TWI332494B - Process for the preparation of naphthalene derivatives - Google Patents
Process for the preparation of naphthalene derivatives Download PDFInfo
- Publication number
- TWI332494B TWI332494B TW092133876A TW92133876A TWI332494B TW I332494 B TWI332494 B TW I332494B TW 092133876 A TW092133876 A TW 092133876A TW 92133876 A TW92133876 A TW 92133876A TW I332494 B TWI332494 B TW I332494B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- group
- acid
- substituted
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 37
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 19
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 title description 6
- -1 6-substituted-naphthalene Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Natural products O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims abstract description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 3
- 150000002978 peroxides Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 53
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 26
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 11
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 7
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000006477 desulfuration reaction Methods 0.000 claims description 6
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 6
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000023556 desulfurization Effects 0.000 claims description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical class F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001356 alkyl thiols Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 3
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 claims description 3
- SGSZCFHVESJSDL-UHFFFAOYSA-N 3-propyl-3H-dithiole Chemical compound C(CC)C1SSC=C1 SGSZCFHVESJSDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 2
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 claims description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-MGCOHNPYSA-N trans-decalin Chemical group C1CCC[C@@H]2CCCC[C@H]21 NNBZCPXTIHJBJL-MGCOHNPYSA-N 0.000 claims description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 claims 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims 1
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PBQJFYWCFSNZAL-UHFFFAOYSA-N 1-bromoimidazolidine-2,4-dione Chemical compound BrN1CC(=O)NC1=O PBQJFYWCFSNZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KMGDTZJDQRIOMR-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-1,3-dithiane Chemical compound C=C1SCCCS1 KMGDTZJDQRIOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PMXRKXVFZJUCLO-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3h-dithiole Chemical compound CCC1SSC=C1 PMXRKXVFZJUCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RIQIOKOQHGSKLN-UHFFFAOYSA-N 5,5-dibromo-1,3-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CN1C(=O)N(C)C(Br)(Br)C1=O RIQIOKOQHGSKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical compound ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SYNHCENRCUAUNM-UHFFFAOYSA-N Nitrogen mustard N-oxide hydrochloride Chemical compound Cl.ClCC[N+]([O-])(C)CCCl SYNHCENRCUAUNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 claims 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentenylidene Natural products C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 claims 1
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 claims 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 230000005588 protonation Effects 0.000 claims 1
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Substances C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 abstract description 2
