JP5239299B2 - サスペンション基板およびその製造方法 - Google Patents
サスペンション基板およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5239299B2 JP5239299B2 JP2007288323A JP2007288323A JP5239299B2 JP 5239299 B2 JP5239299 B2 JP 5239299B2 JP 2007288323 A JP2007288323 A JP 2007288323A JP 2007288323 A JP2007288323 A JP 2007288323A JP 5239299 B2 JP5239299 B2 JP 5239299B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive layer
- alloy
- layer
- suspension board
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
まず、本発明のサスペンション基板について説明する。本発明のサスペンション基板は、3つの実施態様に大別することができる。以下、本発明のサスペンション基板について、第一実施態様〜第三実施態様に分けて説明する。
まず、本発明のサスペンション基板の第一実施態様について説明する。本実施態様のサスペンション基板は、導電層と、上記導電層の表面に形成され、上記導電層の腐食を防止する金めっき層と、上記導電層および被接続部材を、上記金めっき層を介して電気的に接続する接続部と、を有する接続領域を備えたサスペンション基板であって、上記接続部が、Auを主成分とするAu−Sn系合金により形成されていることを特徴とするものである。
以下、本実施態様のサスペンション基板について、サスペンション基板の部材、およびサスペンション基板の構成に分けて説明する。
本実施態様のサスペンション基板は、通常、金属支持基板、絶縁層、導電層、金めっき層、カバー層等を有する。以下、部材ごとに詳細に説明する。
本実施態様に用いられる接続部は、導電層および被接続部材を電気的に接続するものである。さらに、本実施態様においては、Auを主成分とするAu−Sn系合金により、接続部を形成する。本実施態様において「Auを主成分とする」とは、合金を構成する成分の中で、Auの成分が最も多いことをいう。上記のAu−Sn系合金は、通常AuおよびSnの二成分系の合金であることを考慮すると、Au−Sn系合金のAu濃度は、通常50重量%以上である。
次に、本実施態様に用いられる導電層および金めっき層について説明する。本実施態様に用いられる導電層は、通常、絶縁層上に形成されるものである。また、本実施態様に用いられる金めっき層は、導電層の表面に形成され、導電層の腐食を防止するものである。
本実施態様のサスペンション基板は、上記の部材の他に、通常、絶縁層、金属支持基板およびカバー層を有する。
本実施態様に用いられる絶縁層は、金属支持基板および導電層の間に形成されるものである。絶縁層の材料としては、所望の絶縁性を発揮することができれば、特に限定されるものではないが、例えばポリイミド(PI)等を挙げることができる。絶縁層の厚さは、通常5μm〜10μmの範囲内である。
本実施態様に用いられる金属支持基板は、上記の絶縁層等を支持するものである。金属支持基板は、通常、適度なばね性および導電性を有している。金属支持基板の材料としては、例えばSUS等を挙げることができる。また、金属支持基板の厚さとしては、金属支持基板の材料等により異なるが、通常10μm〜20μmの範囲内である。
本実施態様におけるカバー層は、露出する絶縁層等を保護するものである。カバー層の材料としては、例えばポリイミド樹脂、エポキシ系樹脂等を挙げることができる。また、カバー層の材料は、感光性樹脂であっても良く、非感光性樹脂であっても良い。カバー層の厚さとしては、特に限定されるものではないが、通常5μm〜30μmの範囲内であり、中でも5μm〜15μmの範囲内であることが好ましい。
次に、本実施態様のサスペンション基板の構成について説明する。本実施態様における「接続領域」は、グランド端子領域、ジンバル領域および中継基板接続領域に大別することができる。以下それぞれの構成について詳細に説明する。
本実施態様における接続領域がグランド端子領域である場合、接続部はグランド端子に該当し、被接続部材は金属支持基板に該当し、導電層はグランド用導電層に該当する。すなわち、接続領域がグランド端子領域である場合は、接続部(グランド端子)が、絶縁層の開口部を介して、導電層(グランド用導電層)と、被接続部材(金属支持基板)とを電気的に接続する。なお、グランド用導電層は、その形状に応じて、通常グランドパットまたはグランドラインと呼ばれる。
本実施態様における接続領域がジンバル領域である場合、被接続部材は、素子に該当し、導電層は配線部に該当する。すなわち、接続領域がジンバル領域である場合は、接続部が、導電層と、被接続部材である素子とを電気的に接続する。なお、ジンバル領域において電気的な接続を行う場合、サスペンション基板が、サスペンション基板の他に、磁気ヘッドスライダー等の素子を備えることになる。このような場合であっても、本実施態様においては、サスペンション基板と称することにする。すなわち、接続領域がジンバル領域である場合、本実施態様のサスペンション基板は、素子を備えた構成をも包含するものである。
本実施態様における接続領域が中継基板接続領域である場合、被接続部材は中継基板の端子部に該当し、導電層はサスペンション基板の端子部に該当する。すなわち、接続領域が中継基板接続領域である場合は、接続部が、導電層と、被接続部材である中継基板の端子部とを電気的に接続する。なお、中継基板接続領域において電気的な接続を行う場合、サスペンション基板が、サスペンション基板の他に、中継基板およびその他の部材を備えることになる。このような場合であっても、本実施態様においては、サスペンション基板と称することにする。すなわち、接続領域が中継基板接続領域である場合、本実施態様のサスペンション基板は、中継基板およびその他の部材を備えた構成をも包含するものである。
次に、本実施態様のサスペンション基板の第二実施態様について説明する。本実施態様のサスペンション基板は、導電層と、上記導電層の表面に形成され、上記導電層の腐食を防止する金めっき層と、上記導電層および被接続部材を、上記金めっき層を介して電気的に接続する接続部と、を有する接続領域を備えたサスペンション基板であって、上記接続部が、Auを主成分とし、融点が450℃以下の合金により形成されていることを特徴とするものである。
次に、本実施態様のサスペンション基板の第三実施態様について説明する。本実施態様のサスペンション基板は、導電層と、上記導電層の表面に形成され、上記導電層の腐食を防止する金めっき層と、上記導電層および被接続部材を、上記金めっき層を介して電気的に接続する接続部と、を有する接続領域を備えたサスペンション基板であって、上記金めっき層の厚さが、0.5μm以下であることを特徴とするものである。
次に、本発明のサスペンション基板の製造方法について説明する。本発明のサスペンション基板の製造方法は、2つの実施態様に大別することができる。以下、本発明のサスペンション基板の製造方法について、第一実施態様および第二実施態様に分けて説明する。
まず、本発明のサスペンション基板の製造方法の第一実施態様について説明する。本実施態様のサスペンション基板の製造方法は、導電層と、上記導電層の表面に形成され、上記導電層の腐食を防止する金めっき層と、上記導電層および被接続部材を、上記金めっき層を介して電気的に接続する接続部と、を有する接続領域を備えたサスペンション基板の製造方法であって、Auを主成分とするAu−Sn系合金を溶融した状態で滴下することにより、上記接続部を形成する接続部形成工程を有することを特徴とするものである。
本実施態様における接続部形成工程は、Auを主成分とするAu−Sn系合金を溶融した状態で滴下することにより、接続部を形成する工程である。なお、本実施態様に用いられる合金については、上記「A.サスペンション基板 1.第一実施態様」に記載された内容と同様である。
本実施態様においては、接続部形成工程以外は、一般的なサスペンション基板の製造方法における各工程と同様の工程を採用することができる。
次に、本発明のサスペンション基板の製造方法の第二実施態様について説明する。本実施態様のサスペンション基板の製造方法は、導電層と、上記導電層の表面に形成され、上記導電層の腐食を防止する金めっき層と、上記導電層および被接続部材を、上記金めっき層を介して電気的に接続する接続部と、を有する接続領域を備えたサスペンション基板の製造方法であって、Auを主成分とし、融点が450℃以下の合金を溶融した状態で滴下することにより、上記接続部を形成する接続部形成工程を有することを特徴とするものである。
[実施例1]
(基板形成用部材の作製)
厚さ20μmのSUS304(金属支持基板)、厚さ10μmのポリイミド層(絶縁層)、厚さ18μmの電解銅箔(導電層)が、この順に積層された積層体を用意し、この積層体に以下に述べる化学エッチング等を行った。まずグランド端子を形成する導電層の領域を化学エッチングにて外径250μm、内径(開口径)100μmの形状に加工し、次にサスペンション基板の外形を規定するためにSUSを化学エッチングし、次にポリイミド層に化学エッチングを行い、直径100μmの開口部を形成した。その後、グランド端子を形成する導電層の領域の表面にNiを電解で0.2μm程度めっきし、Auを電解で0.5μm程度めっきした。これにより、基板形成用部材を得た。
次に、開口部におけるSUS表面を活性化させるために、前処理として、りん酸を用いて処理(酸洗)を行った。その後、直径0.1mmのAu80−Sn20(Au80重量%、Sn重量%)合金からなる、はんだボールを用意し、Pac−Tech社製のSB2−JETを用いて、はんだボールを溶融させながら開口部に滴下することにより、接続部(グランド端子)を形成し、サスペンション基板を得た。
Au80−Sn20合金の代わりに、Sn−3.0Ag−0.5Cu合金を用いたこと以外は、実施例1と同様にしてサスペンション基板を得た。
実施例1および比較例1で得られたサスペンション基板を用いて、高温処理試験を行い、その前後における、接続部の外観および元素分布の変化を評価した。高温処理試験は、125℃で144時間放置することにより行った。
金めっき層の厚さを0.2μmに変更したこと以外は、比較例1と同様にしてサスペンション基板を得た。
金めっき層の厚さを1.0μmに変更したこと以外は、比較例1と同様にしてサスペンション基板を得た。
実施例2および比較例2で得られたサスペンション基板を用いて、高温処理試験を行い、接続部の外観の経時的な変化を評価した。高温処理試験は、125℃で放置し、0時間後、12時間後、24時間後、144時間の状態を確認することにより行った。
2 … 絶縁層
3 … 導電層
3a … グランド用導電層
3b … 配線層
3c … フライングリード
4 … 金めっき層
5 … 接続部
5a … グランド端子
6 … 開口部
7 … 金属間化合物層
8 … エア溜まり
9 … エアベント部
10 … 基板形成用部材
11 … カバー層
12 … サスペンション基板
Claims (4)
- 導電層と、前記導電層の表面に形成され、前記導電層の腐食を防止する金めっき層と、前記導電層および被接続部材を、前記金めっき層を介して電気的に接続する接続部と、を有する接続領域を備えたサスペンション基板の製造方法であって、
Auを主成分とするAu−Sn系合金を溶融した状態で滴下することにより、前記接続部を形成する接続部形成工程を有し、
前記接続形成工程の前に、金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成され、前記金属支持基板が露出する開口部を有する絶縁層と、前記絶縁層上に形成され、かつ、前記開口部近傍に配置された前記導電層と、前記導電層の表面に形成され、前記導電層の腐食を防止する金めっき層と、を有する基板形成用部材を用意する工程を有し、
前記接続部形成工程が、溶融した状態の前記合金の径が前記開口部の径よりも小さくなるように前記合金を滴下することにより、前記金属支持基板および前記導電層を、前記金めっき層を介して電気的に接続する前記接続部を形成するものであることを特徴とするサスペンション基板の製造方法。 - 導電層と、前記導電層の表面に形成され、前記導電層の腐食を防止する金めっき層と、前記導電層および被接続部材を、前記金めっき層を介して電気的に接続する接続部と、を有する接続領域を備えたサスペンション基板の製造方法であって、
Auを主成分とし、融点が450℃以下の合金を溶融した状態で滴下することにより、前記接続部を形成する接続部形成工程を有し、
前記接続形成工程の前に、金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成され、前記金属支持基板が露出する開口部を有する絶縁層と、前記絶縁層上に形成され、かつ、前記開口部近傍に配置された前記導電層と、前記導電層の表面に形成され、前記導電層の腐食を防止する金めっき層と、を有する基板形成用部材を用意する工程を有し、
前記接続部形成工程が、溶融した状態の前記合金の径が前記開口部の径よりも小さくなるように前記合金を滴下することにより、前記金属支持基板および前記導電層を、前記金めっき層を介して電気的に接続する前記接続部を形成するものであることを特徴とするサスペンション基板の製造方法。 - 前記接続部の厚みが、前記絶縁層、前記導電層および前記金めっき層の積層部分の厚みよりも薄いことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のサスペンション基板の製造方法。
- 前記開口部を有する前記導電層および前記絶縁層の少なくとも一方が、エアベント部を有することを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のサスペンション基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007288323A JP5239299B2 (ja) | 2007-11-06 | 2007-11-06 | サスペンション基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007288323A JP5239299B2 (ja) | 2007-11-06 | 2007-11-06 | サスペンション基板およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009118626A JP2009118626A (ja) | 2009-05-28 |
JP5239299B2 true JP5239299B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=40785120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007288323A Expired - Fee Related JP5239299B2 (ja) | 2007-11-06 | 2007-11-06 | サスペンション基板およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5239299B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4784695B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2011-10-05 | 大日本印刷株式会社 | 磁気ヘッドサスペンションおよび製造方法 |
JP5136668B2 (ja) | 2010-03-24 | 2013-02-06 | 大日本印刷株式会社 | サスペンション用基板、サスペンション用基板の製造方法、サスペンション、素子付サスペンションおよびハードディスクドライブ |
JP5387992B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2014-01-15 | 大日本印刷株式会社 | サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブ、並びにサスペンション用基板の製造方法 |
JP2014175027A (ja) * | 2013-03-07 | 2014-09-22 | Dainippon Printing Co Ltd | サスペンション用基板、サスペンション、素子付サスペンション、ハードディスクドライブ、およびサスペンション用基板の製造方法 |
JP6944971B2 (ja) * | 2019-05-16 | 2021-10-06 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002026073A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-25 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP4189156B2 (ja) * | 2002-02-22 | 2008-12-03 | 株式会社トクヤマ | チップ貼設シート |
JP4187687B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2008-11-26 | 日東電工株式会社 | 回路付サスペンション基板の製造方法 |
JP2006196046A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Tdk Corp | フレクシャ、該フレクシャを備えたサスペンション、該サスペンションを備えたヘッドジンバルアセンブリ及び該ヘッドジンバルアセンブリを備えた磁気ディスク装置 |
JP2006202359A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 磁気ヘッドサスペンション |
JP4338204B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2009-10-07 | Tdk株式会社 | 半田付け方法及び半田付け装置並びに接合方法及び接合装置 |
CN100559473C (zh) * | 2005-04-25 | 2009-11-11 | 新科实业有限公司 | 焊接装置及在磁盘驱动单元内形成电性焊接的方法 |
JP4799902B2 (ja) * | 2005-04-27 | 2011-10-26 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板および配線回路基板の製造方法 |
JP4740030B2 (ja) * | 2005-06-08 | 2011-08-03 | シャープ株式会社 | レーザ装置の製造方法 |
JP2007043010A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の実装方法 |
JP4191720B2 (ja) * | 2005-11-01 | 2008-12-03 | Tdk株式会社 | 磁気ヘッドアッセンブリ |
CN101390210B (zh) * | 2005-12-28 | 2010-07-28 | 联合材料公司 | 半导体元件安装用基板及其制造方法以及半导体装置 |
JP4841272B2 (ja) * | 2006-03-14 | 2011-12-21 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板および配線回路基板の接続構造 |
-
2007
- 2007-11-06 JP JP2007288323A patent/JP5239299B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009118626A (ja) | 2009-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101467206B (zh) | 悬架用基板及其制造方法 | |
KR101455967B1 (ko) | 납프리 땜납 볼 | |
US9490147B2 (en) | Stud bump structure and method for manufacturing the same | |
KR100559611B1 (ko) | 반도체장치, 반도체장치의 실장방법, 및 실장체와 그제조방법 | |
TW201107071A (en) | Improvement of solder interconnect by addition of copper | |
JP5239299B2 (ja) | サスペンション基板およびその製造方法 | |
KR20060112596A (ko) | 전자 부품 탑재용 기판 및 전자 부품 | |
KR20100102033A (ko) | 전자 디바이스 및 납땜 방법 | |
JPH1050708A (ja) | 金属バンプ、金属バンプの製造方法、接続構造体 | |
CN105121677A (zh) | 无铅软钎料合金 | |
JPWO2013132942A1 (ja) | 接合方法、接合構造体およびその製造方法 | |
KR101983510B1 (ko) | 핵재료 및 납땜 이음 및 범프 전극의 형성 방법 | |
JP2001060760A (ja) | 回路電極およびその形成方法 | |
JP4888096B2 (ja) | 半導体装置、回路配線基板及び半導体装置の製造方法 | |
JP2008027570A (ja) | サスペンション用基板およびその製造方法 | |
JP2008066493A (ja) | リード線、アルミニウム電解コンデンサ用リード端子およびアルミニウム電解コンデンサ | |
JP2007031740A (ja) | 電子部品及びその製造方法 | |
TW201633480A (zh) | 無焊劑接合用的焊球、其製造方法以及形成焊接凸塊的方法 | |
WO2000075940A1 (fr) | Composant electronique, appareil dans lequel est monte ce composant et procede de fabrication de cet appareil | |
JP5203011B2 (ja) | モータ用整流子部材及びモータ | |
CN114171484B (zh) | 芯材料、电子部件和凸点电极的形成方法 | |
JP6267427B2 (ja) | はんだ付け方法及び実装基板 | |
JP2007329224A (ja) | コイル部品 | |
JPH09266373A (ja) | 電子部品及びその接合方法、並びに回路基板 | |
CN117673010A (zh) | 连接柱 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120508 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120705 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120928 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121113 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130206 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130318 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |