JP5279159B2 - チキソトロピック層をエンボスすることによって微細構造化表面レリーフを製造するための方法 - Google Patents
チキソトロピック層をエンボスすることによって微細構造化表面レリーフを製造するための方法 Download PDFInfo
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Description
Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(O−n−またはiso−C3H7)4、Si(OC4H9)4、SiCl4、HSiCl3、Si(OOCC3H)4、Al(OCH3)3、Al(OC2H5)3、Al(O−n−C3H7)3、Al(O−iso−C3H7)3、Al(OC4H9)3、Al(O−iso−C4H9)3、Al(O−sec−C4H9)3、AlCl3、AlCl(OH)2、Al(OC2H4OC4H9)3、TiCl4、Ti(OC2H5)4、Ti(OC3H7)4、Ti(O−iso−C3H7)4、Ti(OC4H9)4、Ti(2−エチルヘキソキシ)4;ZrCl4、Zr(OC2H5)4、Zr(OC3H7)4、Zr(O−iso−C3H7)4、Zr(OC4H9)4、ZrOCl2、Zr(2−エチルヘキソキシ)4、さらに錯化基(complexing radicals)(例えば、β−ジケトンおよびメタクリロイル基)を含むZr化合物、BCl3、B(OCH3)3、B(OC2H5)3、SnCl4、Sn(OCH3)4、Sn(OC2H5)4、VOCl3およびVO(OCH3)3。
ここで、Yは、CH2=CR3−COO、CH2=CH、グリシジルオキシ、アミンまたは酸無水物基を意味し、R3は水素またはメチルを示し、R1は、所望であれば1以上のヘテロ原子基(例えば、O、S、NH)[これは、互いに隣接する炭素原子を隔てる]を含む、1〜10、好ましくは1〜6の炭素原子を有する二値の炭化水素基であり、そして同一または互いに異なる基R2は、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、およびアルキルカルボニル基、ならびにまたハロゲン原子(特に、F、Clおよび/またはBr)から選択される。
a)ニポキシ−ベース:
ポリ(フェニルグリシジルエーテル)−コ−ホルムアルデヒド、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、3−ビス(2,3−エポキシプロポキシメチル)メトキシ]−1,2−プロパンジオール、4,4−メチレン−ビス(N,N−ジグリシジルアニリン)、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、N,N−ビス(2,3−エポキシプロピル)−4−(2,3−エポキシプロポキシ)−アニリン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、グリセロールプロポキシレートトリグリシジルエーテル、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、ポリ(プロピレングリコール)ビス(2,3−エポキシプロピルエーテル)、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル。
ビスフェノールAジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、1,3−ジイソプロペニルベンゼン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、トリアリル1,3,5−ベンゼン−トリカルボキシレート、4,4’−イソプロピリデンジフェノールジメタクリレート、2,4,6−トリアリルオキシ−1,3,5−トリアジン、1,3−ジアリルウレア、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、N,N’−エチレンビスアクリルアミド、N,N’−(1,2−ジヒドロキシエチレン)ビスアクリルアミド、(+)−N,N’−ジアリルタルタルジアミド((+)-N,N'-diallyltartardiamide)、メタクリル酸無水物、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジエチルジアリルマロネート、エチレンジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、2−エチル−2−(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオールトリメタクリレート、アリルメタクリレート、ジアリルカーボネート、ジアリルスクシネート、ジアリルピロカーボネート(diallyl pyrocarbonate)。
実施例1
コーティング組成物の調製
a)加水分解物の調製
131.1gのベーマイト(Disperal Sol P3)を、インテンシブ還流冷却器(intensive reflux condenser)を備える11三口フラスコへ充填し、そして327.8gの3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(MPTS)を添加した。混合物を撹拌しながら80℃へ加熱し、そして還流下で10分間沸騰させた。次いで、47.5gの水(二回蒸留した)を撹拌しながら添加し、そして混合物さらに100℃へ加熱した。約10分後、反応混合物の激しい泡立ち(severe foaming)に気づいた。次いで、混合物を、還流下でさらに2.5時間煮沸させた。最後に、加水分解物を室温へ冷却し、そして濾過した(圧力濾過:1.ガラス繊維プレフィルター;2.ファインフィルター1μm)。
60gの加水分解物を、スペーサーとして9gのアミン−修飾エポキシアクリレート(UCB chemical)、0.6gのレベリング剤Byk(登録商標)306、48gの1−ブタノール、および光開始剤として0.62g(二重結合の量に関して3モル%)のべンゾフェノンを混合した。
微細構造化表面レリーフの製造
上記コーティング組成物を、フローコーティングによってPCおよびPMMAシートへ、そしてナイフコーティングによってPETフィルム(ウェットフィルム厚み25〜50μm)へ塗布した。次いで、コーティングを乾燥キャビネットにおいて90℃で4分間プレ乾燥させた。構造化(structuring)を以下のロールを使用して行った:
a)デジタル構造:
ロールの製造:ネガティブNiマスター構造(negative Ni master structure)(120〜160nm振幅高さ(amplitude height))を、鉄シリンダー(直径400mm、長さ400mm)へ接着した。
不規則な“ピラミッド”構造を有するAlロール(長さ100mm、直径40mm)を使用した。図3は、該ピラミッド型μmレリーフ構造(ポジティブマスターの構造)のプロフィルメーター記録(profilometric record)を示す。20〜35μmの構造高さを有する、側面の巨視的なレリーフ構造が、見られ得る。表面粗さ(surface roughness)は、約4μmである。
コーティング組成物の調製
a)加水分解物の調製
500mlフラスコにおいて、20.24gのジルコニウム(IV)n−プロポキシドを4.3gのメタクリル酸と混合し、そして混合物を30分間撹拌した(溶液A)。並行して、別のフラスコにおいて、3.5gの水および6.62gの0.1N HClを、37.2gのメタクリロイルオキシトリメトキシシランへ滴下し、そしてこの混合物を同様に30分間撹拌した(溶液B)。次いで、溶液Bを氷浴中で約5℃へ冷却し、そして溶液Aを滴下した。約60分の更なる撹拌期間および室温への加温後、1.1gのトリエトキシトリデカフルオロオクチルシランをコーティングゾルへ添加した。
コーティング前に、0.37gのIrgacure 187(Union Carbide)を、コーティング組成物へ光開始剤として添加した。
得られたコーティング材料を、20cm×20cmのPMMAシートへ、フローコーティング(ウェットフィルム厚25〜50μm)およびナイフコーティング(ウェットフィルム厚20μm)によって塗布した。次いで、コーティングを乾燥キャビネットにおいて80℃で10分間プレ乾燥させた。構造化のために、以下のロールを使用した:
a)ホログラム構造,:
実験室エンボスユニット(laboratory embossing unit)の鉄シリンダーへ接着された、ホログラム構造(200〜500nm振幅高さ)でエンボスされたニッケル箔。
実験室エンボスユニットの鉄シリンダーへ接着された、読み取り可能バイナリ構造(readable binary structure)(150nm振幅高さ)
c)エンボスプロセス:
熱乾燥させた支持体を、実験室エンボスユニットによって構造化した。エンボス操作後、構造を、Hgランプを使用するUV硬化によって固定させた。
Claims (14)
- 微細構造化表面レリーフ(microstructured surface relief)の製造方法であって、支持体へチキソトピックであるかまたは該支持体の前処理によってチキソトロピー性を得る有機−無機ナノコンポジット(nanocomposites)に基づくコーティング組成物を塗布し、エンボス装置で該表面レリーフを該塗布されたチキソトロピックコーティング組成物にエンボスし、そして該エンボス装置の除去後に該コーティング組成物を硬化することによる、方法であり、前記塗布されたコーティング組成物が、熱処理および/または照射によってチキソトロピックにされ、前記有機−無機ナノコンポジットは、加水分解性出発化合物およびナノスケール無機固体粒子に基づくコンポジットであるか、あるいは有機表面基で修飾されたナノスケール無機固体粒子に基づくコンポジットである、方法。
- 前記エンボス操作の前に、前記チキソトロピックコーティング組成物が、30〜30000Pa・sの粘度を有することを特徴とする、請求項1に記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 前記エンボス操作後、前記コーティング組成物が、熱処理および/または照射によって緻密化または硬化されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 前記コーティング組成物が透明コーティングを生じることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 800μm未満の範囲の寸法を有する表面レリーフ構造が得られる、請求項1〜4のいずれかに記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 有機的に修飾された無機重縮合物またはその前駆体を含む、コーティング組成物を使用することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 前記コーティング組成物が、さらに、粒度が1〜300nmであるナノスケール無機固体粒子を含む、請求項6に記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 前記有機的に修飾された無機重縮合物またはその前駆体が、ポリオルガノシロキサンまたはその前駆体を含むことを特徴とする、請求項6又は7に記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 可溶性有機ポリマーをナノスケール無機固体粒子と混合することによって得られたコーティング組成物を使用することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 前記有機ポリマーが、架橋が可能である官能基を含む有機基を含むことを特徴とする、請求項9に記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 前記有機的に修飾された無機重縮合物またはその前駆体が、架橋が可能である官能基を含む有機基を含むことを特徴とする、請求項6〜8のいずれかに記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 前記有機ポリマーが、フッ素置換された有機基を含むことを特徴とする、請求項9又は10に記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 前記有機的に修飾された無機重縮合物またはその前駆体が、フッ素置換された有機基を含むことを特徴とする、請求項6〜8及び11のいずれかに記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
- 付加重合可能なおよび/または重縮合可能な有機表面基を含むナノスケール無機固体粒子を含むコーティング組成物を使用することを特徴とする、請求項1〜13のいずれかに記載の微細構造化表面レリーフの製造方法。
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