JP5260370B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
基板を搬送しながらその上面に流体を供給してこの基板を処理する装置であって、
前記基板の搬送方向と垂直な回転軸をそれぞれ有し、前記基板の下方にその搬送方向に沿って並設されてこの基板を支持する複数の下ローラと、前記下ローラの回転軸と平行な回転軸を有し、少なくとも1つの前記下ローラの上方に配置されて、前記基板の幅方向の一端部を押さえる第1上ローラ及び前記基板の幅方向の他端部を押さえる第2上ローラと、少なくとも1つの前記下ローラの回転軸を駆動して回転させる回転駆動機構とを備え、前記下ローラ及び各上ローラにより前記基板を挟持して搬送する基板搬送手段と、
前記各ローラを回転自在に保持するローラ保持手段と、
前記基板搬送手段によって搬送される基板の上方に配置され、その上面に向けて流体を吐出する流体吐出手段と、
前記流体吐出手段に流体を供給する流体供給手段と、
前記流体吐出手段を支持する支持手段とを備えた基板処理装置において、
前記ローラ保持手段は、前記基板の両外側で一定間隔を隔てて対向して前記基板の搬送方向に細長く形成された平板状の第1架台及び第2架台であって、前記下ローラの回転軸の一端部を回転自在に保持する第1架台及び前記下ローラの回転軸の他端部を回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持する第2架台と、前記第1架台に支持され、前記第1上ローラの回転軸を回転自在に保持する第1保持部材と、前記第2架台に支持され、前記第2上ローラの回転軸を回転自在に保持する第2保持部材とを備え、
前記第1架台及び第2架台は、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の第1嵌入部をそれぞれ有し、この第1嵌入部に前記第1保持部材及び第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成され、
前記各第1嵌入部の両側壁、及び各保持部材の外面の、前記第1嵌入部の両側壁に対応する部分には、その一方に凹溝が、他方に突起が上下方向に沿うように且つ互いに嵌合可能に形成され、
前記各保持部材は、前記凹溝及び突起が嵌合して前記第1嵌入部に嵌め込まれるとともに、前記凹溝及び突起が嵌合した状態で上下方向に移動可能に構成されてなることを特徴とする基板処理装置に係る。
21 下ローラ
22,23 上ローラ
25 回転駆動部
33,34 架台
35,36 嵌入部
46,47 凹溝
50,51 保持部材
50d,51d 突起
71 スリットノズル体
72 スプレーノズル体
81,82 支持部材
Claims (11)
- 基板を搬送しながらその上面に流体を供給してこの基板を処理する装置であって、
前記基板の搬送方向と垂直な回転軸をそれぞれ有し、前記基板の下方にその搬送方向に沿って並設されてこの基板を支持する複数の下ローラと、前記下ローラの回転軸と平行な回転軸を有し、少なくとも1つの前記下ローラの上方に配置されて、前記基板の幅方向の一端部を押さえる第1上ローラ及び前記基板の幅方向の他端部を押さえる第2上ローラと、少なくとも1つの前記下ローラの回転軸を駆動して回転させる回転駆動機構とを備え、前記下ローラ及び各上ローラにより前記基板を挟持して搬送する基板搬送手段と、
前記各ローラを回転自在に保持するローラ保持手段と、
前記基板搬送手段によって搬送される基板の上方に配置され、その上面に向けて流体を吐出する流体吐出手段と、
前記流体吐出手段に流体を供給する流体供給手段と、
前記流体吐出手段を支持する支持手段とを備えた基板処理装置において、
前記ローラ保持手段は、前記基板の両外側で一定間隔を隔てて対向して前記基板の搬送方向に細長く形成された平板状の第1架台及び第2架台であって、前記下ローラの回転軸の一端部を回転自在に保持する第1架台及び前記下ローラの回転軸の他端部を回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持する第2架台と、前記第1架台に支持され、前記第1上ローラの回転軸を回転自在に保持する第1保持部材と、前記第2架台に支持され、前記第2上ローラの回転軸を回転自在に保持する第2保持部材とを備え、
前記第1架台及び第2架台は、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の第1嵌入部をそれぞれ有し、この第1嵌入部に前記第1保持部材及び第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成され、
前記各第1嵌入部の両側壁、及び各保持部材の外面の、前記第1嵌入部の両側壁に対応する部分には、その一方に凹溝が、他方に突起が上下方向に沿うように且つ互いに嵌合可能に形成され、
前記各保持部材は、前記凹溝及び突起が嵌合して前記第1嵌入部に嵌め込まれるとともに、前記凹溝及び突起が嵌合した状態で上下方向に移動可能に構成されてなることを特徴とする基板処理装置。 - 前記各上ローラは、それぞれ1つのローラ本体を備え、
前記下ローラは、その回転軸の軸線方向に複数のローラ本体を備えるとともに、これらのローラ本体の内、両端に位置するローラ本体が前記各上ローラのローラ本体と上下に対向するように構成され、
少なくとも、前記第2上ローラのローラ本体及び前記下ローラの、第2上ローラに対応したローラ本体は、その一方の外周面が半円形に形成され、他方の外周面が一定幅を有する平坦面に形成されてなることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記下ローラ及び各上ローラの上下のローラ間隔が前記基板の厚みより小さく設定されている場合において、
前記突起の先端と凹溝との間、及び、前記突起の付け根と凹溝の開口部との間には、隙間がそれぞれ形成されるとともに、前記各保持部材と第1嵌入部との間には、前記凹溝の下部側又は下方で前記隙間と前記第1嵌入部外の空間とを連通させる連通部がそれぞれ形成されてなることを特徴とする請求項1又は2記載の基板処理装置。 - 前記各保持部材は、予め設定された荷重で前記基板を押さえるための錘をそれぞれ備えてなることを特徴とする請求項1乃至3記載のいずれかの基板処理装置。
- 前記第1保持部材の錘は、前記第1保持部材及び第1上ローラ全体の重量により5N〜35Nの荷重で前記基板の一端部を押さえることが可能な重さであり、前記第2保持部材の錘は、前記第2保持部材及び第2上ローラ全体の重量により5N〜35Nの荷重で前記基板の他端部を押さえることが可能な重さであることを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
- 前記下ローラの回転軸の一端部には、この一端部を回転自在に支持する第1軸受が設けられるとともに、前記下ローラの回転軸の他端部には、この他端部を回転自在に支持する第2軸受が設けられ、
前記第1架台の第1嵌入部には、その下側に、前記第1軸受が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第1保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第2架台の第1嵌入部には、その下側に、前記第2軸受が着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第1嵌入部の、少なくとも前記各保持部材が嵌め込まれる部分には、前記凹溝又は突起が形成され、
前記第1軸受又は第1架台には、この第1軸受の軸線方向における移動を規制する規制部材が設けられてなることを特徴とする請求項1乃至5記載のいずれかの基板処理装置。 - 前記各架台の第1嵌入部の、前記各軸受が嵌め込まれる部分と、前記各保持部材が嵌め込まれる部分との間には、前記各保持部材の下端に当接して前記各上ローラの高さ位置を位置決めするためのスペーサがそれぞれ設けられてなることを特徴とする請求項6記載の基板処理装置。
- 前記流体吐出手段は、前記基板の搬送方向と交差する方向においてこの基板の全幅に渡るように細長く形成され、
前記支持手段は、前記流体吐出手段の長手方向の一端部を支持する第1支持部材と、前記流体吐出手段の長手方向の他端部を支持する第2支持部材とを備え、
前記第1架台及び第2架台は、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の第2嵌入部をそれぞれ有し、この第2嵌入部に前記第1支持部材及び第2支持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成されてなることを特徴とする請求項1乃至7記載のいずれかの基板処理装置。 - 前記各架台の第2嵌入部の少なくとも一方には、前記第1支持部材又は第2支持部材が前記流体吐出手段の長手方向に変位可能に嵌め込まれてなることを特徴とする請求項8記載の基板処理装置。
- 前記下ローラの回転軸の一端部には、この一端部を回転自在に支持する第1軸受が設けられるとともに、前記下ローラの回転軸の他端部には、この他端部を回転自在に支持する第2軸受が設けられ、
前記第1架台の第2嵌入部には、その下側に、前記第1軸受が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第1保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第2架台の第2嵌入部には、その下側に、前記第2軸受が着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第1軸受又は第1架台には、この第1軸受の軸線方向における移動を規制する規制部材が設けられてなることを特徴とする請求項8又は9記載の基板処理装置。 - 前記各架台の第1嵌入部と第2嵌入部は、同一形状に形成されてなることを特徴とする請求項8乃至10記載のいずれかの基板処理装置。
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