JP5282297B2 - 中間転写体 - Google Patents

Description

本発明は電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体に関する。

複写機、レーザープリンタなどの画像形成装置における画像形成方法として、感光ドラム上に小径トナーを用い形成されたトナー画像を、中間転写体へ一次転写後、中間転写体から転写材（例えば紙）へ二次転写する転写方式が知られている。

又、近年ではカラー化が進められており、特にカラー画像形成装置では、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のトナーを使用し、感光体に形成された各トナー画像を中間転写体へ一次転写し形成させれた４色のトナー画像を、４色同時に転写材（例えば紙）へ二次転写するため、高画質化、高速化が求められている。中間転写体としては、基材に無端のベルトを使用した中間転写体ベルト及び、基材に金属ロールを使用した中間転写体ロールが知られている。

転写方式の場合、中間転写体は高画質化、高速化を達成するための代表的な項目として以下に示す項目が知られている。

１）中間転写体の表面に感光体から転写されて形成されたトナー画像の転写材への高転写率が要求されている。

転写率とは、中間転写体の表面に形成されたトナー画像の転写材への割合を言う。転写率が低いと転写材へ転写された画像に抜けが生じたり、濃度ムラが発生し高画質化が出来ない。

２）中間転写体の高耐久性が要求されている。

耐久性とは、長時間の転写材への転写が可能となる性能を言う。中間転写体の表面は転写材（例えば紙）へ二次転写した後、残存するトナーを除去するためクリーニングブレードで擦りクリーニングされるのである、クリーニングブレードとの接触で表面の平滑性がなくなったり、ヒビ割れが発生し感光体からの安定したトナー画像の転写が出来なくなる。又、中間転写体が無端のベルトの場合は、引き回しでクラック（ヒビ割れ）が発生する。

３）フィルミングが発生しないことが要求されている。

フィルミングとは、転写材（例えば紙）へ二次転写した後、中間転写体の表面をクリーニングブレードでクリーニングを行うのであるが、除去されずに残るトナーが徐々に集積される現象を言う。トナーが残る原因としては、中間転写体の表面に発生したクラックにトナーが入り込む、クリーニングブレードとの接触等で表面に出来た凹部に溜まったトナーが残る。フィルミングが発生した場所では転写率が低下したり、画像スジやムラが発生し高画質化が出来ない。更に、省エネルギーという観点から、近年、低温定着トナーが用いられるようになってきた。低温定着トナーはガラス転移点が低いことからよりフィルミングが発生し易く、フィルミング発生が大きな問題となってきている。フィルミングが発生した場所では転写率が低下したり、画像スジやムラが発生し問題となる。

４）ブリードが発生しないことが要求されている。

ブリードとは、中間転写体を構成している下層に含まれている親油性分（例えば、可塑剤等）が表面層に浸み出してくる現象を言う。中間転写体の表面に親油性分が浸み出した場合、中間転写体と接触している感光体へ親油性分が転写し、感光体のトナー像形成に影響が出る。又、中間転写体にクラック発生した場合は、クラックに沿って親油性分が浸み出してくる。

中間転写体は感光体から感光体の表面に形成されているトナー画像を中間転写体表面に転写される時及び、中間転写体表面に形成されているトナー画像を転写材（例えば紙）へ転写する時の転写率を上げ、トナー画像を均一に転写するためトナー画像への集中荷重が掛けられることで発生する像抜けを防止するため、集中荷重防止策が採られている。集中荷重防止策は、クリーニングブレードによるクリーニング時の中間転写体表面への応力分散、中間転写ベルトの引き回し時に中間転写ベルトに掛かる応力分散にも効果を示すとされている。

集中荷重防止策としては、例えば中間転写体ベルトの場合は基材に弾性体を使用したり、基材の上に弾性層を設けたりする方法、中間転写体ロールの場合は基材の上に弾性層を設ける方法が知られている。

中間転写体への１）〜４）の要求に対してこれまでに多くの検討が成されて来た。

例えば、ブリードの発生防止、高耐久性、高品質の画像形成のため、ベルト基材に弾性材であるクロロプレンゴム（ＣＲ）とエチレン−プロピレンゴムに第３成分としてジエン系モノマーを添加したＥＰＤＭ（Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ Ｄｉｅｎｅ Ｍｏｎｏｍｅｒ）を使用し、表層にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜を形成した中間転写体が知られている（例えば、特許文献１参照。）。

特許文献１の中間転写体は、確かに短時間の間ではブリードの発生防止、高耐久性、高品質の画像形成には効果を示すが、特許文献１の中間転写体が中間転写体ベルトの場合では、表層が硬いため基材との間に中間層を設けても長時間（例えば、３０万枚コピー）使用した場合、表層にクラックが発生し、発生したクラックが原因でフィルミング、ブリードが発生し高品質の画像形成が出来ないことが判った。

基体としてポリアミド系樹脂を使用し、その上に弾性層／酸化ケイ素を設けてトナー離型性を向上させる中間転写ベルトが知られている（例えば、特許文献２参照。）。

特許文献２の中間転写ベルトは、表面層を酸化ケイ素層で構成することで、中間転写ベルトから転写材へのトナー画像の転写率はよいが、表層が硬いため長時間使用した場合、表層にクラックが発生し、発生したクラックが原因でフィルミング、ブリードが発生し高品質の画像形成が出来ないことが判った。

この様な状況から、長時間の使用で、クラックの発生、クリーニングブレードによる表面の劣化がなく、フィルミングの発生がない高転写効率、高耐久性の電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体高耐久性を有する中間転写体を開発することが望まれている。
特開２００６−２５９５８１号公報 特開２００１−３４７５９３号公報

本発明は上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は転写効率、耐久性が高く、フィルミングの発生がない電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体を提供することである。

本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。

１．電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体であって、基材の上に少なくとも、弾性層、樹脂層、無機化合物層をこの順に設け、前記無機化合物層が少なくとも２層から構成されており、下層の無機化合物層の炭素含有率が、隣接する上層の該無機化合物層の炭素含有率よりも高いことを特徴とする中間転写体。

２．前記樹脂層がフッ素樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリレート系樹脂の中から選ばれる樹脂、又はこれらを混合した樹脂で形成されていることを特徴とする前記１に記載の中間転写体。

３．前記樹脂層がフッ素樹脂微粒子を含有することを特徴とする前記１または２に記載の中間転写体。

４．前記弾性層の弾性率が０．１ＭＰａ〜１０ＭＰａ、樹脂層の弾性率が０．１ＧＰａ〜１０ＧＰａ、無機化合物層の弾性率が０．３ＧＰａ〜５０ＧＰａであることを特徴とする前記１〜３の何れか１項に記載の中間転写体。

５．前記無機化合物層が金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物の中から選ばれる少なくとも１種から形成されていることを特徴とする前記１〜４の何れか１項に記載の中間転写体。

６．前記無機化合物層がＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物から形成されていることを特徴とする前記１〜５の何れか１項に記載の中間転写体。

７．前記無機化合物層を構成する無機化合物が酸化珪素または炭素を含有する酸化珪素であることを特徴とする前記１〜５の何れか１項に記載の中間転写体。

８．前記無機化合物層が大気圧プラズマＣＶＤ法によって形成されたことを特徴とする前記１〜７の何れか１項に記載の中間転写体。

我々は、高転写率性を有する無機化合物層を表面層に有する中間転写体を使いこなすために検討した結果次のことが判った。高転写率性を有する無機化合物層を表面層に有する中間転写体を使用し、長時間する時に発生するフィルミング、ブリードは、何れも無機化合物層に発生するクラックによるものであると推定した。

クラックが何故発生するのか更に検討した結果、中間転写ロールの場合は転写後のクリーニングブレードの押圧による応力集中、又中間転写ベルトの場合はクリーニングブレードの押圧による応力集中と引き回しによる圧縮・延ばしによる応力集中に対して無機化合物層の耐久性、及び下層との追従性が低いことが判った。

耐久性を上げるためには、弾性層から無機化合物層にいたる膜厚方向での弾性率をコントロールすること、および無機化合物層の密着性をあげ、下地層との追従性を良好とするため、弾性層および無機化合物層間に樹脂層形成することが効果的であることが判明し本発明に至った次第である。樹脂層は単に表面の無機化合物層にかかる応力を分散させる機能のみでなく、弾性層と比較して無機化合物層との密着性を向上する目的も有している。

転写効率、耐久性が高く、フィルミングの発生がない電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体を提供することが出来た。

本発明の実施の形態を図１〜図６を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

図１は、中間転写体として中間転写ベルトを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。尚、本図はフルカラー画像形成装置の場合を示している。

図中、１はフルカラー画像形成装置を示す。フルカラー画像形成装置１は、複数組の画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、転写部としての無端ベルト状中間転写体形成ユニット７と、記録媒体Ｐを搬送する無端ベルト状の給紙搬送手段２１及び定着手段としてのベルト式定着装置２４とを有する。フルカラー画像形成装置１の本体Ａの上部には、原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。

各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋに形成される異なる色のトナー像の１つとして、イエロー色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｙは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｙ、感光体１Ｙの周囲に配置された帯電手段２Ｙ、露光手段３Ｙ、現像手段４Ｙ、一次転写手段としての一次転写ローラ５Ｙ、クリーニング手段６Ｙを有する。

又、別の異なる色のトナー像の１つとして、マゼンタ色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｍは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｍ、感光体１Ｍの周囲に配置された帯電手段２Ｍ、露光手段３Ｍ、現像手段４Ｍ、一次転写手段としての一次転写ローラ５Ｍ、クリーニング手段６Ｍを有する。

又、更に別の異なる色のトナー像の１つとして、シアン色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｃは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｃ、感光体１Ｃの周囲に配置された帯電手段２Ｃ、露光手段３Ｃ、現像手段４Ｃ、一次転写手段としての一次転写ローラ５Ｃ、クリーニング手段６Ｃを有する。

又、更に他の異なる色のトナー像の１つとして、黒色画像を形成する画像形成ユニット１０Ｋは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｋ、感光体１Ｋの周囲に配置された帯電手段２Ｋ、露光手段３Ｋ、現像手段４Ｋ、一次転写手段としての一次転写ローラ５Ｋ、クリーニング手段６Ｋを有する。

無端ベルト状中間転写体ユニット７は、複数のローラにより巻回され、回動可能に支持された半導電性エンドレスベルト状の第２の像担持体として無端の中間転写ベルト７０を有する。

画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋより形成された各色の画像は、一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋにより、回動する無端の中間転写ベルト７０上に逐次転写されて、合成されたカラー画像が形成される。給紙カセット２０内に収容された記録媒体として用紙等の記録媒体Ｐは、給紙搬送手段２１により給紙され、複数の中間ローラ２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄ、レジストローラ２３を経て、二次転写手段としての二次転写ローラ５Ａに搬送され、記録媒体Ｐ上にカラー画像が一括転写される。

カラー画像が転写された記録媒体Ｐは、熱ローラ定着器２７０が装着された定着装置２４により定着処理され、排紙ローラ２５に挟持されて機外の排紙トレイ２６上に載置される。

一方、二次転写ローラ５Ａにより記録媒体Ｐにカラー画像を転写した後、記録媒体Ｐを曲率分離した無端の中間転写ベルト７０は、クリーニング手段６Ａにより残留トナーが除去される。

画像形成処理中、一次転写ローラ５Ｋは常時、感光体１Ｋに圧接している。他の一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃはカラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃに圧接する。

二次転写ローラ５Ａは、ここを記録媒体Ｐが通過して二次転写が行われる時にのみ、無端ベルト状中間転写体７０に圧接する。

又、装置本体Ａから筐体８を支持レール８２Ｌ、８２Ｒを介して引き出し可能にしてある。筐体８は、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、無端ベルト状中間転写体形成ユニット７とを有する。

画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、垂直方向に縦列配置されている。感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの図示左側方には無端ベルト状中間転写体ユニット７が配置されている。無端ベルト状中間転写体ユニット７は、ローラ７１、７２、７３、７４、７６を巻回して回動可能な無端の中間転写ベルト７０、一次転写ローラ５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋ及びクリーニング手段６Ａとを有している。

筐体８の引き出し操作により、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、無端ベルト状中間転写体ユニット７とは、一体となって、本体Ａから引き出される。

この様に感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの外周面上を帯電、露光し外周面上に潜像を形成した後、現像によりトナー像（顕像）を形成し、無端ベルト状の中間転写体７０上で各色のトナー像を重ね合わせ、一括して記録媒体Ｐに転写し、ベルト式定着装置２４で加圧及び加熱により固定して定着する。尚、本発明で像形成時とは潜像形成、トナー像（顕像）を記録媒体Ｐに転写し最終画像を形成することを含む。

トナー像を記録媒体Ｐに転移させた後の感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋは、各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋに配設されたクリーニング手段６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｋで転写時に感光体に残されたトナーを清掃した後、上記の帯電、露光、現像のサイクルに入り、次の像形成が行われる。

上記カラー画像形成装置では、中間転写体をクリーニングするクリーニング手段６Ａのクリーニング部材として、弾性ブレードを用いる。又、各感光体に脂肪酸金属塩を塗布する手段（１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ）を設けている。尚、脂肪酸金属塩としては、トナーで用いたと同じものを用いることが出来る。

図２は中間転写体として中間転写ロールを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。

１′はフルカラー画像形成装置を示す。フルカラー画像形成装置１′は、現像ユニット２′と、感光体３′と、転写ユニット４′と、定着器５′と、給紙カセット６′とを有している。現像ユニット２′はマゼンタトナーＭを有するマゼンタ現像ユニット２′Ｍと、シアントナーＣを有するシアン現像ユニット２′Ｃと、イエロートナーＹを有するイエロー現像ユニット２′Ｙと、ブラックトナーＫを有するブラック現像ユニット黒２′Ｋとを有し、感光体３′の周囲に配設されている。

感光体３′は矢示の方向に所定の周速度で回転駆動される様に配設されている。感光体３′は回転過程で、感光体３′の周囲に配設された一次帯電器（コロナ放電器）７′により所定の極性・電位に一様に帯電処理され、次いで画像露光手段（不図示）による画像露光８′を受けることにより目的のカラー画像の第１の色成分像、例えばマゼンタ成分像に対応した静電潜像が形成される。次いでその静電潜像がマゼンタ現像ユニット２′Ｍにより第１色であるマゼンタトナーＭにより現像される。

転写ユニット４′は中間転写ローラ４０１′と、中間転写ローラクリーナ４０２と、転写ローラ４０３とを有している。中間転写ローラ４０１′は感光体３′と逆方向（図中の矢印方向）に感光体３′と同じ周速度をもって回転駆動される様になっている。

感光体３′の上に形成担持された上記第１色のマゼンタトナー画像は、感光体３′と中間転写ローラ４０１′とのニップ部Ｎ１（一次転写部）を通過する過程で、電源（不図示）から中間転写ローラ４０１′に印加される一次転写バイアスにより形成される電界により、中間転写ローラ４０１′の外周面に順次中間転写されていく。

中間転写ローラ４０１′に対する第１色のマゼンタトナー画像の転写を終えた感光体３′表面は、感光体３′の周囲に配設されたクリーニング装置（不図示）により清掃される。以下同様に、第２色目のシアントナー画像、第３色目のイエロートナー画像、第４色目のブラックトナー画像が感光体３′に順次に形成され、それらのナトー画像が順次に中間転写ローラ４０１′の上に重畳転写され、中間転写ローラ４０１′の上に第１〜第４色のトナー画像が重ね合わせられ、目的のカラー画像に対応した合成カラートナー画像が形成される。

