JP5295248B2 - イミン水素化により2,2−ジフルオロエチルアミン誘導体を製造する方法 - Google Patents
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Description
・ピリミジニル、ピラゾリル、チオフェニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、イソチアゾリル、1,2,4−トリアゾリルもしくは1,2,5−チアジアゾリル(フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C1−C4アルキル(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)、C1−C3アルキルチオ(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)またはC1−C3アルキルスルホニル(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)により置換されていてもよい。)、または
・
−非錯体金属または半金属水素化物
−Na/EtOH、または
−触媒的水素化
錯体水素化物は、少なくとも1つのハイドライド配位子を含有する荷電金属錯体を意味すると一般的に理解される。その例は、水素化アルミニウムリチウム(LiAlH4)、LiAlH(O−tert−ブチル)3、LiAlH(O−メチル)3、NaAIEt2H2、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)等である。非錯体金属または半金属水素化物の例は、AlH3、DIBAL−H(AlH(イソブチル)2)等である。これらの中で、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)の使用が特に好ましい。錯体金属水素化物または非錯体金属もしくは半金属水素化物を用いる反応は、減圧下、標準圧で、または昇圧下、−30から150℃、好ましくは−10から60℃の温度で実施できる。
・ピリミジニル、ピラゾリル、チオフェニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、イソチアゾリル、1,2,4−トリアゾリルまたは1,2,5−チアジアゾリル(フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C1−C4アルキル(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)、C1−C3アルキルチオ(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)またはC1−C3アルキルスルホニル(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)により置換されていてもよい。)、または
・
Yが、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アジドまたはシアノである。)
好ましい、特に好ましい、および非常に特に好ましい置換基または上記の一般式(III)および(IV)で示されるA基の範囲は、以下で説明される。
74.34gの6−クロロピリジン−3−カルバルデヒドの46gのトルエン中溶液に、41.8gの2,2−ジフルオロエチルアミンを室温で添加する。反応混合物を、室温で2時間攪拌する。続いて、120gの無水硫酸マグネシウムを添加し、混合物を50℃でさらに5時間攪拌する。反応混合物を室温に冷却して濾過する。濾残をトルエンで洗浄する。溶媒を減圧下で除去し、100.2gのN−[(6−クロロピリジン−3−イル)メチリデン)]−2,2−ジフルオロエチルアミンを95.5%の純度で得る(これは、94%の収率に対応する。)。
1H NMR(CDCl3,298K)δ:4.05 m(2H)、6.5 t(1H,CHF2)、7.63 d(1H)、8.20 d(1H)、8.56 s(1H)、8.75 d(1H)
NMR(d−DMSO):1H(s,8.35ppm);1H(dd,7.8ppm);1H(d,7.46ppm);1H(tt,6.02ppm);2H(s,3.8ppm);2H(td,2.9ppm)
NMRデータ:実施例2参照
Claims (6)
- 一般式(IV)の2,2−ジフルオロエチルイミン誘導体が、対応する一般式(III)の2,2−ジフルオロエチルアミン誘導体に水素化されることを特徴とする、2,2−ジフルオロエチルアミン誘導体を調製する方法
○ピリド−2−イルもしくはピリド−4−イルもしくはピリド−3−イル(フッ素、塩素、臭素、メチル、トリフルオロメチルもしくはトリフルオロメトキシにより6位が置換されていてもよい。)、またはピリダジン−3−イル(塩素もしくはメチルにより6位が置換されていてもよい。)、またはピラジン−3−イル、または2−クロロピラジン−5−イル、または1,3−チアゾール−5−イル(塩素もしくはメチルにより2位が置換されていてもよい。)、または
○ピリミジニル、ピラゾリル、チオフェニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、イソチアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、または1,2,5−チアジアゾリル(フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C1−C4アルキル(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)、C1−C3アルキルチオ(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)またはC1−C3アルキルスルホニル(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)により置換されていてもよい。)、または
○
Yはハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アジドまたはシアノである。))。 - 水素化が、錯体水素化物、非錯体金属または半金属水素化物、Na/EtOHを用いて、または触媒的水素化により実施されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 請求項3に記載の方法で得られる一般式(IV)の化合物が出発化合物として使用されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 一般式(IV)の化合物
○ピリド−2−イルもしくはピリド−4−イルもしくはピリド−3−イル(フッ素、塩素、臭素、メチル、トリフルオロメチルもしくはトリフルオロメトキシにより6位が置換されていてもよい。)、またはピリダジン−3−イル(塩素もしくはメチルにより6位が置換されていてもよい。)、またはピラジン−3−イル、または2−クロロピラジン−5−イル、または1,3−チアゾール−5−イル(塩素もしくはメチルにより2位が置換されていてもよい。)、または
○ピリミジニル、ピラゾリル、チオフェニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、イソチアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、または1,2,5−チアジアゾリル(フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C1−C4アルキル(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)、C1−C3アルキルチオ(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)またはC1−C3アルキルスルホニル(フッ素および/または塩素により置換されていてもよい。)により置換されていてもよい。)、または
○
Yはハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アジドまたはシアノである。))。 - 請求項1または2に記載の方法により一般式(III)の化合物を調製するための、請求項5に記載の一般式(IV)の化合物の使用。
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