JP5587784B2 - 縮合複素環誘導体及びその医薬用途 - Google Patents
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Description
尿酸は食事由来及び内因性に産生されたプリン体より、最終的にキサンチンがキサンチンオキシダーゼによる酸化を受けて産生する。アロプリノールは、キサンチンオキシダーゼ阻害剤として開発され、医療現場で用いられている唯一の尿酸生成抑制薬である。しかしながら、アロプリノールは、高尿酸血症及びこれに起因する各種疾患への有効性が報告されている反面、中毒症候群(過敏性血管炎)、スティーブンス・ジョンソン症候群、剥脱性皮膚炎、再生不良性貧血、肝機能障害などの重篤な副作用も報告されている(例えば、非特許文献2参照)。この原因のひとつとして、アロプリノールが核酸類似構造を有し、ピリミジン代謝経路を阻害することが指摘されている(例えば、非特許文献3参照)。
〔1〕 式(I)
Tはトリフルオロメチル、ニトロ又はシアノ;
環Qは5又は6員環ヘテロアリール;
X1及びX2は独立して、CH又はN;
環UはC6アリール又は5又は6員環ヘテロアリール;
mは0〜2の整数;
nは0〜3の整数;
R1は水酸基、ハロゲン原子、アミノ又はC1−6アルキル(mが2であるとき、2つのR1は異なっていてもよい);
R2は、
(i)環Q内の炭素原子に結合している場合は、(1)〜(11):
(1)ハロゲン原子;
(2)水酸基;
(3)シアノ;
(4)ニトロ;
(5)カルボキシ;
(6)カルバモイル;
(7)アミノ;
(8)それぞれ独立して、置換基群αから選択される任意の(好ましくは1〜3個の)基を有していてもよいC1−6アルキル、C2−6アルケニル又はC1−6アルコキシ;
(9)それぞれ独立して、フッ素原子、水酸基及びアミノから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC2−6アルキニル、C1−6アルキルスルホニル、モノ(ジ)C1−6アルキルスルファモイル、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、C1−6アルコキシカルボニルオキシ、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)アミノ、C2−7アシルアミノ、C1−6アルコキシカルボニルアミノ、C1−6アルコキシカルボニル(C1−6アルキル)アミノ、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノカルボニルアミノ、C1−6アルキルスルホニルアミノ又はC1−6アルキルチオ;
(10)それぞれ独立して、フッ素原子、水酸基、アミノ、オキソ、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルキル、カルボキシ、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ、カルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル及びC1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイルから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC3−8シクロアルキル、3〜8員環ヘテロシクロアルキル、C5−8シクロアルケニル又は5〜8員環ヘテロシクロアルケニル;
(11)それぞれ独立して、ハロゲン原子、水酸基、アミノ、シアノ、ニトロ、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルキル、カルボキシ、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)アミノ、C1−6アルコキシカルボニルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル及びC1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイルから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC6アリール、C6アリールオキシ、C6アリールカルボニル、5又は6員環ヘテロアリール、5又は6員環ヘテロアリールオキシ、5又は6員環ヘテロアリールカルボニル、C6アリールアミノ、C6アリール(C1−6アルキル)アミノ、5又は6員環ヘテロアリールアミノ又は5又は6員環ヘテロアリール(C1−6アルキル)アミノ;の何れかであり、
(ii) 環Qの窒素原子に結合している場合は、(12)〜(15):
(12)それぞれ独立して、置換基群αから選択される任意の(好ましくは1〜3個の)基を有していてもよいC1−6アルキル又はC2−6アルケニル;
(13)それぞれ独立して、フッ素原子、水酸基及びアミノから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC2−6アルキニル、C1−6アルキルスルホニル、モノ(ジ)C1−6アルキルスルファモイル、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル又はモノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル;
(14)それぞれ独立して、フッ素原子、水酸基、アミノ、オキソ、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルキル、カルボキシ、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル及びC1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイルから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC3−8シクロアルキル又は3〜8員環ヘテロシクロアルキル;
(15)それぞれ独立して、ハロゲン原子、水酸基、アミノ、シアノ、ニトロ、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルキル、カルボキシ、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)アミノ、C1−6アルコキシカルボニルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル及びC1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイルから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC6アリール、5又は6員環ヘテロアリール、C6アリールカルボニル又は5又は6員環ヘテロアリールカルボニル;の何れかであり;
(nが2又は3であるとき、R2はそれぞれ異なっていてもよく、更に、2つのR2が、環Q内の隣り合った原子に結合して存在し、それぞれC1−6アルコキシを有していてもよいC1−6アルキルである場合は、結合する環Q内の原子と共に、5〜8員環を形成してもよい。);
置換基群αは、フッ素原子;水酸基;アミノ;カルボキシ;それぞれフッ素原子、水酸基及びアミノから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC1−6アルコキシ、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)アミノ、C1−6アルコキシカルボニルアミノ、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイル、C1−6アルキルスルホニルアミノ、C2−7アシルアミノ及びC1−6アルコキシカルボニルアミノ;それぞれ独立して、フッ素原子、水酸基、アミノ、オキソ、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルキル、カルボキシ、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル及びC1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイルから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC3−8シクロアルキル及び3〜8員環ヘテロシクロアルキル;及び、それぞれ独立して、ハロゲン原子、水酸基、アミノ、シアノ、ニトロ、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルキル、カルボキシ、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)アミノ、C1−6アルコキシカルボニルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル及びC1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイルから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC6アリール及び5又は6員環ヘテロアリールである〕で表される縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔3〕 X1がCHである前記〔1〕又は〔2〕記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔4〕 X2がCHである前記〔1〕〜〔3〕の何れかに記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔5〕 環Qがピリジン、ピリミジン、ピラジン、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、チオフェン、フラン又はピロール環である前記〔1〕〜〔4〕の何れかに記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔6〕 環Qがピリジン、チオフェン又はピロール環である前記〔5〕記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔7〕 環Uがベンゼン、ピリジン、チアゾール、ピラゾール又はチオフェン環である前記〔1〕〜〔6〕の何れかに記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔8〕 mが0であるか、又はmが1であり、かつ、環Uが下記式:
(式中、R1aは水酸基;アミノ;又はC1−6アルキルであり、Aは縮合環との結合を、Bはカルボキシとの結合をそれぞれ表す)で表される何れかの環である、前記〔7〕記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔10〕 環Uがチアゾール環である前記〔8〕又は〔9〕記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔11〕 mが0であるか、又はmが1;かつR1aが水酸基であり、かつ環Uがピリジン環である前記〔9〕記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔12〕 R1aがメチルである前記〔10〕記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔13〕 R1aが水酸基である前記〔11〕記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔14〕 nが0であるか、又はnが1〜3であり、かつR2が環Qの炭素原子に結合するハロゲン原子;水酸基;もしくはそれぞれフッ素原子、水酸基及びアミノから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC1−6アルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシC1−6アルキルもしくはC1−6アルコキシC1−6アルコキシ;又は環Qの窒素原子に結合する、それぞれフッ素原子、水酸基及びアミノから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC1−6アルキルもしくはC1−6アルコキシC1−6アルキルである、前記〔1〕〜〔13〕の何れかに記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔15〕 nが0であるか、又はnが1〜3であり、かつR2が環Qの炭素原子に結合するハロゲン原子;水酸基;もしくはフッ素原子を1〜3個有していてもよいC1−6アルキル;又は環Qの窒素原子に結合する、それぞれフッ素原子を1〜3個有していてもよいC1−6アルキルもしくはC1−6アルコキシC1−6アルキルである、前記〔14〕記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔16〕 キサンチンオキシダーゼ阻害薬である、前記〔1〕〜〔15〕の何れかに記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩;
〔17〕 前記〔1〕〜〔15〕の何れかに記載の縮合複素環誘導体もしくはそのプロドラッグ又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物;
〔18〕 高尿酸血症、痛風結節、痛風関節炎、高尿酸血症による腎障害及び尿路結石から選択される疾患の予防又は治療用である、前記〔17〕記載の医薬組成物;
〔19〕 高尿酸血症の予防又は治療用である、前記〔18〕記載の医薬組成物;
〔20〕 血漿尿酸値低下薬である、前記〔17〕記載の医薬組成物;
〔21〕 尿酸生成抑制薬である、前記〔17〕記載の医薬組成物;等に関するものである。
「C1−6アルキル」とは、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基をいい、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル等が挙げられる。
「C1−6アルキレン」とは、上記C1−6アルキルから派生する2価の基をいう。
「C2−6アルケニル」とは、炭素数2〜6の直鎖状又は分岐状のアルケニル基をいい、ビニル、アリル、1−プロペニル、イソプロペニル等が挙げられる。
「C2−6アルキニル」とは、炭素数2〜6の直鎖状又は分岐状のアルキニル基をいい、エチニル、2−プロピニル等が挙げられる。
「C1−6アルコキシ」とは、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基をいい、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ等が挙げられる。
「C1−6アルコキシカルボニル」とは、(C1−6アルコキシ)−C(O)−で表される基をいい、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル等が挙げられる。
「C1−6アルコキシカルボニルオキシ」とは、(C1−6アルコキシ)−C(O)O−で表される基をいう。
「C1−6アルコキシC1−6アルキル」とは、上記C1−6アルコキシで置換された上記C1−6アルキルをいう。
「C1−6アルキルスルホニル」とは、(C1−6アルキル)−SO2−で表される基をいい、メチルスルホニル、エチルスルホニル等が挙げられる。
「C1−6アルキルスルホニルアミノ」とは、(C1−6アルキル)−SO2NH−で表される基をいい、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ等が挙げられる。
「モノ(ジ)C1−6アルキルスルファモイル」とは、上記C1−6アルキルでモノ又はジ置換されたスルファモイル基をいう。
「C2−7アシル」とは、(C1−6アルキル)−C(O)−で表される基をいい、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル等が挙げられる。
「C1−6アルキルチオ」とは、(C1−6アルキル)−S−で表される基をいう。
「C2−7アシルアミノ」とは、(C1−6アルキル)−C(O)NH−で表される基をいう。
「C1−6アルコキシカルボニルアミノ」とは、上記C1−6アルコキシカルボニルで置換されたアミノ基をいい、「C1−6アルコキシカルボニル(C1−6アルキル)アミノ」とは、上記C1−6アルコキシカルボニルと上記C1−6アルキルで置換されたアミノ基をいう。
「モノ(ジ)C1−6アルキルアミノカルボニルアミノ」とは、(モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ)−C(O)NH−で表される基をいう。
「モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル」とは、上記C1−6アルキルでモノ又はジ置換されたカルバモイル基をいい、「モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル」とは、上記C1−6アルコキシC1−6アルキルでモノ又はジ置換されたカルバモイル基をいい、「C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイル」とは、上記C1−6アルコキシC1−6アルキルと上記C1−6アルキルで置換されたカルバモイル基をいう。
ジ置換の場合、それぞれの置換基は異なっていてもよい。
「C5−8シクロアルケニル」とは、5〜8員環のシクロアルケニル基をいい、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル等が挙げられる。
「3〜8員環ヘテロシクロアルキル」とは、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択されるヘテロ原子を1〜2個環内に含む3〜8員環のヘテロシクロアルキル基をいい、アジリジノ、アゼチジノ、モルホリノ、2−モルホリニル、チオモルホリノ、1−ピロリジニル、ピペリジノ、4−ピペリジル、1−ピペラジニル、1−ピロリル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル等が挙げられる。
「5〜8員環ヘテロシクロアルケニル」とは、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択されるヘテロ原子を1〜2個環内に含む5〜8員環のヘテロシクロアルケニル基をいい、2,3−ジヒドロフリル、2,5−ジヒドロフリル、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン等が挙げられる。
「C6アリールオキシ」とは、(C6アリール)−O−で表される基をいい、フェニルオキシ等が挙げられる。
「C6アリールカルボニル」とは、(C6アリール)−C(O)−で表される基をいい、ベンゾイル等が挙げられる。
「C6アリールアミノ」とは、(C6アリール)−NH−で表される基をいう。
「C6アリール(C1−6アルキル)アミノ」とは、上記C6アリールと上記C1−6アルキルで置換されたアミノ基をいう。
「5又は6員環ヘテロアリールオキシ」とは、(5又は6員環ヘテロアリール)−O−で表される基をいう。
「5又は6員環ヘテロアリールカルボニル」とは、(5又は6員環ヘテロアリール)−C(O)−で表される基をいう。
「5又は6員環ヘテロアリールアミノ」とは、(5又は6員環ヘテロアリール)−NH−で表される基をいう。
「5又は6員環ヘテロアリール(C1−6アルキル)アミノ」とは、上記へテロアリールと上記C1−6アルキルで置換されたアミノ基をいう。
化合物(2)と化合物(3)とを、不活性溶媒中、塩基及びパラジウム触媒存在下、鈴木−宮浦カップリングを行い、必要に応じて脱保護を行うことにより、本発明の縮合複素環誘導体(I)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、フッ化カリウム、フッ化セシウム、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、塩化パラジウム−1,1’ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
化合物(4)と化合物(5)とを、工程1の方法と同様に、鈴木−宮浦カップリングを行い、必要に応じて脱保護を行うことにより、本発明の縮合複素環誘導体(Ia)を製造することもできる。
上記工程2で用いられる化合物(4)は、対応する化合物(2a)を不活性溶媒中、塩基及びパラジウム触媒存在下、リガンドの存在下又は非存在下、対応するボロン酸試薬と反応させることにより、製造することもできる。不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、N,N−ジメチルホルムアミド、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム等が挙げられる。パラジウム触媒としては、酢酸パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、塩化パラジウム−1,1’ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン等が挙げられる。リガンドとしては、ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、トリシクロヘキシルホスフィン、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル等が挙げられる。ボロン酸試薬としては、ピナコールボラン、カテコールボラン、ビス(ピナコラート)ジボロン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
化合物(6)を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下、パラジウム触媒存在下又は非存在下、シアノ化試薬と反応を行い、必要に応じて脱保護を行うことにより、本発明の縮合複素環誘導体(Ib)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、水、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、フッ化カリウム、フッ化セシウム、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、塩化パラジウム−1,1’ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム等が挙げられる。シアノ化試薬としては、シアン化銅、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化亜鉛、シアン化トリメチルシリル、カリウムフェロシアニド等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
化合物(7)を不活性溶媒中、酸性条件下、チオアセトアミドと反応させることにより、化合物(8)を製造することもできる。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
化合物(8)を不活性溶媒中、2−クロロ−3−オキソ酪酸誘導体と反応させ、必要に応じて脱保護を行うことにより、化合物(6a)を製造することもできる。不活性溶媒としては、メタノール、エタノール、n−ブタノール、イソプロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
化合物(9)を不活性溶媒中、塩基存在下、1−エチル−4−tert−ブチル−2−ジエチルホスホノスクシナートなどのHorner−Wadsworth−Emmons試薬と縮合した後、脱保護を行うか、又はコハク酸ジエステルと縮合することにより、化合物(10)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、メタノール、エタノール、これらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては水素化ナトリウム、カリウムtert−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
化合物(10)を適当な溶媒中、脱水剤の存在下又は酸無水物溶媒中、塩基の存在下又は非存在下、反応を行い、必要に応じて加水分解を行うことにより、化合物(11)を製造することもできる。適当な溶媒としては、例えば、酢酸、硫酸、リン酸、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ベンゼン、トルエン、キシレン、1,4−ジオキサン、水、これらの混合溶媒等が挙げられる。脱水剤としては、無水酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル等が挙げられる。酸無水物溶媒としては、無水酢酸、トリフルオロ酢酸無水物等が挙げられる。塩基としては、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等が挙げられる。反応温度は通常室温から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。加水分解に使われる不活性溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメトキシエタン、水、これらの混合溶媒が挙げられる。加水分解に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムが挙げられる。反応温度は通常室温から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
(ステップ1)
化合物(11)とアンモニアを不活性溶媒中、縮合剤の存在下、塩基の存在下又は非存在下、必要に応じて1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等の添加剤を用いて、アミド化することにより、ナフタレンアミド化合物を製造することができる。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。縮合剤としては、無水酢酸、塩化チオニル、オギザリルクロリド、N,N’−カルボニルジイミダゾール、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、N−エチル−N’−3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド及びその塩酸塩、ジフェニルホスホリルアジド等が挙げられる。塩基としてはトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
(ステップ2)
ステップ1で得られたナフタレンアミド化合物を不活性溶媒中、脱水剤の存在下、処理することにより、化合物(12)を得ることができる。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、これらの混合物等が挙げられる。脱水剤としては、無水酢酸、塩化チオニル、オキシ塩化リン、メタンスルホニルイミダゾール、p−トルエンスルホニルクロリド、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、五塩化ニリン、トリホスゲン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
化合物(12)を前記工程5及び工程6と同様の方法で反応させることにより、化合物(13)を得ることもできる。
化合物(13)を不活性溶媒中、塩基存在下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物と反応させることにより、化合物(6b)を製造することもできる。不活性溶媒としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ベンゼン、トルエン、キシレン、1,4−ジオキサン等が挙げられる。塩基としては、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン等が挙げられる。反応温度は通常0℃から還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常30分〜7日間である。
カルボキシ基において使用されるプロドラッグを構成する基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル等のC1−6アルキル;ピバロイルオキシメチル、アセチルオキシメチル、1−(ピバロイルオキシ)エチル、1−(アセチルオキシ)エチル等のC1−6アルキル−COO−C1−6アルキレン;エチルオキシカルボニルオキシメチル、1−(エチルオキシカルボニルオキシ)エチル、イソプロピルオキシカルボニルオキシメチル、1−(イソプロピルオキシカルボニルオキシ)エチル、tert−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、1−(tert−ブチルオキシカルボニルオキシ)エチル等のC1−6アルキル−OCOO−C1−6アルキレン;シクロヘキシルオキシカルボニルメチル、1−(シクロヘキシルオキシカルボニル)エチル等のC3−8シクロアルキル−OCOO−C1−6アルキレン基等を挙げることができる。
5−ブロモ−1,3−ジメチル−1H−インドール−7−カルボニトリル
2−アミノ−3,5−ジブロモベンゾニトリル(1.0g)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液に氷冷下、1mol/Lのカリウム tert−ブトキシド テトラヒドロフラン溶液(4.5mL)、臭化アリル(0.53g)を加え、室温にて16時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、2−アリルアミノ−3,5−ジブロモベンゾニトリル(0.66g)を得た。
この化合物(0.23g)のアセトニトリル(10mL)溶液に酢酸パラジウム(0.016g)、トリ−O−トリルホスファン(0.067g)、トリエチルアミン(0.29g)を室温にて加え、85℃にて2時間撹拌した。反応混合物に、水、酢酸エチルを加え、セライトろ過し、2層を分離した。有機層を1規定塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、5−ブロモ−3−メチル−1H−インドール−7−カルボニトリル(0.1g)を得た。
得られた化合物(0.05g)のジメチルホルムアミド(1mL)溶液に、氷冷下、ヨウ化メチル(0.090g)、水素化ナトリウム(0.015g)を加え、室温にて16時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、標記化合物(0.035g)を得た。
5−ブロモ−1−メチル−7−ニトロ−1H−インドール
5−ブロモ−7−ニトロ−1H−インドール(0.2g)のジメチルホルムアミド(4mL)溶液に、氷冷下、ヨウ化メチル(0.42g)、水素化ナトリウム(0.060g)を加え、室温にて16時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、標記化合物(0.11g)を得た。
5−ブロモ−7−ニトロベンゾフラン
5−ブロモ−2−ヒドロキシ−3−ニトロベンズアルデヒド(1.0g)のトルエン(10mL)溶液に2−ブロモマロン酸ジエチル(1.1g)、炭酸カリウム(0.84g)、テトラブチルアンモニウム ブロミド(0.13g)を室温にて加え、20時間還流した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、5−ブロモ−7−ニトロベンゾフラン−2−カルボン酸エチル(0.68g)を得た。
この化合物(0.72g)のテトラヒドロフラン(12mL)、エタノール(4mL)、水(4mL)の混合溶液に水酸化リチウム一水和物(0.19g)を室温にて加え、同温にて16時間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸、水を加え、析出した固体をろ取し、水、n−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し、5−ブロモ−7−ニトロベンゾフラン−2−カルボン酸(0.53g)を得た。
得られた化合物(0.3g)にキノリン(3mL)、銅(0.073g)を室温にて加え、200℃にて3時間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、標記化合物(0.13g)を得た。
2−(7−ブロモ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチル
5−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−2,3−ジヒドロインドール−1−カルボン酸ベンジル(3.0g)のジメチルホルムアミド(40mL)、水(4mL)の混合溶液に室温にて、2−クロロイソニコチン酸エチル(1.5g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.46g)、炭酸セシウム(3.9g)を加え、80℃にて3時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、5−(4−エトキシカルボニルピリジン−2−イル)−2,3−ジヒドロインドール−1−カルボン酸ベンジル(1.4g)を得た。
この化合物(1.4g)のエタノール(20mL)、酢酸エチル(10mL)の混合溶液に室温にて、パラジウムカーボン(0.17g)、濃塩酸(0.57mL)を加え、水素雰囲気下、65℃にて3時間撹拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え、セライトろ過し、2層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、2−(2,3−ジヒドロ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチル
(0.91g)を得た。
得られた化合物(0.80g)の酢酸(16mL)溶液に氷冷下、臭素(0.57g)を加え、室温にて1時間撹拌した。反応混合物に1規定チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、2−(7−ブロモ−2,3−ジヒドロ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチル(0.92g)を得た。
この化合物(0.92g)のジクロロメタン(10mL)溶液に室温にて、二酸化マンガン(4.6g)を加え、室温にて4時間撹拌した。反応混合物をセライトろ過し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、標記化合物(0.39g)を得た。
5−ブロモ−1−エチル−3−メチル−1H−インドール−7−カルボニトリル、
5−ブロモ−3−メチル−1−プロピル−1H−インドール−7−カルボニトリル、
5−ブロモ−1−イソブチル−3−メチル−1H−インドール−7−カルボニトリル、
5−ブロモ−1−イソプロピル−3−メチル−1H−インドール−7−カルボニトリル
参考例1と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を合成した。
5−ブロモ−1−イソブチル−7−ニトロ−1H−インドール、
5−ブロモ−1−(2−メトキシエチル)−7−ニトロ−1H−インドール
参考例2と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を合成した。
2−(7−ブロモ−1H−インドール−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル
参考例4と同様の方法により、2−クロロイソニコチン酸エチルの代わりに2−ブロモ−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチルを用いて標記化合物を合成した。
7−アセトキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボン酸メチル
チオフェン−3−カルバルデヒド(3.00g)、コハク酸ジメチル(4.69g)のメタノール(52mL)溶液に、ナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液、6.2mL)を室温にて加え、一晩還流した。室温まで放冷後、反応混合物に水を注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。水層に1mol/L塩酸を加え酸性とし、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣に無水酢酸(30mL)、酢酸ナトリウム(2.19g)を加え、一晩還流した。室温に放冷後、反応混合物にエタノール(50mL)を加え、濃縮した。残渣に2mol/L塩酸を加え、エーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=30/70〜100/0)にて精製し、標記化合物(1.17g)を得た。
