JP2007513207A - 非ニュートン挙動を示す組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
を含む非加水分解性基Rであり得、または官能基を有しない非加水分解性基Rであり得る。
上記で説明されるように、組成物が基材に塗布された後まで、非ニュートン挙動は発現し得ない。発明のプロセスによるレオロジーに対するコントロールは、とりわけ表面レリーフに、特に微細構造表面レリーフのコーティングに好適である。これらは、例えば、WO01/51220に記述されたプロセスによって得られ得る。
a)コーティング組成物の調製
ナノスケールSiO2ゾルを得るために、20.48g(0.098mol)のテトラエチルオルトシリケート(TEOS)を50.85gのエタノールに添加する(溶液A)。1.75gの1モーラーアンモニア溶液を34.41gの水で希釈する(溶液B)。1時間を通じて溶液Bへ溶液Aを添加することにより、加水分解及び前縮合(precondensation)が起こる。70℃で24時間後、5nmの平均粒子半径を有するナノ粒子が、5.5重量%の固体含有量を有するゾル中に形成される。
上記で調製されたSiO2粒子を有する組成物は、剪断応力速度の関数として粘度を測定することにより、それらの非ニュートン挙動に関して分析された。図1は、表面電荷の増加を伴わない先行技術の組成物の結果を示し、図2は、可変量の塩基(THAH)と反応された本発明の組成物について得られた結果を示す。
Claims (23)
- 粒子の表面電荷が、酸または塩基との反応により増加されていることを特徴とする、マトリックスフォーマー及びナノスケール固体粒子を含み、非ニュートン挙動を示す組成物。
- 粒子の表面電荷が、ゼータポテンシャルの絶対値が増加されるような方法で、酸または塩基との反応により増加されたことを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
- ナノスケール固体粒子が、組成物の全重量の少なくとも5重量%を構成することを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の組成物。
- マトリックスフォーマーが、架橋性マトリックスフォーマーであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の組成物。
- マトリックスフォーマーが、有機ポリマーまたは有機的に修飾された無機重縮合物もしくはそれらの前駆物質であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の組成物。
- 有機的に修飾された無機重縮合物またはその前駆物質が、ポリオルガノシロキサンまたはその前駆物質であることを特徴とする、請求項5に記載の組成物。
- 有機ポリマーまたは有機的に修飾された無機重縮合物もしくはそれらの前駆物質が、架橋を可能とする官能基を有する有機基を含んでいることを特徴とする、請求項3〜6のいずれかに記載の組成物。
- ナノスケール固体粒子が、金属酸化物粒子、特に、SiO2、Al2O3、ITO、ATO、AlOOH、Ta2O5、ZrO2及び/またはTiO2であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の組成物。
- 該組成物が、不活性なナノスケール固体粒子をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の組成物。
- ナノスケール固体粒子が、200nm以下の平均粒径(X線ラジオグラフィーにより測定された体積平均(volume mean))を有することを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の組成物。
- ナノスケール固体粒子が、表面改質された形態、好ましくはエレクトロステリック(electrosteric)基及び/またはプロトン性基であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の組成物。
- 該組成物が、チキソトロピー性または偽可塑性であることを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載の組成物。
- コーティングまたはフィルムキャスティング用の組成物あるいは印刷用ペーストであることを特徴とする、請求項1〜12のいずれかに記載の組成物。
- 塩基または酸を添加することにより粒子の表面電荷が増加されることを特徴とする、マトリックスフォーマー及びナノスケール固体粒子を含む組成物を調製する方法であって、ここで、該固体粒子または該固体粒子のゾルがマトリックスフォーマー及び、必要であれば溶媒と混合され、適切な場合には溶媒が一部または完全に除去された後に、非ニュートン挙動を示す組成物を与える、方法。
- 固体粒子の表面電荷が、酸または塩基を添加することにより、マトリックスフォーマーが添加される前に固体粒子のゾル中で増加されることを特徴とする、請求項14に記載の方法。
- ゾルが、プロトン性溶媒(該溶媒中においてマトリックスフォーマーが溶解性または分散性である、もしくは該溶媒とマトリックスフォーマーが混和性である)を含むことを特徴とする、請求項14または請求項15に記載の方法。
- 酸が、表面電荷を増加させるために使用されることを特徴とする、請求項14〜16のいずれかに記載の方法。
- 塩基が、表面電荷を増加させるために使用され、好ましくはアミンまたは第四級アンモニウム水酸化物であることを特徴とする、請求項14〜16のいずれかに記載の方法。
- 組成物が基材(substrate)に塗布され(applied)、その後非ニュートン化されることを特徴とする、請求項14〜18のいずれかに記載の方法。
- 粒子の表面電荷が塩基または酸を添加することにより増加させられることを特徴とする、マトリックスフォーマー及びナノスケール固体粒子を含む組成物のレオロジー挙動を調節する方法であって、ここで、該固体粒子または該固体粒子のゾルが、マトリックスフォーマー及び、必要であれば溶媒と混合され、適切な場合には溶媒が一部または完全に除去された後に、非ニュートン挙動を示す組成物を与える、方法。
- コーティングが、硬化(cured)または圧縮(compacted)された請求項1〜13に記載の組成物である、コーティングされた基材。
- コーティングが、微細構造化された表面レリーフ(microstructured surface relief)を有することを特徴とする、請求項21に記載のコーティングされた基材。
- ホログラフィック、エレクトロニック、マイクロメカニカル及び/または防汚(dirt repellency)用途(application)を含む、光学的用途のための、請求項21または22に記載の基材の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2003123729 DE10323729A1 (de) | 2003-05-26 | 2003-05-26 | Zusammensetzung mit Nichtnewtonschem Verhalten |
DE10323729.1 | 2003-05-26 | ||
PCT/EP2004/005619 WO2004104082A2 (de) | 2003-05-26 | 2004-05-25 | Zusammensetzung mit nichtnewtonschem verhalten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007513207A true JP2007513207A (ja) | 2007-05-24 |
JP5063111B2 JP5063111B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=33441285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006529914A Expired - Fee Related JP5063111B2 (ja) | 2003-05-26 | 2004-05-25 | 非ニュートン挙動を示す組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8119221B2 (ja) |
EP (1) | EP1631620B1 (ja) |
JP (1) | JP5063111B2 (ja) |
DE (1) | DE10323729A1 (ja) |
TW (1) | TWI326292B (ja) |
WO (1) | WO2004104082A2 (ja) |
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- 2004-05-18 TW TW93113936A patent/TWI326292B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-25 EP EP04739339.2A patent/EP1631620B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-25 WO PCT/EP2004/005619 patent/WO2004104082A2/de active Application Filing
- 2004-05-25 JP JP2006529914A patent/JP5063111B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10323729A1 (de) | 2004-12-16 |
TW200500428A (en) | 2005-01-01 |
JP5063111B2 (ja) | 2012-10-31 |
EP1631620A2 (de) | 2006-03-08 |
TWI326292B (en) | 2010-06-21 |
WO2004104082A2 (de) | 2004-12-02 |
WO2004104082A3 (de) | 2005-02-03 |
EP1631620B1 (de) | 2017-08-30 |
US20060089442A1 (en) | 2006-04-27 |
US8119221B2 (en) | 2012-02-21 |
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Date | Code | Title | Description |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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A521 | Written amendment |
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