WO2001051220A3 - Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten - Google Patents

Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten Download PDF

Info

Publication number
WO2001051220A3
WO2001051220A3 PCT/EP2001/000333 EP0100333W WO0151220A3 WO 2001051220 A3 WO2001051220 A3 WO 2001051220A3 EP 0100333 W EP0100333 W EP 0100333W WO 0151220 A3 WO0151220 A3 WO 0151220A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
thixotropic
surface relief
microstructured surface
producing
embossing
Prior art date
Application number
PCT/EP2001/000333
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2001051220A2 (de
Inventor
Andreas Gier
Nora Kunze
Martin Mennig
Peter W Oliveira
Stefan Sepeur
Bruno Schaefer
Helmut Schmidt
Original Assignee
Inst Neue Mat Gemein Gmbh
Andreas Gier
Nora Kunze
Martin Mennig
Peter W Oliveira
Stefan Sepeur
Bruno Schaefer
Helmut Schmidt
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Neue Mat Gemein Gmbh, Andreas Gier, Nora Kunze, Martin Mennig, Peter W Oliveira, Stefan Sepeur, Bruno Schaefer, Helmut Schmidt filed Critical Inst Neue Mat Gemein Gmbh
Priority to AT01911478T priority Critical patent/ATE275441T1/de
Priority to AU2001240506A priority patent/AU2001240506A1/en
Priority to EP01911478A priority patent/EP1248685B1/de
Priority to US10/169,971 priority patent/US6855371B2/en
Priority to DE50103534T priority patent/DE50103534D1/de
Priority to JP2001551628A priority patent/JP5279159B2/ja
Publication of WO2001051220A2 publication Critical patent/WO2001051220A2/de
Publication of WO2001051220A3 publication Critical patent/WO2001051220A3/de

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/12—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by mechanical means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/40—Distributing applied liquids or other fluent materials by members moving relatively to surface
    • B05D1/42—Distributing applied liquids or other fluent materials by members moving relatively to surface by non-rotary members

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Viewfinders (AREA)

Abstract

Ein Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Oberflächenreliefs wird beschrieben, bei dem man auf ein Substrat eine Beschichtungszusammensetzung aufträgt, die thixotrop ist oder die auf dem Substrat durch Vorbehandlung thixotrope Eigenschaften erlangt, mit einer Prägevorrichtung das Oberflächenrelief in die aufgetragene thixotrope Beschichtungszusammensetzung prägt und die Beschichtungszusammensetzung nach Entfernen der Prägevorrichtung härtet. Die nach diesem Verfahren erhältlichen, mit einem mikrostrukturierten Oberflächenrelief versehenen Substrate eignen sich insbesondere für optische, elektronische, mikromechanische und/oder schmutzabweisende Anwendungen.
PCT/EP2001/000333 2000-01-13 2001-01-12 Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten WO2001051220A2 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT01911478T ATE275441T1 (de) 2000-01-13 2001-01-12 Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten und mikrostrukturiertes oberflächenrelief
AU2001240506A AU2001240506A1 (en) 2000-01-13 2001-01-12 Method for producing a microstructured surface relief by embossing thixotropic layers
EP01911478A EP1248685B1 (de) 2000-01-13 2001-01-12 Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten und mikrostrukturiertes oberflächenrelief
US10/169,971 US6855371B2 (en) 2000-01-13 2001-01-12 Method for producing a microstructured surface relief by embossing thixotropic layers
DE50103534T DE50103534D1 (de) 2000-01-13 2001-01-12 Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten und mikrostrukturiertes oberflächenrelief
JP2001551628A JP5279159B2 (ja) 2000-01-13 2001-01-12 チキソトロピック層をエンボスすることによって微細構造化表面レリーフを製造するための方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10001135A DE10001135A1 (de) 2000-01-13 2000-01-13 Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Oberflächenreliefs durch Prägen thixotroper Schichten
DE10001135.7 2000-01-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2001051220A2 WO2001051220A2 (de) 2001-07-19
WO2001051220A3 true WO2001051220A3 (de) 2002-02-21

Family

ID=7627384

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2001/000333 WO2001051220A2 (de) 2000-01-13 2001-01-12 Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6855371B2 (de)
EP (1) EP1248685B1 (de)
JP (1) JP5279159B2 (de)
KR (1) KR100737554B1 (de)
CN (1) CN1176756C (de)
AT (1) ATE275441T1 (de)
AU (1) AU2001240506A1 (de)
DE (2) DE10001135A1 (de)
WO (1) WO2001051220A2 (de)

