JP5063111B2 - 非ニュートン挙動を示す組成物 - Google Patents
非ニュートン挙動を示す組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5063111B2 JP5063111B2 JP2006529914A JP2006529914A JP5063111B2 JP 5063111 B2 JP5063111 B2 JP 5063111B2 JP 2006529914 A JP2006529914 A JP 2006529914A JP 2006529914 A JP2006529914 A JP 2006529914A JP 5063111 B2 JP5063111 B2 JP 5063111B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- solid particles
- groups
- group
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/005—Reinforced macromolecular compounds with nanosized materials, e.g. nanoparticles, nanofibres, nanotubes, nanowires, nanorods or nanolayered materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/02—Ingredients treated with inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
- Y10T428/24372—Particulate matter
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
- Y10T428/24372—Particulate matter
- Y10T428/2438—Coated
- Y10T428/24388—Silicon containing coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
- Y10T428/24893—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including particulate material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Description
を含む非加水分解性基Rであり得、または官能基を有しない非加水分解性基Rであり得る。
上記で説明されるように、組成物が基材に塗布された後まで、非ニュートン挙動は発現し得ない。発明のプロセスによるレオロジーに対するコントロールは、とりわけ表面レリーフに、特に微細構造表面レリーフのコーティングに好適である。これらは、例えば、WO01/51220に記述されたプロセスによって得られ得る。
a)コーティング組成物の調製
ナノスケールSiO2ゾルを得るために、20.48g(0.098mol)のテトラエチルオルトシリケート(TEOS)を50.85gのエタノールに添加する(溶液A)。1.75gの1モーラーアンモニア溶液を34.41gの水で希釈する(溶液B)。1時間を通じて溶液Bへ溶液Aを添加することにより、加水分解及び前縮合(precondensation)が起こる。70℃で24時間後、5nmの平均粒子半径を有するナノ粒子が、5.5重量%の固体含有量を有するゾル中に形成される。
上記で調製されたSiO2粒子を有する組成物は、剪断応力速度の関数として粘度を測定することにより、それらの非ニュートン挙動に関して分析された。図1は、表面電荷の増加を伴わない先行技術の組成物の結果を示し、図2は、可変量の塩基(THAH)と反応された本発明の組成物について得られた結果を示す。
Claims (22)
- マトリックスフォーマー及びナノスケール固体粒子を含む、非ニュートン挙動を示す組成物であって、
a)前記ナノスケール固体粒子がSiO2、Al2O3、ITO、ATO、ALOOH、Ta2O5、ZrO2及び/又はTiO2であり;
b)前記マトリックスフォーマーが、ゾル−ゲル法によって得られ、1以上の一般式RaSiX(4−a)(ここで、基Rは、同一又は異なって非加水分解基であり、基Xは同一または異なって加水分解性基又はヒドロキシル基であり、aは1、2、又は3である。)のシランに基づく重縮合体又はそれらの前駆物質を含み;
c)前記ナノスケール固体粒子の表面電荷が、ブレンステッド酸又はブレンステッド塩基の付与によって増加されること
を、特徴とする組成物。 - ナノスケール固体粒子が、組成物の全重量の少なくとも15重量%を構成することを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の組成物。
- ナノスケール固体粒子が、SiO2、であることを特徴とする請求項1又は2に記載の組成物。
- マトリックスフォーマーが、aが1であり、基Xがヒロドキシル基であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の組成物。
- 基Rが架橋を可能とする官能基を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の組成物。
- 基Rが含有する架橋を可能とする官能基が、グリシジル−またはグリシジルオキシ−(C1−20)−アルキレン基であることを特徴とする請求項5に記載の組成物
- ブレンステッド酸が、塩酸、リン酸、酢酸、ギ酸、及びアンモニウムからなる群より選択されるブレンステッド酸であり、ブレンステッド塩基が、アンモニア、アミン及び第4級アンモニウム水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、及びアルカリ土類金属水酸化物からなる群より選択されるブレンステッド塩基で有ることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の組成物。
- 前記粒子の表面電荷を上昇が、ブレンステッド酸又はブレンステッド塩基の付与が、第4級アンモニウム水酸化物の付与によることを特徴とする請求項7に記載の組成物。
- 該組成物が、不活性なナノスケール固体粒子をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の組成物。
- 請求項1に記載のナノスケール固体粒子が、200nm以下の平均粒径(X線ラジオグラフィーにより測定された体積平均(volume mean))を有することを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の組成物。
- 該組成物が、チキソトロピー性または擬塑性であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の組成物。
- コーティングまたはフィルムキャスティング用の組成物あるいは印刷用ペーストであることを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載の組成物。
- 請求項1〜12のいずれかに記載のマトリックスフォーマー及びナノスケール固体粒子を含む組成物を調製する方法であって、該固体粒子または該固体粒子のゾルがマトリックスフォーマーと混合されて非ニュートン挙動を示す組成物を与え、前記粒子の表面電荷が、ブレンステッド酸又はブレンステッド塩基の付与によって増加されることを特徴とする方法。
- 固体粒子の表面電荷が、ブレンステッド酸またはブレンステッド塩基を添加することにより、マトリックスフォーマーが添加される前に固体粒子のゾル中で増加されることを特徴とする、請求項13に記載の方法。
- ゾルが、プロトン性溶媒(該溶媒中においてマトリックスフォーマーが溶解性または分散性である、もしくは該溶媒とマトリックスフォーマーが混和性である)を含むことを特徴とする、請求項13または請求項14に記載の方法。
- ブレンステッド酸が、表面電荷を増加させるために使用されることを特徴とする、請求項13〜15のいずれかに記載の方法。
- ブレンステッド塩基が、表面電荷を増加させるために使用されることを特徴とする、請求項13〜15のいずれかに記載の方法。
- 組成物が基材(substrate)に塗布され(applied)、その後非ニュートン化されることを特徴とする、請求項13〜17のいずれかに記載の方法。
- 請求項1〜12のいずれかに記載のマトリックスフォーマー及びナノスケール固体粒子を含む組成物のレオロジー挙動を調節する方法であって、該固体粒子または該固体粒子のゾルがマトリックスフォーマーと混合されて非ニュートン挙動を示す組成物を与え、前記粒子の表面電荷が、ブレンステッド酸又はブレンステッド塩基の付与によって増加されることを特徴とする方法。
- コーティングが、硬化(cured)または圧縮(compacted)された請求項1〜12の何れかに記載の組成物である、コーティングされた基材。
- コーティングが、微細構造化された表面レリーフ(microstructuredsurface relief)を有することを特徴とする、請求項20に記載のコーティングされた基材。
- ホログラフィック、エレクトロニック、マイクロメカニカル及び/または防汚(dirt repellency)用途(application)を含む、光学的用途のための、請求項20または21に記載の基材の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10323729.1 | 2003-05-26 | ||
DE2003123729 DE10323729A1 (de) | 2003-05-26 | 2003-05-26 | Zusammensetzung mit Nichtnewtonschem Verhalten |
PCT/EP2004/005619 WO2004104082A2 (de) | 2003-05-26 | 2004-05-25 | Zusammensetzung mit nichtnewtonschem verhalten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007513207A JP2007513207A (ja) | 2007-05-24 |
JP5063111B2 true JP5063111B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=33441285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006529914A Expired - Fee Related JP5063111B2 (ja) | 2003-05-26 | 2004-05-25 | 非ニュートン挙動を示す組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8119221B2 (ja) |
EP (1) | EP1631620B1 (ja) |
JP (1) | JP5063111B2 (ja) |
DE (1) | DE10323729A1 (ja) |
TW (1) | TWI326292B (ja) |
WO (1) | WO2004104082A2 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1532219B1 (en) | 2003-07-22 | 2008-10-15 | Leibniz-Institut für Neue Materialien gemeinnützige GmbH | Liquid-repellent, alkali-resistant coating composition and coating suitable for pattern forming |
US7395852B1 (en) * | 2003-11-14 | 2008-07-08 | Michael H Gurin | Enhanced energy concentrator composition |
US7842335B2 (en) * | 2004-04-07 | 2010-11-30 | General Electric Company | Field repairable high temperature smooth wear coating |
DE102005002960A1 (de) | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Kompositzusammensetzung für mikrogemusterte Schichten mit hohem Relaxationsvermögen, hoher chemischer Beständigkeit und mechanischer Stabilität |
JP4961829B2 (ja) * | 2005-08-09 | 2012-06-27 | ソニー株式会社 | ナノ粒子−樹脂複合材料の製造方法 |
DE102005043730A1 (de) * | 2005-09-14 | 2007-03-22 | Behr Gmbh & Co. Kg | Wärmetauscher, insbesondere Abgaswärmetauscher |
JP4961828B2 (ja) * | 2006-05-12 | 2012-06-27 | ソニー株式会社 | ナノ粒子−樹脂複合材料の製造方法 |
DE102006033280A1 (de) | 2006-07-18 | 2008-01-24 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Kompositzusammensetzung für mikrostrukturierte Schichten |
DE102006041738A1 (de) * | 2006-09-04 | 2008-03-06 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Zusammensetzung zur Beschichtung elektrischer Leiter und Verfahren zur Herstellung einer solchen Zusammensetzung |
US8322754B2 (en) * | 2006-12-01 | 2012-12-04 | Tenaris Connections Limited | Nanocomposite coatings for threaded connections |
WO2008084013A2 (en) * | 2007-01-11 | 2008-07-17 | Basf Se | Polyamide nanocomposite |
JP5207344B2 (ja) * | 2007-07-24 | 2013-06-12 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ダイレクトライティング用コロイドゲル材料 |
DE102009035797A1 (de) * | 2009-07-31 | 2011-02-03 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen mit Antireflexionseigenschaften |
BR112012008447B1 (pt) * | 2009-10-10 | 2020-11-03 | Lars Bertil Carnehammar | composição, método e sistema para equilibrío de um sistema rotativo |
DE102010004741B4 (de) * | 2010-01-14 | 2023-02-23 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials sowie Küchengerät |
US20130109261A1 (en) * | 2010-07-09 | 2013-05-02 | Luna Innovations | Coating systems capable of forming ambiently cured highly durable hydrophobic coatings on substrates |
CN102108230B (zh) * | 2011-02-28 | 2013-06-26 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 隔热涂料及其制备方法 |
US20130045390A1 (en) * | 2011-08-16 | 2013-02-21 | Rui Xu | Base Film of Modified Polyvinyl Alcohol and Its Preparation Method and Polarizer |
DE102012103645A1 (de) * | 2012-04-25 | 2013-10-31 | BUZIL-WERK Wagner GmbH & Co. KG | Beschichtungszusammensetzung |
CN102876197B (zh) * | 2012-07-04 | 2015-05-20 | 中南大学 | 一种隔热自清洁玻璃涂料 |
AR100953A1 (es) | 2014-02-19 | 2016-11-16 | Tenaris Connections Bv | Empalme roscado para una tubería de pozo de petróleo |
US10844233B2 (en) | 2014-09-26 | 2020-11-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Non-Newtonian photo-curable ink composition |
WO2016048360A1 (en) * | 2014-09-26 | 2016-03-31 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Non-newtonian photo-curable ink composition |
WO2016048358A1 (en) | 2014-09-26 | 2016-03-31 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Non-newtonian photo-curable ink composition |
US9963608B2 (en) * | 2014-10-20 | 2018-05-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Non-newtonian inkjet ink |
US11840797B1 (en) | 2014-11-26 | 2023-12-12 | Microban Products Company | Textile formulation and product with odor control |
WO2016093840A1 (en) | 2014-12-11 | 2016-06-16 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Non-newtonian photo-curable ink composition |
CN108469662B (zh) * | 2017-02-23 | 2020-10-27 | 玉晶光电(厦门)有限公司 | 光学镜头、其组装方法及镜筒 |
US11320938B1 (en) * | 2021-04-26 | 2022-05-03 | Texzec, Inc. | Acoustic mode touch panels with selectable characteristics |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1459025A (en) | 1974-04-19 | 1976-12-22 | Ici Ltd | Paint compositions |
US4324712A (en) * | 1978-11-30 | 1982-04-13 | General Electric Company | Silicone resin coating composition |
EP0195493B1 (en) | 1985-03-22 | 1993-03-24 | Toray Industries, Inc. | Transparent article and process for preparation thereof |
US4990376A (en) * | 1988-04-25 | 1991-02-05 | General Electric Company | Flexible silicone coatings for plastic substrates and methods for making thermoformable, abrasion-resistant thermoplastic articles |
DE4118184A1 (de) | 1991-06-03 | 1992-12-10 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Beschichtungszusammensetzungen auf der basis von fluorhaltigen anorganischen polykondensaten, deren herstellung und deren verwendung |
DE4212633A1 (de) | 1992-04-15 | 1993-10-21 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter nanoskaliger keramischer Pulver |
DE4417405A1 (de) | 1994-05-18 | 1995-11-23 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung von strukturierten anorganischen Schichten |
JP3930591B2 (ja) | 1995-12-22 | 2007-06-13 | 東陶機器株式会社 | 光触媒性親水性コーティング組成物、親水性被膜の形成方法および被覆物品 |
DE19613645A1 (de) | 1996-04-04 | 1997-10-09 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Optische Bauteile mit Gradientenstruktur und Verfahren zu deren Herstellung |
MY122234A (en) | 1997-05-13 | 2006-04-29 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Nanostructured moulded bodies and layers and method for producing same |
DE19746885A1 (de) | 1997-10-23 | 1999-06-24 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Nanostrukturierte Formkörper und Schichten sowie Verfahren zu deren Herstellung |
US6358601B1 (en) * | 1997-07-11 | 2002-03-19 | 3M Innovative Properties Company | Antistatic ceramer hardcoat composition with improved antistatic characteristics |
US7351470B2 (en) * | 1998-02-19 | 2008-04-01 | 3M Innovative Properties Company | Removable antireflection film |
US6132649A (en) * | 1999-01-29 | 2000-10-17 | Lucent Technologies Inc. | Fabrication including sol-gel processing |
US6262162B1 (en) | 1999-03-19 | 2001-07-17 | Amcol International Corporation | Layered compositions with multi-charged onium ions as exchange cations, and their application to prepare monomer, oligomer, and polymer intercalates and nanocomposites prepared with the layered compositions of the intercalates |
JP4214203B2 (ja) * | 1999-05-18 | 2009-01-28 | オリヱント化学工業株式会社 | 有機−無機複合材料およびその製造方法 |
DE10001135A1 (de) * | 2000-01-13 | 2001-07-19 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Oberflächenreliefs durch Prägen thixotroper Schichten |
JP4499962B2 (ja) * | 2001-09-04 | 2010-07-14 | 三井化学株式会社 | 金属酸化物超微粒子とポリマーの組成物 |
KR100852715B1 (ko) * | 2004-08-13 | 2008-08-19 | 이해욱 | 기능성 피막조성물, 상기 피막조성물 상에 형성된 필름,그리고 상기 피막조성물 및 필름을 형성하는 방법 |
-
2003
- 2003-05-26 DE DE2003123729 patent/DE10323729A1/de not_active Ceased
-
2004
- 2004-05-18 TW TW93113936A patent/TWI326292B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-25 JP JP2006529914A patent/JP5063111B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-25 WO PCT/EP2004/005619 patent/WO2004104082A2/de active Application Filing
- 2004-05-25 EP EP04739339.2A patent/EP1631620B1/de not_active Not-in-force
-
2005
- 2005-11-09 US US11/269,593 patent/US8119221B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI326292B (en) | 2010-06-21 |
TW200500428A (en) | 2005-01-01 |
JP2007513207A (ja) | 2007-05-24 |
WO2004104082A2 (de) | 2004-12-02 |
WO2004104082A3 (de) | 2005-02-03 |
DE10323729A1 (de) | 2004-12-16 |
EP1631620B1 (de) | 2017-08-30 |
US8119221B2 (en) | 2012-02-21 |
EP1631620A2 (de) | 2006-03-08 |
US20060089442A1 (en) | 2006-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5063111B2 (ja) | 非ニュートン挙動を示す組成物 | |
US6855371B2 (en) | Method for producing a microstructured surface relief by embossing thixotropic layers | |
KR101083951B1 (ko) | 고온의 접착 방지층 | |
TWI434140B (zh) | 用於微圖案化層之複合組成物 | |
JP3931246B2 (ja) | 構造化された無機層を形成する方法 | |
US7431858B2 (en) | Nanoimprint resist | |
JP5627662B2 (ja) | 表面処理シリカ系粒子の製造方法 | |
JP2010143806A (ja) | 表面処理シリカ系粒子及びその製造方法 | |
US20170210944A1 (en) | Hybrid material for use as coating means in optoelectronic components | |
Schmidt | Sol‐gel derived nanoparticles as inorganic phases in polymer‐type matrices | |
WO2010062436A1 (en) | Transparent inorganic-organic hybrid materials via aqueous sol-gel processing | |
Schmidt | Organically modified silicates and ceramics as two-phasic systems: synthesis and processing | |
WO2003086959A2 (de) | Transferverfahren zur herstellung mikrostrukturierter substrate | |
KR20090067602A (ko) | 오모실 조성물과 이를 포함하는 코팅 조성물 | |
Schmidt et al. | Organic-inorganic hybrid materials processing and applications | |
KR20140038727A (ko) | 투명 후막용 유-무기 복합 졸과 제법 | |
KR20150063691A (ko) | 저굴절층 코팅용 조성물 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070409 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100217 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100514 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100521 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100816 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110517 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110915 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110916 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20111107 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20111101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120110 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120404 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120411 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120524 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120717 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120807 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |