JP5330989B2 - (アザ)インドール誘導体及びその医薬用途 - Google Patents
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Description
尿酸は食事由来及び内因性に産生されたプリン体より、最終的にキサンチンがキサンチンオキシダーゼによる酸化を受けて産生する。アロプリノールは、キサンチンオキシダーゼ阻害剤として開発され、医療現場で用いられている唯一の尿酸生成抑制薬である。しかしながら、アロプリノールは、高尿酸血症及びこれに起因する各種疾患への有効性が報告されている反面、中毒症候群(過敏性血管炎)、スティーブンス・ジョンソン症候群、剥脱性皮膚炎、再生不良性貧血、肝機能障害などの重篤な副作用も報告されている(例えば、非特許文献2参照)。この原因のひとつとして、アロプリノールが核酸類似構造を有し、ピリミジン代謝経路を阻害することが指摘されている(例えば、非特許文献3参照)。
transporter 1、以下、「URAT1」という)はOATファミリーに属する12回膜貫通型の分子である。URAT1は腎臓に特異的にmRNAが発現し、更にヒト腎臓組織切片での近位尿細管管腔側における局在が認められた。アフリカツメガエル卵母細胞発現系を用いた実験により、URAT1を介する尿酸の取り込みが示された。更にその尿酸取り込みは乳酸、ピラジンカルボン酸(PZA)、ニコチン酸などの有機アニオンとの交換により輸送され、尿酸排泄促進薬である、プロベネシド及びベンズブロマロンにより、URAT1を介した尿酸取り込みが阻害されることも明らかとなった。従って、膜小胞を用いた実験により予想されていた、urate/anion exchangerであることが強く示唆された。即ちURAT1が腎臓における尿酸再吸収において重要な役割を担う輸送体であることが明らかとなった(例えば、非特許文献9参照)。
〔1〕 一般式
〔式中、
Tは、ニトロ、シアノ又はトリフルオロメチル;
環Jは、アリール環又はヘテロアリール環;
Qは、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ(ジ)低級アルキルカルバモイル、スルホ、スルファモイル又は5−テトラゾリル;
Yは、水素原子、ヒドロキシ、アミノ、ハロゲン原子、ニトロ、置換可低級アルキル又は置換可低級アルコキシ(但し、Yは環J上に複数あってもよく、それらは互いに異なっていても同じでもよい。);
X1、X2及びX3は、独立して、CR2又はN(但し、X1、X2及びX3が同時にNであることはなく、R2が複数ある場合は、それらは互いに異なっていても同じでもよい。);
R1及びR2は、独立して、ハロゲン原子、シアノ、パーフルオロ低級アルキル、−AA、−A−D−E−G又は−N(−D−E−G)2(但し、2つの(−D−E−G)は異なっていてもよい。)
{式中、AAは、水素原子、ヒドロキシ、チオール、−CHO、カルボキシ、−CONHR3、−NHR3、−N(R3)CHO、−N(R3)CONHR4又は−SO2NHR3;
Aは、単結合、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−CON(R3)−、−SO2−、−SO2N(R3)−、−N(R3)−、−N(R3)CO−、−N(R3)COO−、−N(R3)SO2−又は−N(R3)CONR4−(R3及びR4は、独立して、水素原子又は低級アルキルである。);
Dは、置換可低級アルキレン、置換可低級アルケニレン、置換可低級アルキニレン、置換可シクロアルキレン、置換可ヘテロシクロアルキレン、置換可アリーレン又は置換可ヘテロアリーレン(但し、Dは、更に−E−Gで置換されていてもよい);
Eは、単結合、−O−、−N(R5)−、−S−、−CO−、−COO−、−CON(R5)−、−SO2−、−SO2N(R5)−、−N(R5)CO−、−N(R5)COO−、−N(R5)SO2−又は−N(R5)CON(R6)−(但し、R5及びR6は、独立して、水素原子又は低級アルキルである。);
Gは、水素原子、置換可低級アルキル、置換可低級アルケニル、置換可低級アルキニル、置換可シクロアルキル、置換可ヘテロシクロアルキル、置換可アリール、置換可ヘテロアリール、置換可シクロアルキル低級アルキル、置換可ヘテロシクロアルキル低級アルキル、置換可アリール低級アルキル又は置換可ヘテロアリール低級アルキルである(但し、Gが水素原子のときは、Eは、単結合、−O−、−N(R5)−、−S−、−COO−、−CON(R5)−、−N(R5)CO−、−N(R5)CON(R6)−又は−SO2N(R5)−である。)か、Gは、R5又はR6と互いに結合して環を形成してもよい。}(但し、隣接する原子にそれぞれ結合するR1及びR2もしくは2つのR2がある場合は、互いに結合して環を形成してもよい。);をそれぞれ示す。〕で表される(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔2〕 X1、X2及びX3が、独立して、CR2(但し、R2が複数ある場合は、それらは互いに異なっていても同じでもよい。)である、上記〔1〕記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔3〕 Tがシアノである、上記〔1〕又は〔2〕記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔4〕 Qがカルボキシである、上記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔5〕 Yが水素原子、ヒドロキシ又はハロゲン原子である、上記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔6〕 Yがヒドロキシである、上記〔5〕記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔7〕 環Jがベンゼン環である、上記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔8〕 一般式
Z1、Z2及びZ3は、独立してCR7又はN;
Y1及びR7は、独立して、水素原子、ヒドロキシ、アミノ、ハロゲン原子、低級アルキル又は低級アルコキシ(但し、R7が複数ある場合は、それらは互いに異なっていても同じでもよい。)〕で表される上記〔4〕記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔9〕 Z1及びZ3がCH、Z2がCR8又はN;
Y1及びR8は、独立して、水素原子、ヒドロキシ、ハロゲン原子で表される上記〔8〕記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔10〕 環Jが、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択される異種又は同種のヘテロ原子を1〜3個環内に有する5員環ヘテロアリール環(但し、硫黄原子と酸素原子が隣りあうことはない);及びYが水素原子、ヒドロキシ、アミノ、ハロゲン原子、置換可低級アルキル又は置換可低級アルコキシ(但し、Yは環J上に複数あってもよく、それらは互いに異なっていても同じでもよい。)である、上記〔4〕〜〔6〕のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔11〕 一般式
Z4、Z5及びZ7は酸素原子、窒素原子、硫黄原子(但し、Z4及びZ5が同時に酸
素原子と硫黄原子から選択される原子であることはない。)又はCR9{R9は水素原子、ヒドロキシ、アミノ、ハロゲン原子、低級アルキル又は低級アルコキシ(但し、R9が複数ある場合は、それらは互いに異なっていても同じでもよい。)である。};Z6は炭素原子;Z4、Z5、Z6及びZ7は、カルボキシ基が結合した炭素原子とともに5員環ヘテロアリール環を形成する)〕で表される上記〔10〕記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔12〕 一般式
〔13〕 R10がメチル又はメトキシ;及びR11がフッ素原子、塩素原子又はメチル;である、上記〔12〕記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
前記〔12〕記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
〔14〕 上記〔1〕〜〔13〕のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する、キサンチンオキシダーゼ阻害薬;
〔15〕 上記〔1〕〜〔13〕のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物;
〔16〕 高尿酸血症、痛風結節、痛風関節炎、高尿酸血症による腎障害及び尿路結石から選択される疾患の予防又は治療用である、上記〔15〕記載の医薬組成物;
〔17〕 高尿酸血症の予防又は治療用である、上記〔16〕記載の医薬組成物;
〔18〕 血清尿酸値低下薬である、上記〔15〕記載の医薬組成物;
〔19〕 尿酸生成抑制薬である、上記〔15〕記載の医薬組成物;
〔20〕 有効成分として、コルヒチン、非ステロイド性抗炎症薬、ステロイド及び尿アルカリ化薬の群から選ばれる少なくとも1種の薬剤を更に組み合せてなる、上記〔15〕〜〔19〕のいずれかに記載の医薬組成物;等に関するものである。
低級とは、炭素数6以下の直鎖状又は分岐状の炭化水素基をいう。例えば、低級アルキルとして、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、ヘキシル等が挙げられ、低級アルケニルとして、ビニル、アリル、1−プロペニル、イソプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、2−メチルアリル等が挙げられ、低級アルキニルとして、エチニル、2−プロピニル等が挙げられる。低級アルキレンとして、メチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、1−メチルエチレン、2−メチルエチレン、プロパン−1,3−ジイル、1−メチルプロパン−1,3−ジイル、1,1−ジメチルプロパン−1,3−ジイル、2−メチルプロパン−1,3−ジイル、2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジイル、3−メチルプロパン−1,3−ジイル、3,3−ジメチルプロパン−1,3−ジイル、ブタン−1,4−ジイル、1−メチルブタン−1,4−ジイル、1,1−ジメチルブタン−1,4−ジイル、2,2−ジメチルブタン−1,4−ジイル、3,3−ジメチルブタン−1,4−ジイル、4−メチルブタン−1,4−ジイル、4,4−ジメチルブタン−1,4−ジイル、ペンタン−1,5−ジイル、1−メチルペンタン−1,5−ジイル、2−メチルペンタン−1,5−ジイル、3−メチルペンタン−1,5−ジイル、4−メチルペンタン−1,5−ジイル、5−メチルペンタン−1,5−ジイル、ヘキサン1,5−ジイル等が挙げられ、低級アルケニレンとして、ビニレン、プロペン−1,3−ジイル、1−ブテン−1,4−ジイル、2−ブテン1,4−ジイル、1,3−ブタジエン−1,4、ジイル、1−ペンテン1.5−ジイル、2−ペンテン1,5−ジイル、1,3−ペンタジエン−1,5−ジイル、1−ヘキセン−1,6−ジイル、2−ヘキセン−1,6−ジイル、3−ヘキセン−1,6−ジイル、1,3−ヘキサジエン−1,6−ジイル、1,3,5−ヘキサトリエン−1,6−ジイル等が挙げられ、低級アルキニレンとして、エチニレン、2−プロピニレン等が挙げられる。低級アルコキシとして、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、tert−ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられ、低級アルコキシカルボニルとして、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、tert−ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。
置換可低級アルキル、置換可低級アルケニル、置換可低級アルキニル、置換可シクロアルキル及び置換可ヘテロシクロアルキルの置換基としては、例えば、フッ素原子、パーフルオロ低級アルキル、−OW1、−SW1、カルボキシ、スルホ、低級アルキル、低級アルキルスルホニル、低級アルコキシカルボニル、−OCOW2、−N(W2)COW3、−OCOOW4、−N(W2)COOW4、−NHC(=NH)−NW2W3、−NW2W3、−CONW2W3、−N(W5)CONW6W7、−N(W2)SO2W5、−SO2NW2W3、−SO2W4;ハロゲン原子、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ及びトリフルオロメチルから選択される基を1〜3個有していてもよいアリール;又はハロゲン原子、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ及びトリフルオロメチルから選択される基を1〜3個有していてもよいヘテロアリールが挙げられる。Yにおける置換可低級アルキルの置換基として、好ましくは、フッ素原子、パーフルオロ低級アルキル、低級アルキル、水酸基及び低級アルコキシが挙げられる。
置換可低級アルコキシの置換基としては、好ましくは、フッ素原子、パーフルオロ低級アルキル、低級アルキル、水酸基及び低級アルコキシが挙げられる。
置換可アリール及び置換可ヘテロアリールの置換基としては、例えば、ハロゲン原子、パーフルオロ低級アルキル、シアノ、ニトロ、−OW8、−SW8、カルボキシ、低級アルキル、低級アルキルスルホニル、低級アルコキシカルボニル、−OCOW2、−N(W2)COW3、−OCOOW4、−N(W2)COOW4、−NHC(=NH)−W2W3、−NW2W3、−CONW2W3、−N(W5)CONW6W7、−N(W2)SO2W5、−SO2NW2W3、−SO2W4;ハロゲン原子、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ及びトリフルオロメチルから選択される基を1〜3個有していてもよいアリール;ならびにハロゲン原子、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ及びトリフルオロメチルから選択される基を1〜3個有していてもよいヘテロアリールが挙げられる。
上記において、W1は水素原子、低級アルキル、パーフルオロ低級アルキル;ハロゲン原子、ヒドロキシ、アルキル、低級アルコキシ及びトリフルオロメチルから選択される基を1〜3個有していてもよいアリール;アリール低級アルキル;又はアミノ、モノ(ジ)低級アルキルアミノ及び低級アルキルスルホンアミドから選択される基を有する炭素数2〜6の低級アルキル(但し、W1が結合する酸素原子もしくは硫黄原子とW1中の窒素原子とは異なる炭素原子に結合する);
W2、W3、W5、W6及びW7は、それぞれ独立して、水素原子、低級アルキル又はアリール低級アルキルであるか、W2及びW3、ならびにW5及びW6、又はW6及びW7は結合している窒素原子を含めて脂環式アミノを形成してもよい;
W4は低級アルキルであるか、W2及びW4は結合している窒素原子を含めて脂環式アミノを形成してもよい);
W8は水素原子、低級アルキル、パーフルオロ低級アルキル;ハロゲン原子、ヒドロキシ、アルキル、低級アルコキシ及びトリフルオロメチルから選択される基を1〜3個有していてもよいアリール;アリール低級アルキル;又はアミノ、モノ(ジ)低級アルキルアミノ及び低級アルキルスルホンアミドから選択される基を有する炭素数2〜6の低級アルキル(但し、W8が結合する酸素原子もしくは硫黄原子とW8中の窒素原子とは異なる炭素原子に結合し、また、2個の−OW8がアリール環内の隣り合う炭素に存在する場合、それらのW8が結合して、1〜2個のフッ素原子で置換されていてもよいメチレン鎖、又は1〜4個のフッ素原子で置換されていてもよいエチレン鎖を形成してもよい)をそれぞれ意味する。
化合物(2)と化合物(3)とを、無溶媒下又は不活性溶媒中、塩基存在下、カップリング反応を行い、必要に応じて保護基の除去を行うことにより本発明の前記一般式(I)で表される(アザ)インドール誘導体を製造することができる。不活性溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、N−メチルピロリドン、1,2−ジメトキシエタン、ジメチルスルホキシド、1,2−ジエトキシエタン、1,4−ジオキサン、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド等が挙げられる。反応温度は通常室温から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。また、本工程は必要に応じて耐圧反応容器を用いて反応を行うことができる。
上記反応は、以下の文献(a)に記載の方法で行うこともできる。
(a) Hui Zhang,; Qian Cai,; and Dawei Ma, J. Org. Chem, Vol. 70, No. 13, 2005 5173.
化合物(2)と化合物(4)とを、不活性溶媒中、塩基及び触媒量の酢酸銅存在下、カップリング反応を行い、必要に応じて保護基を除去することにより、本発明の前記一般式(I)で表される(アザ)インドール誘導体を製造することもできる。不活性溶媒としては、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、N−メチルピロリドン、1,2−ジメトキシエタン、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としてはトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2, 6−ルチジン等が挙げられる。反応温度は通常室温から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。また、本工程は必要に応じて耐圧反応容器を用いて反応を行うこともできる。
アルデヒド化合物(5)を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、酸化剤と反応させることにより、本発明の(アザ)インドール誘導体(Ia)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ジクロロメタン、1,4−ジオキサン、アセトニトリル、アセトン、ヘキサン、シクロヘキサン、t−ブタノール、水、及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられる。酸化剤としては過マンガン酸カリウム、過マンガン酸バリウム、酸化銀等が挙げられる。反応温度は通常室温から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。また、本工程は必要に応じて耐圧反応容器を用いて反応を行うこともできる。
化合物(6)を、不活性溶媒中、N, N−ジメチルホルムアミド及びオキシ塩化リン存在下、ホルミル化することにより、アルデヒド化合物(7)を製造することができる。不活性溶媒としては、N, N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、これらの混合溶媒等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
アルデヒド化合物(7)を、ヒドロキシルアミン又はその塩酸塩を用いて、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下、縮合剤の存在下又は非存在下、ニトリル化することにより、本発明の(アザ)インドール誘導体(Ib)を製造することもできる。不活性溶媒としては、N, N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、N−メチルピロリジノン、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としてはトリエチルアミン、N, N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2, 6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。縮合剤としては、無水酢酸、塩化チオニル、五塩化リン、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
上記ニトリル化反応は、アルデヒド化合物(7)を、ヒドロキシルアミン又はその塩酸塩をギ酸溶媒中、ギ酸ナトリウムと反応させてもよい。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
ヒドロキシインドール化合物(8)を、化合物(9)を用いて、不活性溶媒中、塩基存在下、必要に応じて相関移動触媒の存在下、アルキル化することにより、本発明の(アザ)インドール誘導体(Ic)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基及びトリエチルアミン、N, N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2, 6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。相関移動触媒としては、塩化テトラ−n−ブチルアンモニウム、臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム、18−クラウン−6等が挙げられる。反応温度は通常室温から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。また、本工程は必要に応じて耐圧反応容器を用いて反応を行うこともできる。
化合物(10)を、ヒドロキシ化合物(11)を用いて、不活性溶媒中、縮合剤及びリン化合物存在下、アルキル化することより、本発明の(アザ)インドール誘導体(Ic)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン、これらの混合溶媒等が挙げられる。縮合剤としては、アゾジカルボン酸エチル、アゾジカルボン酸イソプロピル、1,1’−(アゾジカルボニル)ジピペリジンが挙げられる。リン化合物としては、トリフェニルホスフィン等が挙げられる。反応温度は通常室温から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。また、本工程は必要に応じて耐圧反応容器を用いて反応を行うこともできる。
化合物(12)を、不活性溶媒中、塩基、パラジウム触媒存在下、対応するアリールボロン酸試薬又ヘテロアリールボロン酸試薬を用いて、鈴木−宮浦カップリングを行うことにより、本発明の(アザ)インドール誘導体(Id)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4―ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、N, N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、フッ化カリウム、フッ化セシウム、トリエチルアミン、N, N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2, 6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、塩化パラジウム−1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。また、本工程は必要に応じて耐圧反応容器を用いて反応を行うこともできる。
化合物(12)を、不活性溶媒中、塩基、パラジウム触媒存在下、対応するアルケンを用いて、溝呂木−Heck反応を行うことにより、本発明の(アザ)インドール誘導体(Id)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4―ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、N, N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としてはトリエチルアミン、N, N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2, 6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等が挙げられる。パラジウム触媒としては、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、塩化パラジウム−1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン等が挙げられる。また、本反応は用いるパラジウム触媒によってリガンドを用いることもでき、リガンドとしては、トリフェニルホスフィン、トリ−O−トリルホスフィン、トリ−t−ブチルホスホニウム テトラフルオロボレート等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。また、本工程は必要に応じて耐圧反応容器を用いて反応を行うこともできる。
(b)Anderson, K. W.; Buchwald, S. L. Angew Chem, Int Ed. 2005, 44 (38), 6173-6177.
(c)Appukkuttan, P.; Van Der Eycken, E. et al. Synlett 2005, (1),127-133.
(d)Wang, W.; Xiong, C et al.Tetrahedron Lett. 2001, 42 (44), 7717-7719.
(e)Yang, Y.; Martin, A. R. Synth Commun 1992, 22 (12), 1757-1762.
(f)Billingsley, K. L.; Anderson, K. W.; Buchwald, S. L. Angew Chem, Int Ed 2006,
45 (21), 3484-3488.
工程7(方法2)のアルケニル化反応は、例えば、以下の文献(g)〜(i)に記載の方法によって行うこともできる。
(g)Hassner, A.; Loew, D. et al. J Org Chem. 1984, 49 (14), 2546.
(h)Leclerc, J.-P.; Andre, M. et al. J Org Chem. 2006, 71 (4), 1711-1714.
(i)Harrison, C.-A.; Jackson, P. M. et al. J Chem Soc, Perkin Trans 1, 1995, (9),
1131-1136.
カルボン酸化合物(14)とアンモニアを不活性溶媒中、縮合剤の存在下又は非存在下、塩基の存在下又は非存在下、必要に応じて1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等の添加剤を用いて、アミド化することにより、アミド化合物(15)を製造することができる。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、これらの混合溶媒等が挙げられる。縮合剤としては、無水酢酸、塩化チオニル、オギザリルクロリド、N,N’−カルボニルジイミダゾール、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、N−エチル−N’−3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド及びその塩酸塩、ジフェニルホスホリルアジド等が挙げられる。塩基としてはトリエチルアミン、N, N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
アミド化合物(15)を不活性溶媒中、脱水剤の存在下、脱水することによりニトリル化合物(2a)を製造することもできる。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、N, N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。脱水剤としては、無水酢酸、塩化チオニル、オキシ塩化リン、メタンスルホニルイミダゾール、p−トルエンスルホニルクロリド、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、五酸化二リン、トリホスゲン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
化合物(16)を、前記工程4と同様の方法によりホルミル化して、アルデヒド化合物(17)を製造することもできる。
アルデヒド化合物(17)を、前記工程5と同様の方法によりニトリル化して、ニトリル化合物(2a)を製造することもできる。
化合物(16)を不活性溶媒中、ハロゲン化剤の存在下、ハロゲン化することによりハロゲノ化合物(18)を製造することができる。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、酢酸、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、これらの混合溶媒等が挙げられる。ハロゲン化剤としては、臭素、N−ブロモスクシンイミド、ピリジニウムブロミドパ−ブロミド、ヨウ素等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
ハロゲノ化合物(18)を不活性溶媒中、シアノ化試薬、塩基及びパラジウム触媒存在下、ニトリル化することにより、ニトリル化合物(2a)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、N, N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水、これらの混合溶媒等が挙げられる。シアノ化試薬としては、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化銅、シアン化亜鉛、シアン化トリメチルシリル等が挙げられる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、フッ化カリウム、フッ化セシウム、トリエチルアミン、N, N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2, 6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、塩化パラジウム−1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。また、本工程は必要に応じて耐圧反応容器を用いて反応を行うことができる。
(j) Sakamoto, T.; Ohsawa, K.; J Chem Soc, Perkin Trans 1 1999, (16), 2323-2326.
(k) Rege, Pankaj D.; Tian, Yuan; Corey, E. J. Organic Letters, 2006, 8 (14), 3117-3120.
(l) Wang, Jianji; Soundarajan, Nachimuthu; et al. Tetrahedron Letters, 2005, 46 (6), 907-910.
(m) Cacchi, Sandro; Fabrizi, Giancarlo; Parisi, Luca M. Organic Letters, 2003, 5
(21), 3843-3846.
(n) Bosco, Marcella; Dalpozzo, Renato; Bartoli, et al. Journal of the Chemical Society, Perkin Transactions 2: Physical Organic Chemistry, 1991, (5), 657-63.
ニトロベンゼン誘導体(19)又は(20)を不活性溶媒中、水素雰囲気下、金属触媒を用いて、常圧下または加圧下で反応させることにより、インドール化合物(16)を製造することもできる。不活性溶媒としては、メタノール、エタノール、n−ブタノール、酢酸、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N, N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水、これらの混合溶媒等が挙げられる。金属触媒としては、パラジウム炭素、ロジウム炭素、酸化白金(IV)等が挙げられる。反応温度は通常0℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度により異なるが、通常1時間〜7日間である。
カルボキシ基において使用されるプロドラッグを構成する基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル等の低級アルキル;ピバロイルオキシメチル、アセチルオキシメチル、1−(ピバロイルオキシ)エチル、1−(アセチルオキシ)エチル等の低級アルキル−COO−低級アルキレン;エチルオキシカルボニルオキシメチル、1−(エチルオキシカルボニルオキシ)エチル、イソプロピルオキシカルボニルオキシメチル、1−(イソプロピルオキシカルボニルオキシ)エチル、tert−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、1−(tert−ブチルオキシカルボニルオキシ)エチル等の低級アルキル−OCOO−低級アルキレン;シクロヘキシルオキシカルボニルメチル、1−(シクロヘキシルオキシカルボニル)エチル等のシクロアルキル−OCOO−低級アルキレン基等を挙げることができる。
4−フルオロ−2−ヒドロキシ安息香酸エチル
4―フルオロ−2−ヒドロキシ安息香酸(3.0g)のエタノール(40mL)溶液に、塩化チオニル(5.61mL)を0℃にて加え、24時間還流させた。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥させ減圧下濃縮して標記化合物(3.5g)を得た。
4−フルオロ−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル
4−フルオロ−2−ヒドロキシ安息香酸エチル(3.5g)の塩化メチレン(30mL)溶液に、N, N−ジイソプロピルエチルアミン(5.0g)及びクロロメチルメチルエーテル(2.3g)を0℃にて加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥させ減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製して標記化合物(2.8g)を得た。
4−フルオロ−2−メトキシメトキシ安息香酸メチル
4―フルオロ−2−ヒドロキシ安息香酸(3.0g)のN, N−ジメチルホルムアミド(5mL)溶液に、水素化ナトリウム(60% 1.0g)、クロロメチルメチルエーテル(2.1g)を室温にて加え、同温にて48時間撹拌した。反応混合物を2mol/L塩酸中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製して、標記化合物(0.22g)を得た。
5,6−ジフルオロ−1H−インドール−3−カルボアルデヒド
5,6−ジフルオロ−1H−インドール(1.0g)のN, N−ジメチルホルムアミド(10mL)溶液に、オキシ塩化リン(1.2g)を0℃にて加え、室温にて4時間撹拌した。この反応混合物に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(5mL)を加え70℃にて0.5時間撹拌した。室温に戻した後、反応混合物を1mol/L塩酸に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して標記化合物(1.1g)を得た。
5,6−ジフルオロ−1H−インドール−3−カルボニトリル
5,6−ジフルオロ−1H−インドール−3−カルボアルデヒド(1.0g)のテトラヒドロフラン溶液(15mL)に、ヒドロキシルアミン塩酸塩(0.81g)及びピリジン(1.9g)を加え80℃にて8時間撹拌した。この反応混合物に無水酢酸(1.8g)を加え80℃にて8時間撹拌した。室温に冷却後2mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加え30分撹拌した後に2mol/L塩酸に注いだ。析出した固体をろ取し、水、n−ヘキサンで洗浄した。得られた固体を酢酸エチルに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製して標記化合物(0.95g)を得た。
6−フルオロ−1H−インドール−3−カルボニトリル
6−フルオロ−1H−インドール−3−カルボアルデヒド(0.97g)の90%ギ酸(25mL)溶液に、ヒドロキシルアミン(0.62g)及びギ酸ナトリウム(0.81g)を加え3時間100℃にて撹拌した。室温に冷却後、水を加え、析出した固体をろ取し、得られた固体を水で洗浄後乾燥して標記化合物(0.57g)を得た。
5−フェニル−1H−インドール−カルボニトリル
参考例5と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
3−ホルミル−1H−インドール−5−カルボン酸ベンジル
1H−インドール−5−カルボン酸ベンジルエステル(3.5g)のN, N−ジメチルホルムアミド(30mL)溶液に、オキシ塩化リン(2.6g)を氷冷下滴下し、室温にて2時間撹拌した。反応混合物にpH6になるまで2mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加え、30分間70℃にて撹拌した。反応混合物を室温に戻し、析出した固体をろ取し、水、メタノールで洗浄後、乾燥して標記化合物(3.9g)を得た。
3−シアノ−1H−インドール−5−カルボン酸ベンジル
3−ホルミル−1H−インドール−5−カルボン酸ベンジル(4.3g)、ピリジン(4.8g)のテトラヒドロフラン(60mL)溶液に、ヒドロキシルアミン塩酸塩(1.6g)を室温にて加え、80℃にて一晩撹拌した。この反応混合物に同温にて無水酢酸を加え、8時間さらに撹拌した。室温に冷却後、反応混合物に1mol/L水酸化ナトリウム水溶液(20mL)を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製して標記化合物(2.8g)を得た。
3−ベンジルオキシ−4−メチル−安息香酸ベンジル
3−ヒドロキシ−4−メチル安息香酸(5.0g)のN, N−ジメチルホルムアミド(100mL)溶液に、炭酸セシウム(32g)、ベンジルブロミド(12g)を加え、室温にて2日間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製して標記化合物(7.5g)を得た。
(3−ベンジルオキシ−4−メチルフェニル)メタノール
3−ベンジルオキシ−4−メチル−安息香酸ベンジル(7.5g)のジエチルエーテル(11mL)溶液をリチウムアルミニウムヒドリド(1.7g)のジエチルエーテル(50mL)懸濁液に、アルゴン雰囲気下、0℃にて滴下し、室温にて6時間撹拌した。この反応混合物に水(3.2mL)を滴下し、セライトを加え、これをろ過した。ろ液を濃縮して標記化合物(7.0g)をベンジルアルコールとの混合物として得た。
3−ベンジルオキシ−4−メチル−ベンズアルデヒド
(3−ベンジルオキシ−4−メチルフェニル)メタノール(1.0g)のジクロロメタン(50mL)溶液に二酸化マンガン(2.5g)を加え、室温にて2日間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製し標記化合物(0.39g)を得た。
5−ベンジルオキシ−2−ブロモ−4−メチル−ベンズアルデヒド
3−ベンジルオキシ−4−メチル−ベンズアルデヒド(0.39g)のジクロロメタン(1mL)、メタノール(1mL)の混合溶液に、臭素(0.410g)のジクロロメタン(0.2mL)溶液を0℃にて加え、室温にて2時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで洗浄後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製して標記化合物(0.39g)を得た。
(Z)−3−(5−ベンジルオキシ−2−ブロモ−4−メチルフェニル)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−アクリル酸メチル
5−ベンジルオキシ−2−ブロモ−4−メチル−ベンズアルデヒド(0.39g)、N−(ベンジルオキシカルボニル)−α−ホスホノグリシントリメチル(0.38g)のジクロロメタン(2mL)溶液に1,1,3,3−テトラメチルグアニジン(0.18g)を室温下加え、室温にて2日間撹拌した。反応混合物に1mol/L塩酸を加え、析出した固体をろ取し、水で洗浄後、減圧下乾燥して標記化合物(0.34g)を得た。
5−ベンジルオキシ−6−メチル−1H−インドール−2−カルボン酸メチル
(Z)−3−(5−ベンジルオキシ−2−ブロモ−4−メチルフェニル)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−アクリル酸メチル(0.2g)、ヨウ化銅(0.075g)のジメチルスルホキシド(8mL)溶液に、酢酸セシウム(0.38g)を室温下加え、アルゴン雰囲気下、90℃にて5時間撹拌した。反応混合物にアンモニア水溶液(28%)を加え、析出した固体をろ取し、水で洗浄後、減圧下乾燥して標記化合物(0.073g)を得た。
5−ベンジルオキシ−6−メチル−1H−インドール−2−カルボン酸
5−ベンジルオキシ−6−メチル−1H−インドール−2−カルボン酸メチル(1.3g)の1,4−ジオキサン(40mL)及び水(20mL)の混合溶液に、水酸化リチウム一水和物(1.8g)を室温下加え、50℃にて1時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却後、1mol/L塩酸を加えた。析出した固体をろ取し、水で洗浄後、減圧下乾燥して標記化合物(1.0g)を得た。
5−ベンジルオキシ−6−メチル−1H−インドール
5−ベンジルオキシ−6−メチル−1H−インドール−2−カルボン酸(0.6g)のキノリン(6mL)溶液に銅粉末(0.15g)を加え、220℃にて20分撹拌した。反応混合物を1mol/L塩酸中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製して標記化合物(0.21g)を得た。
5−ベンジルオキシ−6−メチル−1H−インドール−3−カルボアルデヒド
参考例4と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.48g)を得た。
5−ベンジルオキシ−6−メチル−1H−インドール−3−カルボニトリル
参考例5と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.10g)を得た。
4−(6−ニトロインドール−1−イル)安息香酸エチル
6−ニトロ−1H−インドール(0.5g)のN, N−ジメチルホルムアミド(10mL)溶液に、炭酸セシウム(1.2g)、4−フルオロ安息香酸エチル(0.62g)を加え、75℃にて一晩撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、析出した固体をろ取し、水、n−ヘキサンで洗浄し、減圧下乾燥して標記化合物(0.64g)を得た。
1−(5−ホルミルフラン−2−イル)−1H−インドール−3−カルボニトリル
3−シアノインドール(0.14g)、5−ブロモ−2−フルアルデヒド (0.18g) 及び炭酸セシウム(0.39g)のN、N−ジメチルホルムアミド(3mL)懸濁液を室温で3時間撹拌した。反応混合物を50℃に加熱しさらに2時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し標記化合物(0.086g)を得た。
4−(6−ホルミルインドール−1−イル)安息香酸エチル
参考例20と同様の方法により、対応する原料を用いて、標記化合物を得た。
4−(6−アセトキシメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(6−ホルミルインドール−1−イル)安息香酸エチルのテトラヒドロフラン(3mL)及びメタノール(10mL)の混合溶液に、水素化ホウ素ナトリウム(0.075g)を0℃にて加え、室温にて0.5時間撹拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮し、4−(6−ヒドロキシメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.38g)を得た。4−(6−ヒドロキシメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.09g)のジクロロメタン(1mL)溶液に無水酢酸(0.093g)及びピリジン(0.024g)を加え、室温にて2日撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製することにより、標記化合物(0.068g)を得た。
メチル4−フルオロ−2−メチルカルボナート
4−フルオロ−2−メチルフェノール(2.0g)の1,4−ジオキサン(20mL)溶液にクロロギ酸メチル(3.0g)及びピリジン(2.5g)を氷冷下加え、室温にて一晩撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液に1mol/L塩酸を加えた。酢酸エチルにて抽出し、有機層を水で2回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮して標記化合物を得た。
4−フルオロ−2−メチル−5−ニトロフェノール
メチル4−フルオロ−2−メチルカルボナート(2.9g)を濃硫酸(11mL)に溶解し、発煙硝酸(1.1mL)を氷冷下、10分間かけて滴下した。同温にて1時間撹拌後、反応混合物を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で2回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮した。残渣をメタノールに溶解し、炭酸水素ナトリウム(2.6g)及び炭酸カリウム(2.2g)を室温にて加え、2時間撹拌した。反応溶液を1mol/L塩酸にてpH1に調整し、有機溶媒を減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチルにて抽出し、有機溶媒を水、飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製し標記化合物を得た(1.5g)。
1−フルオロ−4−メトキシ−5−メチル−2−ニトロベンゼン
4−フルオロ−2−メチル−5−ニトロフェノール(0.5g)のN, N−ジメチルホルムアミド(5mL)溶液に、炭酸カリウム(0.44g)及びヨウ化メチル(0.46g)を加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体をろ取し、得られた固体を水及びヘキサンにて洗浄し標記化合物を得た(0.44g)。
シアノ−(4−メトキシ−5−メチル−2−ニトロフェニル)酢酸メチル
水素化ナトリウム(0.86g)のN, N−ジメチルホルムアミド(5mL)懸濁液に、シアノ酢酸メチル(0.35g)のN, N−ジメチルホルムアミド(3mL)溶液を氷冷化滴下し、15分間撹拌した。この反応混合物に1−フルオロ−4−メトキシ−5−メチル−2−ニトロベンゼン(0.44g)のN, N−ジメチルホルムアミド(3mL)溶液を氷冷化滴下し、室温にて30分撹拌した。反応混合物を70℃にて一晩撹拌し、室温に冷却後1mol/L塩酸(5mL)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製し標記化合物を得た(0.45g)。
(4−メトキシ−5−メチル−2−ニトロフェニル)アセトニトリル
シアノ−(4−メトキシ−5−メチル−2−ニトロフェニル)酢酸メチル(0.44g)のメタノール(1.7mL)溶液に、6mol/L塩酸(1.7mL)を加え、9時間還流した。室温に冷却後、有機溶媒を減圧下除去し、酢酸エチルで抽出した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製し標記化合物を得た(0.25g)。
6−メトキシ−5−メチルインドール
(4−メトキシ−5−メチル−2−ニトロフェニル)アセトニトリル(0.24g)のテトラヒドロフラン(2mL)及びn−ブタノール(2mL)の混合溶液に、アルゴン雰囲気下パラジウム炭素(0.043g)を加え、水素雰囲気下、60℃にて36時間撹拌した。不溶物を除去し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製し標記化合物を得た(0.13g)。
3−シアノ−6−メトキシ−5−メチルインドール
参考例4及び参考例5と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.070g)を得た。
1−メトキシ−2−メチル−4−ニトロベンゼン
1−ヒドロキシ−2−メチル−4−ニトロベンゼン(1.0g)のN, N−ジメチルホルムアミド(10mL)溶液に、炭酸カリウム(1.8g)及びヨードメタン(1.3g)を室温にて加え、同温にて24時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、標記化合物(0.95g)を得た。
(5−メトキシ−4−メチル−2−ニトロフェニル)アセトニトリル
1−メトキシ−2−メチル−4−ニトロベンゼン(0.4g)と(4−クロロフェノキシ)アセトニトリル(0.4g)のN,N−ジメチルホルムアミド(10mL)溶液に、カリウムt−ブトキシド(0.3g)を氷冷下にて加え、同温にて1時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し標記化合物(0.2g)を得た。
5−メトキシ−6−メチル−1H−インドール
参考例29と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.065g)を得た。
5−メトキシ−6−メチル−1H−インドール−3−カルボニトリル
参考例4及び参考例5と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.05g)を得た。
5−ベンジルオキシ−6−クロロ−1H−インドール
(5−ベンジルオキシ−4−クロロ−2−ニトロフェニル)アセトニトリル(4.170g)のエタノール(70mL)溶液に、室温にて酸化白金(IV)(0.344g)を加え、水素雰囲気下(30−35psi)、12時間攪拌した。この反応混合物に、酢酸(7mL)及び水(7mL)を加え、同様の条件下で24時間攪拌した。アルゴン雰囲気下とし、不溶物を除去した後、水を加え、ジエチルエーテルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、ろ過し、減圧下濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/へキサン=75/25)にて精製し、標記化合物(0.629g)を得た。
5−ベンジルオキシ−6−クロロ−1H−インドール−3−カルバルデヒド
参考例4と同様な方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.270g)を得た。
5−ベンジルオキシ−6−クロロ−1H−インドール−3−カルボニトリル
参考例5と同様な方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.267g)を得た。
シアノ−(4−フルオロ−5−メチル−2−ニトロフェニル)酢酸ベンジル
1,4−ジフルオロ−2−メチル−5−ニトロベンゼン(1.00g)、シアノ酢酸ベンジル(1.01g)及び炭酸カリウム(1.76g)のN,N−ジメチルホルムアミド(20.0mL)懸濁液を、60℃にて、一昼夜攪拌した。反応混合物に1mol/L 塩酸(25.4mL)を加えた後、ジエチルエーテルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、ろ過し、減圧下濃縮した。得られた残渣をエタノールで洗浄し、標記化合物(1.54g)を得た。
6−フルオロ−5−メチル−1H−インドール
アルゴン雰囲気下、シアノ−(4−フルオロ−5−メチル−2−ニトロフェニル)酢酸ベンジル(1.54g)、酢酸(7mL)、水(7mL)のエタノール(15mL)溶液に、氷冷下10%パラジウム炭素(0.154g)を加えた。つづいて、水素雰囲気下(30−35psi)、室温にて60時間攪拌した。反応混合物に水を加えた後、アルゴン雰囲気下とした。不溶物を除去した後、ジエチルエーテルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、ろ過し、減圧下濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/へキサン=75/25)にて精製し、標記化合物(0.536g)を得た。
6−フルオロ−5−メチル−1H−インドール−3−カルバルデヒド
参考例4と同様な方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.577g)を得た。
6−フルオロ−5−メチル−1H−インドール−3−カルボニトリル
参考例5と同様な方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.544g)を得た。
6−ベンジルオキシ−5−メトキシ−1H−インドール
室温にて、硝酸(d=1.42、20mL)に4−ベンジルオキシ−3−メトキシベンズアルデヒド(4.85g)を1時間かけて加え、1時間攪拌した。反応混合物を氷水にあけ、析出した固体をろ取した。得られた個体を水で洗浄後、減圧下、50℃で乾燥し、4−ベンジルオキシ−5−メトキシ−2−ニトロベンズアルデヒド(4.99g)を得た。得られた化合物(4.99g)に酢酸(50mL)を加えた後、ニトロメタン(3.19g)、酢酸アンモニウム(5.36g)を加え、100℃にて5時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮した後、水を加え、析出した固体をろ取した。これをメタノールで洗浄後、乾燥し、1−ベンジルオキシ−2−メトキシ−5−ニトロ−4−(2−ニトロビニル)ベンゼン(4.03g)を得た。得られた化合物(4.03g)に、ベンゼン(96mL)、酢酸(72mL)、シクロヘキサン(24mL)を加えた後、シリカゲル(18.0g)、鉄粉末(10.2g)を加え、100℃にて1時間攪拌した。不溶物を除去した後、減圧下、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/へキサン=75/25)にて精製し、標記化合物(1.06g)を得た。
6−ベンジルオキシ−5−メトキシ−1H−インドール−3−カルバルデヒド
参考例4と同様な方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
6−ベンジルオキシ−5−メトキシ−1H−インドール−3−カルボニトリル
参考例5と同様な方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
参考例29と同様な方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
ジメチル−(4−ニトロ−2−トリフルオロメチルフェニル)アミン
1−フルオロ−4−ニトロ−2−トリフルオロメチルベンゼン(2.0g)のテトラヒドロフラン(20mL)溶液にジメチルアミン(0.64g)及び水素化ナトリウム(0.34g)を室温にて加え、50℃にて16時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し標記化合物(0.94g)を得た。
5−ジメチルアミノ−2−ニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル)アセトニトリル
ジメチル−(4−ニトロ−2−トリフルオロメチルフェニル)アミン(0.95g)のN,N−ジメチルホルムアミド(20mL)溶液に、(4−クロロフェノキシ)アセトニトリル(0.75g)、1mol/Lのカリウムt−ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液(4.5mL)を氷冷下加え、同温にて1時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、標記化合物(0.11g)を得た。
ジメチル−(6−トリフルオロメチル−1H−インドール−5−イル)アミン
5−ジメチルアミノ−2−ニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル)アセトニトリル(0.058g)のエタノール(1mL)、酢酸(0.1mL)及び水(0.1mL)混合溶液にパラジウム炭素(0.0058g)を室温にて加え、35℃にて16時間撹拌した。不溶物を除去し、ろ液を濃縮し標記化合物(0.058g)を得た。
4−(5−ジメチルアミノ−6−トリフルオロメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
参考例20と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(3−ホルミル−5−メチルアミノ−6−トリフルオロメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(5−ジメチルアミノ−6−トリフルオロメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.054g)のN,N−ジメチルホルムアミド(2mL)溶液にオキシ塩化リン(0.026g)を氷冷下加え、室温にて16時間撹拌した。反応混合物に2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液(5mL)を加え、50℃にて30分撹拌した。放冷後、1mol/L塩酸(10mL)を加え、析出した固体をろ取し、水及びヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し標記化合物(0.026g)を得た。
参考例29と同様の方法により、(4−メトキシ−5−メチル−2−ニトロフェニル)アセトニトリルのかわりに(3−ベンジルオキシ−2,4−ジメチル−6−ニトロフェニル)アセトニトリルを用いて、標記化合物を得た。
参考例31と同様の方法により、参考例53の化合物及び対応する原料を用いてインドールを得た後に、実施例5と同様の方法により標記化合物を得た。
参考例5と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(3−シアノ−5,6−ジフルオロインドール−1−イル)−2−メトキシメトキシ−安息香酸エチル
3−シアノ−5,6−ジフルオロインドール(0.25g)のN, N−ジメチルホルムアミド溶液(10mL)に、炭酸セシウム(0.91g)、4−フルオロ−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル(0.32g)を加え、75℃にて一晩撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥させ減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=10/90−75/25)で精製して標記化合物(0.12g)を得た。
4−(3−シアノ−5、6−ジフルオロインドール−1−イル)−2−ヒドロキシ−安息香酸エチル
4−(3−シアノ−5、6−ジフルオロインドール−1−イル)−2−メトキシメトキシ−安息香酸エチル(0.12g)のテトラヒドロフラン(1.5mL)及びエタノール(3mL)混合溶液に、2mol/L塩酸(1.0mL)を加え、70℃にて一晩撹拌した。室温に冷却後、析出した固体をろ取し、水及びn−ヘキサンで洗浄後、減圧下40℃にて乾燥して標記化合物(0.074g)を得た。
4−(3−シアノ−5、6−ジフルオロインドール−1−イル)−2−ヒドロキシ−安息香酸
4−(3−シアノ−5、6−ジフルオロインドール−1−イル)−2−ヒドロキシ−安息香酸エチル(0.074g)のテトラヒドロフラン(3.0mL)、エタノール(0.75mL)混合溶液に0.1g/mL水酸化リチウム水溶液(0.62mL)及び水(1mL)を加え、室温にて26時間撹拌した。反応混合物に2mol/L塩酸(5mL)を加え有機溶媒を減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層を水にて洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮して標記化合物(0.06g)を得た。
4−(6−ベンジルオキシ−3−シアノインドール−1−イル)−2−メトキシメトキシ−安息香酸エチル
実施例1と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(3.4g)を得た。
4−(6−ベンジルオキシ−3−シアノインドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸
実施例2及び実施例3と同様の方法により標記化合物を得た。
4−(3−シアノ−6−ヒドロキシインドール−1−イル)−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル
4−(6−ベンジルオキシ−3−シアノインドール−1−イル)−2−メトキシメトキシ−安息香酸エチル(3.4g)の酢酸エチル(60mL)とメタノール(60mL)の混合溶媒に、アルゴン雰囲気下、0℃にてパラジウム炭素(0.61g)を加え、水素雰囲気下40℃にて3時間撹拌した。不溶物をろ取し、ろ液を減圧下濃縮して標記化合物(2.5g)を得た。
4−[6−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル
4−(3−シアノ−6−ヒドロキシインドール−1−イル)−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル(0.37g)のN, N−ジメチルホルムアミド(10mL)溶液に、(2−ブロモエチル)カルバミン酸ベンジルエステル(0.39g)、炭酸カリウム(0.28g)を加え、50℃にて一晩撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、析出した固体をろ取し、メタノールで洗浄後、乾燥して標記化合物(0.40g)を得た。
4−[6−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−ヒドロキシ安息香酸
4−[6−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル(0.14g)のエタノール(2.5mL)、テトラヒドロフラン(5mL)及び水(2.5mL)の混合溶液に、水酸化リチウム一水和物(0.03g)を加え室温にて3時間撹拌した。この反応混合物に2mol/L塩酸(0.75mL)を加え、50℃にて5時間撹拌した。この反応混合物を1mol/L塩酸(5mL)で処理し、溶媒量が1/3になるまで減圧下濃縮した。析出した固体をろ取し、水、メタノール及びエーテルで洗浄して標記化合物(0.097g)を得た。
4−[6−(2−アミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−ヒドロキシ安息香酸
4−[6−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−ヒドロキシ安息香酸(0.087g)の酢酸エチル(2mL)とメタノール(2mL)の混合溶媒に、アルゴン雰囲気下、0℃にてパラジウム炭素(0.016g)を加え、水素雰囲気下40℃にて3時間撹拌した。不溶物をろ取し、ろ液を減圧下濃縮し、得られた淡黄色の固体をジエチルエーテルで洗浄後乾燥して標記化合物(0.058g)を得た。
4−[6−(2−アミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル
4−[6−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル(0.27g)の酢酸エチル(5mL)とメタノール(5mL)の混合溶媒に、アルゴン雰囲気下、0℃にてパラジウム炭素(0.05g)を加え、水素雰囲気下40℃にて3時間撹拌した。不溶物をろ取し、ろ液を減圧下濃縮し、得られた淡黄色の固体をエーテルで洗浄後乾燥して標記化合物(0.20g)を得た。
4−[6−(2−アセチルアミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル
4−[6−(2−アミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−メトキシメトキシ安息香酸エチル(0.10g)とトリエチルアミン(0.076g)のジクロロメタン(5mL)溶液にアセチルクロリド(0.049g)を室温下加え、室温にて12時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ジクロロメタン:メタノール=10:1)にて精製して標記化合物(0.083g)を得た。
4−[6−(2−アセチルアミノエチルオキシ)−3−シアノインドール−1−イル]−2−ヒドロキシ安息香酸
実施例8と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.039g)を得た。
4−(5−ブロモ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル
5−ブロモ−3−シアノ−1H−インドール(2.0g)のN, N−ジメチルホルムアミド溶液(50mL)に、炭酸セシウム(7.4g)、4−フルオロ安息香酸エチル(3.0g)を加え、80℃にて48時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、析出した固体をろ取した。固体を水で洗浄し、減圧下50℃にて乾燥して標記化合物(1.8g)を得た。
4−[3−シアノ−5−(4−メトキシフェニル)インドール−1−イル]安息香酸エチル
4−(5−ブロモ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.1g)、4−メトキシフェニルボロン酸(0.066g)及び炭酸カリウム(0.09g)を1,2−ジメトキシエタン(3mL)、エタノール(0.5mL)及び水(0.5mL)の混合溶媒中、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム触媒存在下、90℃にて18時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、析出した固体をろ取した。この固体を水で洗浄し、減圧下50℃にて乾燥して標記化合物(0.098g)を得た。
4−[3−シアノ−5−(4−メトキシフェニル)インドール−1−イル]安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.081g)を得た。
4−{5−[(E)−2−エトキシカルボニルビニル]−3−シアノインドール−1−イル}安息香酸
4−(5−ブロモ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.1g)、アクリル酸エチル(0.11g)及びトリエチルアミン(0.082g)のN, N−ジメチルホルムアミド(2mL)溶液を、酢酸パラジウム(0.0061g)及びトリフェニルホスフィン(0.014g)存在下100℃にて30時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=10/90−75/25)にて精製して標記化合物(0.035g)を得た。
4−[5−((E)−2−カルボキシビニル)−3−シアノインドール−1−イル]安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(4−ベンジルオキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.16g)を得た。
4−(4−ベンジルオキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸
4−(4−ベンジルオキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.16g)のエタノール(2mL)溶液に、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(0.4mL)を加え50℃にて一晩撹拌した。エタノールを減圧下除去した後に、反応混合物中に2mol/L塩酸(3mL)を加えた。析出した固体をろ取し、水及びn−ヘキサンで洗浄して標記化合物(0.11g)を得た。
4−(3−シアノ−6−ニトロインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(6−ニトロインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.53g)のN, N−ジメチルホルムアミド(6mL)溶液にオキシ塩化リン(0.31g)を氷冷下加え、70℃にて一晩撹拌した。室温に冷却後、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加え、30分間撹拌した。反応混合物を1mol/L塩酸中に注ぎ、析出した固体をろ取し、水及びn−ヘキサンにて洗浄後、減圧下40℃にて乾燥させ、4−(3−ホルミル−6−ニトロインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.46g)を得た。得られたアルデヒド(0.46g)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液に、ヒドロキシルアミン塩酸塩(0.19g)、ピリジン(0.43g)を室温下加え、80℃にて8時間撹拌した。この反応混合物に無水酢酸(0.42g)を80℃にて加え、同温にて一晩撹拌した。反応混合物を室温に冷却後、1mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加えた。この反応混合物に1mol/L塩酸を加え析出した固体をろ取し、水、n−ヘキサンにて洗浄し、さらにジエチルエーテルで洗浄して標記化合物(0.13g)を得た。
4−(6−アミノ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(3−シアノ−6−ニトロインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.11g)のテトラヒドロフラン(2mL)とメタノール(2mL)の混合溶液に、アルゴン雰囲気下パラジウム炭素(0.04g)を加え水素雰囲気下室温にて7時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液を減圧下濃縮して標記化合物(0.070g)を得た。
4−(3−シアノ−6−メタンスルホニルアミノインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(5−アミノ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.070g)のジクロロメタン(2mL)溶液にメタンスルホニルクロリド(0.035g)及びピリジン(0.036g)を室温下加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を1mol/L塩酸中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=10/90−75/25)にて精製して標記化合物(0.046g)を得た。
4−(3−シアノ−6−メタンスルホニルアミノインドール−1−イル)安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.040g)を得た。
4−(5−ベンジルオキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(5−ヒドロキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例6と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−[3−シアノ−5−(チオフェン−2−イルメチルオキシ)インドール−1−イル]安息香酸エチル
4−(5−ヒドロキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.077g)、チオフェン−2−メタノール(0.057g)及びトリフェニルホスフィン(0.012g)のテトラヒドロフラン(2.5mL)溶液に、ジイソプロピルカルボジイミド−40%トルエン溶液(0.18mL)を室温にて加え、3時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/3)にて精製して、標記化合物(0.10g)を得た。
4−[3−シアノ−5−(チオフェン−2−イルメチルオキシ)インドール−1−イル]安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.01g)を得た。
4−(3−シアノ−5−ベンジルオキシカルボニルインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.24g)を得た。
4−(5−カルボキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.050g)を得た。
4−(5−カルボキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(3−シアノ−5−ベンジルオキシカルボニルインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.16g)のメタノール(5mL)とテトラヒドロフラン(5mL)の混合溶媒に、アルゴン雰囲気下、0℃にてパラジウム炭素(0.03g)を加え、水素雰囲気下室温にて3時間撹拌した。不溶物をろ取し、ろ液を減圧下濃縮し、得られた固体をメタノールで洗浄後乾燥して標記化合物(0.057g)を得た。
4−(3−シアノ−5−ヒドロキシメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(5−カルボキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.057g)のテトラヒドロフラン(2mL)溶液に、ボラン−テトラヒドロフラン錯体(1.2mol/Lテトラヒドロフラン溶液、0.2mL)を0℃にて加え、室温にて2時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/1)で精製して標記化合物(0.032g)を得た。
4−(3−シアノ−5−ヒドロキシメチルインドール−1−イル)安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.029g)を得た。
4−(3−シアノ−5−ジメチルアミノカルボニルインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(5−カルボキシ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.084g)、ジメチルアミン塩酸塩(0.061g)、トリエチルアミン(0.13g)及び4−ジメチルアミノピリジン(0.006g)のジクロロメタン(2.5mL)溶液に、N−エチル−N’−3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド(0.058g)を室温下加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を1mol/L塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/2)にて精製して、標記化合物(0,020g)を得た。
4−(3−シアノ−5−ジメチルアミノカルボニルインドール−1−イル)安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.0025g)を得た。
5−(3−シアノインドール−1−イル)フラン−2−カルボン酸
1−(5−ホルミルフラン−2−イル)−1H−インドール−3−カルボニトリル(0.085g)のメタノール(4mL)及びテトラヒドロフラン(4mL)の懸濁液に室温で酸化銀(I)(0.1g)及び2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(0.27mL)を加え室温で6時間撹拌した。反応混合物の不溶物をろ去し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣に水(15mL)及び2mol/L塩酸水溶液(2mL)を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレン/メタノール=10/1)にて精製し標記化合物(0.023g)を得た。
3−(3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル
1H−インドール−3−カルボニトリル(0.28g)のジメチルスルホキシド(3mL)溶液に、3−ヨード安息香酸エチル(0.61g)、炭酸セシウム(0.65g)、ヨウ化銅(0.038g)及びN, N−ジメチルグリシン(0.041g)を加え75℃にて3日撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、不溶物をろ去し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣に水を加え析出した固体をろ取し、得られた固体を水、n−ヘキサンにて洗浄後、減圧下40℃にて洗浄して標記化合物(0.38g)を得た。
3−(3−シアノインドール−1−イル)安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.30g)を得た。
2−(3−シアノインドール−1−イル)イソニコチン酸エチル
1H−インドール−3−カルボニトリル(0.1g)、2−ブロモイソニコチン酸エチル(0.16g)、リン酸カリウム(0.27g)、(1R,2R)−(−)−N,N’−ジメチルシクロヘキサン−1,2−ジアミン(0.017g)、ヨウ化銅(0.006g)及びトルエン(0.7mL)の混合物を110℃にて38時間撹拌した。不溶物を除去し、溶媒を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=10/90−66/34)にて精製して、標記化合物(0.061g)を得た。
2−(3−シアノインドール−1−イル)イソニコチン酸
実施例8と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.038g)を得た。
4−(3−シアノインドール−1−イル)−2−ニトロ安息香酸メチル
実施例1と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(3−シアノインドール−1−イル)−2−ニトロ安息香酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
2−アミノ−4−(3−シアノインドール−1−イル)安息香酸
4−(3−シアノインドール−1−イル)−2−ニトロ安息香酸(0.012g)のエタノール(1mL)、水(0.5mL)及びテトラヒドロフラン(0.5mL)の混合溶液に、亜鉛(0.041g)及び塩酸アンモニウム(0.004g)を室温にて加え、80℃にて2.5時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチルを加え、不溶物を除去した。ろ液を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮して標記化合物(0.003g)を得た。
2−アセトキシ−(3−シアノインドール−1−イル)安息香酸
4−(3−シアノインドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸のピリジン(0.5mL)懸濁液に、無水酢酸(0.1mL)を0℃にて加え、室温にて1時間撹拌した。反応混合物を1mol/L塩酸にそそぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮して、標記化合物(0.047g)を得た。
2−(3−シアノインドール−1−イル)ニコチン酸エチル
実施例13と同様の方法により、4−フルオロ安息香酸エチルのかわりに、6−クロロニコチン酸エチルを用いて標記化合物を得た。
2−(3−シアノインドール−1−イル)ニコチン酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
2−(3−シアノインドール−1−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル
実施例13と同様の方法により、4−フルオロ安息香酸エチルのかわりに、2−クロロ−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチルを用いて標記化合物を得た。
2−(3−シアノインドール−1−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例48〜55の化合物を得た。
実施例7と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例56〜65の化合物を得た。
実施例14と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例66〜76の化合物を得た。
実施例33と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例77〜81の化合物を得た。
実施例26と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例82〜84の化合物を得た。
実施例44と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例85〜86の化合物を得た。
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例87の化合物を得た。
実施例20と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例88の化合物を得た。
実施例1と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例89〜107の化合物を得た。
実施例6と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例108〜109の化合物を得た。
実施例7と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例110〜134の化合物を得た。
実施例26と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例135〜136の化合物を得た。
実施例10と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例137の化合物を得た。
実施例11と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例138〜140の化合物を得た。
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例141〜187の化合物を得た。
実施例2及び実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例188〜225の化合物を得た。
実施例8と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例226〜227の化合物を得た。
実施例2及び実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例228〜234の化合物を得た。
実施例8と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例235の化合物を得た。
実施例2及び実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例236〜237の化合物を得た。
実施例8と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例238〜240の化合物を得た。
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて実施例235の化合物を得た。
4−(3−シアノ−5−メトキシ−6−メチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(5−ベンジルオキシ−6−クロロ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.31g)を得た。
4−(6−クロロ−3−シアノ−5−ヒドロキシインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(5−ベンジルオキシ−6−クロロ−3−シアノインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.310g)のジクロロメタン(7mL)溶液に、氷冷下、三臭化ホウ素(1mol/L 、ジクロロメタン溶液)(0.860mL)を加え、同温にて1時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、ろ過し、減圧下濃縮した。得られた残渣をジエチルエーテルにて洗浄し、標記化合物(0.181g)を得た。
4−(6−クロロ−3−シアノ−5−メトキシインドール−1−イル)安息香酸エチル
参考例31と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(6−クロロ−3−シアノ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(6−クロロ−3−シアノ−5−ヒドロキシインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.079g)およびピリジン(0.056mL)のジクロロメタン(2.3mL)溶液に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(0.058mL)を加え、同温にて1時間攪拌した。反応混合物に1mol/L塩酸 (0.370mL)および水を加え有機層を分離した後、これを減圧下濃縮し、標記化合物(0.103g)を得た。
4−(6−クロロ−3−シアノ−5−メチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(6−クロロ−3−シアノ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.103g)、トリメチルボロキシン(0.033g)、リン酸三カリウム(0.070g)のジオキサン(2.0mL)溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.038g)を加え、80℃で一昼夜攪拌した。反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−へキサン=75/25)に精製し、標記化合物(0.568g)を得た。
4−(3−シアノ−6−フルオロ−5−メチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.117g)を得た。
6−(3−シアノ−6−フルオロ−5−メチルインドール−1−イル)ニコチン酸エチル
実施例44と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.152g)を得た。
4−(3−シアノ−6−フルオロ−5−メチルインドール−1−イル)−2−メトキシメトキシ−安息香酸エチル
実施例1と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物(0.116g)を得た。
4−(6−ベンジルオキシ−3−シアノ−5−メトキシインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(3−シアノ−6−ヒドロキシ−5−メトキシインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例6と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(3−シアノ−6−シクロプロピル−5−メトキシインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(3−シアノ−6−ヒドロキシ−5−メトキシインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.195g)およびピリジン(0.138g)のジクロロメタン(2.3mL)溶液に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(0.246g)を加え、同温にて1時間攪拌した。反応混合物に1mol/L 塩酸 (0.370mL)および水を加え有機層を分離した後、これを減圧下濃縮し、4−(3−シアノ−5−メトキシ−6−トリフルオロメタンスルホニルオキシインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.283g)を得た。得られた化合物(0.070g)にトルエン(1.5mL)を加えた後、シクロプロピルボロン酸(0.016g)、炭酸カリウム(0.031g)及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.026g)を加え、80℃で、一昼夜攪拌した。反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/へキサン=75/25)に精製し、標記化合物(0.037g)を得た。
4−(3−シアノ−5−ヒドロキシ−6−メチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例244と同様の方法により、4−(3−シアノ−5−メトキシ−6−メチルインドール−1−イル)安息香酸エチルを用いて標記化合物を得た。
4−(3−シアノ−5,6−ジメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
実施例246及び実施例247と同様の方法により、4−(3−シアノ−5−ヒドロキシ−6−メチルインドール−1−イル)安息香酸エチルから、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(3−シアノ−6−フルオロ−5−ヒドロキシインドール−1−イル)安息香酸
4−(3−シアノ−6−フルオロ−5−メトキシインドール−1−イル)安息香酸エチル(1.2g)のジクロロメタン(20mL)溶液に、三臭化ホウ素(1.0mol/L、ジクロロメタン溶液)(10mL)を氷冷化にて滴下し、室温にて12時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出後、濃縮し標記化合物(0.44g)を得た。
4−[3−シアノ−6−フルオロ−5−(2−メトキシエトキシ)インドール−1−イル]安息香酸2−メトキシエチル
4−(3−シアノ−6−フルオロ−5−ヒドロキシインドール−1−イル)安息香酸(0.06g)のN, N−ジメチルホルムアミド(2mL)溶液に、1−ブロモ−2−メトキシエタン(0.14g)および炭酸カリウム(0.13g)を室温にて加え、同温にて16時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥させ濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し標記化合物(0.79g)を得た。
実施例13と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例245と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例252と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例1と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例244と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例1と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例252と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例1と同様の方法により、4−フルオロ−2−メトキシメトキシ安息香酸エチルのかわりに2,4−ジフルオロ−6−メトキシメトキシ−安息香酸エチルおよび対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例258と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
4−(3−シアノ−5−ジメチルアミノ−6−トリフルオロメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル
4−(3−ホルミル−5−メチルアミノ−6−トリフルオロメチルインドール−1−イル)安息香酸エチル(0.026g)のテトラヒドロフラン(1mL)溶液にヒドロキシルアミン塩酸塩(0.0067g)、ピリジン(0.02g)を加え、60℃にて4時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷後、無水酢酸(0.013g)を加え、60℃にて12時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ、析出した固体をろ取し、水及びヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し、標記化合物(0.026g)を得た。
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例257と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例3と同様の方法によりカルボン酸体を得た後に、2mol/L塩酸を加え反応溶液をpH1にし一晩撹拌した。析出した固体をろ取し標記化合物を得た。
実施例309と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例2及び実施例3と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例6と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例7と同様の方法によりアルキル化を行った後に、実施例309と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例309と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例324と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例309と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
実施例41及び実施例21と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を得た。
キサンチンオキシダーゼ阻害活性
(1)試験化合物の調製
試験化合物をDMSO(和光純薬社製)にて40mMの濃度になるように溶解した後、リン酸緩衝生理食塩水(PBS)を用いて希釈して目的の濃度になるように調製した。
キサンチンオキシダーゼ(ウシミルク由来、シグマ社製)をリン酸緩衝生理食塩水(PBS)で0.02units/mLに調製し、96穴プレートに50μL/穴ずつ加えた。更にPBSを用いて希釈した試験化合物を50μL/穴ずつ加えた。PBSを用いて調製した200μMのキサンチン(和光純薬社製)を100μL/穴で加え、室温で10分間反応させた。290nmの条件下において、マイクロプレートリーダースペクトラマックスプラス384(モレキュラーデバイス社製)を用いて吸光度を測定した。キサンチンを加えない条件下での吸光度を0%とし、試験化合物を加えていない対照を100%として、50%抑制する試験化合物の濃度(IC50)を算出した(表60)。表中、Ex.Noは実施例番号を示す。
刷子縁膜小胞(BBMV)を用いた尿酸輸送阻害活性
試験化合物の尿酸輸送阻害活性は、文献記載の方法(Am. J. Physiol. 266(Renal Fluid Electrolyte Physiol.35): F797-F805, 1994)を一部改変して実施した。
(1)ヒト腎臓皮質由来BBMVの調製
ヒト腎臓皮質由来BBMVはケー・エー・シー(KAC)社から購入した。ヒト腎臓より皮質部分を解剖し、細かく切断した。5倍容量の氷冷等張緩衝液(300mMマンニトール、5mMエチレングリコール−ビス−(β−アミノエチルエーテル)−N,N,N’,N’−テトラ酢酸(EGTA)、12mMトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(トリス)・塩酸、pH7.4)中にてホモジナイズした。1M塩化マグネシウムを最終濃度12mMになるように加え混合した後、氷中にて15分間放置した。このホモジナイズされた溶液を2,500Xg、15分間、4℃で遠心し、更に上清を30,000Xg、30分間、4℃で遠心した。沈殿物は氷冷しておいた緩衝液1(150mMマンニトール、2.5mMEGTA、6mMトリス・塩酸、pH7.4)に再懸濁した。1M塩化マグネシウムを最終濃度12mMになるように加え混合した後、氷中にて15分間放置した。再び、2,500Xg、15分間、4℃で遠心し、更に上清を30,000Xg、30分間、4℃で遠心した。沈殿物は氷冷しておいた緩衝液2(100mMマンニトール、100mMグルコン酸カリウム、20mM2−[4−(2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル]エタンスルホン酸(ヘペス)―トリス、pH7.4)に再懸濁した。30,000Xg、30分間、4℃で遠心後、沈殿物は緩衝液2に再懸濁し、蛋白質濃度を測定した。
試験化合物をDMSO(和光純薬社製)にて40mMの濃度になるように溶解した後、Cl−勾配緩衝液(100mMマンニトール、100mMグルコン酸カリウム、20mMヘペス―トリス、pH7.4)を用いて希釈して、目的の2倍の濃度になるように調製した。試験化合物を含まないCl−勾配緩衝液を対照として用いた。更に14Cで標識された尿酸(Moravek社製)とプロベネシド(和光純薬社製)を含むCl−勾配緩衝液を試験化合物及び対照に等量加えて、最終的に40μMの尿酸,5μMのプロベネシドを含むアッセイ緩衝液を作製した。Cl−勾配非依存的な14Cで標識された尿酸の取り込みを測定する為に、Cl−勾配緩衝液の代わりにCl−平衡緩衝液(100mMマンニトール、60mMグルコン酸カリウム、40mM塩化カリウム、20mMヘペス―トリス、pH 7.4)を用いてアッセイ緩衝液を作成した。
BBMVは氷上にて融解させた。調製した200μLのBBMV(蛋白質濃度:16mg/mL)に対し、8mLの小胞内緩衝液(100mMマンニトール、60mMグルコン酸カリウム、40mM塩化カリウム、20mMヘペス―トリス、pH7.4)を加え、25ゲージ針を用いて懸濁させ、室温にて60分間、平衡にさせた。30,000Xg、30分間、4℃で遠心を行い、1.2mLの小胞内緩衝液に再懸濁させた。測定を開始するまで、氷中にて保存した。BBMVへの尿酸取り込みは迅速ろ過法を用いて測定した。必要量のBBMV(20μL/1反応)を室温にて20分間温めた。100μLのアッセイ緩衝液を混合させて、尿酸取り込みを開始させた。室温にて20秒後、氷令した3mLの停止液(300mMマンニトール、60mM硫酸ナトリウム、100μMプロベネシド(和光純薬社製)、5mMトリス―硫酸、pH 7.4)を加えて、直ちにニトロセルロースフィルター(0.65μm孔径、ザルトリウス社製)で吸引ろ過した。更にフィルターは3mLの停止液で2回洗浄した後、10mLのフィルターカウント(パーキンエルマー社製)中にて溶解させ、液体シンチレーションカウンター(パーキンエルマー社製)にて放射活性を測定した。BBMVの非存在下において、フィルターに吸着した放射活性を補正値として用いた。なお、試験化合物の10μMにおける阻害率は以下の式により算出した(表61)。表中、Ex.Noは実施例番号、Conc.は試験化合物の濃度(μM)、inhibition%は阻害率(%)をそれぞれ示す。
阻害率(%)=[1−(B−C)/(A−C)]X 100
A:対照の放射活性
B:試験化合物を加えた場合の放射活性
C:Cl−平衡緩衝液の放射活性
ヒトURAT1発現細胞を用いた尿酸輸送阻害活性
(1)ヒトURAT1一過的発現細胞の調製
ヒトURAT1完全長cDNA(NCBI Accession No.NM_144585)を発現ベクターpcDNA3.1(インビトロジェン社製)にサブクローニングを行った。ヒトURAT1発現ベクターをCOS7細胞(RIKEN CELL BANK RCB0539)にリポフェクトアミン2000(インビトロジェン社製)を用いて導入した。COS7細胞はコラーゲンコート24ウエルプレート(旭テクノグラス社製)に2x105個/穴にて、10%ウシ胎児血清(三光純薬社製)含有D−MEM培地(インビトロジェン社製)を用いて、2時間、37℃、5%CO2条件下にて培養を行った。1穴あたり2μLのリポフェクトアミン2000を50μLのOPTI−MEM(インビトロジェン社製)で希釈し、室温で7分間静置した(以下Lipo2000−OPTIとする)。1穴あたり0.8μgヒトURAT1発現ベクターを50μLのOPTI−MEM(インビトロジェン社製)で希釈し、Lipo2000−OPTIに加えて穏やかに混和し、室温にて25分間放置した後、1穴あたり100μLずつCOS7細胞に添加した。更にCOS7細胞は、37℃、5%CO2条件下において2日間培養し、取り込み阻害活性の測定に供した。
試験化合物をDMSO(和光純薬社製)にて10mMの濃度になるように溶解した後、前処置用緩衝液(125mMグルコン酸ナトリウム、4.8mMグルコン酸カリウム、1.2mMリン酸2水素カリウム、1.2mM硫酸マグネシウム、1.3mMグルコン酸カルシウム、5.6mMグルコース、25mMヘペス、pH7.4)を用いて希釈して目的の2倍の濃度になるように調製した。試験化合物を含まない前処置用緩衝液を対照として用いた。更に14Cで標識された尿酸(Moravek社製)を含む前処置用緩衝液を試験化合物及び対照に等量加えて、最終的に20μMの尿酸を含むアッセイ緩衝液を作製した。
全ての試験は37℃のホットプレート上において実施した。前処置用緩衝液及びアッセイ緩衝液は37℃にて加温した後に用いた。プレートから培地を除去し、700μLの前処置用緩衝液を加えて、10分間プレインキュベーションした。同一操作を繰り返した後、前処置用緩衝液を取り除き、アッセイ緩衝液を400μL/穴で添加し、5分間取り込み反応を行った。反応終了後、直ちにアッセイ緩衝液を除去し、氷令した前処置用緩衝液を1.2mL/穴ずつ加えて、細胞を2回洗浄した。0.2N水酸化ナトリウムを300μL/穴で添加して、細胞を溶解した。細胞溶解液はピコプレート(パーキンエルマー社製)に移し、マイクロシンチ40(パーキンエルマー社製)を600μL/穴で添加し、混合した後、液体シンチレーションカウンター(パーキンエルマー社製)にて放射活性を測定した。またURAT1発現ベクターを導入していないCOS7細胞も対照と同様の条件下において、放射活性を測定した。なお、試験化合物の10μMにおける阻害率は以下の式により算出した(表62)。表中、Ex.Noは実施例番号、Conc.は試験化合物の濃度(μM)、inhibition%は阻害率(%)をそれぞれ示す。
阻害率(%)=[1−(B−C)/(A−C)]X 100
A:対照の放射活性
B:試験化合物を加えた場合の放射活性
C:URAT1発現ベクターを導入していないCOS7細胞の放射活性
血清尿酸低下作用
(1)測定方法
0.5%メチルセルロース水溶液に懸濁した試験化合物3mg/kgを一晩絶食させた雄性CD(SD)IGSラット(5週齢、日本チャールズ・リバー)に強制経口投与した。投与2時間後、エーテル麻酔下において腹部大動脈より採血を行い、常法に従い血清を分離した。血清尿酸値は尿酸測定キット(尿酸C−テストワコー:和光純薬)を用いて測定し、尿酸低下率を以下の式により算出した。
尿酸低下率(%)=(対照動物の血清尿酸値−試験化合物投与動物の血清尿酸値)x100/対照動物の血清尿酸値
(2)結果
実施例3、188、191及び192の化合物は、経口投与2時間後、60%以上の尿酸低下作用を示した。以上の結果、本発明の化合物は、優れた血清尿酸低下作用を有することが確認された。
Claims (23)
- 一般式
Tは、ニトロ、シアノ又はトリフルオロメチル;
環Jは、ベンゼン環又は5又は6員環ヘテロアリール環;
Qは、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル又は5−テトラゾリル;
Yは、水素原子、ヒドロキシ、アミノ、ハロゲン原子、ニトロ、置換可低級アルキル又は置換可低級アルコキシ(但し、Yは環J上に複数あってもよく、それらは互いに異なっていても同じでもよい。);
X1、X2及びX3は、独立して、CR2又はN(但し、X1、X2及びX3が同時にNであることはなく、R2が複数ある場合は、それらは互いに異なっていても同じでもよい。);
R1及びR2は、独立して、ハロゲン原子、シアノ、パーフルオロ低級アルキル、−AA、−A−D−E−G又は−N(−D−E−G)2(但し、2つの(−D−E−G)は異なっていてもよい。)
{式中、AAは、水素原子、ヒドロキシ、チオール、−CHO、カルボキシ、−CONHR3、−NHR3、−N(R3)CHO、−N(R3)CONHR4又は−SO2NHR3;
Aは、単結合、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−CON(R3)−、−SO2−、−SO2N(R3)−、−N(R3)−、−N(R3)CO−、−N(R3)COO−、−N(R3)SO2−又は−N(R3)CONR4−(R3及びR4は、独立して、水素原子又は低級アルキルである。);
Dは、置換可低級アルキレン、置換可低級アルケニレン、置換可低級アルキニレン、置換可シクロアルキレン、置換可ヘテロシクロアルキレン、置換可アリーレン又は置換可ヘテロアリーレン(但し、Dは、更に−E−Gで置換されていてもよい);
Eは、単結合、−O−、−N(R5)−、−S−、−CO−、−COO−、−CON(R5)−、−SO2−、−SO2N(R5)−、−N(R5)CO−、−N(R5)COO−、−N(R5)SO2−又は−N(R5)CON(R6)−(但し、R5及びR6は、独立して、水素原子又は低級アルキルである。);
Gは、水素原子、置換可低級アルキル、置換可低級アルケニル、置換可低級アルキニル、置換可シクロアルキル、置換可ヘテロシクロアルキル、置換可アリール、置換可ヘテロアリール、置換可シクロアルキル低級アルキル、置換可ヘテロシクロアルキル低級アルキル、置換可アリール低級アルキル又は置換可ヘテロアリール低級アルキルである(但し、Gが水素原子のときは、Eは、単結合、−O−、−N(R5)−、−S−、−COO−、−CON(R5)−、−N(R5)CO−、−N(R5)CON(R6)−又は−SO2N(R5)−である。)か、Gは、R5又はR6と互いに結合して環を形成してもよい。}(但し、隣接する原子にそれぞれ結合するR1及びR2もしくは2つのR2がある場合は、互いに結合して環を形成してもよい。);をそれぞれ示す。〕で表される(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩;
ここでプロドラッグは、前記一般式(I)で表される化合物において、1以上の任意の水酸基又はアミノ基に、低級アルキル−CO−、アリール−CO−、低級アルキル−O−低級アルキレン−CO−、低級アルキル−OCO−低級アルキレン−CO−、低級アルキル−OCO−、低級アルキル−O−低級アルキレン−OCO−、低級アルキル−COO−低級アルキレン、低級アルキル−OCOO−低級アルキレン及びシクロアルキル−OCOO−低級アルキレンから選択される基を有する化合物又は1以上の任意のカルボキシ基に、低級アルキル、低級アルキル−COO−低級アルキレン、低級アルキル−OCOO−低級アルキレン及びシクロアルキル−OCOO−低級アルキレンから選択される基を有する化合物である。 - X1、X2及びX3が、独立して、CR2(但し、R2が複数ある場合は、それらは互いに異なっていても同じでもよい。)である、請求項1記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- Tがシアノである、請求項1又は2記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- Qがカルボキシである、請求項1〜3のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- Yが水素原子、ヒドロキシ又はハロゲン原子である、請求項1〜4のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- Yがヒドロキシである、請求項5記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- 環Jがベンゼン環である、請求項1〜6のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- Z1及びZ3がCH、Z2がCR8又はN;
Y1及びR8は、独立して、水素原子、ヒドロキシ又はハロゲン原子である、請求項8記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。 - Z 2 がCHである、請求項9記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- Y 1 がヒドロキシである、請求項10記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- 環Jが、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択される異種又は同種のヘテロ原子を1〜3個環内に有する5員環ヘテロアリール環(但し、酸素原子と硫黄原子が隣りあうことはない);及びYが水素原子、ヒドロキシ、アミノ、ハロゲン原子、置換可低級アルキル又は置換可低級アルコキシ(但し、Yは環J上に複数あってもよく、それらは互いに異なっていても同じでもよい。)である、請求項4〜6のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- R10がメチル又はメトキシ;及びR11がフッ素原子、塩素原子又はメチル;である、請求項14記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩。
- 4−(3−シアノ−5,6−ジフルオロ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−5−メチル−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−6−クロロ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−5−フルオロ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−6−フルオロ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(6−クロロ−3−シアノ−5−フルオロ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(7−シアノ−1,3−ジオキソロ[4,5−f]インドール−5−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−6−トリフルオロメチル−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−5−メトキシ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(5−クロロ−3−シアノ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−5−ヒドロキシ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−4−ヒドロキシ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−6−ヒドロキシ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−6−メトキシ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−4−フルオロ−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、
4−(3−シアノ−6−イソプロピル−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸、及び4−(3−シアノ−6−フルオロ−5−メチル−インドール−1−イル)−2−ヒドロキシ安息香酸から選択される、請求項1記載の(アザ)インドール誘導体、又はその薬理学的に許容される塩。 - 請求項1〜16のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する、キサンチンオキシダーゼ阻害薬。
- 請求項1〜16のいずれかに記載の(アザ)インドール誘導体もしくはそのプロドラッグ、又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物。
- 高尿酸血症、痛風結節、痛風関節炎、高尿酸血症による腎障害及び尿路結石から選択される疾患の予防又は治療用である、請求項18記載の医薬組成物。
- 高尿酸血症の予防又は治療用である、請求項19記載の医薬組成物。
- 血清尿酸値低下薬である、請求項18記載の医薬組成物。
- 尿酸生成抑制薬である、請求項18記載の医薬組成物。
- 有効成分として、コルヒチン、非ステロイド性抗炎症薬、ステロイド及び尿アルカリ化薬の群から選ばれる少なくとも1種の薬剤を更に組み合せてなる、請求項18〜22のいずれかに記載の医薬組成物。
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