JP5296529B2 - 透明基板の寸法変化を測定するための方法及び装置 - Google Patents
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Description
Rf−Ri=RT+D+E (1)である。ここで、Rfは測定された最終位置、Riは測定された初期位置、RTは剛体の回転/平行移動、Dは与えられたプロセスによって生じた基板の寸法変化、Eは測定誤差である。マーカーのアレイに対しては:
{Rf−Ri}={RT}+{r} (2)である。ここで、{}は行列を表し、rは残差、すなわち寸法変化を表す。Rf及びRiは既知である。RT及びrは連立方程式を解くためのいずれか適する手法、例えば線形回帰を用いて決定することができる。この剛体補正の目的は第2の測定観察を元の第1の測定観察の場所に戻すことである。
506 プラットフォーム
508,S1 基準プレート
509,S2 透明基板
512 撮像装置
517 マーキング装置
530 照明器
M1 基準マーカー
M2 基板マーカー
Claims (10)
- 透明基板の寸法変化を測定する方法において、
基準プレート上に基準マーカーのアレイを形成する工程、
前記透明基板上に基板マーカーのアレイを形成する工程、
前記基準マーカーと前記基板マーカーが重なるように前記基準プレートと前記透明基板を積み重ねる工程、
前記透明基板の処理の前後に前記基準マーカーの座標に対する前記基板マーカーの座標を測定する工程、及び
前記透明基板の処理の前後の前記基板マーカーの前記測定された相対座標の間の差から前記透明基板の寸法変化を決定する工程、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記基準プレートと前記透明基板を積み重ねる前記工程が前記透明基板の処理の前後に行われ、前記透明基板の処理の前後の前記基準プレートに対する前記透明基板の位置決めにおける差による前記寸法変化の誤差を補正する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記基準プレートと前記透明基板を積み重ねる前記工程が、前記基準マーカー及び前記基板マーカーのいずれもが見えるように、前記基準マーカーを前記基板マーカーからずらす工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記基板マーカーの座標を測定する前記工程が前記基準マーカー及び前記基板マーカーの画像を得る工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記基準マーカーアレイが前記基板マーカーアレイと実質的に等価であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 透明基板の寸法変化を測定する装置において、
基準マーカーのアレイが形成された基準プレート、
前記基準プレートに堅剛な支持を与えるプラットフォーム、
前記透明基板が前記基準プレートに積み重ねられたときの前記基準プレート上のマーカーのアレイ及び前記透明基板上のマーカーのアレイの画像を取り込む撮像装置、
前記撮像装置を前記プラットフォーム面内の所望の場所に置く位置決め装置、及び
前記基準プレート上及び前記透明基板上のマーカーのアレイの取り込まれた画像の間の差から前記透明基板の寸法変化を決定する決定装置、
を備えることを特徴とする装置。 - 前記基準プレートが前記透明基板と同様の熱膨張係数を有することを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 前記基準プレート上及び前記透明基板上の所望の場所にマーカーを形成するマーキング装置をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 前記基準プレートを前記プラットフォームにクランプする機構及び/または前記透明基板を前記基準プレートにクランプする機構をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 前記基準プレート上及び前記透明基板上のマーカーを照明する1つまたはそれより多くの照明器をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の装置。
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