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 abstract 2
- 125000005714 2,5- (1,3-dioxanylene) group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([*:1])OC([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 26
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical class C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N ethenone Chemical compound C=C=O CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 4
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- WQADWIOXOXRPLN-UHFFFAOYSA-N 1,3-dithiane Chemical compound C1CSCSC1 WQADWIOXOXRPLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N dbdmh Chemical compound CC1(C)N(Br)C(=O)N(Br)C1=O VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 2
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- PBMIETCUUSQZCG-UHFFFAOYSA-N n'-cyclohexylmethanediimine Chemical compound N=C=NC1CCCCC1 PBMIETCUUSQZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 2
- APQIUTYORBAGEZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromoethane Chemical compound CC(Br)Br APQIUTYORBAGEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJKNNUJQFALRIK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trifluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1F AJKNNUJQFALRIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXWGKAYMVASWDQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dithiane Chemical compound C1CCSSC1 CXWGKAYMVASWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxybutane Chemical compound CCCCOC CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAQPFUUTSNMMQH-UHFFFAOYSA-N 10,10,10-trifluorodecane-1-sulfonic acid Chemical compound FC(CCCCCCCCCS(=O)(=O)O)(F)F XAQPFUUTSNMMQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHXLFKIUVVIOQ-UHFFFAOYSA-N 2-(trifluoromethoxy)benzaldehyde Chemical group FC(F)(F)OC1=CC=CC=C1C=O CPHXLFKIUVVIOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCXMVWTZNRQQIL-UHFFFAOYSA-N 2-decyl-1,3-dithiane Chemical compound CCCCCCCCCCC1SCCCS1 YCXMVWTZNRQQIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGVJRKCQQHOWAU-UHFFFAOYSA-N 3,4,4a,5,6,7,8,8a-octahydro-1h-naphthalen-2-one Chemical compound C1CCCC2CC(=O)CCC21 LGVJRKCQQHOWAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBNHEBQXJVDXSW-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trichlorophenol Chemical compound OC1=CC(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1 GBNHEBQXJVDXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVZFWLVZIITCSM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trifluorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C(F)=C1C(O)=O YVZFWLVZIITCSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKDOXQYWUITYNG-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrolidine-2,5-dione Chemical compound CC1C(C)C(=O)NC1=O KKDOXQYWUITYNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JINYLJXUFVYEFE-UHFFFAOYSA-N 3,5-diethyl-3H-dithiole Chemical compound C(C)C1=CC(SS1)CC JINYLJXUFVYEFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIROYDNZEPTFOL-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethylhydantoin Chemical compound CC1(C)NC(=O)NC1=O YIROYDNZEPTFOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MENYRYNFSIBDQN-UHFFFAOYSA-N 5,5-dibromoimidazolidine-2,4-dione Chemical compound BrC1(Br)NC(=O)NC1=O MENYRYNFSIBDQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSRVYSHBXCTHTR-UHFFFAOYSA-N 6-ethylnaphthalene-2-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(CC)=CC=C21 YSRVYSHBXCTHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIKOMYYLFNTVIE-VYAYZGMFSA-N C1CCC[C@@H]2C(CCC)(Br)CCC[C@@H]21 Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(CCC)(Br)CCC[C@@H]21 