中間転写ローラ４０１′の上に重畳転写された合成カラートナー画像の、転写材９′への転写（二次転写）は、それまで離間していた転写ローラ４０２′がシフト手段（不図示）により中間転写ローラ４０１′に当接されると共に、給紙カセット６′から転写材９′が給紙ローラ６０１′により１枚分離給送され、レジストローラ６０２′により中間転写ローラ４０１′と転写ローラ４０３′との当接ニップ部Ｎ２（二次転写部）に所定のタイミングで給送され、同時に二次転写バイアスがバイアス電源（不図示）から転写ローラ４０３′に印加される。この二次転写バイアスにより中間転写ローラ４０１′から転写材９′へ合成カラートナー画像が転写される。

合成カラートナー画像が転写された転写材９′は中間転写ローラ４０１′から分離されてガイドで定着器５′へ導入され熱ローラ５０１′と加圧ローラ５０２′により加熱定着される。

転写材９′への合成カラートナー画像が転写終了後、中間転写ローラ４０１′の上の転写残トナーは中間転写ローラ４０１′に対して中間転写ローラクリーナ４０２′がシフト手段（不図示）により当接（図中の矢印方向）されることで除去される。

本発明において中間転写体とは図１に示す無端の中間転写ベルト７０及び図２に示す中間転写ロール４０１′を言い、本発明は図１に示す無端の中間転写ベルト７０及び図２に示す中間転写ロール４０１′に関するものである。

図３は図１に示す中間転写体の中間転写ベルトの拡大概略断面図である。

図中、７０は中間転写体を示す。中間転写体は、基体７０ａの上に順次弾性層７０ｂと、樹脂層７０ｃと、無機化合物層７０ｄとを積層した構成を有している。Ｅは基体７０ａの厚さを示す。厚さＥは、機械的強度、画質、製造コスト等を考慮し、５０μｍ〜１０００μｍが好ましい。Ｆは弾性層の厚さを示す。厚さＦは、５０μｍ〜５００μｍが好ましい。また１００〜３００μが更に好ましい。

弾性層はＪＩＳ Ａ硬度で４０°〜７０°、弾性率は、基材および樹脂層の弾性率にもよるが、強度およびニップ性等を考慮し、引張り弾性率１×１０^５〜１×１０^７Ｐａ（ＪＩＳ Ｋ７１６１）であることが好ましい。

樹脂層の膜厚は、１μｍ〜１００μｍが好ましく、更に２μｍ〜３０μｍが好ましい。樹脂層の弾性率は弾性層よりも高く、０．１ＧＰａ〜５ＧＰａであることが好ましい。樹脂層には弾性率の調整、あるいは後述する無機化合物との密着性向上のために樹脂粒子及び／又は無機微粒子を５質量％〜３００質量％含有してもよい。

更に樹脂層は弾性層と無機化合物層間に少なくとも１層あればよく、弾性率あるいは組成の異なる２層以上の樹脂層を積層した構成をとることもできる。この場合、樹脂層の弾性率は積層後の弾性率を示すが、下層の樹脂層弾性率がそれよりも上層の樹脂層弾性率より低いことが好ましい。

Ｈは無機化合物層の厚さを示す。厚さＨは、耐久性、表面強度、樹脂層との密着性、屈曲耐性、成膜時間等を考慮し、５０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましい。より好ましくは２００ｎｍ〜５００ｎｍである。

無機化合物層の弾性率は樹脂層よりも高く、１０ＧＰａ〜５０ＧＰａであることが好ましく、又、硬度は、摩耗、傷の発生等を考慮し、０．５ＧＰａ〜１０ＧＰａ、好ましくは１ＧＰａ〜５ＧＰａであることが好ましい。

ここで樹脂層、無機化合物層の弾性率および無機化合物層の硬度とは、基体Ｅに対してそれぞれ直接弾性層、樹脂層、無機化合物層を積層時と同じ条件で形成し、ナノインデンテーション法によって測定した値を示す。

ナノインデンテーション法によるヤング率の測定方法は、微小なダイヤモンド圧子を薄膜に押し込みながら荷重と押し込み深さ（変位量）の関係を測定し、測定値から塑性変形硬さを算出する方法である。

測定条件
測定機：ＮＡＮＯ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ ＸＰ／ＤＣＭ（ＭＴＳ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）
測定圧子：先端形状が正三角形のダイヤモンドＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子
測定環境：２０℃、６０％ＲＨ
測定試料：５ｃｍ×５ｃｍの大きさに中間転写体を切断して測定試料を作製
最大荷重設定：２５μＮ
押し込み速度：最大荷重２５μＮに５ｓｅｃで達する速度で、時間に比例して加重を印加する
尚、測定は各資料ともランダムに１０点測定し、その平均値をナノインデンテーション法により測定した弾性率、硬度とする。

又、無機化合物層の膜厚は、「ＭＸＰ２１」（マックサイエンス社製）を用いて測定して得られた値である。具体的な膜厚の測定は、以下の方法で行うことができる。Ｘ線源のターゲットには銅を用い、４２ｋＶ、５００ｍＡで作動させる。インシデントモノクロメータには多層膜パラボラミラーを用いる。入射スリットは０．０５ｍｍ×５ｍｍ、受光スリットは０．０３ｍｍ×２０ｍｍを用いる。２θ／θスキャン方式で０から５°をステップ幅０．００５°、１ステップ１０秒のＦＴ法にて測定を行う。得られた反射率曲線に対し、マックサイエンス社製Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｐｒｏｇｒａｍ Ｖｅｒ．１を用いてカーブフィッティングを行い、実測値とフィッティングカーブの残差平方和が最小になるように各パラメータを求める。各パラメータから積層膜の膜厚を求める。

無機化合物層は少なくとも２層で形成してもよい。２層の場合、上層の厚さは、１０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましい。下層の厚さは、５０ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましい。この様にすることで、更なる耐久効果が得られる。

無機化合物層が２層から構成されている場合、弾性率は基材上に下層、上層を形成した後、前述したナノインデンテーション法により測定した値を無機化合物層の弾性率とするが、下層の弾性率は上層の弾性率よりも小さいことが好ましい。

下層の炭素含有率（炭素原子数濃度）は０．５原子数濃度％〜 １０原子数濃度％、最上層の炭素含有率（炭素原子数濃度）は０．１原子数濃度％以下であることが好ましい。

本発明でいう炭素含有率を示す原子数濃度とは、下記のＸＰＳ法によって算出されるもので、以下に定義される。

原子数濃度％（ａｔｏｍｉｃ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）＝炭素原子の個数／全原子の個数×１００
ＸＰＳ表面分析装置は、本発明では、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いた。具体的には、Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定した。エネルギー分解能は、清浄なＡｇ３ｄ５／２ピークの半値幅で規定したとき、１．５ｅＶ〜１．７ｅＶとなるように設定した。

測定としては、先ず、結合エネルギー０ｅＶ〜１１００ｅＶの範囲を、データ取り込み間隔１．０ｅＶで測定し、いかなる元素が検出されるかを求めた。

次に、検出された、エッチングイオン種を除く全ての元素について、データの取り込み間隔を０．２ｅＶとして、その最大強度を与える光電子ピークについてナロースキャンをおこない、各元素のスペクトルを測定した。

得られたスペクトルは、測定装置、あるいは、コンピュータの違いによる含有率算出結果の違いを生じせしめなくするために、ＶＡＭＡＳ−ＳＣＡ−ＪＡＰＡＮ製のＣＯＭＭＯＮ ＤＡＴＡ ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ ＳＹＳＴＥＭ （Ｖｅｒ．２．３以降が好ましい）上に転送した後、同ソフトで処理をおこない、各分析ターゲットの元素（炭素、酸素、ケイ素、チタン等）の含有率の値を原子数濃度（ａｔｏｍｉｃ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ：ａｔ％）として求めた。

定量処理をおこなう前に、各元素についてＣｏｕｎｔ Ｓｃａｌｅのキャリブレーションをおこない、５ポイントのスムージング処理をおこなった。定量処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強度（ｃｐｓ＊ｅＶ）を用いた。バックグラウンド処理には、Ｓｈｉｒｌｅｙによる方法を用いた。このＳｈｉｒｌｅｙ法については、Ｄ．Ａ．Ｓｈｉｒｌｅｙ，Ｐｈｙｓ．Ｒｅｖ．，Ｂ５，４７０９（１９７２）を参考にすることができる。

次に本発明の中間転写体を構成している材料と製造方法に付き説明する。

（中間転写ベルトの基体）
本発明に用いられる基体としては、樹脂に導電剤を分散させてなるシームレスのベルトを用いることが好ましい。

〈樹脂基体〉
樹脂基体は、クリーニング部材であるクリーニングブレードから中間転写ベルトに加わる負荷で中間転写体が変形することを回避し、転写部への影響を低減させる剛性を有するものである。樹脂基体は、ナノインデンテーション法により測定したヤング率が５．０ＧＰａ〜１５．０ＧＰａの範囲内の材料を用いて形成することが好ましく、８．０ＧＰａ〜１５．０ＧＰａの範囲内の材料がより好ましい。

この様な性能を発現する材料として、例えば、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリフッ化ビニリデン、ポリイミド、ポリエーテル、エーテルケトン、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体、ポリアミド及びポリフェニレンサルファイド等のいわゆるエンジニアリングプラスチック材料を用いることが出来、等の樹脂材料が挙げられ、これらの中ではポリイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイドが好ましい。これらの樹脂材料のナノインデンテーション法により測定したヤング率は５．０ＧＰａを超えるものであり、厚み５０〜２００μｍで、樹脂基体としての機械特性を満足する。更に、前述の樹脂材料と下記の弾性材料とをブレンドした材料を使用することも可能である。前記弾性材料としては、例えば、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、ＮＢＲ、クロロピレンゴム、ＥＰＤＭ、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

この中でも、ポリフェニレンサルファイド或いはポリイミド樹脂を含有することが好ましい。ポリイミド樹脂は、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸の加熱により形成される。又、ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物や、その誘導体とジアミンのほぼ等モル混合物を有機極性溶媒に溶解させ、溶液状態で反応させることにより得られる。

尚、本発明では、樹脂基体にポリイミド系樹脂を使用する場合、樹脂基体におけるポリイミド系樹脂の含有率が５１％以上であることが好ましい。

本発明に係る樹脂基体は、樹脂材料に導電性物質を添加して、電気抵抗値（体積抵抗率）を１０^５Ω・ｃｍ〜１０^１１Ω・ｃｍに調整したシームレスベルトやドラムが好ましい。

樹脂材料に添加する導電性物質としては、カーボンブラックを使用することが出来る。カーボンブラックとしては、中性又は酸性カーボンブラックを使用することが出来る。導電性物質の使用量は、使用する導電性物質の種類によっても異なるが中間転写体の体積抵抗値及び表面抵抗値が所定の範囲になるように添加すればよく、通常、樹脂材料１００質量部に対して１０質量部〜２０質量部、好ましくは１０質量部〜１６質量部である。

本発明に用いられる基体は、従来公知の一般的な方法により作製することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイを使用したインフレーション法により筒状に成形した後、輪切りにすることで環状の無端ベルト状の基体を作製することが出来る。

（弾性層）
弾性層としては、特に限定されるものではなく、任意のゴム材料、熱可塑性エラストマーを用いることができる。例えばスチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ハイスチレンゴム、ポリブタジエンゴム（ＢＲ）、ポリイソプレンゴム（ＩＩＲ）、エチレン−プロピレン共重合体、ニトリルブタジエンゴム、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ブチルゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ウレタンゴム、アクリルゴム（ＡＣＭ、ＡＮＭ）、エピクロロヒドリンゴム及びノルボルネンゴム等から選ぶことができる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

一方、熱可塑性エラストマーとしては、ポリエステル系、ポリウレタン系、スチレン− ブタジエントリブロック系、ポリオレフィン系などを用いることができる。

又、弾性層は基体に使用する樹脂材料と弾性材料とをブレンドした材料を用いて形成した層でもよい。

例えばシリコーンゴムの素材としては、ビニル基を含有したポリオルガノシロキサン組成物が用いられる。シリコーンゴムとしては、付加反応触媒により硬化可能な２液性の液状シリコーンゴムや過酸化物からなる加硫剤により加硫（硬化）可能な熱加硫型シリコーンゴムが用いられる。又、弾性体層には、シームレスベルトの使用目的、設計目的などに応じて、充填剤、増量充填剤、加硫剤、着色剤、導電性物質、耐熱剤、顔料等の種々の配合剤を添加することができる。また、配合剤の添加量などにより合成樹脂の可塑度は変化するが、硬化前の剛性樹脂の可塑度としては、１２０以下のものが好適に用いられる。

弾性層は、弾性材料に導電性物質を分散させて、電気抵抗値（体積抵抗率）を１０^５〜１０^１１Ω・ｃｍに調製することができる。

弾性層に添加する導電性物質としては、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化スズ、炭化ケイ素等を使用することができる。カーボンブラックとしては、中性又は酸性カーボンブラックを使用することができる。導電性物質の使用量は、使用する導電性物質の種類によっても異なるが弾性層の体積抵抗値及び表面抵抗値が所定の範囲になるように添加すれば良く、通常、弾性材料１００質量部に対して１０〜２０質量部、好ましくは１０〜１６質量部である。

弾性体層の形成方法
弾性体層は、公知の塗布方法、例えば特開２００６−２５５６１５号公報に記載の浸漬塗布、特開平１０−１０４８５５号公報に記載の円形量規制型塗布、特開２００７−１３６４２３号公報に記載の環状塗布方法、或いは浸漬塗布と円形量規制型塗布を組み合わせて塗膜を設けて作製することが出来るが、これに限定されるものではない。

具体的には、無端ベルト状の樹脂基体の上に弾性体層を形成する方法としては、例えば弾性層用の塗布液が収容されている槽中に、円筒の芯材に環状の無端ベルト状の樹脂基体をセットし、垂直に立てた状態で入れて浸漬させる。この時、浸漬を数回繰り返して所定の厚さの塗膜を形成させた後、塗布液中から引上げる。次に、乾燥し溶剤を除去した後、加熱処理（例えば６０〜１５０℃×６０分間）を行い、弾性層を作製する。

金属円筒状の基体の上に弾性体層を形成する方法も無端ベルト状の樹脂基体の場合と同様に、ゴム、エラストマー、樹脂等を金属ロール上に溶融成形、注入成形、浸漬塗工あるいはスプレー塗工等により成形することによって設けることが可能である。

（樹脂層）
樹脂層としては、上記弾性層よりも高い弾性率を有する樹脂であれば特に限定はなく、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルコール可溶性ナイロン、ポリカーボネート、ポリアリレート、フェノール、ポリオキシメチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリホスファゼン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンエーテル、ポリパラバン酸、ポリアリルフェノール、フッ素、ポリ尿素、アイオノマー、シリコーン等の熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂、およびこれら２種以上からなる混合物または共重合体等を挙げることが出来る。特にフッ素樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等が好ましい。

フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキビニルエーテル（ＰＦＡ）、フッ化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ビニリデンフロライドの共重合体（ＴＨＶ）、ポリビニリデンフロライド（ＰＶＤＦ）などを使用することができる。上記フッ素樹脂は、１種を単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。

ウレタン樹脂としては塗料の分野において公知のポリウレタン樹脂が使用可能である。特に水系ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリウレタン樹脂を構成するポリオール化合物としては、ポリエステル系ポリオール、ポリエーテル系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール（ポリジエン系ポリオールを水素添加したポリオールを含む。）、ポリブタジエン系ポリオール、ポリイソプレン系ポリオール、アクリル樹脂系ポリオールなどがある。

ウレタン樹脂の硬化剤としては、ウレタン樹脂の原料として一般的に用いられているイソシアネート化合物を用いることができる。この場合、イソシアネート化合物とは、分子中に２個以上のイソシアネート基を持つ化合物であり、このようなイソシアネート化合物として具体的には、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、シクロヘキサンジイソシアネート、リジンエステルジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート（ＬＤＩ）、ウンデカントリイソシアネート、ヘキサメチレントリイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、および上記イソシアネート化合物の重合体、誘導体、変性体、水素添加体等が挙げられる。

シリコーン樹脂としては、２官能性（Ｄ単位）、３官能性（Ｔ単位）のシロキサン単位を１０ｍｏｌ％以上、好ましくは主骨格として構成している公知の樹脂で、フェニル系シリコーン樹脂、メチル系シリコーン樹脂、メチルフェニル系シリコーン樹脂などが用いられるが、これらに限定されるものではない。さらに硬化機構も加熱硬化型，室温硬化型に限定されるものではない。さらにシリコーンゴムからなる層を用いることもできる。シリコーンゴム層としては、公知のメチルシリコーンゴム、メチルフェニルシリコーンゴム、メチルビニルシリコーンゴムなどが用いられるが、これらに限定されるものではない。さらにシリコーンゴムと添加物による過酸化反応、縮合反応、付加反応物を行うことによって、架橋構造を持たせても良い。さらにシリカなどの添加剤によって補強することも可能である。

アクリル系樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させて形成される。特にバインダーとしてアクリル系の活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とすることが好ましい。活性エネルギー線硬化アクリレート系樹脂としては、例えば、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアクリレート系樹脂等が挙げられる。

アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のものを用いることができる。例えば、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部と、コロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が用いられる。

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号公報に記載のものを用いることができる。

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−１０５７３８号公報に記載のものを用いることができる。

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。

これらの中で、バインダーの主成分として、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレートから選択されるアクリル系の活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。

活性光線硬化樹脂層の塗布組成物は、固形分濃度は１０質量％〜１００質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５質量％〜８０質量％含有する溶媒が用いられる。

樹脂層には、必要に応じて樹脂または無機の微粒子を含有させることができる。これら微粒子には各種の材料を使用することができる。たとえばフッ素ゴム、フッ素エラストマー、および、ＰＴＦＥ、ＰＶＤＦ、ＥＴＦＥ、ＰＦＡ等のフッ素樹脂微粒子、シリコーン樹脂粒子、ＰＥ、ＰＰ、ＰＳ、アクリル樹脂、ナイロン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂微粒子、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化鉄などの無機粉体などであり、これらを単独または複数混合して使用することもできる。

微粒子の形状や粒径も特に限定されるものではなく球状、繊維状、板状、不定型などどのような形状でも使用できる。微粒子の粒径は制限はないものの分散性や諸特性を考慮すると０．０１μｍ〜３０μｍの範囲が望ましい。また、諸特性に問題を与えない範囲で分散剤を使用することもできる。

樹脂層には導電剤を含んでいても良い。導電剤としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト等の導電性炭素系物質：アルミニウム、銅合金等の金属または合金：更には酸化錫、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウム、チタン酸カリウム、酸化アンチモン−酸化錫複合酸化物（ＡＴＯ）、酸化インジウム−酸化錫複合酸化物（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物等の少なくとも１種の微粉末が用いられる。

これらの樹脂層形成材料の中で、後述する無機化合物層との密着性および弾性率の面からフッ素樹脂またはウレタン樹脂またはシリコーン樹脂あるいはこれらの混合物が好ましい樹脂として挙げられる。好ましくは、少なくともフッ素樹脂粒子を含んでなるウレタン系樹脂塗料組成物であり、樹脂層中に含まれるフッ素樹脂の含有量は特に限定されないが、ウレタン樹脂１００質量部に対して３０質量部〜７０質量部の範囲内にあることが好ましく、４０質量部〜６０質量部の範囲内にあることがより好ましい。また樹脂層中には、フッ素樹脂以外からなる他の樹脂成分も含まれてもよい。

フッ素樹脂としては、先にあげたポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、クロロトリフルオロエチレン−エチレン共重合（ＥＣＴＦＥ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）、フルオロオレフィン−ビニルエーテル共重合体、フッ化ビニリデン−四フッ化エチレン共重合体及びフッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体などの樹脂を挙げることができる。これらを単独、又は二種以上組み合わせて用いてもよい。

樹脂層の形成方法
無端ベルト状の基体の上に形成された弾性体層の上に樹脂層を形成する方法としては、弾性体層の形成方法と同じ方法で形成することが可能である。例えば樹脂層用の塗布液が収容されている槽中に、円筒の芯材に弾性層までが形成された環状の無端ベルト状の樹脂基体をセットし、垂直に立てた状態で入れて浸漬させる。この時、浸漬を数回繰り返して所定の厚さの塗膜を形成させた後、塗布液中から引上げる。次に、乾燥し溶剤を除去した後、加熱処理（例えば６０℃×６０分間〜１５０℃×６０分間）を行い、樹脂層を作製する。

金属円筒状の基体の上に樹脂層を形成する方法も無端ベルト状の樹脂基体の場合と同じ方法で樹脂層を形成することが可能である。

（無機化合物層）
無機化合物層はＩｎ、Ｓｎ、Ｃｄ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｗ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｍｇ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物から形成されていることが好ましく、特にＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化チタン、酸化窒化チタン、窒化チタン、酸化アルミニウム等が挙げられる。更に酸化珪素または炭素を含有する酸化珪素が最も好ましい。

無機化合物層の形成方法は特に限定はなく、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法（物理蒸着法）、ＣＶＤ法（化学蒸着法）、プラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマＣＶＤ法等が挙げられる。これらの形成方法の中で樹脂層との密着性を考慮し大気圧プラズマＣＶＤ法が特に好ましい。

次に、ベルト状の本発明の中間転写体に係る無機化合物層を大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する装置について次に説明する。本発明でいう大気圧もしくはその近傍の圧力というのは、２０ｋＰａ〜２００ｋＰａの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得るためには９０ｋＰａ〜１１０ｋＰａ程度であり、特に９３ｋＰａ〜１０４ｋＰａが好ましい。

図４は、ベルト状の中間転写体である中間転写ベルトの無機化合物層を大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する製造装置の模式図である。

図中、９は製造装置を示す。製造装置９は大気圧プラズマＣＶＤ装置９ａと材料供給装置９ｂとを有している。大気圧プラズマＣＶＤ装置９ａは、ロール電極９ａ１と、ロール電極９ａ１の外周に沿って配列された少なくとも１式の固定電極９ａ２と、混合ガス供給装置９ａ３と、放電容器９ａ４と、高周波電源９ａ５と、排気管９ａ６とを有している。９ａ７は固定電極９ａ２とロール電極９ａ１との対向領域で、且つ放電が行われる放電空間を示す。図示しないが、安定な放電を行うために固定電極９ａ２、ロール電極９ａ１のうち少なくとも一方の放電領域に対する表面には誘電体を配置することが必要であり、両方に配置することがより好ましい。誘電体は酸化アルミニウムや、酸化チタンなどのセラミックを適宜選定することができる。尚、固定電極９ａ２のロール電極９ａ１と対向する面はロール電極９ａ１との距離を一定にするためロール電極９ａ１の表面の曲率と同じにすることが好ましい。

混合ガス供給装置９ａ３からは、少なくとも原料ガスと放電ガスとの混合ガスＧを生成して放電容器９ａ４に混合ガスＧが供給される。放電容器９ａ４により放電空間９ａ８等に空気の流入することが軽減されている。

高周波電源９ａ５は固定電極９ａ２に接続され、排気管９ａ７からは使用済みの排ガスＧ′が排気される。

混合ガス供給装置９ａ３からは無機化合物層の膜を形成する原料ガスと、窒素ガス或いはアルゴンガス等の希ガスを混合した混合ガスが放電容器９ａ４に供給される。又、酸化還元反応による反応促進のための酸素ガス又は水素ガスを混合することがより好ましい。

高周波電源に電圧を印加することにより、固定電極９ａ２とロール電極９ａ１との電極間に混合ガスＧがプラズマ化（励起）され、混合ガスＧに含まれる原料ガスに応じた膜（無機化合物層７０ｄ（図３参照））が材料Ｆの樹脂層の上に堆積され、図３に示すベルト状の中間転写体である中間転写ベルト７０が製造される。この様にして形成される無機化合物層は、炭素含有率が、最下層から最上層にかけて順次減少した複数層を形成することも可能である。

利用可能な高周波電源９ａ５としては特に限定はなく、例えばパール工業製ＣＦ−５０００−１３Ｍ等を使用することができる。

高周波電源９ａ５に供給する電力は、固定電極９ａ２に１Ｗ／ｃｍ^２以上の電力（出力密度）を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、薄膜を形成する。固定電極９ａ２に供給する電力の上限値としては、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ^２、より好ましくは２０Ｗ／ｃｍ^２である。下限値は、好ましくは１．２Ｗ／ｃｍ^２である。尚、放電面積（ｃｍ^２）は、電極において放電が起こる範囲の面積のことを指す。

ここで高周波電界の波形としては、特に限定されない。連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モード等があり、そのどちらを採用してもよいが、連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。

尚、複数の固定電極９ａ２の内、ロール電極９ａ１の回転方向下流側に位置する複数の固定電極９ａ２と混合ガス供給装置９ａ３で無機化合物層を積み重ねるように堆積し、無機化合物層の厚さを調整するようにしてもよい。

又、図示しないが、混合ガス供給装置９ａ３からの混合ガスを直接放電空間９ａ８に供給するようにし、ロール電極９ａ１の回転方向最下流側に位置する固定電極９ａ２と混合ガス供給装置９ａ３で無機化合物層を堆積し、より上流に位置する他の固定電極９ａ２と混合ガス供給装置９ａ３で、例えば無機化合物層と樹脂層との接着性を向上させる接着層等、他の層を形成してもよい。

又、無機化合物層７０ｄ（図３参照）と樹脂層７０ｃ（図３参照）との接着性を向上させるために、無機化合物層７０ｄ（図２参照）を形成する固定電極９ａ２と混合ガス供給装置９ａ３の上流に、アルゴンや酸素などのガスを供給するガス供給装置と固定電極を設けてプラズマ処理を行い、樹脂層７０ｃ（図３参照）の表面を活性化させるようにしてもよい。

材料供給装置９ｂは、従動ローラ９ｂ１と、従動ローラ９ｂ１を牽引（図中の矢印方向）する張力付与手段９ｂ２とを有している。無端のベルト状の材料Ｆはロール電極９ａ１と従動ローラ９ｂ１とで保持され、張力付与手段９ｂ２により所定の張力が掛けられ、ロール電極９ａ１の回動（図中の矢印方向）に伴い従動ローラ９ｂ１を介して回転するように張架された状態になっている。張力付与手段９ｂ２は材料Ｆの掛け替え時等は張力の付与を解除し、材料Ｆの掛け替え等を容易にしている。本図に示す材料Ｆは、図３に示す中間転写ベルト７０の樹脂層迄が形成（基体７０ａ／弾性層７０ｂ／樹脂層７０ｃ）された状態の材料を示す。

図４に示す大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する製造装置で使用する放電ガスとは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等及びそれらの混合物などが挙げられる。これらの中でも窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられ、特に窒素がコストも安く好ましい。

又、無機層を形成するための原料ガスとしては、常温で気体又は液体の有機金属化合物、特にアルキル金属化合物や金属アルコキシド化合物、有機金属錯体化合物が用いられる。これら原料における相状態は常温常圧において必ずしも気相である必要はなく、混合ガス供給装置で加熱或いは減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相でも使用可能である。

原料ガスとしては、放電空間でプラズマ状態となり、薄膜を形成する成分を含有するものであり、有機金属化合物、有機化合物、無機化合物等である。

例えば、ケイ素化合物として、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｔ−ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラキスジメチルアミノシラン、テトライソシアナートシラン、テトラメチルジシラザン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、トリエトキシフルオロシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビス（トリメチルシリル）アセチレン、１，４−ビストリメチルシリル−１，３−ブタジイン、ジ−ｔ−ブチルシラン、１，３−ジシラブタン、ビス（トリメチルシリル）メタン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン、プロパルギルトリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシリルアセチレン、１−（トリメチルシリル）−１−プロピン、トリス（トリメチルシリル）メタン、トリス（トリメチルシリル）シラン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、Ｍシリケート５１などが挙げられるがこれらに限定されない。

チタン化合物としては、テトラジメチルアミノチタンなどの有機金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどが挙げられるがこれらに限定されない。

アルミニウム化合物としては、アルミニウムｎ−ブトキシド、アルミニウムｓ−ブトキシド、アルミニウムｔ−ブトキシド、アルミニウムジイソプロポキシドエチルアセトアセテート、アルミニウムエトキシド、アルミニウムヘキサフルオロペンタンジオネート、アルミニウムイソプロポキシド、４−ペンタンジオネート、ジメチルアルミニウムクロライドなどが挙げられるがこれらに限定されない。

又、これらの原料は、単独で用いてもよいが、２種以上の成分を混合して使用するようにしてもよい。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例１
（中間転写ベルトの作製）
（無端ベルト状基体１の準備）
厚さ１００μｍの導電性物質を含有するポリイミド（ＰＩ）からなるシームレスレスベルトを準備し無端ベルト状基体１とした。

（無端ベルト状基体２の準備）
厚さ１００μｍの導電性物質を含有するポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）からなるシームレスベルトを準備し無端ベルト状基体２とした。

〈中間転写ベルト１の作製〉
（弾性層の作製）
準備した無端ベルト状基体１の外周に、クロロプレンゴムからなる厚さ１５０μｍの弾性層をディッピング塗布法により設け弾性層を形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．１−ａとした。

（樹脂層の形成）
準備した無端ベルト状基体Ｎｏ．１−ａに芯材をはめ込み、フッ素系コート剤（大日本インキ工業社製「ＴＲ３０４」をＭＥＫ／酢酸ブチル混合溶剤で希釈し、ディッピング塗工した。塗工後１３０℃で１時間加熱乾燥させ厚さ５μｍの樹脂層を形成し樹脂層迄を形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．１−ｂとした。

（無機化合物層の形成）
準備した樹脂層迄を形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．１−ｂの樹脂層の上に、図４に示す大気圧プラズマＣＶＤによる製造装置を使用し以下に示す条件で厚さ１５０ｎｍの１層の無機化合物（酸化珪素）層を形成し中間転写ベルト１を作製し試料Ｎｏ．１０１とした。尚、無機化合物（酸化ケイ素）層の膜厚は、「ＭＸＰ２１」（マックサイエンス社製）を用いて明細書本文中に記載の方法で測定して得られた値である。

無機化合物（酸化ケイ素）層の炭素含有率（炭素原子数濃度）は０．１原子数濃度％であった。

炭素含有率（炭素原子数濃度）は、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００ＲＸＰＳ表面分析装置を使用して測定した値を示す。

無機化合物（酸化ケイ素）層の弾性率は、５ＧＰａであった。弾性率は、明細書本文中に記載のナノインデーション法により測定した値を示す。

大気圧プラズマＣＶＤ条件
無機化合物層の形成材料としては、酸化ケイ素を用いた。この時のプラズマ放電処理装置の各電極を被覆する誘電体は対向する両電極共に、セラミック溶射加工によりアルミナを被覆したものを使用した。又誘電体を被覆した金属母材は、冷却水による冷却機能を有するステンレス製ジャケット仕様であり、放電中は冷却水による電極温度コントロールを行いながら実施した。

各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、予め原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。

放電ガス：Ａｒガス ９８．６体積％
反応ガス：Ｏ_２ガスを全ガスに対し１．０体積％
原料ガス：テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を全ガスに対し０．４体積％
高周波電源電力（パール工業製高周波電源（１３．５６ＭＨｚ））：１０Ｗ／ｃｍ^２
（比較の中間転写ベルト１の作製）
試料Ｎｏ．１０１において樹脂層を形成しなかった以外は、全て同じ方法で比較の中間転写ベルト１を作製し比較試料Ｎｏ．１０２とした。

〈中間転写ベルト２の作製〉
（弾性層の作製）
準備した無端ベルト状基体２の外周に、ポリウレタン（大日本精化製、ＭＥ３２１８ＬＰ商品名）１００部に導電性カーボン１０部を加え、厚さ１５０μｍの弾性層をディッピング塗布法により設け、弾性層迄を形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．２−ａとした。

（樹脂層の形成）
テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレンおよびビニリデンフロライドの共重合体の溶液を、準備した無端ベルト状基体Ｎｏ．２−ａの弾性層上に、乾燥、アニール後の厚みが、５μｍになるような条件で、スプレーコートした。その後、乾燥および１５０℃でのアニールを行い、樹脂層までを形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．２−ｂとした。

（無機化合物層の形成）
準備した樹脂層迄を形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．２−ｂの樹脂層の上に、試料Ｎｏ．１０１と同じ方法で、厚さ１５０ｎｍの１層の無機化合物（酸化珪素）層を形成し中間転写ベルト２を作製し試料Ｎｏ．１０３とした。尚、無機化合物（酸化ケイ素）層の膜厚は、試料Ｎｏ．１０１と同じ方法で測定して得られた値である。

（比較の中間転写ベルト２の作製）
試料Ｎｏ．１０３において樹脂層を形成しなかった以外は全て同じ方法で比較の中間転写ベルト２を作製し、比較試料Ｎｏ．１０４とした。

評価
作製した試料Ｎｏ．１０１〜１０４について、転写効率、耐久性、フィルミングを以下に示す方法で測定し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表１に示す。

転写効率の測定
プリンタ（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製のｍａｇｉｃｏｌｏｒ５４４０ＤＬ）を用い、内部の中間転写ベルトを外し、上記作製した試料Ｎｏ．１０１〜１０４をそれぞれ装着した。このプリンタに平均粒径が６．５μｍの重合トナーをセットし、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラック各色を最大トナー濃度でコニカミノルタＣＦペーパー（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）へ、プリントを行った。プリント紙上へ転写されたトナー付着量及びベルト上の残留トナー量を光学（反射）濃度測定し、測定結果を予め求めた光学濃度とトナー量との関係式に従ってトナー量へ換算し、下式によりトナー転写率（％）を求めた。

転写率（％）＝（テストプリント紙上へ転写されたトナー量／（テストプリント紙上へ転写されたトナー量＋ベルト上の残留トナー量））×１００
評価ランク
◎：転写率が９８％以上であった
○：転写率が９５％以上、９８％未満であった
△：転写率が９０％以上、９５％未満であった
×：転写率が９０％未満であった
耐久性の測定
転写効率測定に使用したプリンタを用いて、コニカミノルタＣＦペーパー（Ａ４）に各トナー色とも５％イメージ率のテストパターンで、２３℃、５０％ＲＨの環境下で３０万枚プリントを行った後、１枚目と３０万枚目のプリントにおける画像品質の有無を目視観察した。

評価ランク
◎：１枚目及び３０万枚目のプリント共に画像に変化なく、問題となる画像の故障も認められない
○：１枚目のプリントでは問題となる画像の故障が認められず、３０万枚目のプリントでわずかに変化が認められるが、実用上許容される品質である
△：１枚目のプリントでは問題となる画像の故障が認められず、３０万枚目のプリントでは変化が認められるが、実用上許容される品質である
×：１枚目のプリントでは問題となる画像の故障が認められず、３０万枚目のプリントで明らかな故障が認められ、実用上問題となる品質である
××：１枚目のプリントでは問題となる画像の故障が認められず、３０万枚目のプリントで強い画像の故障が認められ、実用に耐えない品質である
フィルミングの測定
耐久性を測定の際、３０万枚プリント終了後に、中間転写ベルトを取り出し、その表面のフィルミング状態を目視で観察し評価した。

フィルミングの評価ランク
○：中間転写ベルトに全くフィルミングが見られず
△：中間転写ベルトに薄くフィルミングが見られるが、実用上問題ないレベル
×：中間転写ベルトの一周にフィルミングが見られ、実用上問題となるレベル

基材の上に、弾性層、樹脂層、無機化合物層をこの順に設けて作製した試料Ｎｏ．１０１、１０３は転写効率、耐久性、フィルミング共に優れた結果を示した。基材の上に、樹脂層、無機化合物層をこの順に設けて作製した試料Ｎｏ．１０２、１０４は転写効率、耐久性、フィルミング、ブリード共に劣る結果を示した。本発明の有効性が確認された。

実施例２
（中間転写ベルトの作製）
（無端ベルト状基体の準備）
実施例１で準備した無端ベルト状基体１と同じ無端ベルト状基体を準備した。

（弾性層の形成）
実施例１の弾性層１と同じ弾性層を同じ方法で準備した無端ベルト状基体の上に形成した。

（樹脂層の形成）
準備した弾性層を形成した無端ベルト状基体の弾性層の上に、表２に示す樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．１〜４を使用し下記に示す塗布方法で塗布し、無端ベルト状基体の弾性層の上に樹脂層を形成し無端ベルト状基体Ｎｏ．２−Ａ〜２−Ｄとした。弾性率は実施例１と同じ方法で測定した値を示す。

樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．１の調製
ウレタン樹脂（ニッポラン３１２５（日本ポリウレタン社製）） ７５．０質量部
トレレンジイソシアネート ０．４２質量部
トルエン ２３．０質量部
上記組成物を撹拌しながら溶解し樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．１とした。調整した樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．１をディッピング塗工した。塗工後１３０℃で１時間加熱乾燥させ厚さ５μの樹脂層を形成し無端ベルト状基体Ｎｏ．２−ａとした。

樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．２の調製
重量平均分子量５８，０００の末端シラノールポリジメチルシロキサンＰＳ３４４．５（チッソ（株））１００ｇ、エチルトリアセトキシシランＥ６３４５（チッソ（株））１．６ｇをｎ−ヘプタンに溶解し、１０時間混合した後、さらにｎ−ヘプタンにより濃度を７質量％に希釈し樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．２とした。樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．２を乾燥膜厚が５μｍになるようにワイヤーバーを使用して塗布し、樹脂層を形成し無端ベルト状基体Ｎｏ．２−ｂとした。

樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．３の調製
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部
ジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ光開始剤） ２質量部
メチルエチルケトン ５０質量部
酢酸エチル ５０質量部
イソプロピルアルコール ５０質量部
上記組成物を撹拌しながら溶解し樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．３とした。樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．３を乾燥膜厚が５μｍとなるようにワイヤーバーで塗布し、８０℃にて５分間乾燥した。次に８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を１２ｃｍの距離から４秒間照射して硬化させ、樹脂層を形成し無端ベルト状基体Ｎｏ．２−ｃとした。

樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．４の調製
ポリエステルポリウレタンプレポリマー（溶媒含む） １００部（固型分４０質量％）
硬化剤（溶媒含む） ５０部（固型分６０質量％）
ＰＴＦＥ粒子（粒径０．３μｍ） １５０部
トルエン（溶媒） ８０部
上記組成物を撹拌しながら混合し樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．４とした。樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．４をスプレー塗布して、厚み５μｍの樹脂層を形成し、その後、１００℃で１時間加熱することにより残存溶剤を除去し樹脂層を形成し無端ベルト状基体Ｎｏ．２−ｄとした。この樹脂層の全構成成分中に占めるＰＴＦＥ粒子の割合は樹脂層形成用塗布液の全固型分量に対し約５０質量％であった。

（無機化合物層の形成）
準備した樹脂層迄を形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．２−Ａ〜２−Ｄの樹脂層の上に、図４に示す大気圧プラズマＣＶＤによる製造装置を使用し、実施例１の試料Ｎｏ．１０１と同じ方法、同じ条件で実施例１の試料Ｎｏ．１０１と同じ１層の無機化合物（酸化ケイ素）層を形成し中間転写ベルトを作製し試料Ｎｏ．２０１〜２０４とした。

評価
作製した試料Ｎｏ．２０１〜２０４について、転写効率、耐久性、フィルミングを実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクに従って評価した結果を表３に示す。

基材の上に、弾性層、樹脂層、無機化合物層をこの順に設ける際、樹脂層を形成する材料として、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂とフッソ樹脂の混合物を用いて作製した試料Ｎｏ．２０１〜２０４は転写効率、耐久性、フィルミング、ブリード共に優れた結果を示した。本発明の有効性が確認された。

実施例３
（中間転写ベルトの作製）
（無端ベルト状基体の準備）
実施例１で準備した無端ベルト状基体１と同じ無端ベルト状基体を準備した。

（弾性層の形成）
実施例１の弾性層１と同じ弾性層を同じ方法で準備した無端ベルト状基体の上に形成した。

（樹脂層の形成）
準備した弾性層を形成した無端ベルト状基体を使用し、実施例１の樹脂層迄を形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．１−ｂと同じ樹脂層を同じ方法で弾性層の上に形成した。

（無機化合物層の形成）
準備した樹脂層迄を形成した無端ベルト状基体の樹脂層の上に、図４に示す大気圧プラズマＣＶＤによる製造装置を使用し以下に示す条件で厚さ１５０ｎｍの１層の表４に示す無機化合物層を形成し中間転写ベルトを作製し試料Ｎｏ．３０１〜３０３とした。

尚、無機化合物層の膜厚は、実施例１と同じ方法で測定して得られた値である。無機化合物（酸化ケイ素）層の炭素含有率（炭素原子数濃度）は、実施例１と同じ方法で測定して得られた値である。無機化合物（酸化ケイ素）層の弾性率は、実施例１と同じ方法で測定して得られた値である。

大気圧プラズマＣＶＤ条件
無機化合物層の形成材料としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌの酸化物を用いた。この時のプラズマ放電処理装置の各電極を被覆する誘電体は対向する両電極共に、セラミック溶射加工によりアルミナを被覆したものを使用した。又、誘電体を被覆した金属母材は、冷却水による冷却機能を有するステンレス製ジャケット仕様であり、放電中は冷却水による電極温度コントロールを行いながら実施した。

各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、予め原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。原料ガスとしては、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、チタンテトライソプロポキシド（ＴＴＩＰ）、アルミニウムエトキシドをそれぞれ用い、放電ガス、反応ガスを以下の条件で変えて、酸化物を形成した。

Ｓｉの酸化物を形成する時の条件
放電ガス：Ａｒガス ９８．６体積％
反応ガス：Ｏ_２ガスを全ガスに対し１．０体積％
原料ガス：全ガスに対し０．４体積％
高周波電源電力（パール工業製高周波電源（１３．５６ＭＨｚ））：１０Ｗ／ｃｍ^２
Ｔｉの酸化物を形成する時の条件
放電ガス：Ａｒガス９８．９体積％
反応ガス：Ｈ_２ガスを全ガスに対し０．８体積％
原料ガス：全ガスに対し０．３体積％
高周波電源電力（パール工業製高周波電源（２７ＭＨｚ））：８Ｗ／ｃｍ^２

評価
作製した試料Ｎｏ．３０１〜３０３について、転写効率、耐久性、フィルミングを実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクに従って評価した結果を表５に示す。

基材の上に、弾性層、樹脂層、無機化合物層をこの順に設ける際、無機化合物層をＴｉ、Ｓｉ、Ａｌの酸化物で形成して作製した試料Ｎｏ．３０１〜３０３は転写効率、耐久性、フィルミング共に優れた結果を示した。本発明の有効性が確認された。

実施例４
（中間転写ベルトの作製）
（無端ベルト状基体の準備）
実施例１の無端ベルト状基体１と同じ無端ベルト状基体を準備した。

（弾性層の形成）
実施例１の弾性層１と同じ弾性層を同じ方法で準備した無端ベルト状基体の上に形成した。

（樹脂層の形成）
準備した弾性層を形成した無端ベルト状基体を使用し、実施例１の樹脂層迄を形成した無端ベルト状基体Ｎｏ．１−ｂと同じ樹脂層を同じ方法で弾性層の上に形成した。

（無機化合物層の形成）
準備した樹脂層迄を形成した無端ベルト状基体の樹脂層の上に、図４に示す大気圧プラズマＣＶＤによる製造装置を使用し、表６に示す上層と下層とで炭素含有率（炭素原子数濃度）を変えた酸化ケイ素層を形成し中間転写ベルトを作製し試料Ｎｏ．４０１〜４０７とした。上層の膜厚は１５０ｎｍ、下層の膜厚は２００ｎｍとした。膜厚は実施例１と同じ方法で測定した値を示す。

尚、無機化合物層を２層に分ける方法は下層を形成した後に、上層を積層することで形成した。又、炭素含有率（炭素原子数濃度）を変えた酸化ケイ素層は放電ガス、反応ガス、原料ガスの比を変えず、全ガスの供給速度を変えた他は実施例１の試料Ｎｏ．１０１と同じ方法で形成した。平均膜密度の測定は、測定装置としては、マックサイエンス社製ＭＸＰ２１を用いて、明細書本文に記載の方法で行った。尚、無機化合物層の膜厚は、実施例１と同じ方法で測定して得られた値である。無機化合物（酸化ケイ素）層の炭素含有率（炭素原子数濃度）は、実施例１と同じ方法で測定して得られた値である。無機化合物（酸化ケイ素）層の弾性率は、実施例１と同じ方法で測定して得られた値である。

評価
作製した試料Ｎｏ．４０１〜４０７について、転写効率、耐久性、フィルミングを実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクに従って評価した結果を表７に示す。

基材の上に、弾性層、樹脂層、無機化合物層をこの順に設ける際、無機化合物層を炭素含有率（炭素原子数濃度）が０．１％原子数濃度未満の上層と、炭素含有率（炭素原子数濃度）が０．５原子数濃度％〜５原子数濃度％の下層との２層として酸化ケイ素で形成して作製した試料Ｎｏ．４０１〜４０７は転写効率、耐久性、フィルミング共に優れた結果を示した。本発明の有効性が確認された。

中間転写体として中間転写ベルトを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。 中間転写体として中間転写ロールを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。 図１に示す中間転写体の中間転写ベルトの拡大概略断面図である。 ベルト状の中間転写体である中間転写ベルトの無機化合物層を大気圧プラズマＣＶＤ法により形成する製造装置の模式図である。

符号の説明

１、１′ フルカラー画像形成装置
１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ 画像形成ユニット
４′ 転写ユニット
４０１′ 中間転写ローラ
７ 無端ベルト状中間転写体ユニット
７０ 中間転写ベルト
７０ａ 基体
７０ｂ 弾性層
７０ｃ 樹脂層
７０ｄ 無機化合物層
９ 製造装置
９ａ 大気圧プラズマＣＶＤ装置
９ａ１ ロール電極
９ａ２ 固定電極
９ａ３ 混合ガス供給装置
９ａ４ 放電容器
９ａ５ 第１電源（高周波電源）
９ａ６ 第２電源（高周波電源）
９ａ７ 排気管
９ａ８ 放電空間
９ｂ 材料供給装置

Claims (8)

1. 電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体であって、基材の上に少なくとも、弾性層、樹脂層、無機化合物層をこの順に設け、前記無機化合物層が少なくとも２層から構成されており、下層の無機化合物層の炭素含有率が、隣接する上層の該無機化合物層の炭素含有率よりも高いことを特徴とする中間転写体。
2. 前記樹脂層がフッ素樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリレート系樹脂の中から選ばれる樹脂、又はこれらを混合した樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の中間転写体。
3. 前記樹脂層がフッ素樹脂微粒子を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の中間転写体。
4. 前記弾性層の弾性率が０．１ＭＰａ〜１０ＭＰａ、樹脂層の弾性率が０．１ＧＰａ〜１０ＧＰａ、無機化合物層の弾性率が０．３ＧＰａ〜５０ＧＰａであることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の中間転写体。
5. 前記無機化合物層が金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物の中から選ばれる少なくとも１種から形成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の中間転写体。
6. 前記無機化合物層がＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物から形成されていることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の中間転写体。
7. 前記無機化合物層を構成する無機化合物が酸化珪素または炭素を含有する酸化珪素であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の中間転写体。
8. 前記無機化合物層が大気圧プラズマＣＶＤ法によって形成されたことを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の中間転写体。

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