JP5272051B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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- 試料を載置する試料台と、
前記試料台を少なくとも格納する容器と
前記試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子線光学系と、
荷電粒子アシストエッチングガスまたは荷電粒子アシストデポジションガス、及びプラズマ用のエッチングガスの供給を切り替えるガス種の切替手段と、
前記切替手段により切り替えられたガス種を前記試料の表面に供給するガス種共通のガス供給源と、
前記ガスをプラズマ化する電圧を前記試料台と前記ガス供給源の間に印加可能な電源とを有し、
前記ガス供給源が、荷電粒子線照射時のガス圧よりも前記プラズマによるエッチング時のガス圧を高く切り替えるガス圧切替え機能を有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記電源は前記試料台と前記ガス供給源の間に高周波電圧を印加することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1または2に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガス供給源がキャパシタを介して前記電源に接続されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガス供給源におけるガス流路の先端部は前記試料の表面に対向して配置されていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガス供給源は前記先端部の試料表面と対向した面に開口部を有する内部容器を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5に記載の荷電粒子線装置において、
前記内部容器の試料表面に対向する面の断面形状が矩形形状であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料を載置する可動の試料台と、
前記試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子線光学系と、
荷電粒子アシストエッチングガスまたは荷電粒子アシストデポジションガス、及びプラズマ用のエッチングガスの供給を切り替えるガス種の切替手段と、
ガス流路の先端部が前記試料の表面に対向し、該対向した面が開口となる内部容器を有し、前記切替手段により切り替えられたガス種を前記試料の表面に供給するガス種共通のガス供給源と、
前記内部容器の外部に形成された誘導コイルに高周波電圧を印加する電源と、前記試料台を格納する真空容器とを有し、
前記ガス供給源が、荷電粒子線照射時のガス圧よりも前記プラズマによるエッチング時のガス圧を高く切り替えるガス圧切替え機能を有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1から7のいずれかに記載の荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線が、集束イオンビームまたは投射型イオンビームであることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項8に記載の荷電粒子線装置において、前記集束イオンビームはガリウムイオンビームであることを特徴とする荷電粒子線装置。
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