IIKOMYYLFNTVIE-VYAYZGMFSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKLUZMUKXYWEGD-UHFFFAOYSA-N N-bromobutan-1-imine Chemical compound CCCC=NBr OKLUZMUKXYWEGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100030361 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pph-3 gene Proteins 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEJOCWOXCDWNID-UHFFFAOYSA-N Nitrilooxonium Chemical compound [O+]#N KEJOCWOXCDWNID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical group [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical class [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical class 0.000 description 1
- 125000005910 alkyl carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005227 alkyl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007068 beta-elimination reaction Methods 0.000 description 1
- LHMHCLYDBQOYTO-UHFFFAOYSA-N bromofluoromethane Chemical compound FCBr LHMHCLYDBQOYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005508 decahydronaphthalenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 210000004268 dentin Anatomy 0.000 description 1
- RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N diazene Chemical compound N=N RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LOZWAPSEEHRYPG-UHFFFAOYSA-N dithiane Natural products C1CSCCS1 LOZWAPSEEHRYPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical compound O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940091173 hydantoin Drugs 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- IKGLACJFEHSFNN-UHFFFAOYSA-N hydron;triethylazanium;trifluoride Chemical compound F.F.F.CCN(CC)CC IKGLACJFEHSFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFHGBZLNZZVTAY-UHFFFAOYSA-N lawesson's reagent Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1P1(=S)SP(=S)(C=2C=CC(OC)=CC=2)S1 CFHGBZLNZZVTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N methanedithioic acid Chemical compound SC=S WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N methylphosphonyl difluoride Chemical group CP(F)(F)=O PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SFDJOSRHYKHMOK-UHFFFAOYSA-N nitramide Chemical compound N[N+]([O-])=O SFDJOSRHYKHMOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M phenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940031826 phenolate Drugs 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000002577 pseudohalo group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000010902 straw Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N trifluoromethane acid Natural products FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/02—Preparation of ethers from oxiranes
- C07C41/03—Preparation of ethers from oxiranes by reaction of oxirane rings with hydroxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/08—Six-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/05—Preparation of ethers by addition of compounds to unsaturated compounds
- C07C41/06—Preparation of ethers by addition of compounds to unsaturated compounds by addition of organic compounds only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C43/225—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/15—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction of organic compounds with carbon dioxide, e.g. Kolbe-Schmitt synthesis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/02—Five-membered rings
- C07D339/06—Five-membered rings having the hetero atoms in positions 1 and 3, e.g. cyclic dithiocarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/02—Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
- C07C2602/04—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
- C07C2602/10—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being six-membered, e.g. tetraline
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/02—Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
- C07C2602/14—All rings being cycloaliphatic
- C07C2602/26—All rings being cycloaliphatic the ring system containing ten carbon atoms
- C07C2602/28—Hydrogenated naphthalenes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Description
1332494 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種製備液晶化合物之方法,該等化合物 衍生自萘或萘之氫化衍生物,且其特徵在於在分子中包含 -CF2〇-橋。該方法自經鹵素取代之萘衍生物開始,該等蔡 衍生物在轉化成對應的酸後,經由格納(Grignard)化合物而 被間接轉化成目標分子。此較佳經由二硫代原g旨 (dithioortho ester)而進行0 【先前技術】 自大約30年前發現第一批商業上可使用之液晶化合物 起’已發現大量關於液晶之應用。已知應用領域爲(例如) 手錶、袖珍型計算機或電話之顯示器。其他應用領域爲揭 帶型電腦與導航系統,以及視訊應用與PC監視器之顯示 器β具體就最後提及之應用而言,對響應時間與影像對比 度要求較高。 爲可用於商業上之應用,液晶分子必須具有特定屬性。 爲可在各種氣候條件下使用具有液晶顯示器之設備該等 分子必須在室溫左右之最寬的可能的溫度範圍中,形成安 定之向列相(nematic phase)。因此,該等化合物必須具有低 熔點與高清亮點(clearing p〇int)。 爲可達成短暫之響應時間,該等分子必須具有低旋轉黏 度因此,視訊應用需要低於1 6 · 7毫秒之響應時間。此外, 液晶分子應具有高的介電各向異性,使得僅需要低臨限值 電壓。此意味著低能量需求,使得(例如在膝上型電腦中)
0 \89\89258 D0C 1332494 :使用較小且因此較輕之電池。此外,該等分子之雙折射 性對於顯示器之設計而言是重要的,該等屬性會影響對 比度與可使用之視角。 爲可同時Μ所有該等需要,不是使用純物質,而是使 用混合物’其通常包含5至15種不同組份。此意味著個別组 份必須彼此相容,意即(例如)可充分相溶。 就現代主動式矩陣顯示器而言’需要高影像對比度。因 此,液晶化合物必須具有高的電阻率及高的電壓保持率。 ^證明,具有尤其高的電阻率之液晶化合物,爲該等在 ”刀子、·Ό構中包含含氟基團之化合物。因此,例如Ερ 〇 844 229 Α1描述包含CF2〇橋之液晶化合物。已提議用於製備該 橋之各種方法。在所述該等方法中之—種中,芳族齒化物 首先被轉化成格納化合物或鋰化化合物〇ithiated compound)且接著利用一硫化碳而被轉化成二硫代缓酸。 在存在鹼金屬氫化物與碘之情況下,利用苯酚來將該二硫 代羧酸轉化成硫代酯。接著利用氟化劑來形成所要之CF2〇 橋。 在另一方法中,首先提議使環己酮與叁(二甲基胺基)膦及 一溴一氟甲炫反應,以生成二1伸甲基伸己基。首先將溴 加成至後者,且接著醚化該産物,藉由與苯酚鹽反應,同 時除去溴化氫,形成了 -CF2-0-橋。 液晶萘、萘滿及十氫萘爲人所知已有一段時間(丨982年, M. Petrzilka、K. Schleich之 Helv. Chim. Acta 65,第 1242 頁 以下,1981 年 ’ H. Zollinger等人之Helv. Chim. Acta 64,第 O:\89\89258.DOC -9- 1332494 1847頁以下’及1983年’同前66’ 1574頁以下;1988年, E· Poetsch之 Kontakte 2,第 15 頁以下。)。 儘管與包含環己基及苯環之(商業上所使用之)化合物相 比,該等化合物具有相對寬之中間相(1983年’ w Schafer、 H_ Altmann、H. Zaschke、Η·Η· Deutscher之Mol. Cryst. Liq·
Cryst. 95,第63頁以下),但是迄今爲止其尚未用於液晶顯 示器中,顯然係因爲秦·結構之增加的位阻導致較高的流動 與旋轉黏度’導致非吾人所要之延長的響應時間。 获自奈衍生物或其(部分)氫化衍生物且包含cF2〇橋之液 晶化合物被描述於 DE 40 06921 Al、JP 2000_1116370/10、 JP 1133495、WO 00/10952 Al ' JP 2001-19649與 JP 2000-355557 中。但疋,首先’經引用之文獻未指示所描述之化合物不 具有液晶萘衍生物之通常缺點(如上所述)。其次,經引用之 文獻未揭示用於製備包含(:172〇橋之萘衍生物的工業上可行 的合成方法。 【發明内容】 因此’本發明之目的係提供該種類型之方法。該目的由 一種製備下列通式化合物之方法而達成 R-(Al-Z-)mB-CF2〇-A2-(A3)n-R' ⑴ 其中 R 爲具有1至12個碳原子、較佳具有1至5個碳原子且 尤其較佳具有1、3或5個碳原子的烷基,其中一個 或多個CH2基團可個别由〇、Cf2、CH=CH、CH=CF 或CF=CF取代’附帶條件爲排除過氧化物結構〇-〇
O:\g9\892S8.DOC 1332494 及甲醛縮醛0-CH2-0, 個别爲1,4-伸環己基、2,5-l,3-伸二氧雜環己基 1,3-伸環丁基或
A2與 A3 爲Μ-伸苯基,其中,個别係丨至4個氫可由氟所取 代’或1個或2個C Η基團可由N所取代, Z 爲單鍵,-ch2-ch2-、_cf2-cf2-、_CH=CH-、 -CF=CF-、-CH=CF-或-CF=CH-, B 爲2,6-經二取代之萘、2,6-經二取代之5,6,7,8•四氫 萘或2,6-經二取代之反-十氫萘, R| 爲 R、F、OCF3、〇CF2H、CF3、Cl、SF5、CN 或 NCS ’ 且 m與η 彼此獨立地爲0或1, 該方法包括以下步驟: a) 將通式爲R-(Al_z-)mBX (II)之化合物(其中χ爲鹵素或 =〇,且其他符號如關於式⑴所定義)除去基團χ並引入 C 1單元,以轉化成緩酸衍生物; b) 使該羧酸衍生物與通式爲HO-A2(-A3)n-R| (ΠΙ)(其中 A2、A3、R|與η如關於式⑴所定義)之苯酚反應’以生 成式(I)之化合物。 【貫施方式】 在本發明之一具體實施例中,步驟a)按如下方式進行: a,)將通式爲11-(八1_2:-)〇3\ (Π)(其中χ爲鹵素,且其他符 O:\89\89258.DOC -11· 號如關於式⑴所定義)之化合物轉化成對應之格納 化合物,所得格納化合物與c〇2反應,且水解成分子 式爲R-(A|-Z丄B_c〇2H (IV)之對應敌酸或其鹽。 1本,明之另—具體實施例中,步驟a)按如下方式進行·· a )稭由使通式爲R_(ALz_)mBX (π)(其中乂爲=〇基图) 之化σ物與合適之含硫化合物反應,而將其轉化成 雙烷基硫鑌(bisalkylthionium)鹽。 具體言之’若爲2,6'經二取代之反_十氫萘,則χ=〇。 在本發明之一較佳實施例中,式(Π)中之Χ選自由ci、Br 與I組成之群》χ尤其較佳爲Βγ。 可以一種本身已知的方式來獲得式(Π)之經鹵素取代之 &物較佳藉由與對應的鹵化氫、亞硫醯鹵以丨丨廿匀 反應或藉由鹵素/PPh3,來與對應的醇類製備該等化合物。 可以DE 102 20 549 A1所描述之方式來將式(η)之化合物轉 化成對應的格納化合物,該方式與十氫萘衍生物之製備相 關。由於其組態不安定性,十氫萘衍生物之所得格納化合 物具有全反組態,意即,軸向鹵化物(axial halide)與赤道向 鹵化物(equatorial halide)兩者皆産生赤道(>(11^〇1^1)1^]51_ 衍生物。該立體化學亦保留於後成的酸(IV)或由其形成之 反應産物中^ DE 102 20 549 A1所揭示、用於製備格納化合 物之方法爲本申請案之一完整成份’且以引用的方式併入 本文中。 由於不僅爲了製備對應的2,6-十氫萘衍生物,而且爲了製 備2,6-四氫萘與2,6-萘衍生物,而在本發明中採用用於製備 O:\89\89258 D0C -12- UJ2494 、们㈤物之方法,因此下文再次簡要描述該方法。 二 自外界供熱,在包含至少-種非極性溶劑盥至,卜 一種難溶劑的溶财,式(11)(其中B=2,6十氫萘基、、^ 四虱奈基或2,6-萘基’且\=齒素)之化合物與鎮反應。 尤其有利係根據本發明之所要求的格納反應進行過裎中 無或僅有小部分導致(例如)形成HBr或HMgBr之β-消去反 應(beta-elimination)。 *合適之非極性溶劑的實例爲不包含極性基團之脂肪族盘 芳香族烴,例如己院、環己烧、苯、甲笨或二甲苯,或該 等溶劑之混合物。 < ★合適之極性溶劑的實例爲(例如)醚類,例如二乙醚、甲基 第—丁基醚、一甲氧基乙烷、四氫呋喃或二》号烷。 非極性/谷劑或其混合物與極性溶劑或其混合物之混合比 率(以體積計)通常爲⑺:丨至^,較佳爲8:1至1:1,且尤^較 佳爲6:1至2:1。 尤其較佳之溶劑混合物爲苯及/或甲苯與四氫呋喃之混 合物。此處較佳選擇5:1至3:1之混合比率。 除具有兩種組份之溶劑混合物外,該等具有3、4、5或更 多種組份之溶劑混合物亦可被採用,只要在每種狀況下存 在至少一種充分極性溶劑,且在每種狀況下存在至少一種 實質上非極性溶劑》 較佳在大氣壓下,在該溶劑混合物之沸點進行該反應。 較佳溫度範圍爲40至10(TC ,且尤其較佳爲5〇至8〇。〇:。 在一較佳實施例中,起初將以合適形態(例如以切屑形態) 0\89\89258.DOC • 13 · 1332494 存在之鎂引入至保護氣氛(例如氮氣)中且添加一些包含式 (II)之_素化合物之溶液。根據本發明,用鎂加溫以上述方 式起初引入之量,且添加合適之引發劑,例如碘或少量二 溴乙烷。當反應開始後,在一定週期内添加大多數溶液, 該週期可尚達120分鐘,且較佳在回流下,進一步將該反應 混合物加熱5至360分鐘。僅在完全添加與進行外界供熱 後,大夕數鎂反應’所需之外界供熱時間一般比先前之溶 液添加時間長。由於該格納化合物之形成未充分放熱,因 此根據本發明進行外界供熱,以維持該反應。 冷部後,以熟習此項技術者已知的方式來分離並純化該 格納化合物;較佳利用所獲得之反應溶液來進行隨後的反 應。 所獲得之格納化合物隨後與C 02反應。此時保持該分子之 立體化學(與應用於十氫奈與四氫萘衍生物兩者之流程圖I 相此)。通常在不預先分離該格納化合物的情況下製備萘_、 四氫萘-與十氫萘羧酸衍生物,意即,該格納化合物係於原 位形成且直接與C〇2反應。因此使用與前文所提及之有關格 納化合物之製備的相同溶劑。
流程圖(I) 爲避免因為乾冰表面上之冷凝水污染所導致的 Zerewitinoff反應使得格納試劑分解,以採用氣態(:〇2為佳。 反應完成後,藉由水解作用釋出羧酸。接著以本身已知 0:V89\S9258.D〇C •14· 1332494 的方式來分離該羧酸或鹽。 隨後由該羧酸形成包含-CF2〇-橋之目標化合物。有各種 可實現此種目的之可能的方式,其中的某些方式經由對應 的S旨類而進行。 在一實施例中,由酸(IV)與通式(III)H〇_A2卜A3)n_R,(其中 A2、A3、RI與η如關於式⑴所定義)之苯酚形成該等酯類’ 該等起始物質在去水條件下互相反應。在許多狀況下,使 用去水物質(例如環己基碳化二醯亞胺),或當存在鹼(吼 啶、4-二甲基胺基吡啶或三乙基胺)時,將由混合之無機酸 酐(S0C12,PCI3,POCl34PBr3)所製備的酿基鹵轉化成對應 的酯。 較佳在熟習此項技術者已知的條件下,當存在環己基碳 化二醯亞胺時’進行該反應。 製備該等酯類後’在本身已知的條件下,將後者轉化成 所要的式(I)之化合物。 較佳方法包括利用Lawesson試劑(2,4-雙(4-曱氧基苯 基)-1,2,3,4 - 一 °塞亞膦酸(dithiadiphosphetane)-2,4 -二硫酮) 進行硫化’其中形成了作爲中間物之硫酯,接著進行氧化 I 化脫硫(oxidative fluoro-desulfuration),較佳利用演化劑 來進行脫硫。 合適之氟化劑的實例包括脂肪族及芳香族胺/氟化氫錯 合物、吡啶/氟化氫錯合物、NEt3*3HF、吡啶中之50% HF、 二本亂胺*hf與聚乙稀基υ比咬*hf。 合適之氧化劑/溴化劑的實例包括析出函鑌等價物 O:\89\89258 D0C •15· 1332494 (hal〇nium equivalent)的化合物,該化合物較佳來自由二溴 海因、一甲基二溴海因、N•溴丁二醯亞胺、碘丁二醯亞 胺、1,3-二溴-5,5-二甲基海因、s〇2Cl2、s〇2C1F、亞硝鑌及 硝鑌鹽、氣胺T與溴組成之群,尤其較佳爲溴。 爲上述製備方法作參考:T Hiyama等人之Bull chem
Soc. Jpn. 73 ’ 2000,1875 ;與 Tetrahedron Letters 33,1992, 4173。 用於自酸(IV)製備醚類之最佳方法是:當存在氟化劑與 氧化劑時,藉由與式(III)之苯酚反應,來轉化成雙(烷基硫 基)碳鑌鹽(V),並將其轉化成所要的式⑴之化合物。 在以下流程圖(II)中描述該方法。 R—
I
Y
<A *2)mB*C〇2H r^a'-Z^B
一丨.丨 灸 R'iAl-Z)mB'CFa〇-A2-(A3)n-R, 流程圖(II) 在該方法中,羧酸(IV)與烷基硫醇反應以生成雙(烷基硫 基)碳錯鹽(V卜可採用羧酸衍生物(其中齒素、擬鹵素、經 取代之嶒酸鹽、烷氧基或苯氧基代替_0H基團而存在)或酐 來代替羧酸。但是,因爲此可能包含另—反應步驟,所以 非爲較佳。 較佳使用導致形成環狀陽離子之硫醇。二乙基二硫醇、 丙基二硫醇與丨’2-苯二硫醇尤其適合,它們可導致形成二硫
O:\89\89258.DOC • 16- 1332494 雜環鑌或二硫醇鏽鹽。該鹽(V )隨後與苯酚(III)反應,以生 成原醋(VI)。此通常不被分離,而是直接由氧化氟化作用 轉化成越類(I卜在W0 01/64667中描述用於製備醚類⑴之 上述方法。該方法係本申請案之一完整成份,且以引用的 方式併入本文中。 在本發明之一替代實施例中,開始自式其中,X爲=〇 基團’且B爲十氫萘基)之酮化合物獲得雙院基硫鑌鹽。以 一種本身已知的方式來進行該製備。此處可參考如:199〇 年,D.J. Ager之〇rg. React. 38,第 1至 223 頁,尤其是第 63、 95與96頁。在該方法中,酮類被添加至經脫質子化之2_甲 烷矽基-1,3-二噻烷’且當在室溫下加熱15至9〇分鐘後,視 情況在該溫度下再保持9〇分鐘。當以習知方式逐步完成添 加ΝΗβΙ溶液後,烯酮二硫縮酮因此被獲得且隨後被轉化成 雙烷基硫鏽鹽。此通常藉由酸化作用來進行。當存在氟化 劑與氧化劑時,所得之鹽接著與苯酚(111)反應,以生成化 C7物(I)。根據本發明較佳用於製備烯酮二硫縮酮之方法係 與2_甲烷矽基-1,3-二噻烷反應,2-甲烷矽基二噻烷可 視情況經取代。尤其較佳使用2•三甲基甲料基-仏二隹 烷β杈佳當存在脫質子化之化合物(例如烷基鋰,較佳爲正 丁基鋰)時進行該反應。該反應溫度較佳爲-130至(TC之值, ^其較佳自-35至(TC之值。較佳溶劑選自由醚類與鹵代烷 ’且成之群’例如二乙醚、四氫呋喃或二氣甲烷或其混合物。 在DE ιοί 053 13 A1中描述了用於自酮類製備雙(烷基硫 基)碳鑌鹽並轉化成包含CKO橋之化合物的方法。關於該方
O:\S9\M258.DOC -17· 1332494 法之DE 101 053 13 A1部分係本申請案之一完整成份,且以 引用的方式併入本文中。 用於使烯酮二硫縮酮質子化之酸是一種通式爲Η+Υ·的 酸,其中,爲非配位性或弱配位性之陰離子。γ-較佳由 鹵基、四氟硼酸根、六氟磷酸根、高氯酸根、烷基碳酸根、 芳基碳酸根、烷基磺酸根及芳基磺酸根組成之群選擇。一 方面’此處該等烷基與芳基中之複數個或所有Η原子可被氟 或氣取代。尤其較佳之酸係三氟甲烷磺酸與四氟硼酸/二乙 驗錯合物。 基於待反應之烯酮二硫縮酮,採用大約爲等莫耳分子量 之酸。較佳在-80至+3〇t:之溫度下,在惰性極性溶劑或溶 劑混合物中,進行該反應。合適之溶劑係(如)醚類與齒代烷 及其混合物,例如二乙醚、四氫呋喃或二氯甲烷。 雙(烷基硫基)碳鑌鹽較佳具有非配位性或弱配位性之陰 離子,该陰離子尤其較佳選自由四氟硼酸根、六氟磷酸根、 南氣酸根與全氟烷基磺酸根(尤其爲三氟甲烷磺酸根)形成 之群因爲該等鹽貫際上是非吸濕的,所以其便於使用。 在該等雙(烧基硫基)碳鎖、鹽與苯盼(ΠΙ)之反應巾所使用 之氧化劑可爲習知氧化劑。所採用之氧化劑較佳爲析出齒 錯等價物之化合物。例示的氧化㈣二 漠丁二醯亞胺、N-碘丁二酿亞胺、1,3-二漠-5,5-二甲基海因 與漠。因爲所得漠 ·化物可易於分離,所以氧化劑尤其較佳 爲漠。、同樣合適之氧化劑爲(例如)s〇2Ci2、s〇2cif、亞石肖錯 與硝鏑鹽’以及氣胺T。
0 \89\S9258 DOC 1332494 了知用之ι化劑爲習知1化劑。該氟化劑尤其較佳選自 由脂肪族及芳香族胺/氣化氣錯合物、_,氣化氣錯合物、 NEM3HF'吡啶中之5〇%即、三聚氰胺·即與聚乙烯基吡 啶*HF組成之群。 在以下非限制性之實例中解釋本發明: 實例1 2α 製備6β丙基_(4aa,8ap)_十氫萘(decahydr〇卿祕 羧酸
起初引入10.0 g (0.4111 mol)之鎂切屑,隨後在沸點下添 加100.0 g (0.3 86 mol)之正-丙基-順-十氫萘基溴化物(2β_溴 _6卜丙基-(4% 8ap)-十氩萘)在770 ml苯與四氫呋喃之4:1混 合物中的溶液。當完成添加時,該混合物又被回流3 0分鐘, 且隨後被冷卻至-⑺艺^接著通入c〇2(經蒸發乾冰獲得)。 溫度上升至15。(:。當反應完成時,添加水,並用HC1酸化該 混合物’再用6〇〇 ml甲基第三丁醚稀釋之。該有機相被分 離並在一旋轉式蒸發器中受到蒸發^使所得之粗產物自庚 烧再結晶’産生36.4 g (41.9%)之純度爲99.6%之结晶産物。 實例2 製備三氟曱磺酸2-(6β-丙基-(4aa,8aP)-十氫萘-2α-基) -1,3-二噻己環_2•基鏽 O:\i9\89258.00C •19- 1^32494
藉由起初引入酸與硫醇,並逐滴添加三氟甲烷磺酸,來 使實例1中所獲得之154§(〇〇69111〇1)之酸與6.9151111 (0.069 mol)之 1,3_丙烷二硫醇及 15 6 mi (〇 177 m〇i)之三氟 甲烧項酸反應。當該輕微放熱反應完成時,在120°C將該混 合物擾拌75分鐘。當該混合物已被冷卻至約8〇〇c時,添加 42 ml二丁基醚。再添加1〇〇 ml二丁基醚後,該溶液在_2〇 C下被儲存隔夜,生成了 49.2 g油,其將如此爲下一步驟所 採用。該二硫雜環鑌鹽之含量約爲5〇0/。。在_8〇。〇下用二乙 醚消化,可自以重複的配料所獲得的油生成21.9 g晶體。 實例3 製備2α-[(二氟·3,4,5_三氟苯氧基)甲基]·6β_丙基_(4⑽, 8ap)-十氫萘 ^
O:\89\8925SDOC -20- 1332494 在-70 C下’起初將實例2中所獲得的具有5〇%之假定含量 之49.2g(0_035 mol)產物,引入至3〇〇mi二氯甲烷中,且在 δ玄溫度下逐滴添加1 〇〇爪丨二氣甲烧中的23 j ml (〇. 166 mol) 三乙胺與8.75 g (0.053 mol)3,4,5-三氯苯酚的混合物。暫時 沈殿出無色固體,且該固體最後被再溶解。允許在_7〇°c下 將邊混合物攪拌1.5個小時’隨後在該溫度下逐滴添加29.75 ml畚氫氟化二乙胺(triethylamine trishydrofluoride),允許再 將该混合物攪拌30分鐘,且隨後添加48.608 g (0.170 mol) 1,3-二溴_5 5二甲基海因。又經過1 5個小時後允許將 該批物料加溫至〇°C。隨後將該黃色懸浮液小心添加至
NaC〇3溶液中’同時進行攪拌。分離該有機相,且再次以 氣甲燒萃取該水相。再次用飽和破酸氫納溶液與水來洗 滌該等组合有機相,且在減少之壓力下移除該溶劑。當經 夕膠進行兩次過遽後’該産物再結晶’生成了 7.5 g (36.20/〇) 産物 實例4 2·[(二氟-3,4,5-三氟苯氧基)甲基]-6-乙基萘之製備
O:\89\89258 DOC 1332494 在- 70°C下,起初將22.5 g (0.053 mol)三氟曱石黃酸2-(6-乙 基萘-2-基)-1,3-二噻己環-2-基鑌引入至440 ml二氣曱烷 中,且在該溫度下逐滴添加640 ml二氣甲烷中的12.689 ml (0.090 mol)三乙胺與 7.85 g (0.053 mol)3,4,5-三氣苯酚的混 合物。暫時沈澱出無色固體,且該固體最後被再溶解。該 混合物在-70°C下攪拌1 _5小時,隨後在該溫度下逐滴添加 44.942 ml叁氫氟化三乙胺,該混合物再攪拌3〇分鐘,且隨 後添加73.65 g (0.257 mol) 1,3-二溴-5,5二甲基海因。又經過 1.5個小時後,將該批物料溫至^隨後將該黃色懸浮液 小心添加至攪拌中之NaHC〇3溶液中。分離該有機相,且再 次以二氣曱烷萃取該水相。再次用飽和碳酸氫鈉溶液與水 來洗滌該等結合有機相,且在減壓下移除該溶劑。當經由 矽膠過濾並在矽膠上用庚烷/甲苯(9:1)進行層析後,該産物 再結晶,生成了 1.9 g (10.1%)産物。 以與實例1與2所描述之方式類似的方式,自6_乙基萘_2_ 羧酸獲得該起始物質三氟曱磺酸2_(6_乙基萘_2_ 噻烷-2-基鑌。 ’ 一 實例5 2_[(二氟-(3,5-二氟_4_三氟甲氧基)苯氧基)_甲基]·6_乙芙 萘之製備 i
O:\89\89258.DOC -22- 1332494
s,/ is
F
F F 在-70 C下,先將22.5 g (0.053 m〇1)三氟甲磺酸2·(6_乙基 萘-2-基)-1,3-二噻己環-2-基鑕導入44〇 ml二氯甲烷中,且在 該溫度下逐滴添加12.69 ml (0.090 m〇i)三乙胺與13.349 g (0.053 mol)3,5-二氟-4-(三氟甲氧基)笨酚在2〇〇 mi二氣甲烷 中的的混合物。暫時沈澱出無色固體,且該固體最後被再 溶解。允許在-70°C下將該混合物攪拌1 5個小時,隨後在該 溫度下逐滴添加44.942 ml叁氫氟化三乙胺,允許再將該混 合物攪拌30分鐘,且隨後添加73.65 g (〇 257 m〇1)13·二溴 -5,5二甲基海因。又經過1.5個小時後,允許將配料加溫至〇 °c。隨後將該黃色懸浮液小心添加至NaHC〇3溶液中,同時 進行攪拌。分離該有機相,且再次以二氣曱烷萃取該水相。 再次用飽和碳酸氫鈉溶液與水來洗滌該等组合有機相,且 在減少之壓力下移除該溶劑。當經由矽膠過濾後,該産物 再結晶,生成了 5.2 g (23.3%)産物。 實例6 〇:V89^9258 D〇C ·23· 1332494
將50.0 g (0.260 mol)2-三甲基矽烷基-1,3·二噻烷溶解於 900 ml THF 中,且在-70°C 下逐滴添加 167 ml (0.273 mol)己 烷中之15%正-丁基鋰溶液。允許在4小時内將該批物料逐漸 解凍至〇°C,並再冷卻至-70°C,且隨後逐滴添加100 ml THF 中的50_0 g (0.260 mol) 6-正-丙基-反-十氫萘-2-酮之溶液。 但完成添加後,取消冷卻作業’且允許將該清澈黃色溶液 擾拌隔伐·。隨後將該批物料引入至1 0 00 ml冰水中,且分離 該水相’並每次用300 ml石油醚將其萃取3次。用飽和氯化 鈉溶液洗滌該等组合有機相兩次,並以硫酸鈉乾燥。在減 少之壓力下移除該溶劑,且使該粗産物自正_庚烷再結晶, 生成了 63·2 g (82%)的爲無色固體之2_(6卜丙基_(4aa,8a仏 十虱奈基-2-伸基 _1,3_ 二噻烷(2 (6(3 pr〇pyl_(4aa 8ai3)_ decahydro-naphth-2-ylidene.l}3-dithiane)o 實例7
O:\89tf9258.DOC 24- 1332494
將 5 0.0 g (0.169 ιηο1)2-(6β-丙基-(4aot,8aP)-十氩萘基-2-伸 基-1,3-二噻烷溶解於200 ml二氣曱烷中,且小心添加14.8 ml (0.169 mol)三氟曱烷磺酸,同時用冰冷卻之。15分鐘後, 取消該冷卻作業,並再在室溫下將該混合物攪拌30分鐘。 隨後該批物料冷卻至-7〇°C,添加1〇〇 ml二氣甲烷中的42.3 ml (0.304 mol)三乙胺與 37.5 g (0.254 mol)3,4,5-三氟苯紛的 混合物,並在-70°C下將該混合物攪拌1小時。接著將136 ml (0.845 mol)叁氫氟化三乙胺添加至該溶液,且在5分鐘後, 于30分鐘内部分地添加300 ml二氣甲烷中的242 g (0.845 mol) 1,3-二溴-5,5-二甲基海因懸浮液。允許再將該混合物攪 拌60分鐘,允許該配料解凍至-20°C,且將該橙色之溶液添 加至1 1冰冷的1 Μ氫氧化鈉溶液,同時進行攪拌。分離該有 機相,且用二氣曱烷萃取該水相3次。用飽和氣化鈉溶液洗 滌該等组合有機相2次,並以硫酸鈉乾燥。當在減少之壓力 下移除該溶劑後,利用正-己烷經由矽膠過濾殘餘物,且該 O:\89\89258 DOC -25 - 1332494 粗産物自正-己烷再結晶,生成了 55.3 g (87%)呈無色晶體 (熔點:56°C)之2α-[(二氟-3,4,5-三氟苯氧基)甲基]-6β-丙基 -(4aa,8ap)-十氫萘。 O:\89\89258 DOC -26-
Claims (1)
- imjm β 12133876號專利申請案口 fjr 申請專利範圍替換本(99年4月)拾、申請專利範圍:1. 一種用於製備具有下列通式之化合物的方法 R-(A1-Z-)mB-CF20-A2-(A3)n-R' (1 其中 R 爲具有1至12個碳原子之烷基,其中一個或多 個 CH2基團可個另1J 由 0、CF2、CHsCH、CH=CF 或CF = CF所取代,先決條件爲排除過氧化物結 構0-0及甲醛縮醛o-ch2-o, A1 個別係爲1,4-伸環己基、2,5-l,3-伸二氧雜環己 基、1,3-伸環丁基或A2與A3爲1,4-伸苯基,其中,1至4個氫可個别由氟所 取代,或1個或2個CH基團可由N所取代, Z 爲早鍵,-CH2_CH2_、-CF2_CF2-、-CH=CH-、 -CF=CF_、-CH=CF_ 或 _CF=CH·, B 爲2,6-經二取代之萘、2,6-經二取代之5,6,7,8- 四氫萘或2,6 -經二取代之反-十氫萘, R' 爲 R、F、〇CF3、OCF2H、CF3、Cl、SF5、CN 或NCS,且 m與η 個別係爲〇或1, 其包括以下步驟: a) 將通式爲 (Π) 89258-990402.doc 1332494 之化合物除去基團χ,以轉化成羧酸衍生物,該 羧酸衍生物為一硫酯或雙(烷基硫基)碳鑌鹽,通式 R^A^Z-hBX (II)中,χ爲鹵素或=〇,且其他符 號如關於該式⑴所定義; b) 使該羧酸衍生物與通式爲 HO-A2(-A3)n-R' (III)之本齡進行氧化乱化脫硫反應’以生成式(i)之化 合物,通式(III)中,A2、A3、R,與n如關於該式⑴ 所定義。 2 ·如申明專利範圍第丨項之方法,其特徵在於步驟昀包含: a,)將通式爲R-(Ai_Z_)mBX („)之化合物轉化成對應的 格納化合物,形成之格納化合物與C〇2反應,且水 解成具有通式R-(A丨_Z_)mB_c〇2H (IV)之對應鲮酸 或其-,通式(II)中’ χ係爲鹵素,且其他符號如 關於式(I)所定義。3. 如申請專利範圍第15戈2項之方法,其特徵在於:該通: (11)中之X自Cl、Br與I組成之群選擇。 4. 如申請專利範圍第_項之方法,其特徵在於:爲^ 祕納化合物,在由外界供熱下,在包含至少一種非本 與至亡—種極二溶劑的溶劑中,使式(Π)之化4 B—2,6-十氫萘基、2,6_四氫萘基 與鎂反應。 ,不巷 其特徵為該格納化合5·如申請專利範圍第丨或2項之方法 89258-990402.doc -2. 物之反應使用氣體C02進行。 6.如申請專利範圍第2項之方法,其特徵在於:藉由在去 水條件下反應,自該等酸(IV)與通式(III) H〇_A2(_A3)n_R, 之苯紛類製得該等醋類,式⑽中,a2、八3、R,與η如 關於式(I)所定義。9. 如申請專利範圍第1或2項之方法,其特徵在於:將該等 ,酸(IV)轉化成該等雙(燒基硫基)碳鏽鹽,並使之與該 苯酚(ΠΙ)行氧化氟化脫硫反應獲得該等醚類(1)。 如申請專利範圍第7項之方法,其特徵在於··該Μ(ιν) # 與烷基硫醇反應以生成該雙烷基硫鑌鹽。 如申請專利範圍第8項之方法,其中該院基硫醇係一環 狀院基硫醇。 1〇·如申請專利範圍第8項之方法,其中該烧基硫醇係為乙 基二硫醇、丙基二硫醇或1,2-苯二硫醇。 11·如申請專利_第丨項之方法,其特徵在於:該敦化脫 硫作用中所採用之氧化劑爲釋出_等價㈣化合物。 12. 如中請專利範圍第11項之方法,其中該氧化劑係選自由 一溴海因、二甲基二溴海因、N-漠 ' J 亞胺、Ν·峨丁 一醯亞胺、1,3_二漠 T 暴海因、S02C12、S02C1F、 亞硝鏽及硝鏽鹽、氯胺丁與溴組成之群。 13. 如申請專利範圍第1項之方法,豆 /、将徵為该氟化劑選自 脂族及芳族胺/氟化氫錯合物、 叱啶/虱化氫錯合物、 NEt3*3HF、在吡啶中之5〇% HF、= —4氧胺· HF盘聚乙 烯基吡啶*HF。 89258-990402.doc —申π專利|&圍第1或6項之方法,其特徵為該硫酯係由 -賴類於氧化劑存在下與氟化劑反應所形成。 .如申請專利範圍第1之方法,其特徵在於步驟a)係依 如下方式進行: a )藉由使通式爲R_(Ai_z_)mBX(n)之化合物與合適之 含硫化合物反應,而將其轉化成雙(烷基硫基)碳鏽 鹽’通式(II)中’ X爲基團。 鲁16.如中請專利範圍第⑽之方法,其特徵為稀酮二硫縮嗣 係藉由在脫質子化合物(以烷基鋰為佳,尤其是正丁基 鋰)存在下,使(11)與可視情況經取代之2-甲矽烷基-1,3 _ 二噻烷(2-三甲基平矽烷基十^二噻烷較佳)反應而製 備,Ik後杈佳藉由酸化作用而轉化成雙(烷基硫基)碳鏽 鹽。 17. 如申請專利範圍第15或16項之方法,其特徵為該質子化 作用所使用之酸是一種通式爲Η+γ-的酸,較佳是三氟甲 • 基磺酸或四氟硼酸/二乙醚錯合物。 18. 如申請專利範圍第15或16項中任一項之方法,其特徵為 該雙(烷基硫基)碳鏽鹽具有非配位性或弱配位性陰離 子,該陰離子較佳係選自由四氟硼酸根、六氟磷酸根、 高氯酸根與全氟烷基磺酸根,尤其係三氟甲基磺酸根所 組成之群。 89258-990402.doc
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10256362 | 2002-12-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200508189A TW200508189A (en) | 2005-03-01 |
TWI332494B true TWI332494B (en) | 2010-11-01 |
Family
ID=32335918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092133876A TWI332494B (en) | 2002-12-03 | 2003-12-02 | Process for the preparation of naphthalene derivatives |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7276633B2 (zh) |
EP (1) | EP1581469B1 (zh) |
JP (1) | JP5214842B2 (zh) |
KR (1) | KR101052420B1 (zh) |
CN (1) | CN1732142A (zh) |
AU (1) | AU2003278156A1 (zh) |
DE (1) | DE10351434A1 (zh) |
TW (1) | TWI332494B (zh) |
WO (1) | WO2004050594A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE50106346D1 (de) * | 2000-12-12 | 2005-06-30 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur herstellung von verbindungen mit einer cf2o-brücke |
US7744968B2 (en) | 2005-09-19 | 2010-06-29 | Merck Patent Gmbh | Cyclobutane and spiro[3.3]heptane compounds |
CN113264806B (zh) * | 2021-05-25 | 2022-05-31 | 山东联成化学工业有限公司 | 一种萘加氢制备四氢萘、顺式十氢萘、反式十氢萘的方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2890759B2 (ja) * | 1989-09-08 | 1999-05-17 | 住友化学工業株式会社 | 光学活性なナフタレン誘導体、その製造法、それを有効成分とする液晶組成物およびこれを用いてなる液晶素子 |
JP3287288B2 (ja) * | 1996-11-22 | 2002-06-04 | チッソ株式会社 | ポリハロアルキルエーテル誘導体とそれらを含む液晶組成物及び液晶表示素子 |
CA2313760A1 (en) * | 1997-12-09 | 1999-06-17 | Yusuke Hamada | Process for preparing toluene derivatives |
KR100447438B1 (ko) * | 1998-08-24 | 2004-09-04 | 다이니혼 잉키 가가쿠 고교 가부시키가이샤 | 데카하이드로나프탈렌 유도체 |
JP4385202B2 (ja) * | 1998-08-24 | 2009-12-16 | Dic株式会社 | フェニルデカヒドロナフタレン誘導体 |
JP5093828B2 (ja) * | 1999-06-23 | 2012-12-12 | Dic株式会社 | フェニルデカヒドロナフタレン誘導体 |
JP2001039903A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | デカヒドロナフタレン誘導体 |
TW538117B (en) * | 2000-03-03 | 2003-06-21 | Merck Patent Gmbh | Preparation of liquid crystals having a CF2O bridge |
DE10010537A1 (de) * | 2000-03-03 | 2001-09-06 | Merck Patent Gmbh | Herstellung von Flüssigkristallen mit CF¶2¶O-Brücke |
DE60132456T2 (de) * | 2000-07-13 | 2009-01-08 | Merck Patent Gmbh | Chirale verbindungen i |
DE50106346D1 (de) * | 2000-12-12 | 2005-06-30 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur herstellung von verbindungen mit einer cf2o-brücke |
DE10220549A1 (de) * | 2001-05-25 | 2002-12-05 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von ringverknüpften Verbindungen |
-
2003
- 2003-10-30 WO PCT/EP2003/012039 patent/WO2004050594A1/de active Application Filing
- 2003-10-30 KR KR1020057009967A patent/KR101052420B1/ko active IP Right Grant
- 2003-10-30 EP EP03769471.8A patent/EP1581469B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-30 AU AU2003278156A patent/AU2003278156A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-30 JP JP2004556094A patent/JP5214842B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-30 US US10/537,307 patent/US7276633B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-30 CN CNA2003801079519A patent/CN1732142A/zh active Pending
- 2003-11-04 DE DE10351434A patent/DE10351434A1/de not_active Withdrawn
- 2003-12-02 TW TW092133876A patent/TWI332494B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2003278156A1 (en) | 2004-06-23 |
JP2006519756A (ja) | 2006-08-31 |
CN1732142A (zh) | 2006-02-08 |
JP5214842B2 (ja) | 2013-06-19 |
KR20050088094A (ko) | 2005-09-01 |
TW200508189A (en) | 2005-03-01 |
EP1581469A1 (de) | 2005-10-05 |
DE10351434A1 (de) | 2004-06-24 |
EP1581469B1 (de) | 2015-10-21 |
US7276633B2 (en) | 2007-10-02 |
KR101052420B1 (ko) | 2011-07-29 |
WO2004050594A1 (de) | 2004-06-17 |
US20060025615A1 (en) | 2006-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5037999B2 (ja) | Cf2o結合を有する液晶の製造 | |
Seed et al. | Synthesis, transition temperatures, and optical properties of various 2, 6-disubstituted naphthalenes and related 1-benzothiophenes with butylsulfanyl and cyano or isothiocyanato terminal groups | |
BRPI0907417B1 (pt) | Process for the selective deprotation and functionalization of 1-fluoro-2-substituted-3-chlorobenzenes | |
JPS6059948B2 (ja) | ジフエニルエタン核を含む式を有する液晶材料 | |
JP2004538244A (ja) | 環状フッ素化カルボン酸オルトエステルおよび相応する化合物を合成するための方法 | |
TWI332494B (en) | Process for the preparation of naphthalene derivatives | |
TWI478911B (zh) | 2,5-硒吩衍生物及2,5-碲吩(2,5-tellurophene)衍生物 | |
JP2004515535A (ja) | Cf2oブリッジを有する化合物の製造方法 | |
CN106244168A (zh) | 含有二氟甲氧基桥键及多氟联苯基的含氟液晶及其组合物 | |
JPH05286872A (ja) | シス−1,4−置換2−ブテン誘導体 | |
JP2005325110A (ja) | フッ素化縮合芳香族化合物およびそれらの液晶混合物における使用 | |
JP4667607B2 (ja) | 二置換フェナントレンおよびそれらの液晶混合物における使用 | |
JP2005120073A (ja) | 液晶混合物におけるフッ素化ベンゾ[c]クロメンおよびこれらの使用 | |
JP4496770B2 (ja) | 1−ハロゲノ−2−アルコキシナフタレン誘導体およびその製造方法 | |
JP5584444B2 (ja) | 1,2−ジシクロヘキシルテトラフルオロエチレン骨格を有する化合物およびその製造方法 | |
JP4329306B2 (ja) | ベンゾニトリル誘導体及びその製造方法 | |
JP6489369B2 (ja) | ジフルオロメチルエーテル骨格を有する化合物の製造方法及びその製造中間体化合物 | |
JPH062696B2 (ja) | トラン型新規液晶化合物 | |
JP3183361B2 (ja) | ブテン誘導体 | |
JP4300450B2 (ja) | ベンゾニトリル誘導体及びその製造方法 | |
JPH0212951B2 (zh) | ||
JP2508142B2 (ja) | 新規フッ素系シクロヘキセニルシクロヘキサン誘導体 | |
JPS642114B2 (zh) | ||
JP4115002B2 (ja) | 液晶化合物 | |
JPS6197293A (ja) | 2−(4′−置換フエニル)−5−(4″−置換フエニル)−1,3,2−ジオキサボリナン化合物,その製造法及びそれを含有する液晶組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |