JP5314429B2 - 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、特許文献1記載の不透明石英ガラスの製法は、原料準備に多大な手間を要し、一方製法においては、最大サイズが限定され、さらに加熱時に表面からの汚染が大きく、例えば高純度が必要とされる半導体製造工程用石英治具用途には問題があった。また、多様な形状の石英製品に加工する際には、火炎加工が必須になるが、窒素が添加されていることにより、部分発泡して割れ易くなるなど、製品加工にも問題が発生した。
また、前記気泡層の厚さが1μm以上100μm以下であり、前記非気泡層の厚さが1μm以上200μm以下であることが好ましい。
本発明の合成不透明石英ガラスは、均一な微細気泡をガラス体全体に有し、遮光性に優れるとともに、純度的に、合成石英ガラスとして、極めて高純度に保たれ、火炎加工性にも優れているので、様々な工業分野に適用可能であり、特に、半導体製造分野においては、好適な部材として、使用することができる。
石英ガラス多孔質体を、0.15MPa以上1000MPa以下の圧力下、1200℃以上2000℃以下の温度にて、加熱焼成することにより、合成不透明石英ガラス体が得られる。なお、本発明において、厚さ1mmにおける波長200〜5000nmの光の透過率が5%未満である石英ガラスを不透明石英ガラスと称する。
加熱処理時間は、圧力及び温度条件等に応じて適宜選択すればよいが、具体的には、前記温度と圧力範囲内で30分から10時間保持することが好ましく、1時間から4時間保持することがより好ましい。
具体的には、本発明方法により、密度が1.0g/cm3以上2.20g/cm3以下、好ましくは2.1g/cm3を超え2.20g/cm3以下、空隙率が1〜50%、好ましくは2〜10%、含まれる独立気泡の平均径が1μm以上50μm以下、好ましくは1μm以上30μm以下、より好ましくは1μm以上10μm未満、独立気泡数が1×106〜1×109個/cm3、好ましくは1×107〜1×109個/cm3、より好ましくは6×107個/cm3を超えて1×109個/cm3以下、である合成不透明石英ガラスが得られる。
前記気泡層の厚さが1〜100μmであることが好ましく、1〜50μmであることがより好ましい。また、前記非気泡層の厚さが1〜200μmであることが好ましく、1〜100μmであることがより好ましい。
四塩化珪素を加水分解して形成した石英ガラス微粒子を回転している基体上に堆積させて作製した多孔質合成石英ガラス体(長さ2000mm、直径400mm)を、加熱炉中にセットして真空排気し、その後、窒素ガスを充填して0.6MPaまで加圧し、加熱を開始して、2時間で1500℃にまで昇温し、2時間保持した後、自然冷却し、室温になった後、圧力を大気圧に下げて、取り出した。石英ガラス多孔質体は、緻密化し全体が白色化した。
得られた白色不透明石英ガラスの写真を図1に示した。図1に示した如く、得られた不透明石英ガラスは、厚さ10μmの気泡層と厚さ50μmの非気泡層が交互に積層されていた。
得られた白色不透明石英ガラス中に含まれる独立気泡の直径及び含有量を測定した結果、独立気泡の直径は1〜40μmの範囲、平均径は9μm、独立気泡数は9×107個/cm3、気泡率が6.0%であった。また、気泡層の独立気泡数は1×108個/cm3、非気泡層の独立気泡数は1×102個/cm3であった。
緻密化のための加熱処理時の圧力が、0.15MPaであること以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の圧力が、800MPaであること以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の雰囲気がArであること以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の温度が1600℃であること以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の条件を1200℃で4時間保持に変更した以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の条件を1900℃で1時間保持に変更した以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
四塩化珪素を加水分解して形成した石英ガラス微粒子を回転している基体上に堆積させて作製した多孔質合成石英ガラス体(長さ2000mm、直径400mm)を、加熱炉にセットして真空排気し、その後、窒素ガスを充填して0.01MPaまで加圧し、加熱を開始して、2時間で1500℃にまで昇温し、2時間保持した後、自然冷却し、室温になった後、取り出した。石英ガラス多孔質体は、緻密化したが、全体が透明化した。
Li、Na、K、Mg、Ti、Fe、Cu、Ni、Cr、Alの各金属不純物の含有量は、各々0.005ppm以下であった。また、ガラス体中には、OH基は200ppmであった。
平均粒子径が10μmの非晶質シリカ粉末に窒化ケイ素粉末をシリカ粉末100重量部に対して窒化ケイ素粉末0.01重量部を混合分散させた出発原料を用い、内型の直径500mm、高さ300mmの鋳込み型内に充填し、加熱炉内にセットして、無酸素雰囲気で1800℃の温度にて、常圧で30分間加熱し、ガラス化及び発泡による気泡生成を行い、不透明石英ガラスを得た。
得られた白色不透明石英ガラスは、鋳込み型からの金属不純物の拡散のため、Li、Na、K、Mg、Ti、Fe、Cu、Ni、Cr及びAlの各金属不純物の含有量が、各々0.1〜0.3ppmの範囲で確認された。窒素含有量は300ppmであった。
Claims (4)
- 珪素化合物を酸水素火炎で加水分解して生成した石英ガラス微粒子を堆積させて作製された石英ガラス多孔質体を、0.15MPa以上1000MPa以下の圧力下、1200℃以上2000℃以下の温度にて、加熱焼成する工程を含み、前記加熱焼成中の雰囲気が不活性ガスであり、かつ独立気泡を2×10 6 〜5×10 9 個/cm 3 含有する気泡層と独立気泡の含有量が0〜1×10 3 個/cm 3 である非気泡層とが交互に積層されるようにしたことを特徴とする合成不透明石英ガラスの製造方法。
- 請求項1記載の製造方法により製造されかつ独立気泡を2×10 6 〜5×10 9 個/cm 3 含有する気泡層と独立気泡の含有量が0〜1×10 3 個/cm 3 である非気泡層とが交互に積層されてなる合成不透明石英ガラスであって、該合成不透明石英ガラスの密度が1.0〜2.2g/cm3、空隙率が1〜50%、含まれる独立気泡の平均径が1〜50μm、独立気泡数が1×106〜1×109個/cm3、であり、Li、Na、K、Mg、Ti、Fe、Cu、Ni、Cr及びAlの各金属不純物の含有量が、各々0.05ppm以下であることを特徴とする合成不透明石英ガラス。
- 窒素の含有量が50ppm以下であることを特徴とする請求項2記載の合成不透明石英ガラス。
- 前記気泡層の厚さが1μm以上100μm以下であり、前記非気泡層の厚さが1μm以上200μm以下であることを特徴とする請求項2又は3記載の合成不透明石英ガラス。
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Families Citing this family (21)
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---|---|---|---|---|
KR102202406B1 (ko) * | 2013-05-23 | 2021-01-13 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 반도체 처리 챔버를 위한 코팅된 라이너 어셈블리 |
US9385004B2 (en) | 2013-08-15 | 2016-07-05 | Applied Materials, Inc. | Support cylinder for thermal processing chamber |
CN105473518B (zh) * | 2013-08-15 | 2019-11-05 | Agc株式会社 | 低散射石英玻璃和石英玻璃的热处理方法 |
KR101853035B1 (ko) * | 2013-12-23 | 2018-04-27 | 헤래우스 쿼츠 아메리카 엘엘씨 | 불투명한 석영 유리 부품을 형성하기 위한 방법 |
TWI652240B (zh) | 2014-02-17 | 2019-03-01 | 日商東曹股份有限公司 | 不透明石英玻璃及其製造方法 |
JP6379508B2 (ja) * | 2014-02-17 | 2018-08-29 | 東ソー株式会社 | 不透明石英ガラスおよびその製造方法 |
KR20180094087A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-22 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 실리카 과립으로부터 실리카 유리 제품의 제조 |
JP7048053B2 (ja) | 2015-12-18 | 2022-04-05 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | マルチチャンバ炉内での石英ガラス体の調製 |
EP3390290B1 (de) | 2015-12-18 | 2023-03-15 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Herstellung eines opaken quarzglaskörpers |
JP7044454B2 (ja) | 2015-12-18 | 2022-03-30 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
WO2017103115A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung eines quarzglaskörpers in einem schmelztiegel aus refraktärmetall |
TWI808933B (zh) | 2015-12-18 | 2023-07-21 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 石英玻璃體、二氧化矽顆粒、光導、施照體、及成型體及其製備方法 |
US10618833B2 (en) * | 2015-12-18 | 2020-04-14 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a synthetic quartz glass grain |
KR20180095619A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 실리카 유리 제조 동안 규소 함량의 증가 |
CN108698890A (zh) | 2015-12-18 | 2018-10-23 | 贺利氏石英玻璃有限两合公司 | 利用在熔融烘箱中的露点监测制备石英玻璃体 |
KR20180095614A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 낮은 OH, Cl, 및 Al 함량을 갖는 석영 유리로 제조된 유리 섬유 및 프리폼 |
EP3205630B1 (de) * | 2016-02-12 | 2020-01-01 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Diffusormaterial aus synthetisch erzeugtem quarzglas sowie verfahren zur herstellung eines vollständig oder teilweise daraus bestehenden formkörpers |
JP2018101581A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | クアーズテック株式会社 | ヒータ |
US12006242B2 (en) | 2019-06-03 | 2024-06-11 | Tosoh Quartz Corporation | Opaque quartz glass and method of manufacturing the same |
CN115279705A (zh) * | 2020-02-28 | 2022-11-01 | Agc株式会社 | 二氧化硅玻璃、使用有二氧化硅玻璃的高频装置、以及二氧化硅玻璃的制造方法 |
US11993538B2 (en) | 2021-01-30 | 2024-05-28 | Tosoh Quartz Corporation | Opaque quartz glass and a method for producing the same |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6140827A (ja) * | 1984-08-02 | 1986-02-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 多孔質ガラス板の製造方法 |
JPH08143329A (ja) * | 1993-10-08 | 1996-06-04 | Tosoh Corp | 高純度不透明石英ガラス及びその製造方法並びにその 用途 |
JPH0912325A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-14 | Nitto Chem Ind Co Ltd | 高純度不透明石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |
JPH0920531A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-21 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 高強度石英ガラス発泡体 |
JPH10203839A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-04 | Tosoh Corp | 微細気泡含有不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2962790A (en) * | 1955-09-23 | 1960-12-06 | Bendix Corp | Method of centrifugally slip-casting ceramic materials |
US3619440A (en) * | 1969-12-18 | 1971-11-09 | Texas Instruments Inc | Prevention of crawling of metal oxide hollow articles along the support mandrel during sintering |
US3806570A (en) * | 1972-03-30 | 1974-04-23 | Corning Glass Works | Method for producing high quality fused silica |
JPS51102014A (en) * | 1974-11-01 | 1976-09-09 | Komatsu Denshi Kinzoku Kk | Kojundotomeigarasutaino seizohoho |
US4222760A (en) * | 1979-08-02 | 1980-09-16 | Corning Glass Works | Preparation of oxynitride glass-ceramics |
JPH029727A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
US6012304A (en) * | 1991-09-30 | 2000-01-11 | Loxley; Ted A. | Sintered quartz glass products and methods for making same |
GB9210327D0 (en) * | 1992-05-14 | 1992-07-01 | Tsl Group Plc | Heat treatment facility for synthetic vitreous silica bodies |
US5356449A (en) * | 1993-05-24 | 1994-10-18 | At&T Bell Laboratories | Vad process improvements |
US5585173A (en) * | 1993-10-08 | 1996-12-17 | Tosoh Corporation | High-purity, opaque quartz glass, method for producing same and use thereof |
US6355587B1 (en) * | 1994-06-30 | 2002-03-12 | Ted A. Loxley | Quartz glass products and methods for making same |
DE69716822T2 (de) * | 1996-07-04 | 2003-09-11 | Tosoh Corp | Opakes Quarzglas und Verfahren zu dessen Herstellung |
US5945802A (en) * | 1996-09-27 | 1999-08-31 | General Electric Company | Ground fault detection and protection method for a variable speed ac electric motor |
WO2000006811A1 (fr) * | 1998-07-31 | 2000-02-10 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Creuset en verre de quartz servant a faire croitre un monocristal de silicium et procede de production de celui-ci |
DE19962451C1 (de) * | 1999-12-22 | 2001-08-30 | Heraeus Quarzglas | Verfahren für die Herstellung von opakem Quarzglas und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Si0¶2¶-Granulat |
EP1328482A1 (en) | 2000-09-28 | 2003-07-23 | Corning Incorporated | Optical glass silica soot particles and method of making same |
US6447601B1 (en) * | 2001-03-19 | 2002-09-10 | Memc Electronic Materials, Inc. | Crystal puller and method for growing monocrystalline silicon ingots |
KR100913116B1 (ko) * | 2002-04-04 | 2009-08-19 | 토소가부시키가이샤 | 석영유리 용사부품 및 그 제조방법 |
-
2007
- 2007-12-04 WO PCT/JP2007/073387 patent/WO2008069194A1/ja active Application Filing
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- 2007-12-05 TW TW96146289A patent/TWI430967B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6140827A (ja) * | 1984-08-02 | 1986-02-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 多孔質ガラス板の製造方法 |
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