Families Citing this family (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10004132B4 (de) * 2000-01-31 2007-02-01 Few Chemicals Gmbh Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung schmutzabweisender Schichten und Zweikomponentensystem sowie deren Verwendung
FI116086B (fi) * 2000-06-08 2005-09-15 Avantone Oy Varmistusmerkitty paperi- tai kartonkituote ja varmistusmerkitty pakkaus
US20030015810A1 (en) * 2000-12-07 2003-01-23 Multimediaprint Gmbh Method of producing optical storage media and resulting products
AU2003220334A1 (en) * 2002-03-15 2003-09-29 Photon-X, Inc. Surface relief structures for joining and adhesion
DE10217151A1 (de) * 2002-04-17 2003-10-30 Clariant Gmbh Nanoimprint-Resist
DE10217089A1 (de) * 2002-04-17 2003-10-30 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Transferverfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Substrate
US20040090516A1 (en) * 2002-09-09 2004-05-13 Heidelberger Druckmaschinen Ag Print substrate contacting element having an ink-repellent coating and method for coating a print substrate-contacting element
EP1443344A1 (de) * 2003-01-29 2004-08-04 Heptagon Oy Herstellung von mikrostrukturierten Teilen
US20040188871A1 (en) * 2003-03-27 2004-09-30 Klaser Technology Inc. Holographic image shrink film and method for manufacture thereof
WO2004104646A1 (en) * 2003-05-20 2004-12-02 Kansas State University Research Foundation Microlens comprising a group iii-nitride material
DE10323729A1 (de) * 2003-05-26 2004-12-16 Institut Für Neue Materialien Gem. Gmbh Zusammensetzung mit Nichtnewtonschem Verhalten
CN100503755C (zh) * 2003-09-02 2009-06-24 永记造漆工业股份有限公司 可硬化且形成压花的涂料组成物
DE10344777B4 (de) * 2003-09-26 2006-04-27 Infineon Technologies Ag Stempelvorrichtung für Softlithografie und Verfahren zu deren Herstellung
US20060105148A1 (en) * 2004-11-12 2006-05-18 Eastman Kodak Company Article with patterned layer on surface
US20060105152A1 (en) * 2004-11-12 2006-05-18 Eastman Kodak Company Flexible sheet for resistive touch screen
CN100425353C (zh) * 2004-12-28 2008-10-15 丹东优耐特纺织品有限公司 彩色图案面料涂层加工生产方法
GB2421727B (en) * 2004-12-30 2007-11-14 Ind Tech Res Inst Method for forming coating material and the material formed thereby
GB2422608B (en) * 2004-12-30 2008-10-01 Ind Tech Res Inst Self-cleaning coating comprising hydrophobically-modified particles
DE102005013220A1 (de) * 2005-03-10 2006-09-14 Weiss, Winfried Verfahren zur Reinigung und Imprägnierung von Steinflächen und dafür eingesetztes Reinigungs- und Imprägniermittel
US20060292345A1 (en) * 2005-06-14 2006-12-28 Dave Bakul C Micropatterned superhydrophobic silica based sol-gel surfaces
JP5000112B2 (ja) * 2005-09-09 2012-08-15 東京応化工業株式会社 ナノインプリントリソグラフィによるパターン形成方法
WO2007036349A1 (de) * 2005-09-27 2007-04-05 Nikolaus Vida Verfahren zur profilierung einer oberfläche
JP4833644B2 (ja) * 2005-11-22 2011-12-07 富士フイルム株式会社 熱可塑性樹脂フィルムの製造方法
US8349447B2 (en) * 2006-01-13 2013-01-08 Nbc Meshtec, Inc. Antifouling composite material
PL1842647T3 (pl) * 2006-04-03 2009-07-31 Kuraray Europe Gmbh Sposób wytwarzania jednostronnie deseniowo tłoczonej folii na bazie częściowo zacetalowanego polialkoholu winylowego
EP1842653B1 (de) * 2006-04-03 2008-12-03 Kuraray Europe GmbH Verfahren zur Herstellung von geprägten Folien auf Basis von teilacetalisiertem Polyvinylalkohol
IL178239A (en) * 2006-09-21 2012-02-29 Eduard Bormashenko Super-hydrophobic surfaces containing nano-texture of polymer and metal
ES2381621T3 (es) 2006-11-01 2012-05-30 Koninklijke Philips Electronics N.V. Método de sobreimpresión para formar una capa en relieve y uso de la misma como máscara de grabado
WO2008078326A2 (en) * 2006-12-26 2008-07-03 Seng Enterprises Ltd. Device for studying cells of thixotropic material and method of manufacure thereof
JP5189772B2 (ja) * 2007-02-09 2013-04-24 昭和電工株式会社 微細パターン転写材料
DE102007008073A1 (de) * 2007-02-15 2008-08-21 Leibniz-Institut für Neue Materialien gem. GmbH Verfahren zum Übertragen von Oberflächenstrukturierungen, wie Interferenzschichten, Hologrammen und anderen hochbrechenden optischen Mikrostrukturen
WO2008098567A2 (de) 2007-02-15 2008-08-21 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung Verfahren zum übertragen von oberflächenstrukturierungen, wie interferenzschichten, hologrammen und anderen hochbrechenden optischen mikrostrukturen
US7983627B2 (en) * 2007-03-30 2011-07-19 Infineon Technologies Ag Circuit arrangement with improved decoupling
US8623140B2 (en) * 2007-07-25 2014-01-07 3M Innovative Properties Company System and method for making a film having a matte finish
DE102007044302A1 (de) * 2007-09-17 2009-03-19 Bühler PARTEC GmbH Verfahren zur Dispergierung von feinteiligen anorganischen Pulvern in flüssigen Medien unter Verwendung von reaktiven Siloxanen
DK2208234T5 (da) 2007-11-05 2012-07-16 Solar Excel B V Fotovoltaisk indretning
EP2139048A1 (de) * 2008-06-23 2009-12-30 Photon BV Photovoltaische Vorrichtung mit verbesserter Spektralreaktion
US8491830B2 (en) * 2008-07-11 2013-07-23 Eoplex Limited Boundary configurations for multi-material print-forming
DE102008035576A1 (de) 2008-07-30 2010-02-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Photovoltaik-Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Konzentratoroptik
CN102498575A (zh) * 2009-04-08 2012-06-13 卓越太阳能有限公司 制造用于光生伏打器件的盖板的方法
US20120031489A1 (en) 2009-04-08 2012-02-09 Solar Excel B.V. Method for producing a textured plate for a photovoltaic device
DE102009036135A1 (de) * 2009-08-05 2011-02-10 Schott Ag Strukturiertes Substratglas für Lumineszenzdioden und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102009058651A1 (de) 2009-12-16 2011-06-22 Leibniz-Institut für Neue Materialien gemeinnützige GmbH, 66123 Vorrichtung mit steuerbarer Adhäsion
CN102834351B (zh) * 2010-03-31 2014-10-29 中央硝子株式会社 氧化物成型体及其制造方法
DE102010026490A1 (de) * 2010-07-07 2012-01-12 Basf Se Verfahren zur Herstellung von feinstrukturierten Oberflächen
JP5783714B2 (ja) * 2010-12-17 2015-09-24 キヤノン株式会社 光学素子の製造方法
EP2739564A1 (de) 2011-08-03 2014-06-11 Massachusetts Institute Of Technology Artikel zur manipulation von aufprallflüssigkeiten und herstellungsverfahren dafür
WO2013022467A2 (en) 2011-08-05 2013-02-14 Massachusetts Institute Of Technology Liquid-impregnated surfaces, methods of making, and devices incorporating the same
US8607803B2 (en) * 2011-09-29 2013-12-17 The Procter & Gamble Company Hair treatment process providing dispersed colors by light diffraction
CA2849740A1 (en) 2011-09-30 2013-04-04 The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy Tailored interfaces between optical materials
US9309162B2 (en) 2012-03-23 2016-04-12 Massachusetts Institute Of Technology Liquid-encapsulated rare-earth based ceramic surfaces
EP2828174A1 (de) 2012-03-23 2015-01-28 Massachusetts Institute of Technology Selbstschmierende oberflächen für lebensmittelverpackungen und lebensmittelverarbeitungsanlage
US9625075B2 (en) 2012-05-24 2017-04-18 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus with a liquid-impregnated surface to facilitate material conveyance
JP2015522839A (ja) * 2012-05-24 2015-08-06 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー 液体含浸表面を有する装置
US20130337027A1 (en) 2012-05-24 2013-12-19 Massachusetts Institute Of Technology Medical Devices and Implements with Liquid-Impregnated Surfaces
CA2876381A1 (en) 2012-06-13 2013-12-19 Massachusetts Institute Of Technology Articles and methods for levitating liquids on surfaces, and devices incorporating the same
CN105188967B (zh) 2012-11-19 2021-07-09 麻省理工学院 采用液体浸渍表面的装置和方法
US20140178611A1 (en) 2012-11-19 2014-06-26 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus and methods employing liquid-impregnated surfaces
JP5995997B2 (ja) * 2013-02-08 2016-09-21 Ｊｘエネルギー株式会社 ロール装置、凹凸構造を有する部材の製造方法及び有機ｅｌ素子の製造方法
BR112015019528A8 (pt) 2013-02-15 2019-11-19 Massachusetts Inst Technology artigo compreendendo substrato e película polimérica enxertada sore o mesmo e método para fabricação de superfície para promoção da condensação gota a gota e/ou derramamento de um líquido
BR112015010374A2 (pt) 2013-03-28 2017-07-11 Los Alamos Nat Security Llc processo de tratamento para o cabelo que fornece cores dispersas por difração de luz
JP2016518977A (ja) 2013-04-16 2016-06-30 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー エマルションまたは他の混合物の単極分離のためのシステムおよび方法
US9585757B2 (en) 2013-09-03 2017-03-07 Massachusetts Institute Of Technology Orthopaedic joints providing enhanced lubricity
JP6581080B2 (ja) * 2013-10-23 2019-09-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー テクスチャー化フィルムを製造するためのシステム及び方法
DE102014222677A1 (de) * 2013-12-04 2015-06-11 Heidelberger Druckmaschinen Ag Verfahren und Vorrichtung zur Abformung von Mikrostrukturen
US20150179321A1 (en) 2013-12-20 2015-06-25 Massachusetts Institute Of Technology Controlled liquid/solid mobility using external fields on lubricant-impregnated surfaces
WO2015196052A1 (en) 2014-06-19 2015-12-23 Massachusetts Institute Of Technology Lubricant-impregnated surfaces for electrochemical applications, and devices and systems using same
EP3173449A1 (de) * 2015-11-27 2017-05-31 BASF Coatings GmbH Verbund aus zwei festkörpern
DE102015121691A1 (de) 2015-12-14 2017-06-14 Hella Kgaa Hueck & Co. Verfahren zur Herstellung eines Mikrolinsenarrays
EP3988290A1 (de) * 2020-10-23 2022-04-27 Carl Zeiss Vision International GmbH Verfahren zur herstellung eines brillenglases
WO2023170132A1 (en) 2022-03-10 2023-09-14 Basf Se Casting lacquer for screen printing

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993006508A1 (de) * 1991-09-13 1993-04-01 Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH Optische elemente und verfahren zu deren herstellung
WO1995031413A1 (de) * 1994-05-18 1995-11-23 Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH Verfahren zur herstellung von strukturierten anorganischen schichten
WO2000062942A2 (de) * 1999-04-16 2000-10-26 Institut Für Neue Materialien Gem. Gmbh Mit einer mikrostrukturierten oberfläche versehene substrate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5152441A (ja) * 1974-10-29 1976-05-10 Nippon Paint Co Ltd Ototsumoyokeiseihoho
JPS5440836A (en) * 1977-09-07 1979-03-31 Taiyo Seiko Kk Method of forming stripe pattern on coated layer
JPS61293575A (ja) * 1985-06-21 1986-12-24 Okura Ind Co Ltd 下地板の製造方法
JPH0235969A (ja) * 1988-07-26 1990-02-06 Nippon Oil & Fats Co Ltd 模様化粧材の製造方法
DE4118184A1 (de) 1991-06-03 1992-12-10 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Beschichtungszusammensetzungen auf der basis von fluorhaltigen anorganischen polykondensaten, deren herstellung und deren verwendung
US5716679A (en) * 1991-09-13 1998-02-10 Institut Fur Neue Materialien Gemeinnutzige Gmbh Optical elements containing nanoscaled particles and having an embossed surface and process for their preparation
DE4212633A1 (de) 1992-04-15 1993-10-21 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter nanoskaliger keramischer Pulver
ES2141261T3 (es) * 1993-10-29 2000-03-16 Minnesota Mining & Mfg Adhesivos piezosensibles con superficies microestructuradas.
DE19613645A1 (de) 1996-04-04 1997-10-09 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Optische Bauteile mit Gradientenstruktur und Verfahren zu deren Herstellung
US6025024A (en) * 1997-01-31 2000-02-15 Sigma Coatings Farben- Und Lackwerke Gmbh Process for generating structured surfaces in coil coating
MY122234A (en) 1997-05-13 2006-04-29 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Nanostructured moulded bodies and layers and method for producing same
DE19746885A1 (de) 1997-10-23 1999-06-24 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Nanostrukturierte Formkörper und Schichten sowie Verfahren zu deren Herstellung