7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボン酸
7−アセトキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボン酸メチル(1.17g)のテトラヒドロフラン(20mL)、エタノール(7mL)及び水(7mL)の溶液に水酸化リチウム・1水和物(1.96g)を加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物に1mol/L塩酸及び水を加え、析出した固体をろ取し、水及びn−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥して、標記化合物(0.35g)を得た。
7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボン酸アミド
7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボン酸(0.35g)のテトラヒドロフラン(6mL)溶液に、1,1−カルボニルジイミダゾール(0.88g)を氷冷下加え、室温にて2時間撹拌した。反応混合物に28%アンモニア水溶液(3mL)を氷冷下加え、室温にて2時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に1mol/L塩酸を加え、室温にて15分間撹拌した。析出した固体をろ取し、1mol/L塩酸、水で洗浄後乾燥して、標記化合物(0.17g)を得た。
7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボニトリル
7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボン酸アミド(0.17g)のジクロロメタン(5mL)溶液に、トリエチルアミン(0.71g)、トリフルオロ酢酸無水物(0.92g)を氷冷下加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物にメタノールを加え、減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=30/70〜100/0)にて精製し、標記化合物(0.10g)を得た。
7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボチオ酸アミド
7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボニトリル(0.10g)のN,N−ジメチルホルムアミド(2mL)及び4mol/L HCl 1,4−ジオキサン(2mL)の溶液に、チオアセトアミド(0.62g)を室温にて加え、80℃にて一晩撹拌した。反応混合物に水を注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)にて精製し、標記化合物(0.08g)を得た。
2−(7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル
7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−カルボチオ酸アミド(0.08g)のエタノール(2mL)溶液に、2−クロロ−アセト酢酸エチル(0.20g)を室温にて加え、75℃にて一晩撹拌した。反応混合物を室温まで放冷後、析出した固体をろ取し、エタノールで洗浄した。減圧下50℃にて乾燥して、標記化合物(0.09g)を得た。
5−ブロモ−1,2−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1H−インドール
5−ブロモ−2−メチル−2,3−ジヒドロ−1H−インドール(1.90g)のジメチルホルムアミド(20mL)溶液に、ヨードメタン(2.10g)及び水素化ナトリウム(0.5g)を氷冷下加え、50℃にて4時間撹拌した。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)にて精製し、標記化合物(1.60g)を得た。
5−ブロモ−1,2−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1H−インドール−7−カルバルデヒド
5−ブロモ−1,2−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1H−インドール(1.30g)のジメチルホルムアミド(10mL)溶液に塩化ホスホリル(1.3g)を氷冷下加え、80℃にて一晩撹拌した。放冷後、反応混合物に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温にて30分間撹拌した。2mol/L塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)にて精製し、標記化合物(0.75g)を得た。
5−ブロモ−1,2−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1H−インドール−7−カルボニトリル
5−ブロモ−1,2−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1H−インドール−7−カルバルデヒド(0.75g)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液にヒドロキシルアミン塩酸塩(0.24g)及びピリジン(0.93g)を室温にて加え、60℃にて5時間撹拌した。室温まで放冷後、無水酢酸(0.60g)を加え、60℃にて一晩撹拌した。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)にて精製し、標記化合物(0.54g)を得た。
5−ブロモキノリン−7−カルボン酸エチル
3−アミノ−5−ブロモ−安息香酸メチル(2.76g)、グリセロール(5.53g)、硫酸(75%水溶液、24mL)、3−ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩(5.41g)の混合物を、100℃にて3時間撹拌し、さらに140℃にて2時間撹拌した。反応混合物を60℃に冷却し、エタノールを加え、同温にて一晩撹拌した。反応混合物を室温に放冷し、溶媒を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、さらにアンモニア水をゆっくりと加え、溶液をアルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標記化合物を得た。
8−ヨードキノリン−6−カルボン酸エチル
参考例21と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を合成した。
2−(5−ブロモキノリン−7−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル
2−(8−ヨードキノリン−6−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル
参考例17と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を合成した。
2−(5−ブロモキノリン−7−イル)チアゾール−5−カルボン酸エチル
参考例17と同様の方法により、2−クロロ−アセト酢酸エチルの代わりに2−クロロ−3−オキソプロピオン酸エチルを用いて標記化合物を合成した。
2−イソキノリン−7−イル−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル
7−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)イソキノリン(1.46g)、2−ブロモ−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(1.43g)、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(0.33g)、炭酸セシウム(2.80g)、N, N−ジメチルホルムアミド(11.5mL)、水(2.3mL)の混合物を、80℃にて一晩撹拌した。室温に放冷後、水、酢酸エチルを加え、5分間撹拌し、セライトろ過した。ろ液を分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=0〜60%)にて精製し、続いてアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)にて精製し、標記化合物(0.53g)を得た。
2−(5−ブロモイソキノリン−7−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル
2−イソキノリン−7−イル−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.49g)の硫酸(3.2mL)溶液に、N−ブロモスクシンイミド(0.29g)を氷冷下にて加え、室温にて一晩撹拌した。更にN−ブロモスクシンイミド(0.29g)を氷冷下にて加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を氷中に注ぎ、飽和重曹水でPH8とした。酢酸エチルを加え抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=0〜40〜60%)にて精製し、標記化合物(0.094g)を得た。
2−(7−シアノ−1,3−ジメチル−1H−インドール−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸
5−ブロモ−1,3−ジメチル−1H−インドール−7−カルボニトリル(0.035g)のジメチルホルムアミド(1mL)溶液にビス(ピナコラート)ジボロン(0.039g)、酢酸パラジウム(0.0016g)、酢酸カリウム(0.042g)を室温にて加え、80℃にて3時間撹拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え、セライトろ過し、2層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、1,3−ジメチル−5−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−1H−インドール−7−カルボニトリルを得た。
この化合物のジメチルホルムアミド(1mL)、水(0.1mL)の混合溶液に2−ブロモ−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.042g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.0081g)、炭酸セシウム(0.069g)を室温にて加え、80℃にて4時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、2−(7−シアノ−1,3−ジメチル−1H−インドール−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.021g)を得た。
得られた化合物(0.021g)のテトラヒドロフラン(1mL)、エタノール(0.3mL)、水(0.3mL)の混合溶液に水酸化リチウム一水和物(0.013g)を室温にて加え、同温にて16時間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸、水を加え、析出した固体をろ取し、水、n−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し、標記化合物(0.013g)を得た。
2−(1−メチル−7−ニトロ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸
5−ブロモ−1−メチル−7−ニトロ−1H−インドール(0.11g)のジメチルホルムアミド(2mL)溶液にビス(ピナコラート)ジボロン(0.123g)、酢酸パラジウム(0.005g)、酢酸カリウム(0.13g)を室温にて加え、80℃にて2時間撹拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え、セライトろ過し、2層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、1−メチル−7−ニトロ−5−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−1H−インドールを得た。
この化合物のジメチルホルムアミド(2mL)、水(0.2mL)の混合溶液に2−クロロイソニコチン酸エチル(0.099g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.026g)、炭酸セシウム(0.22g)を室温にて加え、80℃にて2時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、2−(1−メチル−7−ニトロ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチル(0.055g)を得た。
得られた化合物(0.055g)のテトラヒドロフラン(2.4mL)、エタノール(0.8mL)、水(0.8mL)の混合溶液に水酸化リチウム一水和物(0.036g)を室温にて加え、同温にて16時間撹拌した。反応混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた水層に1規定塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し、標記化合物(0.017g)を得た。
4−メチル−2−(1−メチル−7−ニトロ−1H−インドール−5−イル)チアゾール−5−カルボン酸
5−ブロモ−1−メチル−7−ニトロ−1H−インドール(0.16g)のジメチルホルムアミド(3mL)溶液にビス(ピナコラート)ジボロン(0.17g)、酢酸パラジウム(0.007g)、酢酸カリウム(0.18g)を室温にて加え、80℃にて2時間撹拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え、セライトろ過し、2層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、1−メチル−7−ニトロ−5−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−1H−インドールを得た。
この化合物のジメチルホルムアミド(3mL)、水(0.3mL)の混合溶液に2−ブロモ−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.18g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.035g)、炭酸セシウム(0.30g)を室温にて加え、80℃にて3時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、4−メチル−2−(1−メチル−7−ニトロ−1H−インドール−5−イル)チアゾール−5−カルボン酸エチル(0.075g)を得た。
得られた化合物(0.075g)のテトラヒドロフラン(3mL)、エタノール(1mL)、水(1mL)の混合溶液に水酸化リチウム一水和物(0.046g)を室温にて加え、同温にて16時間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸、水を加え、析出した固体をろ取し、水、n−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し、標記化合物(0.051g)を得た。
2−(7−ニトロベンゾフラン−5−イル)イソニコチン酸
5−ブロモ−7−ニトロベンゾフラン(0.07g)のジメチルホルムアミド(2mL)溶液にビス(ピナコラート)ジボロン(0.081g)、酢酸パラジウム(0.003g)、酢酸カリウム(0.085g)を室温にて加え、80℃にて2時間撹拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加え、セライトろ過し、2層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、7−ニトロ−5−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)ベンゾフランを得た。
この化合物のジメチルホルムアミド(1mL)、水(0.1mL)の混合溶液に2−クロロイソニコチン酸エチル(0.062g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.016g)、炭酸セシウム(0.14g)を室温にて加え、80℃にて2時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、2−(7−ニトロベンゾフラン−5−イル)イソニコチン酸エチル(0.02g)を得た。
得られた化合物の(0.02g)のテトラヒドロフラン(1mL)、エタノール(0.3mL)、水(0.3mL)の混合溶液に水酸化リチウム一水和物(0.013g)を室温にて加え、同温にて16時間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸、水を加え、析出した固体をろ取し、水、メタノール、n−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し、標記化合物(0.002g)を得た。
実施例1と同様の方法により、対応する原料を用いて、実施例5〜8の化合物を合成した。
実施例2と同様の方法により、対応する原料を用いて、実施例9〜10の化合物を合成した。
2−(7−シアノ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸
2−(7−ブロモ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチル(0.36g)の1−メチル1−2−ピロリドン(5mL)溶液にシアン化亜鉛(0.13g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.051g)を加え、マイクロウェーブ反応装置を用い、150℃にて1時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、2−(7−シアノ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチル(0.096g)を得た。
得られた化合物(0.020g)のテトラヒドロフラン(3mL)、エタノール(1mL)の混合溶液に1規定水酸化リチウム水溶液(1mL)を加え、室温にて16時間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸(1mL)、水を加え、析出した固体をろ取し、水、n−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し、標記化合物(0.007g)を得た。
2−(7−シアノ−1−メチル−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸
2−(7−シアノ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチル(0.04g)のジメチルホルムアミド(2mL)溶液に氷冷下、水素化ナトリウム(0.007g)、ヨウ化メチル(0.03g)を加え、室温にて4時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、2−(7−シアノ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチル(0.048g)を得た。
得られた化合物(0.048g)のテトラヒドロフラン(3mL)、エタノール(1mL)の混合溶液に1規定水酸化リチウム水溶液(1mL)を加え、室温にて16時間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸(1mL)、水を加え、析出した固体をろ取し、水、n−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥し、標記化合物(0.032g)を得た。
実施例11と同様の方法により、2−(7−ブロモ−1H−インドール−5−イル)イソニコチン酸エチルの代わりに2−(7−ブロモ−1H−インドール−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチルを用いて、実施例13の化合物を合成した。
実施例12と同様の方法により、対応する原料を用いて、実施例14の化合物を合成した。
2−(7−シアノベンゾ[b]チオフェン−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸
2−(7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.08g)のジクロロメタン(2mL)溶液に、ピリジン(0.06g)及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物(0.14g)を氷冷下加え、室温にて1時間撹拌した。反応混合物に1mol/L塩酸を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、4−メチル−2−(7−トリフルオロメタンスルホニルオキシベンゾ[b]チオフェン−5−イル)チアゾール−5−カルボン酸エチル(0.09g)を得た。得られた化合物のN−メチルピロリドン(2mL)溶液にシアン化亜鉛(0.11g)及びテトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(0.06g)を室温にて加え、マイクロウェーブ反応装置(Biotage社)を用いて150℃にて1時間撹拌した。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、残渣をジエチルエーテルで洗い、減圧下50℃にて乾燥して、2−(7−シアノベンゾ[b]チオフェン−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.05g)を得た。2−(7−ヒドロキシベンゾ[b]チオフェン−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.05g)のテトラヒドロフラン(1mL)、エタノール(0.18mL)の溶液に、1mol/L水酸化リチウム水溶液(0.18mL)を室温にて加え、室温にて4時間撹拌した。反応混合物に1mol/L塩酸及び水を加え、析出した固体をろ取し、水及びn−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥して、標記化合物(0.01g)を得た。
実施例15と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を合成した。
2−(7−シアノ−1,2−ジメチル−1H−インドール−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸
2−(7−シアノ−1,2−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1H−インドール−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.16g)のジクロロメタン(4mL)溶液に二酸化マンガン(0.81g)を加え、室温にて10時間撹拌した。反応混合物をセライトろ過し、ろ液を濃縮し、2−(7−シアノ−1,2−ジメチル−1H−インドール−5−イル)−4−メチルチアゾール−5−カルボン酸エチル(0.15g)を得た。得られた化合物のテトラヒドロフラン(5mL)、エタノール(2mL)の溶液に、1mol/L水酸化リチウム水溶液(2mL)を室温にて加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物に1mol/L塩酸及び水を加え、析出した固体をろ取し、水及びn−ヘキサンで洗浄後、減圧下50℃にて乾燥して、標記化合物(0.10g)を得た。
実施例11と同様の方法により、対応する原料を用いて標記化合物を合成した。
キサンチンオキシダーゼ阻害活性
(1)試験化合物の調製
試験化合物をDMSO(和光純薬社製)にて40mMの濃度になるように溶解した後、リン酸緩衝生理食塩水(PBS)を用いて希釈して目的の濃度になるように調製した。
キサンチンオキシダーゼ(ウシミルク由来、シグマ社製)をリン酸緩衝生理食塩水(PBS)で0.02units/mLに調製し、96穴プレートに50μL/穴ずつ加えた。更にPBSを用いて希釈した試験化合物を50μL/穴ずつ加えた。PBSを用いて調製した200μMのキサンチン(和光純薬社製)を100μL/穴で加え、室温で10分間反応させた。290nmの条件下において、マイクロプレートリーダースペクトラマックスプラス384(モレキュラーデバイス社製)を用いて吸光度を測定した。キサンチンを加えない条件下での吸光度を0%とし、試験化合物を加えていない対照を100%として、50%抑制する試験化合物の濃度(IC50)を算出した(表5)。表中、Ex.Noは実施例番号を示す。
ヒトURAT1発現細胞を用いた尿酸輸送阻害活性
(1)ヒトURAT1一過的発現細胞の調製
ヒトURAT1完全長cDNA(NCBI Accession No.NM_144585)を発現ベクターpcDNA3.1(インビトロジェン社製)にサブクローニングを行った。ヒトURAT1発現ベクターをCOS7細胞(RIKEN CELL BANK RCB0539)にリポフェクトアミン2000(インビトロジェン社製)を用いて導入した。COS7細胞はコラーゲンコート24ウエルプレート(日本ベクトン・ディッキンソン社製)に90〜95%confluentになるよう播種し、10%ウシ胎児血清(三光純薬社製)含有D−MEM培地(インビトロジェン社製)を用いて、2時間、37℃、5%CO2条件下にて培養を行った。1穴あたり2μLのリポフェクトアミン2000を50μLのOPTI−MEM(インビトロジェン社製)で希釈し、室温で7分間静置した(以下Lipo2000−OPTIとする)。1穴あたり0.8μgヒトURAT1発現ベクターを50μLのOPTI−MEM(インビトロジェン社製)で希釈し、Lipo2000−OPTIに加えて穏やかに混和し、室温にて25分間放置した後、1穴あたり100μLずつCOS7細胞に添加した。更にCOS7細胞は、37℃、5%CO2条件下において2日間培養し、取り込み阻害活性の測定に供した。
試験化合物をDMSO(和光純薬社製)にて10mMの濃度になるように溶解した後、前処置用緩衝液(125mMグルコン酸ナトリウム、4.8mMグルコン酸カリウム、1.2mMリン酸2水素カリウム、1.2mM硫酸マグネシウム、1.3mMグルコン酸カルシウム、5.6mMグルコース、25mMヘペス、pH7.4)を用いて希釈して目的の2倍の濃度になるように調製した。試験化合物を含まない前処置用緩衝液を対照として用いた。更に14Cで標識された尿酸(American Radiolabeled Chemicals,Inc.社製)を含む前処置用緩衝液を試験化合物及び対照に等量加えて、最終的に20μMの尿酸を含むアッセイ緩衝液を作製した。
全ての試験は37℃のホットプレート上において実施した。前処置用緩衝液及びアッセイ緩衝液は37℃にて加温した後に用いた。プレートから培地を除去し、700μLの前処置用緩衝液を加えて、10分間プレインキュベーションした。同一操作を繰り返した後、前処置用緩衝液を取り除き、アッセイ緩衝液を400μL/穴で添加し、5分間取り込み反応を行った。反応終了後、直ちにアッセイ緩衝液を除去し、氷冷した前処置用緩衝液を1.2mL/穴ずつ加えて、細胞を2回洗浄した。0.2N水酸化ナトリウムを300μL/穴で添加して、細胞を溶解した。細胞溶解液はピコプレート(パーキンエルマー社製)に移し、マイクロシンチ40(パーキンエルマー社製)を600μL/穴で添加し、混合した後、液体シンチレーションカウンター(パーキンエルマー社製)にて放射活性を測定した。またURAT1発現ベクターを導入していないCOS7細胞も対照と同様の条件下において、放射活性を測定した。なお、試験化合物の阻害率は以下の式により算出した。その結果、実施例2の化合物は100μMの濃度において80%以上の阻害を示した。
阻害率(%)=[1−(B−C)/(A−C)]X 100
A:対照の放射活性
B:試験化合物を加えた場合の放射活性
C:URAT1発現ベクターを導入していないCOS7細胞の放射活性
Claims (21)
- 式
Tはトリフルオロメチル、ニトロ又はシアノ;
環Qは5又は6員環ヘテロアリール;
X1及びX2は独立して、CH又はN;
環UはC6アリール又は5又は6員環ヘテロアリール;
mは0〜2の整数;
nは0〜3の整数;
R1は水酸基、ハロゲン原子、アミノ又はC1−6アルキル(mが2であるとき、2つのR1は異なっていてもよい);
R2は、
(i)環Q内の炭素原子に結合している場合は、(1)〜(11):
(1)ハロゲン原子;
(2)水酸基;
(3)シアノ;
(4)ニトロ;
(5)カルボキシ;
(6)カルバモイル;
(7)アミノ;
(8)それぞれ独立して、置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいC1−6アルキル、C2−6アルケニル又はC1−6アルコキシ;
(9)C2−6アルキニル、C1−6アルキルスルホニル、モノ(ジ)C1−6アルキルスルファモイル、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、C1−6アルコキシカルボニルオキシ、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)アミノ、C2−7アシルアミノ、C1−6アルコキシカルボニルアミノ、C1−6アルコキシカルボニル(C1−6アルキル)アミノ、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノカルボニルアミノ、C1−6アルキルスルホニルアミノ又はC1−6アルキルチオ;
(10)C3−8シクロアルキル、3〜8員環ヘテロシクロアルキル、C5−8シクロアルケニル又は5〜8員環ヘテロシクロアルケニル;
(11)C6アリール、C6アリールオキシ、C6アリールカルボニル、5又は6員環ヘテロアリール、5又は6員環ヘテロアリールオキシ、5又は6員環ヘテロアリールカルボニル、C6アリールアミノ、C6アリール(C1−6アルキル)アミノ、5又は6員環ヘテロアリールアミノ又は5又は6員環ヘテロアリール(C1−6アルキル)アミノ;の何れかであり、
(ii) 環Qの窒素原子に結合している場合は、(12)〜(15):
(12)それぞれ独立して、置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいC1−6アルキル又はC2−6アルケニル;
(13)C2−6アルキニル、C1−6アルキルスルホニル、モノ(ジ)C1−6アルキルスルファモイル、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル又はモノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル;
(14)C3−8シクロアルキル又は3〜8員環ヘテロシクロアルキル;
(15)C6アリール、5又は6員環ヘテロアリール、C6アリールカルボニル又は5又は6員環ヘテロアリールカルボニル;の何れかであり;
(nが2又は3であるとき、R2はそれぞれ異なっていてもよく、更に、2つのR2が、環Q内の隣り合った原子に結合して存在し、それぞれC1−6アルコキシを有していてもよいC1−6アルキルである場合は、結合する環Q内の原子と共に、5〜8員環を形成してもよい。);
置換基群αは、フッ素原子、水酸基、アミノ、カルボキシ、C1−6アルコキシ、モノ(ジ)C1−6アルキルアミノ、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルアミノ、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)アミノ、C1−6アルコキシカルボニルアミノ、C2−7アシル、C1−6アルコキシカルボニル、モノ(ジ)C1−6アルキルカルバモイル、モノ(ジ)C1−6アルコキシC1−6アルキルカルバモイル、C1−6アルコキシC1−6アルキル(C1−6アルキル)カルバモイル、C1−6アルキルスルホニルアミノ、C2−7アシルアミノ、C1−6アルコキシカルボニルアミノ、C3−8シクロアルキル、3〜8員環ヘテロシクロアルキル、C6アリール及び5又は6員環ヘテロアリールである〕で表される縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。 - Tがシアノである請求項1記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- X1がCHである請求項1又は2記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- X2がCHである請求項1〜3の何れかに記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- 環Qがピリジン、ピリミジン、ピラジン、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、チオフェン、フラン又はピロール環である請求項1〜4の何れかに記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- 環Qがピリジン、チオフェン又はピロール環である請求項5記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- 環Uがベンゼン、ピリジン、チアゾール、ピラゾール又はチオフェン環である請求項1〜6の何れかに記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- mが0であるか、又はmが1であり、かつR1aが水酸基又はC1−6アルキルである、請求項8記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- 環Uがチアゾール環である請求項8又は9記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- mが0であるか、又はmが1;かつR1aが水酸基であり、かつ環Uがピリジン環である請求項9記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- R1aがメチルである、請求項10記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- R1aが水酸基である、請求項11記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- nが0であるか、又はnが1〜3であり、かつR2が環Qの炭素原子に結合するハロゲン原子;水酸基;それぞれフッ素原子、水酸基及びアミノから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC1−6アルキル又はC1−6アルコキシ;C1−6アルコキシC1−6アルキル;もしくはC1−6アルコキシC1−6アルコキシ;又は環Qの窒素原子に結合する、フッ素原子、水酸基及びアミノから選択される任意の基を1〜3個有していてもよいC1−6アルキル;もしくはC1−6アルコキシC1−6アルキルである、請求項1〜13の何れかに記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- nが0であるか、又はnが1〜3であり、かつR2が環Qの炭素原子に結合するハロゲン原子;水酸基;もしくはフッ素原子を1〜3個有していてもよいC1−6アルキル;又は環Qの窒素原子に結合する、フッ素原子を1〜3個有していてもよいC1−6アルキル;もしくはC1−6アルコキシC1−6アルキルである、請求項14記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- キサンチンオキシダーゼ阻害薬である、請求項1〜15の何れかに記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩。
- 請求項1〜15の何れかに記載の縮合複素環誘導体又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物。
- 高尿酸血症、痛風結節、痛風関節炎、高尿酸血症による腎障害及び尿路結石から選択される疾患の予防又は治療用である、請求項17記載の医薬組成物。
- 高尿酸血症の予防又は治療用である、請求項18記載の医薬組成物。
- 血漿尿酸値低下薬である、請求項17記載の医薬組成物。
- 尿酸生成抑制薬である、請求項17記載の医薬組成物。
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