JP5214842B2 - ナフタレン誘導体の製造方法 - Google Patents
ナフタレン誘導体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5214842B2 JP5214842B2 JP2004556094A JP2004556094A JP5214842B2 JP 5214842 B2 JP5214842 B2 JP 5214842B2 JP 2004556094 A JP2004556094 A JP 2004556094A JP 2004556094 A JP2004556094 A JP 2004556094A JP 5214842 B2 JP5214842 B2 JP 5214842B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- production method
- carboxylic acid
- salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 24
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 title description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 58
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 35
- -1 formaldehyde acetal Chemical class 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 19
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 12
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000005517 carbenium group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 7
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical class F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Natural products O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000008030 elimination Effects 0.000 claims description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 238000006180 oxidative desulfurization-fluorination reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 4
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims description 3
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001356 alkyl thiols Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 claims description 3
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 claims description 3
- DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 1,1-ethanedithiol Chemical compound CC(S)S DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NCNISYUOWMIOPI-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-dithiol Chemical compound CCC(S)S NCNISYUOWMIOPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 25
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 11
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 9
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N dbdmh Chemical compound CC1(C)N(Br)C(=O)N(Br)C1=O VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 5
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 5
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N N-iodosuccinimide Chemical compound IN1C(=O)CCC1=O LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N ethenone Chemical compound C=C=O CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- IKGLACJFEHSFNN-UHFFFAOYSA-N hydron;triethylazanium;trifluoride Chemical compound F.F.F.CCN(CC)CC IKGLACJFEHSFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- XMENSEFIVCSBJD-UHFFFAOYSA-M 2-(6-ethylnaphthalen-2-yl)-5,6-dihydro-4h-1,3-dithiin-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC2=CC(CC)=CC=C2C=C1[C+]1SCCCS1 XMENSEFIVCSBJD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZRTWIJKGTUGZJY-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trifluorophenol Chemical compound OC1=CC(F)=C(F)C(F)=C1 ZRTWIJKGTUGZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTTUMVHWIAXYPJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dithian-2-yl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C1SCCCS1 BTTUMVHWIAXYPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNMIDRCXYNTCRP-UHFFFAOYSA-N 1,3-dithian-2-ylsilane Chemical class [SiH3]C1SCCCS1 UNMIDRCXYNTCRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIQIOKOQHGSKLN-UHFFFAOYSA-N 5,5-dibromo-1,3-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CN1C(=O)N(C)C(Br)(Br)C1=O RIQIOKOQHGSKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEJOCWOXCDWNID-UHFFFAOYSA-N Nitrilooxonium Chemical compound [O+]#N KEJOCWOXCDWNID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N chloramine T Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S(=O)(=O)[N-]Cl)C=C1 VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- OMBRFUXPXNIUCZ-UHFFFAOYSA-N dioxidonitrogen(1+) Chemical class O=[N+]=O OMBRFUXPXNIUCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N fluoridochlorine Chemical compound ClF OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N methanedithioic acid Chemical compound SC=S WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- PBMIETCUUSQZCG-UHFFFAOYSA-N n'-cyclohexylmethanediimine Chemical compound N=C=NC1CCCCC1 PBMIETCUUSQZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-MGCOHNPYSA-N trans-decalin Chemical group C1CCC[C@@H]2CCCC[C@H]21 NNBZCPXTIHJBJL-MGCOHNPYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APQIUTYORBAGEZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromoethane Chemical compound CC(Br)Br APQIUTYORBAGEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLYJAHYIPOXSRR-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydronaphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound C1CCCC2C(C(=O)O)CCCC21 MLYJAHYIPOXSRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005714 2,5- (1,3-dioxanylene) group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([*:1])OC([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 1
- FCNKYFSZZUHPJS-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-6-[(2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)methyl]naphthalene Chemical compound C1=CC2=CC(CC)=CC=C2C=C1COC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F FCNKYFSZZUHPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMZMLROLIVUFOM-UHFFFAOYSA-N 3,5-difluoro-4-(trifluoromethoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(F)=C(OC(F)(F)F)C(F)=C1 AMZMLROLIVUFOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MENYRYNFSIBDQN-UHFFFAOYSA-N 5,5-dibromoimidazolidine-2,4-dione Chemical compound BrC1(Br)NC(=O)NC1=O MENYRYNFSIBDQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSRVYSHBXCTHTR-UHFFFAOYSA-N 6-ethylnaphthalene-2-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(CC)=CC=C21 YSRVYSHBXCTHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- COXWPJGUUDHFFU-UHFFFAOYSA-N C1=CC(OC)=CC=C1P1(=S)SS(=S)(C=2C=CC(OC)=CC=2)P1 Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1P1(=S)SS(=S)(C=2C=CC(OC)=CC=2)P1 COXWPJGUUDHFFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIKOMYYLFNTVIE-VYAYZGMFSA-N C1CCC[C@@H]2C(CCC)(Br)CCC[C@@H]21 Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(CCC)(Br)CCC[C@@H]21 IIKOMYYLFNTVIE-VYAYZGMFSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical class 0.000 description 1