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993006508A1 (de) * 1991-09-13 1993-04-01 Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH Optische elemente und verfahren zu deren herstellung
WO1995031413A1 (de) * 1994-05-18 1995-11-23 Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH Verfahren zur herstellung von strukturierten anorganischen schichten
WO2000062942A2 (de) * 1999-04-16 2000-10-26 Institut Für Neue Materialien Gem. Gmbh Mit einer mikrostrukturierten oberfläche versehene substrate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung

Also Published As

Publication number Publication date
US20040026832A1 (en) 2004-02-12
AU2001240506A1 (en) 2001-07-24
US6855371B2 (en) 2005-02-15
ATE275441T1 (de) 2004-09-15
WO2001051220A2 (de) 2001-07-19
JP2003527231A (ja) 2003-09-16
CN1395512A (zh) 2003-02-05
CN1176756C (zh) 2004-11-24
DE50103534D1 (de) 2004-10-14
KR20020092357A (ko) 2002-12-11
DE10001135A1 (de) 2001-07-19
EP1248685B1 (de) 2004-09-08
KR100737554B1 (ko) 2007-07-10
JP5279159B2 (ja) 2013-09-04
EP1248685A2 (de) 2002-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2001051220A3 (de) Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten
WO2008068701A3 (en) Method and apparatus for applying a sheet to a substrate
BRPI0415539A (pt) processo para a produção de um filme
WO2002084631A1 (fr) Procede de transfert d'element, procede de disposition d'element mettant en oeuvre ce procede et procede de production d'un appareil d'affichage d'image
WO2002071150A3 (en) Lithographic template
WO2001049776A3 (en) Adhesive microstructure and method of forming same
WO2002061470A8 (en) Optical device and method for manufacturing same
WO2003096123A8 (en) Reversal imprint technique
WO1996029629A3 (en) Microcontact printing on surfaces and derivative articles
WO2005121892A3 (en) Apparatus, system and method to vary dimensions of a substrate during nano-scale manufacturing
WO2002079876A3 (en) Lithographic template
TWI263847B (en) Optical film, method for producing the same, and image display device using the same
NO992295L (no) FremgangsmÕte til mønstring av polymerfilmer og anvendelse av fremgangsmÕtene
WO2010064185A3 (en) Electronic devices having plastic substrates
WO1999003684A3 (en) The production of microstructures for use in assays
WO2008032128A8 (en) Bonding technique
WO2004018548A3 (fr) Procede de soudage d'une surface polymere avec une surface conductrice ou semi-conductrice
DK1595001T3 (da) Fremgangsmåde til overtrækning af en overflade
TW200641075A (en) Film, silica film and method of forming the same, composition for forming silica film, and electronic part
BR0100808A (pt) Composição de revestimento, que se pode descascar, e, processo de preparação de um revestimento, que se pode descascar
AU2003209795A1 (en) A method for forming a film, by using electrostatic forces
WO2005009632A3 (en) Methods for forming tunable molecular gradients on substrates
WO2003107046A3 (en) OPTICAL COMPONENTS WITH IMPROVED FUNCTIONALITY AND THEIR MANUFACTURING METHOD
TW200709859A (en) Method for patterning coatings
DE50212291D1 (de) Beschichtungsverfahren und beschichtungsmittel

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BY BZ CA CH CN CR CU CZ DE DK DM DZ EE ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NO NZ PL PT RO RU SD SE SG SI SK SL TJ TM TR TT TZ UA UG US UZ VN YU ZA ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
AK Designated states

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BY BZ CA CH CN CR CU CZ DE DK DM DZ EE ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NO NZ PL PT RO RU SD SE SG SI SK SL TJ TM TR TT TZ UA UG US UZ VN YU ZA ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GW ML MR NE SN TD TG

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2001911478

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10169971

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 01803635X

Country of ref document: CN

Ref document number: 1020027008966

Country of ref document: KR

ENP Entry into the national phase

Ref country code: JP

Ref document number: 2001 551628

Kind code of ref document: A

Format of ref document f/p: F

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2001911478

Country of ref document: EP

REG Reference to national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: 8642

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1020027008966

Country of ref document: KR

WWG Wipo information: grant in national office

Ref document number: 2001911478

Country of ref document: EP