ_{ｐｉｘｅｌ１}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの短い幅のピッチであり、Ｐ_{ｐｉｘｅｌ２}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの長い幅のピッチである。
28. 透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
    前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式６を満たすことを特徴とする、導電性基板。
    ＜関係式６＞
    ０．０３Ｙ_３≧Ｗ
    前記関係式６において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｙ_３はＹ_１≦Ｙ_３≦Ｙ_２の範囲内の実数であるが、ここで、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
    Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
    Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
    前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。
29. 透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
    前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式７を満たすことを特徴とする、導電性基板。
    ＜関係式７＞
    ０．０３Ｌｐ≧Ｗ
    前記関係式７において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（Ｌｐ）である。
30. 前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式８を満たすことを特徴とする、請求項２９に記載の導電性基板。
    ＜関係式８＞
    ０．０３Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}≧Ｗ
    前記関係式８において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルのピッチである。
31. 透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
    前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式９を満たすことを特徴とする、導電性基板。
    ＜関係式９＞
    ３Ｙ_３／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
    前記関係式９において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｙ_３はＹ_１≦Ｙ_３≦Ｙ_２の範囲内の実数（μｍ）であるが、ここで、Ｙ_１およびＹ_２はそれぞれ下記式で表示される。
    Ｙ_１＝（２．９Ｑ＋６８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
    Ｙ_２＝（１３．３Ｑ＋９８．１）×１μｍ／１ｉｎｃｈ
    前記式において、Ｑは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの有効画面部の対角線長さ（ｉｎｃｈ）である。
32. 透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、
    前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式１０を満たすことを特徴とする、導電性基板。
    ＜関係式１０＞
    ３Ｌｐ／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
    前記関係式１０において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｌｐは、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルの面積の０．５乗値で定義されるピクセルの特性長さ（μｍ）である。
33. 前記導電性ラインの線幅（Ｗ）は、下記関係式１１を満たすことを特徴とする、請求項３２に記載の導電性基板。
    ＜関係式１１＞
    ３Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}／（１００×１０^１／２）≧Ｗ
    前記関係式１１において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｐ_{ｐｉｘｅｌ}は、前記導電性基板が適用されるディスプレイの各ピクセルのピッチである。
34. 透明基材および前記透明基材上に備えられた導電性ラインを含む導電性パターンを含む導電性基板であって、前記導電性ラインの可視線幅（Ｗ_ｖ）は下記関係式１２を満たし、０超過３．６μｍ以下であることを特徴とする、導電性基板。
    ＜関係式１２＞
    Ｗ_ｖ＝Ｗ×Ｒ_ｍ
    前記関係式１２において、
    Ｗは前記導電性ラインの線幅であり、
    Ｒ_ｍは、前記導電性パターンを構成する導電性ライン材料の反射度である。
35. 前記導電性パターンが適用されるディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおけるディスプレイパネルの明室反射度は、０．１１以下であることを特徴とする、請求項３４に記載の導電性基板。
36. 肉眼によって区別が不可能である場合、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられたディスプレイパネルの明室反射度をｂ_１、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられていないディスプレイパネルだけの明室反射度をｂ_０とし、［ｂ_１／ｂ_０−１］の絶対値が０．０３以下であることを特徴とする、請求項３４に記載の導電性基板。
37. 肉眼によって区別が不可能である場合、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられたディスプレイパネルの明室反射度をｂ_１、ディスプレイオフ（ｏｆｆ）モードにおける導電性パターンが備えられていないディスプレイパネルだけの明室反射度をｂ_０とし、［ｂ_１／ｂ_０−１］の絶対値が０．１１５以下であることを特徴とする、請求項３４に記載の導電性基板。
38. 請求項１〜３７のいずれか一項に記載の導電性基板を含む、電子素子。
39. 前記電子素子は、前記導電性基板の少なくとも片側に備えられたディスプレイピクセル基板をさらに含み、前記ディスプレイピクセル基板の各ピクセルは、２つ以上のサブピクセルを含むことを特徴とする、請求項３８に記載の電子素子。
40. 前記ディスプレイピクセル基板の各ピクセルは、３つまたは４つのサブピクセルを含むことを特徴とする、請求項３９に記載の電子素子。
41. 前記電子素子は、タッチパネル、有機発光素子照明、または有機太陽電池である、請求項３８〜４０のいずれか一項に記載の電子素子。
42. 請求項１〜３７のいずれか一項に記載の導電性基板を含む、ディスプレイ装置。