TW201342154A - 導電基板及包含其之電子裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係有關於一種導電基板以及包含其之電子裝置，該導電基板包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線。

Description

導電基板及包含其之電子裝置
本申請案主張於2011年12月23日向韓國專利局提出之韓國專利第10-2011-0141747號申請案之優先權，其中該些案所揭露之內容全部併入本案參考。
本發明係關於一種導電基板及包含其之電子裝置。更具體地，本發明係關於一種具有優異導電性及不妨礙視圖之導電基板及包含其之電子裝置。
近年來，當智慧型手機、筆記型電腦、網路電視等分布加速發展，無須分離之輸入裝置，如鍵盤或遙控器等，以人手直接控制之觸控功能作為一輸入裝置之需求逐漸增加。再者，除特定點觸控功能外，一可寫入之多點觸控功能已有額外需求。
一具功能之觸控面板可根據訊號偵測方式而分類如下。
意即，該觸控面板分為電阻式、電容式及電磁式，其中電阻式係於施加直流電壓時，透過電流或電壓之變化以偵測其施壓位置；電容式係於施加交流電壓下利用 電容耦合；而電磁式係於施加磁場的狀態下，由電壓變化偵測一選擇位置。
上述這些類型中，最廣泛的電阻式及電容式觸控面板係藉由使用一透明導電膜(如ITO薄膜)，根據電子觸控或電容變化而辨識觸控與否。然而，大多的透明導電膜具有150 ohm/square以上之高電阻，且當尺寸增加時，靈敏度劣化。此外，當螢幕尺寸增加時，ITO薄膜之成本增加，從而不易商品化。為解決此問題，正試圖藉由使用具有高導電性之金屬圖案實現大尺寸。然而，在具有高導電性之金屬圖案的情況中，其有妨礙視圖之問題。
如上所述，本發明是透過重複進行研究而完成一解決方法，其當使用金屬圖案構成之導電基板時，防止視圖被妨礙。
本發明之一實施態樣係提供一導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電圖案包括複數個由該導電線封閉之單元，該單元之面積之0.5次方之值定義為該些單元之特徵長度(Lc)，且 當藉由設定該單元之平均特徵長度(Lcav)為X軸及設定該導電線之線寬(W)為Y軸以呈現一如下式1之曲線1及一如下式2之曲線2時，該導電線之線寬及該單元之平均特徵長度包括於該曲線1之較低區域及該曲線2之較低區域之一交界區域；[式1]W=[(1/AR0.5)-1]Lcav
[式2]W=13exp(-0.0052Lcav)+α
於式1及式2中，W係為該導電線之線寬；Lcav係為由該導電線封閉之單元之平均特徵長度；AR係為該導電圖案之開口率；以及α係為一常數。
本發明之另一實施態樣係提供一導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電圖案包括複數個由該導電線封閉之單元，由該單元之面積之0.5次方之值所定義之該些單元之特徵長度(Lc)滿足下式3：[式3]
於式3中，n為於使用該導電圖案之該顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Y1及Y2係分別如下方程式所示，Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋
Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋
於該些方程式中，Q為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
本發明之另一實施態樣係提供一導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電圖案包括複數個由該導電線封閉之單元，由該單元之面積之0.5次方之值所定義之該些單元之特徵長度(Lc)滿足下式4：
於式4中，n為於使用該導電圖案之該顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Lp為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度。
本發明之另一實施態樣係提供一導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之線寬(W)滿足下式6：
於式6中，W為該導電線之線寬；以及Y3係為一介於Y1 Y3 Y2之範圍內之實數，且Y1及Y2係分別如下方程式所示：Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋
Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋
於該些方程式中，Q為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
本發明之另一實施態樣係提供一導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之線寬(W)滿足下式7：
於式7中，W係為該導電線之線寬；以及 Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度。
本發明之另一實施態樣係提供一導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之線寬(W)滿足下式9：
於式9中，W為該導電線之線寬；以及Y3係為一介於Y1 Y3 Y2之範圍內之實數，且Y1及Y2係分別如下方程式所示：Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋
Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋
於該些方程式中，Q為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
再者，本發明之另一實施態樣係提供一導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之線寬(W)滿足下式10：
於式10中，W為該導電線之線寬；以及Lp為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度(微米)。
再者，本發明之另一實施態樣係提供一導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之可視寬度(Wv)滿足下式12，且大於0至3.6微米以下：[式12]Wv=W×Rm
於式12中，W為該導電線之線寬；以及Rm為構成該導電圖案之導電線材料之反射率。
再者，本發明之另一實施態樣係提供一種電子裝置，其包括該導電基板。
再者，本發明之另一實施態樣係提供一種顯示裝置，其包含該導電基板。
根據本發明，在使用一由導電線封閉之單元之平均特徵長度及導電線之線寬間之關係的情況下，可提供一導電基板，其具有優異的導電性且不妨礙視圖。據此，如一顯示面板或OLED照明，該導電基板係有用於確保影像 至關重要的電子裝置中。
再者，根據本發明，由於根據一顯示器之像素之間距可衍自該顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)，是以，可衍生根據一金屬網格圖案之像素之間距及線寬，藉由控制該金屬網格圖案之線寬、間距及類似物以及該顯示器之像素間距及類似物，可更有效地提高該導電圖案之影像特性。
圖1顯示由式1及式2曲線所定義之一導電線線寬(W)及由該導電線封閉之單元之平均特徵長度之可允許區域，定義於本發明之式1及式2係根據一開口率。
圖2係為一顯示根據本發明實施態樣之顯示器之像素及次像素之示意圖。
圖3係為一結果圖，顯示根據本發明實施態樣之顯示器之像素間距對有效螢幕部分之對角線長度(英吋)間之關係。
圖4係為一例示根據本發明實施態樣之顯示器之像素之混合顏色之非均勻性示意圖。
圖5係為一例示根據本發明實施態樣之金屬網格圖案所覆蓋之顯示器之一區域之示意圖。
圖6及圖7顯示一根據本發明形成一觸控面板之導電圖案之製程。
圖8及圖9係為顯示本發明實施例及比較例之導電圖案 之結果圖。
圖10係為一顯示根據本發明實施態樣用以測量亮室中反射率之裝置配置及方法示意圖。
圖11係為一例示根據本發明實施態樣之可視線寬之關係示意圖。
圖12係為一顯示根據本發明實施態樣之循環視角(cycle per degree，CPD)之定義示意圖。
圖13係為顯示一根據本發明實施態樣之依循環視角而定之可視功能結果圖。
以下，將詳細描述本發明。
根據本發明之導電基板係為一導電基板，其包括一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電圖案包括複數個由該導電線封閉之單元，該單元之面積之0.5次方之值定義為該些單元之特徵長度(Lc)，且當藉由設定該單元之平均特徵長度(Lcav)為X軸及設定該導電線之線寬(W)為Y軸以呈現一如下式1之曲線1及一如下式2之曲線2時，該導電線之線寬及該單元之平均特徵長度包括於該曲線1之較低區域及該曲線2之較低區域之一交界區域；[式1] W=[(1/AR0.5)-1]Lcav
[式2]W=13exp(-0.0052Lcav)+α
於式1及式2中，W係為該導電線之線寬；Lcav係為由該導電線封閉之單元之平均特徵長度；AR係為該導電圖案之開口率；以及α係為一常數。
於習知技術中，當一導電圖案使用於一電子裝置中，往往使用具有如條狀或網格狀之簡單形狀之圖案，然而最近正在嘗試使用一導電基板，其於電子裝置中使用一具有各種形狀之導電圖案以避免摩耳紋(moire)或其類似物。
然而，當該導電圖案之形狀不同時，一用以降低導電圖案可視度之參考不能被發現以確保視圖，在很大程度上是需要的，如觸控面板。
再者，無限定增加導電圖案開口率或無限定降低導電線線寬的情況下，具有因製造技術而難以達到這樣的尺寸；成本大幅增加；及無法滿足對應裝置所需之其他物理性質如導電度的問題。
本發明係基於發現下述而發展：導電圖案之可視度並不容易僅依賴一種或兩種條件，如開口率或導電線之寬度，而是依賴各種條件，如導電圖案之形狀、尺寸及 開口率，以及導電線之線寬及線之間距。據此，若該導電圖案包含由導電線封閉形成之單元，不論導電圖案的形狀為何，藉由將開口率或導電線之線寬控制於一預定範圍中，本發明可提供一不妨礙視圖之導電圖案。
於本發明中，該單元之面積之0.5次方之值係定義為該由導電線封閉之單元之特徵長度(Lc)。藉由如上述定義之該特徵長度，只要該導電圖案包括該由導電線封閉之單元，無論導電圖案的形狀為何，可衍生出構成不妨礙視圖之導電圖案之條件。該單元之特徵長度可變成該導電圖案之形狀及尺寸之指標、以及該影響導電圖案可視度之導電線之間距。
於本發明中，下式1係為一根據開口率之單元之特徵長度及導電線之線寬間之方程式。
[式1]W=[(1/AR0.5)-1]Lcav
於此，在本發明中，除了式1的條件之外，作為一決定可視度之方程式，係衍生出呈現單元之特徵長度及導電線線寬間之關係之式2。
[式2]W=13exp(-0.0052Lcav)+α
於本發明中，藉由滿足式1曲線圖較低區域的條件及式2曲線圖較低區域的條件，可明確地確保該導電圖案的可視度。
於式2中，α係為一根據製程材料或條件所決 定之常數，一般可為0至2之實數，且舉例而言，可為2。
圖1表示一導電線線寬及該導電線封閉之單元之平均特徵長度之可允許的區域，其係由根據一開口率之式1及式2之曲線圖定義。藉由決定該導電線之線寬(W)及該由導電線封閉之單元之平均特徵長度(Lcav)於圖1所示之兩曲線之較低重疊區域，可提供該不妨礙視圖之導電基板。
只要滿足式1及式2之前述條件，該導電基板係包含於本發明之範疇中，然，以下將描述較佳之條件。
於本發明中，根據該顯示器之有效螢幕部分之對角線(英吋)，一使用者將定義該金屬網格之線寬及間距之間的關係，以當藉由細微金屬網格線構成使用於該顯示器之觸控面板時，遮蔽由金屬製成之觸控面板之金屬線，並保持顯示器與所配置之金屬材料之反射率有關的性能。
在使用存在的金屬網格圖案之觸控面板的情況中，作為配置使用該金屬網格圖案之觸控面板之最重要參數，藉由細化該金屬網格圖案之線寬以減少線之可視度之技術最常被使用。然而，在線寬細化技術的情況中，除了減少線寬之外，當線之可視度隨著對應於構成該金屬圖案之線間距的間距距離變化時，需要適當間距之選擇以變化可視度。此外，當間距尺寸具有與如摩爾紋或透光率之光學特性相關時，於使用金屬圖案製造觸控面板時，會破壞由製造商設計之自由程度。
為了克服上述缺點，於本發明中，係先設定根 據該顯示器有效螢幕部分之對角線長度之適當間距。接著，為了解決可能發生於現有發明中的根據該間距之線之可視度問題，藉由控制金屬反射率而改變線之可視度，從而最小化間距及線寬間之相關性。再者，據此，當製造該觸控面板時，於摩爾紋及透光度中最大限度遮蔽線及自由設定間距之方法可建議給使用者。
一般而言，於顯示器中，像素尺寸係根據人觀察該顯示器之距離而定義。在此情況中，像素係指由R/G/B組成之次像素組合，且由於大多數的像素形狀接近方形，該像素之間距係指該像素之尺寸。迄今，根據使用距離，在手機的情況中，使用於顯示器中的像素通常具有約75微米之像素尺寸；在模組(如平板或筆記型電腦及監視器)的情況中約為150微米；以及在TV模組的情況中約為200微米。以下，圖2係顯示根據本發明實施態樣之顯示器之像素及次像素。
如上所述，於顯示器中，像素之間距一般係根據使用顯示器之使用者之平均距離而定義。例如，於一LCD中，由於假設該顯示器之像素間距一般具有方形，該顯示器之像素間距可透過顯示器之規格資訊而推知。
首先，透過顯示器中顯示之每英吋像素(pixel per inch，PPI)推知之像素間距係如下所述。
PPI一般意指包含於顯示器有效螢幕部分之1英吋對角線長度內之像素數量。是以，假設於該顯示器內呈現之PPI為200，由於此情況意指約有200個像素存在於 1英吋內，其可理解為該像素之間距係為Ppixel=2.54公分/200=0.0127公分，意即，該像素之間距約為127微米。假如沒有PPI之資訊，PPI可經由設計於解析度中的數值計算而得，且在此情況中，資訊係以如WXGA呈現，可推知與WXGA對應之1280×800所對應之PPI資訊。此外，PPI可透過以各種方法呈現之最大解析度資訊之值推知。作為一例，在設計於解析度中的資訊為A×B的情況中，當呈現於對應之顯示器之對角線英吋為I時，(A2+B2)1/2相當於位於該顯示器之對角線之像素數目，因此，(A2+B2)1/2/I係相當於PPI。意即，此情況之像素間距可表示為Ppixel=2.54公分×I/(A2+B2)1/2。
綜上所述，像素之間距Ppixel可由下列方程式1所示。
Ppixel=2.54公分/PPI=2.54公分(I/(A2+B2)1/2)
於方程式1中，A表示於顯示器水平方向之最大解析度，B表示於顯示器垂直方向之最大解析度。
目前市面上主要分佈的產品係透過使用上述PPI或解析度測量轉換產品之像素尺寸之結果。據此，其可驗證具有高至77至200微米之各種像素間距之顯示器主要適用於行動電話的情況，且具有170至240微米之各種像素間距之顯示器主要適用於筆記型電腦的情況，250至300微米則主要適用於監視器的情況，以及230至635微米則主要適用於TV的情況。
基於上述結果，本案發明人推衍一像素間距及顯示器有效螢幕部分對角線長度(英吋)之相關性，且該推衍結果係顯示於圖3。
透過根據前述所示顯示器有效螢幕部分對角線長度之像素間距範圍，於本發明中，透過下列分析可定義金屬網格圖案之像素範圍。首先，當在金屬網格圖案設置於顯示器上的情況中，其係假設該網格圖案不旋轉的狀態為最佳，由於網格每一像素只有設置一個網格線或交點，係均勻地保持顯示器之像素之混合顏色。當廣泛的解釋此觀點時，雖然其被認為顯示器之像素一般係由三個具有長度比約為3：1之次像素組成，且在OLED的情況中，該像素係於一pentile模組中由四個次像素組成，基本上，在導入前述像素之間距區域之0.25倍以下之網格圖案間距的情況中，像素之局部混合顏色之非均勻性可能藉由網格圖案之線寬或網格圖案之交點發生(因為經常發生存在像素覆蓋之區域)，且因此該網格圖案之像素較佳係設定為該像素之間距之0.25倍以上。再者，在該金屬網格圖案間距設定為該像素之間距以上的情況時，當該金屬網格圖案之間距設定為該像素間距之2倍以上時，因由金屬網格圖案之線組成覆蓋之像素及未由線組成覆蓋之像素係交替呈現如圖4所示，可能發生整體混合顏色的非均勻性。
據此，於相對應之顯示器中，本案發明人提供觸控面板之金屬網格圖案需具有之一間距。
根據本發明之一導電基板係一種導電基板，其 包括一透明基板以及一包含設置於該透明基板上之導電線之導電圖案，其中，該導電圖案係包括複數個由該導電線封閉之單元，以及該由單元之面積之0.5次方之值所定義之該單元之特徵長度(Lc)係滿足下式3：
於式3中，n係為使用該導電圖案之該顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Y1及Y2係分別如下方程式所示，Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋
Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋
於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
再者，根據本發明之導電基板係為一種導電基板，其包括一透明基板以及一包含設置於該透明基板上之導電線之導電圖案，其中，該導電圖案係包括複數個由該導電線封閉之單元，以及該由單元之面積之0.5次方之值所定義之該單元之特徵長度(Lc)係滿足下式4：[式4]
於式4中，n係為使用該導電圖案之該顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度。
再者，於本發明中，該單元之特徵長度(Lc)可滿足下式5：
於式5中，n係為使用該導電圖案之該顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Ppixel 1係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之短寬度之間距，且Ppixel 2係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之長寬度之間距。
除了提供前述定義之金屬網格圖案之間距外，重要的部分可為一關於該網格圖案線寬的部分。一般而言，如圖5所示，顯示器之像素係由三個次像素所組成，在此情況中，當網格圖案之線設置於每一次像素之對角線時，最多像素被覆蓋，反之，當像素以平行於每一次像素之短邊被覆蓋時，最少像素被覆蓋。據此，由此觀點，當該顯示器被覆蓋時，根據該金屬網格圖案線寬，可在如下述計算一開口面積。
如上述，既然根據該顯示器之像素尺寸為Ppixel=2.54公分/PPI=2.54公分×I/(A2+B2)1/2，相較於在每一情況中覆蓋像素前的開口面積可分別表示為(P2 pixel-P×W)/P2 pixel及(Ppixel-101/2×P×W)2/P2 pixel。在此情況中，通常為了使人們無法辨識該混合顏色，於開口率中的差異須為約3%以內。因此，基於其衍生出顯示器像素間距及觸控面板金屬網格圖案線寬之間的相關性。
根據本發明之導電基板係為一種導電基板，其包括一透明基板以及一包含設置於該透明基板上之導電線之導電圖案，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式6：
於式6中，W係為該導電線之線寬；以及Y3係為一介於Y1 Y3 Y2之範圍內之實數，且Y1及Y2係分別如下方程式所示：Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋
Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋
於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
再者，根據本發明之導電基板係為一種導電基板，其包括一透明基板以及一包含設置於該透明基板上之導電線之導電圖案， 其中，該導電線之線寬(W)可滿足下式7：
於式7中，W係為該導電線之線寬；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度。
再者，該導電線之線寬(W)可滿足下式8。
於式8中，W係為該導電線之線寬；以及Ppixel係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之間距。
再者，根據本發明之導電基板係為一種導電基板，其包括一透明基板以及一包含設置於該透明基板上之導電線之導電圖案，其中，該導電線之線寬(W)可滿足下式9：
於式9中，W係為該導電線之線寬；以及Y3係為一介於Y1 Y3 Y2之範圍內之實數(微米)，且Y1及Y2係分別如下方程式所示： Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋
Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋
於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
再者，根據本發明之導電基板係為一種導電基板，其包括一透明基板以及一包含設置於該透明基板上之導電線之導電圖案，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式10：
於式10中，W係為該導電線之線寬；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度(微米)。
再者，該導電線之線寬(W)可滿足下式11。
於式11中，W係為該導電線之線寬；以及Ppixel係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之間距。
一般而言，顯示器係透過混合R、G、及B三色以顯示顯示器影像之白色及黑色。由此觀點觀之，最重 要的部分可為關於在黑色狀態中金屬網格圖案可視度之部分。該金屬網格圖案在黑色狀態中之可視度之重要性的理由可為於LCD的例子，該黑色狀態中係定義為一最基本的狀態，且即便於螢幕中，在顯示器影像品質最重要因素之對比率上，黑色的表現上具有非常重要的效果。由此觀點，構成該金屬網格圖案之金屬線在黑色狀態下之可視度可為最重要之因素，且影響該金屬線可視度之因素不僅與該金屬之物理性線寬有非常大的相關性，亦相關於由該金屬組成之材料之反射率。於本發明中，由此觀點，一不僅包含於相關領域中之物理性線寬且亦包含組成該金屬線之材料之反射率之新穎可視線之概念係如下所定義。
於本發明中，該導電線之可視寬度(Wv)係滿足下式12：[式12]Wv=W×Rm
於式12中，W係為該導電線之線寬；以及Rm係為構成該導電圖案之導電線材料之反射率。
從反射率之觀點，當該顯示器之像素間距為Ppixel，該網格圖案線寬為W，該網格圖案材料之反射率為Rm，且於使用該網格圖案之顯示器之關閉模式中，該顯示面板之亮室反射率為a，包含該金屬網格圖案之顯示器之總反射率可如下式所示： Ppixel×W×Rm+(P2 pixel-P×W)×a
在裸視無法辨識的情況下，當[b1/b0-1]的絕對值為b時，具有導電圖案之顯示面板之亮室反射率係為b1，不具有導電圖案之顯示面板之亮室反射率係為b0，該方程式可總結如下所示：
該方程式係簡化如下：
在此情況下，由於W×Rm可由式12之可視線寬(Wv)取代，且可視線寬之值為0以上，最終，可推衍為下式13：
再者，由式13，由於0(W-b×Ppixel)，式13具有一bW/Ppixel之關係。
於式13中，a可為0.11以下，但並不僅限於此。再者，b可為0.03以下及0.115以下，但並不僅限於此。
於本發明中，式13之可視寬度(Wv)可為大於0至3.6微米以下，與大於0至2.4微米以下，但並不以此為限。
於本發明中，亮室反射率係為一僅測量欲測量面之觀察值，透過使用黑色膠、膠帶、或其類似物，該欲 測量反射率之相對面之反射率係設定為0。於此情況中，作為一輸入光源，係選擇最接近環境光條件之擴散光源。再者，在此情況下，基於由一積分球之半圓之垂直線傾斜7度之位置測量該反射率。圖10表示如前述之測量反射率之裝置之配置及示意圖。
如圖11所示，當一螢幕之長寬比為16：9時，該螢幕之高度為h，對角線長為d，使用者觀察該顯示器之視角為a，螢幕寬度為w，且眼睛及螢幕間之視線距離為D。
w=D×tan(a/2)×2，且對應該對角線長度之英吋為h=w×9/16
I=(w2+h2)1/2=[(D×tan(a/2)×2)2+(D×tan(a/2)×2×9/16)2]1/2
習知當僅睜開一隻眼睛時，人類具有160度之水平視角及175度之垂直視角；當睜開兩隻眼睛時，具有200度之水平視角及135度之垂直視角；且當兩眼睜開時重疊之視角為水平120度及垂直135度。意即，當睜開兩眼觀察時，僅有落於水平120度中的物體可被分辨，且由於可被聚焦於120度中的視角約為30度，一般而言，假設當使用者觀察該顯示器之視角為30度，一方程式係總結如下： D=1.6264I(英吋係轉換為公分而取代；單位：公分)
人類分辨物體的能力係表示為角度辨識率(angle resolution)。角度辨識率係指於1度中可被辨識之黑 線及白線組之數量，且黑線白線組係稱為一循環並表示為循環視角(cycle per degree，CPD)(圖12)。該CPD係表示循環數，該循環數存在於一對應1度視角範圍之寬度w，於如前述D之距離中，且習知50CPD係表示50循環係為人類視網膜上的限制(圖13)。
根據如圖12所示之距離D，根據CPD之距離之方程式係定義為D=w/tan(1度/2)×2。在此情況下，當該方程式轉換為w之等式時，w=2Dtan(0.5度)=0.01745D。
在此情況下，(包含於距離w中的像素數量×2)僅為一CPD值，且可為視網膜所分辨之上限及下限分別為0.5及50。
由於此可藉由成對像素分析，最後，該對應像素可對應為1至100。當根據該距離D之英吋等式替換為w=2Dtan(0.5度)=0.017456D，由於D係為1.6264I，該等式可轉換為w=0.0284I(公分)。
由於對應視網膜限制之值為P=w及P=w/100，當該值分別轉換為英吋及像素間距時，可獲得下述值：1P=0.0284I→P=0.0142I(公分)
100P=0.0284I→P=0.00028I(公分)
由於單位為公分，當該單位轉換為微米，P=284I
P=2.81I(微米)
當I取代為英吋單位，若該等式轉換係直接計 算出該像素間距，P=111.8I
P=1.10I
當呈現於圖中，該等式對應於圖3之點圖。
然而，並非所有的區域皆為製造顯示器之區域，且目前通常用於製造顯示器英吋之像素間距之上限及下限，以及根據主要製造之顯示器英吋之像素係分別透過圖3之紅色實線、藍色實線及黑色實線而呈現。在此情況下，當根據以黑色實線呈現之主要製造之顯示器英吋之像素間距轉換為CPD實線，該間距係轉換為約9.8之CPD值，該值可被理解為遵守一由觀察者觀察之距離，約為20個像素排列於約1度中之規則，且可對應至一接近8之區域，8係為在圖13中根據CPD之可視功能變得最大之區域。
於本發明中，該導電線可為由直線組成，但可以藉由曲線、波浪線、鋸齒線、及其類似物進行各種修飾。再者，該導電線可具有一至少兩種具有形狀之線之混合形狀。
於本發明中，只要由該導電線所封閉，該導電圖案可包含三角以上之多邊形圖案，例如，三角形、四角形、五角形、六角形、七角形以上。
於本發明中，該導電圖案可包括一規則圖案。於此，該規則圖案係指該圖案之形狀具有規則性。例如，該導電圖案可包含一具有網格形狀之圖案，如矩形、方形或六邊形。
為了準備前述導電圖案，首先，於決定所需圖案形狀後，該具有細線寬及精度的導電圖案可透過使用印刷方法、光刻法、攝影法、使用光罩的方法、濺鍍法、噴墨印刷法或其類似方法而形成於該透明基板上。
該印刷法可透過在一所需圖案形狀中轉移及燃燒於該透明基板上之一包含導電圖案材料之漿料而執行。該轉移法並不特別受限，但所需圖案可藉由形成該圖案形狀於一圖案轉移介質(如凹版或網版)並使用該形成之圖案形狀而轉移至該透明基板上。於圖案轉移介質形成圖案形狀之方法可使用本領域習知方法。
該印刷法並不特別受限且可使用如平版印刷(offset printing)、網版印刷(screen printing)、凹版印刷(gravure printing)、柔版印刷(flexo printing)及噴墨印刷(inkjet printing)之印刷法，且可使用其一種以上之複合方法。該印刷法可使用輥對輥(roll to roll)法、輥對版(roll to plate)法、版對輥(plate to roll)法或版對版(plate to plate)法。
於本發明中，為了實現一精細的導電圖案，較佳採用該反轉平版印刷(reverse offset printing)法。圖6說明了使用反轉平版印刷之直接與間接程序。參照圖6，當於稱為包覆層(blanket)之矽基橡膠上進行蝕刻時，一形成所欲圖案之方法可透過於整個表面塗佈一能夠作為一光阻之墨水，首先透過稱為格套(cliché)之具有圖案之凹版移除不需要的部分，並接著轉移保留於包覆層上之印刷圖案至一設置金屬及其類似物之膜或一基板(如：玻璃)上，然後加熱並蝕刻 該轉移印刷圖案。在使用該方法的情況下，藉由使用設置金屬之基板，可確保在整個區域中線高度之均勻性，其有利於在厚度方向上的電阻可保持均勻。
如圖7所示，本發明之另一實施例可採用一凹版印刷法。該凹版印刷法可以下述方式進行：藉由將漿料填充於具有圖案之凹版中，先將該漿料轉移至該包覆層；接著，藉由將該包覆層接觸該透明基板而轉移該漿料。此外，該凹版印刷可藉由一修飾方法進行，其包括在一輥上轉動一具有圖案之凹版，將膠填充於該圖案中，然後將該圖案轉移至該透明基板。於本發明中，除了該些方法外，該些方法可結合使用。再者，也可使用其他本領域技術人員習知之印刷方法，如網版印刷。
本發明並不限於上述印刷方法，亦可使用一光刻製程。舉例而言，該光刻製程可以下述方法進行：藉由於一透明基板整個表面上形成一導電圖案、於其上形成光阻層、藉由選擇性曝光及顯影製程圖案化一導電圖案、然後移除該光阻層。
再者，本發明也可使用攝影法。舉例而言，在塗佈一包含鹵化銀之光敏性材料於該透明基板上之後，也可藉由選擇性曝光及顯影該光敏性材料而形成該圖案。一更詳細之例子係如下所述。首先，一負型光敏性材料係塗佈於一基材上以形成一圖案。在此情況下，作為該基材，可使用一聚合物膜，如PET及乙醯基賽璐璐片(acetyl celluloid)。於此，一塗佈光敏性材料之聚合物膜材料構件稱 為一膜。該負型光敏性材料可為一般由少量碘化銀(AgI)混合反應對光非常敏感且規則之溴化銀(AgBr)之鹵化銀所組成。由於藉由攝影及顯影一般負型光敏性材料之影像係為一具有與目標物相反對比之負像，該攝影法可藉由使用一具有圖案形狀之光罩而進行，較佳地，該圖案形狀為一不規則圖案形狀。
為了增加藉由使用光刻及攝影製程形成之導電圖案之導電性，可再進行一鍍製程(plating process)。該鍍製程可藉由使用一無電電鍍(electroless plating)法進行，一鍍材料可使用銅或鎳，且於進行鍍銅後，可於其上進行鍍鎳，但本發明之範疇並不僅限於此。
再者，本發明亦可使用一採用硬式光罩之方法。舉例而言，於一具有所欲導電圖案之光罩設置於靠近一基材之後，該導電圖案材料可設置沉積於該基材上以圖案化。在此情況下，沉積方法可使用一藉由熱或電子束之熱沉積法、一物理氣相沉積(physical vapor deposition，PVD)法(如濺鍍)、及一使用有機金屬材料之化學氣相沉積(chemical vapor deposition，CVD)法。
再者，本發明可以拓印(imprinting)製程製造。該拓印製程可使用下述方法：塗佈一可拓印樹脂於一沉積有導電金屬或其類似物之基材上，藉由使用一準備的圖案模具(mold pattern)印刷該塗佈樹脂，透過乾式蝕刻及蝕刻製程圖案化一金屬線，移除該樹脂或圖案化該樹脂以透過一模具拓印，在該圖案間部分填充一導電材料，然後使用該 填充的導電材料或轉移該填充的導電材料至另一基材。
於本發明中，該導電圖案可包括一導電線，其具有20微米以下之線寬；且可包括一導電線，其具有15微米以下、10微米以下、7微米以下、4微米以下、或3微米以下之線寬。於本發明中，該導電線之線寬可控制於0.5至10微米之範圍內。
於本發明中，一第三導電圖案之開口率，意即，未被圖案覆蓋之透明基板之面積比率較佳為70%以上，且可為90%以上、93%以上、95%以上、96%以上、97%以上、98%以上、或99%以上。
根據本發明一實施態樣，該導體可包括一不形成該導電圖案之區域。
根據本發明一實施態樣，該導電圖案可被黑化(blackened)。據此，即便在以金屬材料製成導電圖案的情況中，可進一步降低可視度。在藉由直接印刷導電圖案形成一圖案的情況中，為了黑化該導電圖案，於添加一黑化材料至一用以形成該導電圖案之漿料或墨水後，進行一黑化製程；或者印刷並加熱該將料或墨水以黑化該導電圖案。
可添加至該墨水或膠之黑化材料包括金屬氧化物、碳黑、奈米碳管、黑色顏料、彩色玻璃火石(colored glass flit)、及其類似物。在該墨水或膠為一銀基材料的情況中，於加熱後該黑化可藉由下述方式進行：浸泡一氧化溶液，例如一含有鐵或銅離子之溶液；藉由浸泡一含有鹵素離子(例如氯離子)之溶液；浸泡於過氧化物(peroxide)、亞 硝酸鹽(nitrate)、及其類似物；以及以鹵素氣體或其類似物進行處理。
在透過蝕刻而非印刷一金屬材料以形成圖案的方法的情況中，黑化的其他例子可使用下述方法：沉積一黑化層於人觀察之一面上，沉積一提供導電性之層，以及於一接續的蝕刻製程中一次性圖案化該層。作為一例，在透過MoOxNy沉積該黑化層、沉積鋁層於其上、及印刷並蝕刻抗蝕墨水於基材上的情況中，MoOxNy及鋁係同時於一蝕刻劑(etchant)中圖案化，從而黑化一所需的表面，其中，該蝕刻劑可為一磷酸、硝酸、醋酸及水之混合溶液。
於本發明中，該透明基板並不特別受限，但其透光度係為50%以上，較佳為75%以上，更佳為88%以上。詳而言之，該透明基板可使用玻璃、塑膠基材、或塑膠膜。該塑膠基材或塑膠膜可使用本領域習知材料，例如，一選自由聚丙烯酸化合物(polyacryls)、聚氨基甲酸酯(polyurathanes)、聚酯(polyesters)、聚環氧樹脂(polyepoxies)、聚烯烴(polyolefins)、聚碳酸酯(polycarbonates)、及纖維素(celluloses)之一種或多種樹脂組成之材料。更詳而言之，該塑膠基材或膜係較佳為一具有可見光透光度為80%以上之膜，例如聚乙烯對苯二甲酸酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚乙烯丁醛(polyvinylbutyral，PVB)、聚乙烯萘二甲酸酯(polyethylene naphthalate，PEN)、聚醚碸(polyethersulfon，PES)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、及醋酸纖維素(acetyl celluloid)。該塑膠膜之厚度較佳為12.5至500微米，更佳 為50至450微米，且最佳為50至250微米。該塑膠基材可為一具有各種功能性層之結構的基材，如：用以阻斷濕氣及氣體氣體障壁層；以及用以補強強度、改善透光度及降低霧值之硬塗層，係層疊於該塑膠膜之一側或兩側。該些包含於該塑膠基材之功能性層並不限於前述層，且可提供各種功能性層。
該導電圖案可直接形成於元件上，例如，該導電圖案可施加於一包含於一元件或一裝置中的基板上，例如顯示器、觸控面板、及OLED照明。
於本發明中，作為該導電圖案材料，可使用具有優異導電性的材料。再者，該導電圖案材料之特定電阻值較佳為1微歐公分(microOhm cm)以上及100微歐公分(microOhm cm)以下，且更佳為1微歐公分(microOhm cm)以上及5微歐公分(microOhm cm)以下。作為該導電圖案材料的詳細例子，可使用鋁(aluminum)、銅(copper)、銀(silver)、金(gold)、鐵(iron)、鉬(molybdenum)、鎳(nickel)、奈米碳管(carbon nanotube，CNT)、鈦(titanium)、其合金或氧化物、其氮化物或氧氮化物、或其類似物。然而，由成本及導電度的觀點而言，鋁為最佳。在直接印刷的情況中，該導電圖案材料可被轉換並使用於一顆粒形式，且在此情況中，該顆粒形式可為具有單一組成或一上述列舉金屬之混合組成物。
於本發明中，在使用包含該導電圖案材料的墨水或漿料的情況中，為了利於該印刷製程，除了前述導電 圖案材料，該墨水或漿料可更包括一有機黏結劑。在加熱過程中，該有機黏結劑可具有揮發性。該有機黏結劑可包括聚丙烯化合物、聚氨基甲酸酯、聚酯、聚烯烴、聚碳酸酯、纖維素樹脂、聚亞醯胺樹脂、聚乙烯萘二甲酸酯、修飾環氧樹脂(modified epoxy)、及其類似物，但並不僅限於此。
根據本發明之導電基板可連結至一電源，且在此情況下，室溫下，考慮一開口率之每單位面積之電阻值係為0.01歐姆/單位面積(ohm/square)至1,000歐姆/單位面積(ohm/square)，且較佳為5歐姆/單位面積(ohm/square)至150歐姆/單位面積(ohm/square)。
除其自身之導電基板之配置外，藉由外部因素傳導電流或施加電壓，可使用根據本發明之導電基板。根據本發明之導電基板可以各種方式使用於需導電性之用途。舉例而言，根據本發明之導電基板可使用作為一電磁遮蔽膜、一觸控面板、一發光元件之輔助電極、太陽能電池之輔助電極、及其類似物。詳而言之，該發光元件之輔助電極可為一用於有機發光二極體(organic light emitting diode，OLED)照明之輔助電極。
根據本發明之一實施態樣，係提供一種電子裝置，其係包括前述本發明之導電基板。該電子裝置可更包括一顯示器像素基板，其提供於該導電基板之至少一側，且該顯示器像素基板之每一像素可包括兩個以上之次像素。在此情況下，該顯示器像素基板之每一像素可包括三個或 四個以上之次像素。
該電子裝置可為一觸控面板、一有機發光二極體照明、或一有機太陽能電池。
再者，根據本發明之一實施態樣，係提供一種顯示裝置，其係包括前述本發明之導電基板。該根據本發明之觸控面板可包括一下基板；一上基板；以及一提供於該下基板接觸該上基板之表面與該上基板接觸該下基板之表面之任一表面或兩表面上。該電極層可執行一功能以分別偵測X軸位置及Y軸位置。
在此情況下，提供於該下基板接觸該上基板之表面之一或兩個電極層；以及提供於該上基板接觸該下基板之表面之一或兩個電極層可為前述根據本發明之導電基板。在僅任一電極層為根據本發明之導電基板的情況下，其他電極層可具有本領域習知的圖案。
在該些電極層提供於該上基板及下基板側以形成一雙層電極的情況下，一絕緣層或一分隔物可提供於該下基板及該上基板之間，從而該些電極層係均勻保持一距離並且該些電極層彼此不互相連接。該絕緣層可包含一黏著劑或一紫外光或熱固性樹脂。該觸控面板可更包括一接地部(ground part)，其連接前述導電圖案。舉例而言，該接地部可形成於該透明基板之導電圖案之表面邊緣。
再者，抗反射膜、偏光膜、及抗指紋膜之至少一者可提供於該導電基板之至少一側上。根據設計規格，除了前述功能性膜外，更包括可不同種的功能性膜。該觸 控面板可應用於顯示裝置，如OLED顯示面板(PDP)、業經顯示器(LCD)、陰極射線管(CRT)、及PDP。
根據本發明之觸控面板並不限於上述結構，且包括第一電極及第二電極皆形成於一基板上之結構，或者該下基板之電極層層疊於不提供該上基板電極層之表面上之結構。
根據本發明一實施態樣，係提供包含前述本發明導電基板之OLED照明之輔助電極以及包含其之OLED照明。作為一例，根據本發明之OLED照明包括一第一電極、一設置於該第一電極上的輔助電極、一設置於該輔助電極上之絕緣層、至少一有機材料層、以及一第二電極，且該輔助電極可為根據本發明之導電圖案。該輔助電極可直接形成於該第一電極上，且該包含透明基板及導電圖案之導電基板可位於該第一電極上。
再者，本發明另一實施態樣提供一有機太陽能電池之輔助電極以及包含其之有機太陽能電池，該有機太陽能電池係採用一結構，其相同或類似於用於OLED照明之輔助電極。
以下，將描述用於了解本發明之較佳實施例。然而，下述實施例僅例示本發明，本發明之範疇並不限於下述實施例。
<實施例1>
於聚乙烯對苯二甲酸酯(PET)基材上沉積鋁金屬之後，透過一印刷製程形成一具有2.7微米線寬之長條狀 圖案，且透過蝕刻及釋放(releasing)製程形成該導電圖案。
<比較例1>
於PET基材上沉積鋁金屬之後，透過一印刷製程形成一具有10微米線寬之長條狀圖案，接著透過蝕刻及釋放(releasing)製程形成一樣品。
根據實施例1之導電圖案係顯示於圖8，根據比較例1之導電圖案係顯示於圖9。由圖8及圖9之結果，可看到具有線寬大於顯示器像素間距3%之導電圖案具有不好的可視度特性。
<實施例2至10及比較例2至10>
如下表1所示，於評估顯示器有效螢幕部分之對角線長度(英吋)後，根據該評估結果評估顯示器之像素間距、金屬網格圖案之線寬及間距、應用一致性與否。
<實施例11及12，及比較例11及12>
如下表2所示，評估該導電圖案之亮室反射率及可視線寬。
(該圖為一結果圖故無元件代表符號)

Claims (42)

  1. 一種導電基板，包括：一透明基板：以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電圖案包括複數個由該導電線封閉之單元，該單元之面積之0.5次方之值係定義為該些單元之特徵長度(Lc)，且當藉由設定該些單元之平均特徵長度(Lcav)為X軸及設定該導電線之線寬(W)為Y軸以呈現一如下式1之曲線1及一如下式2之曲線2時，該導電線之線寬及該些單元之平均特徵長度係包括於該曲線1之較低區域及該曲線2之較低區域之一交界區域：[式1]W=[(1/AR0.5)-1]Lcav [式2]W=13exp(-0.0052Lcav)+α於式1及式2中，W係為該導電線之線寬；Lcav係為該些由該導電線封閉之單元之平均特徵長度；AR係為該導電圖案之開口率；以及α係為一常數。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之導電基板，其中，當藉由設定該些單元之特徵長度(Lc)為X軸及設定該導電線之線寬(W)為Y軸以呈現一如式1之曲線1及一如式2之曲線2時，該 導電線之線寬(W)及該些單元之特徵長度(Lc)係包括於該曲線1之較低區域及該曲線2之較低區域之一交界區域。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之導電基板，其中，該些單元之特徵長度(Lc)係滿足下式3： 於式3中，n係為使用該導電基板之顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Y1及Y2係分別如下方程式所示，且Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋 Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
  4. 如申請專利範圍第1至3項任一項所述之導電基板，其中，該些單元之特徵長度(Lc)係滿足下式4： 於式4中，n係為使用該導電基板之顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積之0.5次方之值所定義之像素之特徵長度。
  5. 如申請專利範圍第1至4項任一項所述之導電基板，其中，該些單元之特徵長度(Lc)係滿足下式5： 於式5中，n係為使用該導電基板之顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Ppixel 1係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之短寬度之間距，且Ppixel 2係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之長寬度之間距。
  6. 如申請專利範圍第1至5項任一項所述之導電基板，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式6： 於式6中，W係為該導電線之線寬；以及Y3係為一介於Y1 Y3 Y2之範圍內之實數，且Y1及Y2係分別如下方程式所示：Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋 Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
  7. 如申請專利範圍第1至6項任一項所述之導電基板，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式7： 於式7中，W係為該導電線之線寬；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積之0.5次方之值所定義之像素之特徵長度。
  8. 如申請專利範圍第1至7項任一項所述之導電基板，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式8： 於式8中，W係為該導電線之線寬；以及Ppixel係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之間距。
  9. 如申請專利範圍第1至8項任一項所述之導電基板，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式9： 於式9中，W係為該導電線之線寬；以及Y3係為一介於Y1 Y3 Y2之範圍內之實數，且Y1及Y2係分別如下方程式所示：Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋 Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋 於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
  10. 如申請專利範圍第1至9項任一項所述之導電基板，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式10： 於式10中，W係為該導電線之線寬；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積之0.5次方之值所定義之像素之特徵長度(微米)。
  11. 如申請專利範圍第1至10項任一項所述之導電基板，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式11： 於式11中，W係為該導電線之線寬；以及Ppixel係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之間距。
  12. 如申請專利範圍第1至11項任一項所述之導電基板，其中，該導電線之可視線寬(Wv)係滿足下式12，且大於0至3.6微米以下：[式12]Wv=W×Rm於式12中，W係為該導電線之線寬；以及 Rm係為構成該導電圖案之導電線材料之反射率。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之導電基板，其中，於使用該導電圖案之顯示器之關閉模式中，一顯示面板之亮室反射率係為0.11以下。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之導電基板，其中，在肉眼無法區分的情況下，於顯示器關閉模式中，具有導電圖案之顯示面板之亮室反射率係為b1，不具有導電圖案之僅有顯示面板之亮室反射率係為b0，且[b1/b0-1]之絕對值係0.03以下。
  15. 如申請專利範圍第12項所述之導電基板，其中，在肉眼無法區分的情況下，於顯示器關閉模式中，具有導電圖案之顯示面板之亮室反射率係為b1，不具有導電圖案之僅有顯示面板之亮室反射率係為b0，且[b1/b0-1]之絕對值係0.115以下。
  16. 如申請專利範圍第1至15項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案包括一規則圖案。
  17. 如申請專利範圍第1至16項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案包括一不規則圖案。
  18. 如申請專利範圍第1至17項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案包括一具有三角以上之多邊形圖案。
  19. 如申請專利範圍第1至18項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案包括一導電線，其具有20微米以下之線寬。
  20. 如申請專利範圍第1至19項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案包括一導電線，其具有0.5微米至10微米之線寬。
  21. 如申請專利範圍第1至20項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案之開口率係為90%以上。
  22. 如申請專利範圍第1至21項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案之開口率係為95%以上。
  23. 如申請專利範圍第1至22項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案係由金屬製成。
  24. 如申請專利範圍第1至23項任一項所述之導電基板，其中，該導電圖案係包括一金屬層及一設置於該金屬層至少一側之暗層。
  25. 一種導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電圖案係包括複數個由該導電線封閉之單元，由該些單元之面積之0.5次方之值所定義之該些單元之特徵長度(Lc)係滿足下式3： 於式3中，n係為使用該導電基板之該顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及 Y1及Y2係分別如下方程式所示，Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋 Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
  26. 一種導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電圖案係包括複數個由該導電線封閉之單元，該些單元之面積之0.5次方之值所定義之該些單元之特徵長度(Lc)係滿足下式4： 於式4中，n係為於使用該導電圖案之該顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度。
  27. 如申請專利範圍第26項所述之導電基板，其中，該些單元之特徵長度(Lc)係滿足下式5： 於式5中， n係為於使用該導電圖案之該顯示器之每一像素中，沿一方向排列之次像素之數量；以及Ppixel 1係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之短寬度之間距，且Ppixel 2係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之長寬度之間距。
  28. 一種導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式6： 於式6中，W係為該導電線之線寬；以及Y3係為一介於Y1 Y3 Y2之範圍內之實數，且Y1及Y2係分別如下方程式所示：Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋 Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
  29. 一種導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式7：[式7] 於式7中，W係為該導電線之線寬；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度。
  30. 如申請專利範圍第29項所述之導電基板，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式8： 於式8中，W係為該導電線之線寬；以及Ppixel係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之間距。
  31. 一種導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式9： 於式9中，W係為該導電線之線寬；以及Y3係為一介於Y1 Y3 Y2之範圍內之實數，且Y1及Y2係分別如下方程式所示：Y1=(2.9Q+68.1)×1 μm/1英吋 Y2=(13.3Q+98.1)×1 μm/1英吋 於該些方程式中，Q係為使用該導電基板之顯示器之有效螢幕部分之對角線長度(英吋)。
  32. 一種導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式10： 於式10中，W係為該導電線之線寬；以及Lp係為藉由使用該導電基板之顯示器之每一像素之面積的0.5次方之值所定義之像素之特徵長度(微米)。
  33. 如申請專利範圍第32項所述之導電基板，其中，該導電線之線寬(W)係滿足下式11： 於式11中，W係為該導電線之線寬；以及Ppixel係為使用該導電基板之顯示器之每一像素之間距。
  34. 一種導電基板，包括：一透明基板；以及一導電圖案，其包括一設置於該透明基板上之導電線；其中，該導電線之可視線寬(Wv)係滿足下式12，且大於0至3.6微米以下： [式12]Wv=W×Rm於式12中，W係為該導電線之線寬；以及Rm係為構成該導電圖案之導電線材料之反射率。
  35. 如申請專利範圍第34項所述之導電基板，其中，於使用該導電圖案之顯示器之關閉模式中，一顯示面板之亮室反射率係為0.11以下。
  36. 如申請專利範圍第34項所述之導電基板，其中，在肉眼無法區分的情況下，於顯示器關閉模式中，具有導電圖案之顯示面板之亮室反射率係為b1，不具有導電圖案之僅有顯示面板之亮室反射率係為b0，且[b1/b0-1]之絕對值係0.03以下。
  37. 如申請專利範圍第34項所述之導電基板，其中，在肉眼無法區分的情況下，於顯示器關閉模式中，具有導電圖案之顯示面板之亮室反射率係為b1，不具有導電圖案之僅有顯示面板之亮室反射率係為b0，且[b1/b0-1]之絕對值係0.115以下。
  38. 一種電子裝置，其係包括如申請專利範圍第1至37項任一項所述之導電基板。
  39. 如申請專利範圍第38項所述之電子裝置，更包括：一顯示器像素基板，其係設置於該導電基板之至少一側，其中，該顯示器像素基板之每一像素係包括兩個以上之次像素。
  40. 如申請專利範圍第39項所述之電子裝置，其中，該顯示器像素基板之每一像素係包括三個或四個之次像素。
  41. 如申請專利範圍第38至40項任一項所述之電子裝置，其中，該電子裝置係為一觸控面板、一有機發光二極體照明、或一有機太陽能電池。
  42. 一種顯示裝置，其係包含如申請專利範圍第1至37項任一項所述之導電基板。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10551978B2 (en) 2015-07-24 2020-02-04 Fujifilm Corporation Conductive film for touch panel, touch panel, and touch panel-equipped display device
TWI740273B (zh) * 2018-11-16 2021-09-21 日商田中貴金屬工業股份有限公司 具備金屬配線的導電基板及該導電基板的製造方法，以及金屬配線形成用金屬印墨

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101482401B1 (ko) * 2013-04-30 2015-01-13 삼성전기주식회사 터치패널을 포함하는 디스플레이장치 및 그 터치패널의 전극패턴 시인성 평가방법
CN104036701B (zh) * 2014-06-26 2016-03-02 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示方法、显示装置
CN104123904B (zh) 2014-07-04 2017-03-15 京东方科技集团股份有限公司 像素阵列及其驱动方法和显示面板
JP6494287B2 (ja) * 2015-01-08 2019-04-03 三菱電機株式会社 タッチスクリーン、タッチパネル、表示装置、および電子機器
CN105094424B (zh) * 2015-07-07 2018-10-09 业成光电（深圳）有限公司 触控显示面板结构与触控显示面板
JP6511382B2 (ja) * 2015-10-16 2019-05-15 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、及びこれを備える表示装置
CN106226342A (zh) * 2016-07-13 2016-12-14 博罗县精汇电子科技有限公司 一种用于pi高温胶带的掉胶检验方法
WO2018047493A1 (ja) 2016-09-12 2018-03-15 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、タッチパネルセンサー、および、タッチパネル

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4223840B2 (ja) * 2003-03-12 2009-02-12 住友化学株式会社 フォトマスク及び拡散反射板
TWI258721B (en) * 2004-08-10 2006-07-21 Ind Tech Res Inst Full-color organic electroluminescence device
TW200818981A (en) * 2006-08-30 2008-04-16 Sumitomo Chemical Co Organic electroluminescence device
US20100206628A1 (en) * 2006-09-04 2010-08-19 Toray Industries, Inc. Transparent electromagnetic wave shield member and method for manufacturing the same
TWI329221B (en) * 2007-09-04 2010-08-21 Au Optronics Corp Touch panel
TWI369796B (en) * 2007-12-25 2012-08-01 Wintek Corp Touch panel and driving method thereof
CN102016768B (zh) * 2008-02-28 2014-11-19 3M创新有限公司 具有变化的薄层电阻的触屏传感器
KR101822350B1 (ko) * 2008-02-28 2018-01-25 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 터치 스크린 센서
KR101397200B1 (ko) * 2008-02-28 2014-05-20 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 저 가시성 도체를 구비한 터치 스크린 센서
JP5332510B2 (ja) * 2008-10-29 2013-11-06 コニカミノルタ株式会社 透明導電性基板、及び電気化学表示素子
KR101156275B1 (ko) * 2009-02-06 2012-06-13 주식회사 엘지화학 터치스크린 및 이의 제조방법
US8692445B2 (en) * 2009-07-16 2014-04-08 Lg Chem, Ltd. Electrical conductor and a production method therefor
TWI419036B (zh) * 2009-10-23 2013-12-11 Au Optronics Corp 觸控顯示面板及其觸控感測單元
JP5265020B2 (ja) * 2009-10-30 2013-08-14 シャープ株式会社 タッチパネル付き表示装置
CA2686174A1 (en) * 2009-12-01 2011-06-01 Ignis Innovation Inc High reslution pixel architecture
WO2011125281A1 (ja) * 2010-04-01 2011-10-13 シャープ株式会社 タッチパネル付き表示装置
CN101887324B (zh) * 2010-06-28 2012-10-03 友达光电股份有限公司 感测式显示装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10551978B2 (en) 2015-07-24 2020-02-04 Fujifilm Corporation Conductive film for touch panel, touch panel, and touch panel-equipped display device
TWI686730B (zh) * 2015-07-24 2020-03-01 日商富士軟片股份有限公司 觸控面板用導電片、觸控面板及帶有觸控面板的顯示裝置
TWI740273B (zh) * 2018-11-16 2021-09-21 日商田中貴金屬工業股份有限公司 具備金屬配線的導電基板及該導電基板的製造方法，以及金屬配線形成用金屬印墨

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