- 150000008055 alkyl aryl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005910 alkyl carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000007068 beta-elimination reaction Methods 0.000 description 1
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004855 decalinyl group Chemical group C1(CCCC2CCCCC12)* 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000006477 desulfuration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000023556 desulfurization Effects 0.000 description 1
- AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N dibromodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Br)Br AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- CFHGBZLNZZVTAY-UHFFFAOYSA-N lawesson's reagent Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1P1(=S)SP(=S)(C=2C=CC(OC)=CC=2)S1 CFHGBZLNZZVTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- XVDBWWRIXBMVJV-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphanyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(N(C)C)N(C)C XVDBWWRIXBMVJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M phenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCCS ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005588 protonation Effects 0.000 description 1
- 125000002577 pseudohalo group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/08—Six-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/02—Preparation of ethers from oxiranes
- C07C41/03—Preparation of ethers from oxiranes by reaction of oxirane rings with hydroxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/05—Preparation of ethers by addition of compounds to unsaturated compounds
- C07C41/06—Preparation of ethers by addition of compounds to unsaturated compounds by addition of organic compounds only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C43/225—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/15—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction of organic compounds with carbon dioxide, e.g. Kolbe-Schmitt synthesis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/02—Five-membered rings
- C07D339/06—Five-membered rings having the hetero atoms in positions 1 and 3, e.g. cyclic dithiocarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/02—Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
- C07C2602/04—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
- C07C2602/10—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being six-membered, e.g. tetraline
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/02—Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
- C07C2602/14—All rings being cycloaliphatic
- C07C2602/26—All rings being cycloaliphatic the ring system containing ten carbon atoms
- C07C2602/28—Hydrogenated naphthalenes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Description
現代のアクティブ・マトリクスでにおいては、高いコントラストが画像に対して求められる。したがって、液晶化合物は、高い比抵抗および高い電圧保持率を有するものでなければならない。
これらの化合物は、これまで液晶媒体ディスプレイにおいて用いられなかったが、比較的広いメソフェーズを、(市販されている)化合物としてシクロヘキシルおよびフェニル環を有するものとの対比において有する(W. Schaefer, H. Altmann, H. Zaschke, H.H. Deutscher, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 95, 1983, pages 63 ff.)。その理由は明確であって、立体的障害がナフタレン構造によって増大し、その結果流動粘度および回転粘度が高くなり、望ましくない反応時間の伸長がもたらされるからである。
R-(A1-Z-)m B-CF2O-A2-(A3)n-R' (I)
で示される化合物の製造方法によって達成される。ただし、上記一般式において、
Rはアルキルであり、1個〜12個の炭素原子を有し、好ましくは1個〜5個の炭素原子を有し、とくに好ましくは1個、3個または5個の炭素原子を有し、1つまたは2つ以上のCH2基は、相互に独立して、O、CF2、CH=CH、CH=CFまたはCF=CFによって置換されていてもよく、ただしペルオキシド構造O−OおよびホルムアルデヒドアセタールO−CH2−Oは含まれず、
A2およびA3は、1,4−フェニレンであり、相互に独立して、1つ〜4つの水素はフッ素によって置換されていてもよく、または1つまたは2つのCH基はNによって置換されていてもよく、
Zは、単結合、−CH2−CH2−、−CF2−CF2−、−CH=CH−、−CF=CF−、−CH=CF−または−CF=CH−であり、
Bは、2,6−二置換ナフタレン、2,6−二置換5,6,7,8−テトラヒドロナフタレンまたは2,6−二置換トランスデカリンであり、
R' は、R、F、OCF3、OCF2H、CF3、Cl、SF5、CNまたはNCSであり、そして
mおよびnは、相互に独立して、0または1であり、
以下のステップを含む:
R-(A1-Z-)mBX (II)
で示される化合物のカルボン酸誘導体への、基Xの脱離およびC1ユニットの導入による変換。
ただし、Xはハロゲンまたは=Oであり、および他の記号は式(I)における定義のとおりである。
b)前記カルボン酸誘導体の、一般式
HO-A2(-A3)n-R' (III)
で示されるフェノールとの反応により、式(I)で示される化合物を与える。
ただし、A2、A3、R' およびnは式(I)における定義のとおりである。
a‘)一般式
R-(A1-Z-)mBX (II)
Xはハロゲンでありおよび他の記号は式(I)における定義のとおりである、で示される化合物の、対応するグリニャール化合物への変換、生成する前記グリニャール化合物のCO2との反応および式
R-(A1-Z-)mB-CO2H (IV)
で示される対応するカルボン酸誘導体またはその塩の加水分解による生成。
a‘‘)一般式
R-(A1-Z-)mBX (II)
Xは=O基である、で示される化合物の、ビス(アルキルチオ)カルベニウム塩への、適切な硫黄含有化合物との反応による変換。
とくに2,6−ジ置換トランスデカリン類の場合、X=Oである。
ハロゲン置換化合物として式(II)のものは、自体公知の方法によって得られる。これらの化合物は、好ましくは対応するアルコールから、対応するハロゲン化水素、ハロゲン化チオニルとの反応またはハロゲン/PPh3によって調製される。式(II)の化合物の対応するグリニャール化合物での変換は、DE 102 20 549 A1に記載の方法によって行うことができる。該公報は、デカリン誘導体の製法に関するものである。
この目的のために、式(II)の化合物として、Bが2,6−デカリニル、2,6−テトラヒドロナフチルまたは2,6−ナフチルでありXがハロゲンであるものを、溶媒中のマグネシウムと反応せしめる。前記溶媒には、少なくとも1種の非極性溶媒および少なくとも1種の極性溶媒を含み、外部から加熱を行う。
適切な非極性溶媒の例は、脂肪族炭化水素および芳香族炭化水素のうち、極性基を有さないものであり、例えばヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンもしくはキシレン、またはこれらの溶媒の混合物である。
適切な極性溶媒は、例えばエーテル類であって、例としてはジエチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどである。
とくに好ましい溶媒混合物は、ベンゼンおよび/またはトルエンとテトラヒドロフランとの混合物である。混合比を5:1〜3:1とすると、この場合において有利になるように選択される。
前記反応が有利に行われるのは、溶媒混合物の沸点の温度において、大気圧条件下における場合である。好ましい温度範囲は、40〜100℃であり、とくに好ましくは、50〜80℃である。
得られたグリニャール化合物を、次にCO2と反応せしめる。分子の立体化学をここに示す(スキーム1を参照。デカリンおよびテトラヒドロナフタレン誘導体の両方を示す)。ナフタレン−、テトラヒドロナフタレン−、およびデカリンカルボン酸誘導体の調製は、一般にグリニャール化合物を単離せずに行う。すなわち、グリニャール化合物の生成は、原位置で直接CO2と反応せしめることによって行う。したがって、上記溶媒と同一のものを、グリニャール化合物の生成に用いる。
グリニャール反応物質のZerewitinoff反応による分解を防ぐために、これはドライアイスの表面に濃縮された水が混ざることによって生じるものであることから、好ましくは気体のCO2を用いる。
反応の終了後、カルボン酸を加水分解によって解離せしめる。カルボン酸またはその塩を、次に自体公知の方法によって単離する。
目的化合物である−CF2O−ブリッジを有する化合物を、次にカルボン酸から生成せしめる。多くの可能な手法がこれを行うために考えられるところ、それらのいくつかは対応するエステルを経て進行する。
エステルを調製した後、後者を所望の式(I)の化合物への変換を、自体公知の条件下において行う。
好ましい方法には、硫化をLawesson試薬(2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,2,3,4−ジチアジホスフェタン−2,4−ジチオン)を用いて行いチオエステルを中間体とし、続いて酸化的脱硫フッ素化を行うことが包含される。該脱硫は、好ましくは臭素化試薬を用いて行う。
適切な酸化剤/臭素化剤の例には、ハロニウム等価体を遊離せしめる化合物が包含され、好ましくはジブロモヒダントイン、ジメチルジブロモヒダントイン、N−ブロモスクシンイミド、N−ヨードスクシンイミド、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン、SO2Cl2、SO2ClF、ニトロソニウムおよびニトロニウム塩、クロラミンTおよび臭素からなる群からのものであり、とくに好ましくは臭素である。
最も好ましいエーテル(I)の酸(IV)からの調製方法は、ビス(アルキルチオ)カルベニウム塩(V)への変換および所望の式(I)の化合物へのその変換をフェノール(III)との反応によって、フッ素化試薬および酸化剤の存在下において行うことである。
この方法においては、カルボン酸(IV)をアルキルチオールと反応せしめ、前記ビス(アルキルチオ)カルベニウム塩(V)を得る。カルボン酸の代わりに、カルボン酸誘導体としてハロゲン、シュードハロゲン、置換スルホネート、アルコキシまたはフェノキシが−OH基の代わりに存在するするもの、または無水物を用いることもできる。しかし、これは好ましくはない。というのは、この場合さらに付加的な反応ステップを含むこととなるからである。
酸としてケテンジチオケタールのプロトン化に用いられるものは、一般式H+Y−で示されるものの1つであり、ここでY−は非配位性または弱い配位性を有するアニオンである。Y−は好ましくはハロゲン化物、テトラフルオロボロン酸、ヘキサフルオロホスフェート、パークロレート、アルキルカーボネート、アリールカーボネート、アルキルスルホネートおよびアリールスルホネートからなる群から選択される。1個の、複数のまたは全ての水素原子であってアルキル基またはアリール基にあるものは、フッ素または塩素によって置換されていてもよい。とくに好ましい酸は、トリフルオロメタンスルホン酸およびテトラフルオロボロン酸/ジエチルエーテル複合体である。
本発明を、以下の非限定的な例によって説明する。
6β−プロピル−(4aα,8aβ)−デカヒドロナフタレン−2α−カルボン酸の調製
2-(6β−プロピル−(4aα,8aβ)−デカヒドロナフタレン−2α−イル)−1,3−ジチアン−2−イリウムトリフルオロメタンスルホネートの調製
2α−[(ジフルオロ−3,4,5−トリフルオロフェノキシ)メチル]−6β−プロピル−(4aα,8aβ)−デカヒドロナフタレンの調製
2-[(ジフルオロ−3,4,5−トリフルオロフェノキシ)メチル]−6−エチルナフタレンの調製
出発物質である2−(6−エチルナフト−2−イル)−1,3−ジチアン−2−イリウムトリフルオロメタンスルホネートは、6−エチルナフタレン−2−カルボン酸から、例1および2に記載の方法と類似の方法によって得た。
2−[(ジフルオロ−(3,5−ジフルオロ−4−トリフルオロメトキシ)フェノキシ)−メチル]−6−エチルナフタレンの調製
Claims (11)
- 一般式(I)
R-(A1-Z-)m B-CF2O-A2-(A3)n-R' (I)
Rはアルキルであり、その1つまたは2つ以上のCH2基は、相互に独立してO、CF2、CH=CH、CH=CFまたはCF=CFによって置換されていてもよく、ただしペルオキシド構造O−OおよびホルムアルデヒドアセタールO−CH2−Oは除外され、
A1は、1,4−シクロヘキシレンであり、
A2およびA3は、1,4−フェニレンであり、相互に独立して、1つ〜4つの水素はフッ素によって置換されていてもよく、
Zは、単結合であり、
Bは、2,6−二置換ナフタレンまたは2,6−二置換5,6,7,8−テトラヒドロナフタレンであり、
R' は、F、OCF3、OCF2H、CF3またはClであり、そして
mは、0または1であり、nは0である、
で示される式(I)の化合物。 - 一般式
R-(A1-Z-)m B-CF2O-A2-(A3)n-R' (I)
で示される化合物の製造方法において、
Rはアルキルであり、その1つまたは2つ以上のCH2基は、相互に独立してO、CF2、CH=CH、CH=CFまたはCF=CFによって置換されていてもよく、ただしペルオキシド構造O−OおよびホルムアルデヒドアセタールO−CH2−Oは除外され、
A1は、1,4−シクロヘキシレンであり、
A2およびA3は、1,4−フェニレンであり、相互に独立して、1つ〜4つの水素はフッ素によって置換されていてもよく、
Zは、単結合であり、
Bは、2,6−二置換ナフタレンまたは2,6−二置換5,6,7,8−テトラヒドロナフタレンであり、
R' は、F、OCF3、OCF2H、CF3またはClであり、そして
mは、0または1であり、nは0であり、
以下のステップを含む製造方法:
a)一般式
R-(A1-Z-)mBX (II)
で示される化合物の基Xの脱離による、式
R-(A 1 -Z-) m B-CO 2 H (IV)
で示されるカルボン酸またはビス(アルキルチオ)カルベニウム塩への変換。
ただし、Xはハロゲンであり、および他の記号は式(I)における定義のとおりである。
b)前記カルボン酸またはビス(アルキルチオ)カルベニウム塩の、一般式
HO-A2(-A3)n-R' (III)
で示されるフェノールとの反応により、式(I)で示される化合物を与えること。
ただし、A2、A3、R' およびnは式(I)における定義のとおりである。 - ステップa)を下記のとおりに行うことを特徴とする、請求項2に記載の製造方法:
a‘)一般式
R-(A1-Z-)mBX (II)
Xはハロゲンでありおよび他の記号は式(I)における定義のとおりである、で示される化合物の、対応するグリニャール化合物への変換、生成する前記グリニャール化合物のCO2との反応および式(IV)で示される対応するカルボン酸またはその塩の加水分解による生成。 - 式(II)のXが、Brである、請求項3に記載の製造方法。
- 前記グリニャール化合物を調製するために、式(II)で示される化合物としてB=2,6−テトラヒドロナフチルまたは2,6−ナフチルであるものとマグネシウムとの反応を、少なくとも1種の非極性溶媒および少なくとも1種の極性溶媒を含む溶媒中において、外部から加熱することによって行うことを特徴とする、請求項3または4に記載の製造方法。
- 式(I)で示される化合物の製造方法において、式(IV)で示されるカルボン酸からビスアルキルチオカルベニウム塩への変換およびかかるビスアルキルチオカルベニウム塩とフェノール(III)との酸化的脱硫フッ素化による反応によって行うことを特徴とする、請求項2〜5のいずれかに記載の製造方法。
- カルボン酸(IV)をアルキルチオールから反応せしめ、ビスアルキルチオカルベニウム塩を得ることを特徴とする、請求項6に記載の製造方法。
- アルキルチオールが、エタンジチオール、プロパンジチオールおよび1,2−ベンゼンジチオールからなる群から選択される、請求項7に記載の製造方法。
- 酸化的脱硫フッ素化において用いる酸化剤が、ハロニウム等価体を遊離せしめる化合物であることを特徴とする、請求項6〜8のいずれかに記載の製造方法。
- ハロニウム等価体を遊離せしめる化合物が、臭素である、請求項9に記載の製造方法。
- 酸化的脱硫フッ素化に用いられるフッ素化剤が、脂肪族および芳香族アミン/フッ化水素複合体、ピリジン/フッ化水素複合体、NEt3・3HF、ピリジン中の50%HF、メラミン・HFおよびポリビニルピリジン・HFであることを特徴とする、請求項6〜10のいずれかに記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10256362.4 | 2002-12-03 | ||
DE10256362 | 2002-12-03 | ||
PCT/EP2003/012039 WO2004050594A1 (de) | 2002-12-03 | 2003-10-30 | Verfahren zur herstellung von naphthalinderivaten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006519756A JP2006519756A (ja) | 2006-08-31 |
JP5214842B2 true JP5214842B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=32335918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004556094A Expired - Fee Related JP5214842B2 (ja) | 2002-12-03 | 2003-10-30 | ナフタレン誘導体の製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7276633B2 (ja) |
EP (1) | EP1581469B1 (ja) |
JP (1) | JP5214842B2 (ja) |
KR (1) | KR101052420B1 (ja) |
CN (1) | CN1732142A (ja) |
AU (1) | AU2003278156A1 (ja) |
DE (1) | DE10351434A1 (ja) |
TW (1) | TWI332494B (ja) |
WO (1) | WO2004050594A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2002220728A1 (en) * | 2000-12-12 | 2002-06-24 | Merck Patent Gmbh | Method for producing compounds having a cf2o bridge |
DE502006004996D1 (de) | 2005-09-19 | 2009-11-12 | Merck Patent Gmbh | Cyclobutan- und spiroä3.3üheptanverbindungen |
CN113264806B (zh) * | 2021-05-25 | 2022-05-31 | 山东联成化学工业有限公司 | 一种萘加氢制备四氢萘、顺式十氢萘、反式十氢萘的方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2890759B2 (ja) * | 1989-09-08 | 1999-05-17 | 住友化学工業株式会社 | 光学活性なナフタレン誘導体、その製造法、それを有効成分とする液晶組成物およびこれを用いてなる液晶素子 |
JP3287288B2 (ja) * | 1996-11-22 | 2002-06-04 | チッソ株式会社 | ポリハロアルキルエーテル誘導体とそれらを含む液晶組成物及び液晶表示素子 |
WO1999029699A1 (fr) * | 1997-12-09 | 1999-06-17 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Procede de production de derives de toluene |
JP4385202B2 (ja) * | 1998-08-24 | 2009-12-16 | Dic株式会社 | フェニルデカヒドロナフタレン誘導体 |
WO2000010952A1 (fr) * | 1998-08-24 | 2000-03-02 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Derives de decahydronaphtalene |
JP5093828B2 (ja) * | 1999-06-23 | 2012-12-12 | Dic株式会社 | フェニルデカヒドロナフタレン誘導体 |
JP2001039903A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | デカヒドロナフタレン誘導体 |
TW538117B (en) * | 2000-03-03 | 2003-06-21 | Merck Patent Gmbh | Preparation of liquid crystals having a CF2O bridge |
DE10010537A1 (de) * | 2000-03-03 | 2001-09-06 | Merck Patent Gmbh | Herstellung von Flüssigkristallen mit CF¶2¶O-Brücke |
JP5265838B2 (ja) * | 2000-07-13 | 2013-08-14 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | キラルな化合物i |
AU2002220728A1 (en) * | 2000-12-12 | 2002-06-24 | Merck Patent Gmbh | Method for producing compounds having a cf2o bridge |
DE10220549A1 (de) * | 2001-05-25 | 2002-12-05 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von ringverknüpften Verbindungen |
-
2003
- 2003-10-30 CN CNA2003801079519A patent/CN1732142A/zh active Pending
- 2003-10-30 KR KR1020057009967A patent/KR101052420B1/ko active IP Right Grant
- 2003-10-30 WO PCT/EP2003/012039 patent/WO2004050594A1/de active Application Filing
- 2003-10-30 US US10/537,307 patent/US7276633B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-30 EP EP03769471.8A patent/EP1581469B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-30 AU AU2003278156A patent/AU2003278156A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-30 JP JP2004556094A patent/JP5214842B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-11-04 DE DE10351434A patent/DE10351434A1/de not_active Withdrawn
- 2003-12-02 TW TW092133876A patent/TWI332494B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1581469B1 (de) | 2015-10-21 |
KR20050088094A (ko) | 2005-09-01 |
US7276633B2 (en) | 2007-10-02 |
TW200508189A (en) | 2005-03-01 |
US20060025615A1 (en) | 2006-02-02 |
CN1732142A (zh) | 2006-02-08 |
AU2003278156A1 (en) | 2004-06-23 |
JP2006519756A (ja) | 2006-08-31 |
DE10351434A1 (de) | 2004-06-24 |
WO2004050594A1 (de) | 2004-06-17 |
KR101052420B1 (ko) | 2011-07-29 |
TWI332494B (en) | 2010-11-01 |
EP1581469A1 (de) | 2005-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100760562B1 (ko) | Cf2o 결합을 갖는 액정의 제조 방법 | |
CN105732573B (zh) | 卤代s-(全氟烷基)-二苯并噻吩盐及其制备方法 | |
JP2009046500A (ja) | アルキル及びアリールのトリフルオロメトキシテトラフルオロスルフラン | |
Umemoto et al. | Effective methods for preparing S-(trifluoromethyl) dibenzothiophenium salts | |
Kirsch et al. | Liquid crystals with multiple fluorinated bridges in the mesogenic core structure | |
EP2812311B1 (en) | Processes for isolating fluorinated products | |
JP5214842B2 (ja) | ナフタレン誘導体の製造方法 | |
Braverman et al. | Electron depleted bis (methylene) cyclobutenes: sulfinyl and sulfonyl substitution | |
CN102718736B (zh) | 一种吡喃类含氟化合物、制备方法及其用途 | |
JP2005120073A (ja) | 液晶混合物におけるフッ素化ベンゾ[c]クロメンおよびこれらの使用 | |
JP4667607B2 (ja) | 二置換フェナントレンおよびそれらの液晶混合物における使用 | |
JPH05339261A (ja) | (ハロアルキル)ジベンゾチオ又はセレノフェニウムハロアルカンスルホナートの製造方法 | |
JP5350901B2 (ja) | テトラフルオロエチレン骨格を有する化合物の製造方法 | |
JP4356296B2 (ja) | 2−ナフトール誘導体の製造方法 | |
JP2010090114A (ja) | 1,2−ジシクロヘキシルテトラフルオロエチレン骨格を有する化合物およびその製造方法 | |
JP4547898B2 (ja) | 求電子的パーフルオロアルキル化剤、及びパーフルオロアルキル化有機化合物の製造方法 | |
WO2008009816A2 (fr) | Sulfinates et halogenures de sulfonyle aromatiques, et leur preparation. | |
JP2008266229A (ja) | Cf2cf2連結基の両側にシクロヘキシル基を有する化合物の製造方法 | |
JP3473053B2 (ja) | アセチレンアルコール類の製造法 | |
JPH05140086A (ja) | ハロゲノチオフエノールの製造方法および精製方法 | |
Tius et al. | An efficient asymmetric synthesis of a liquid crystal | |
JPS5929192B2 (ja) | α−チオ−α−芳香族置換プロピオン酸エステルの製造法 | |
JPH07126245A (ja) | (ペルフルオロアルキルセレノ)ビフェニル化合物の製造方法 | |
WO2013047751A1 (ja) | 3,4-ジヒドロイソキノリン誘導体の製造方法 | |
JPH06256240A (ja) | アセチレンアルコール化合物の製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061027 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100602 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100609 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100702 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100709 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100802 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100809 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100902 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110726 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20111026 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20111102 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120828 |
|
RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20121127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20121127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5214842 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160308 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |