JP5214828B2 - フリーラジカル開始剤とインドリンニトロキシドラジカル制御剤との存在下でエチレンを制御下に高圧ラジカル重合または共重合する方法 - Google Patents
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Description
上記のフリーラジカルは一つの同一の重合開始/制御化合物から得ることもできる。
高温高圧下でフリーラジカル開始剤を用いてエチレンを重合する方法は古くから知られている。この場合、エチレンのポリマーは約50〜500MPaの圧力下、50〜300℃の温度で連続運転される重合系でのエチレンの単独重合またはエチレンと少なくとも一種の他のコモノマーとの共重合によって得られる。この重合は管状連続反応器または攪拌機を備えたオートクレーブ中で開始剤の存在下(必要な場合にはさらに移動剤の存在下)に行われる。得られたポリマーを反応器から出した後に分離器で揮発性物質を分離する。
本発明の特に有利な実施例では、安定なフリーラジカル制御剤(SFR・)が〔化17〕で表されるラジカル(II)の中から選択される:
R1,R2,R3,R4は互いに同一でも異なっていてもよく、互いに独立して水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、OH、-OR5(R5はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基、-COOH、-COOR6を表し、R6はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基を表し)またはCNを表すか、R3とR4とが互いに結合して=X基(XはOまたは=NR7を表し、R7はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基を表す)を表し、R1〜R6の定義のアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基は置換基を有していてもよく、Aは上記定義のものを表す]
R3およびR4が互いに結合して=X(Xは上記定義のもの)となり、且つ/または、
R1がフェニルまたはメシチル等のアリール基を表し、R2がメチル、エチル、i-プロピルまたはn-ブチル等のC1-C4アルキル基、フェニル等のアリール基、ベンジル基またはアリル基を表すのが好ましい。
この群の化合物(IIa)の中ではR8〜R11が水素を表すものが挙げられる(これらのうちの少なくとも1つをメチル基で置換することもできる(例えばAがメシチル基である化合物)。特に、1,2-ジヒドロ-2,2-ジフェニル-3-フェニルイミノ-3H-インドール−N-オキシルが挙げられる。
さらに、この化合物(IIa)の中では〔化19〕〜〔化22〕で表される化合物(IIa1)〜(IIa4)が挙げられる:
式(I)の環の鎖Aがアントラセンのような多環式炭化水素基の一部をなすこともできる。
ジアシルペルオキシドの例としては、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、デカノイルペルオキシド、3,5,5-トリメチルヘキサノイルペルオキシド、およびアセチルシクロヘキシルスルホニルペルオキシドが挙げられる。
(1)tert-ブチルペルオキシベンゾエート
(2)tert-ブチルペルオキシアセテート
(3)tert-ブチルペルオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート
(4)tert-アミルペルオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート
(5)2,5-ジメチル-2,5-ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン
(6)00-tert-ブチル0-イソプロピルモノペルオキシカルボネート
(7)00-tert-ブチル0-(2-エチルヘキシル)モノペルオキシカルボネート
(8)00-tert-アミル0-(2-エチルヘキシル)モノペルオキシカルボネート
(9)tert-ブチルペルオキシイソブチレート
(10)tert-ブチルペルオキシ-2-エチルヘキサノエート
(11)tert-アミルペルオキシ-2-エチルヘキサノエート
(12)2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルペルオキシ)ヘキサン
(13)tert-ブチルペルオキシピバレート
(14)tert-アミルペルオキシピバレート
(15)tert-ブチルペルオキシネオドデカノエート
(16)tert-ブチルペルオキシイソノナノエート
(17)tert-アミルペルオキシネオドデカノエート
(18)α-クミルペルオキシネオドデカノエート
(19)3-ヒドロキシ-1,1-ジメチルブチルペルオキシネオドデカノエート
(20)tert−ブチルペルオキシマレエート。
(1)2,5-ジメチル−2,5−ジ(tert-ブチルペルオキシ)-3-ヘキシン
(2)ジ-tert-ブチルペルオキシド
(3)ジ-tert-アミルペルオキシド
(4)1,3-ジ(tert-ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン
(5)2,5-ジメチル-2,5-ジ(tert-ブチルペルオキシ)ヘキシン
(6)1,1,4,4,7,7-ヘキサメチルシクロ-4,7-ジペルオキシノナン
(7)3,3,6,6,9,9-ヘキサメチルシクロ-1,2,4,5-テトラオキサノナン。
(1)1,1-ジ(tert-ブチルペルオキシ)シクロヘキサン
(2)1,1-ジ(tert-ブチルペルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン
(3)エチル3,3-ジ(tert-ブチルペルオキシ)ブチレート
(4)エチル3,3-ジ(tert-アミルペルオキシ)ブチレート
(5)n-ブチル4,4-ジ(tert-ブチルペルオキシ)バレレート
(6)2,2-ジ(tert-ブチルペルオキシ)ブタン
(7)1,1-ジ(tert-アミルペルオキシ)シクロヘキサン
(8)2,2-ビス[4,4-ジ(tert-ブチルペルオキシ)シクロヘキシル]プロパン。
(1)tert-ブチルヒドロペルオキシド
(2)tert-アミルヒドロペルオキシド
(3)クミルヒドロペルオキシド
(4)2,5-ジメチル-2,5-ジ(ヒドロペルオキシ)ヘキサン
(5)ジイソプロピルベンゼンモノヒドロペルオキシド
(6)パラメンタンヒドロペルオキシド。
(1)ジ(2-エチルヘキシル)ペルオキシジカルボネート
(2)ジシクロヘキシルペルオキシジカルボネート。
換言すれば、重合開始/制御化合物は解離時にフリーラジカル開始剤と安定なフリーラジカルとを媒体中に発生する。これらは一官能価のラジカルである。重合開始/制御化合物の例は以下に示す。
本発明の第1変形例では、重合開始/制御化合物として〔化23〕で表される化合物(IIIa)、(IIIb)および(IIIc)の中から選択される一官能価のラジカル(Z・)を発生できる化合物が選択される:
R32,R33,R34,R35,R36,R37,R38は互いに独立して、必要に応じて置換されていてもよいC1-24アルキル、必要に応じて置換されていてもよいC1-24アリールを表し、R32,R33,R34,R35,R36,R37が互いに独立して水素原子を表すこともできる)
この第1変形例では例えば重合開始/制御化合物として〔化24〕、〔化25〕または〔化26〕で表される化合物(IIIa1)、(IIIb2)および(IIIc3)の中から選択される少なくとも一種の一官能価のラジカル(Z・)を発生できる化合物が選択される:
特に、重合開始/制御化合物として、0・を0-ヘキシル等の0-アルキルまたは0-スチリルで置換した上記化合物(II)を選択することができる。
従って、重合開始/制御化合物としては1,2-ジヒドロ-2,2-ジフェニル-3-フェニルイミノ3H-インドールN-オキシヘキシルを選択することができる。
(1)Berti,C.、Colonna M.、Greci, L.、Marcretti, L.、Tetrahedron、1975年、第31版、1745頁
(2)Carloni,P.、Greci,L.、Stipa,P.、J.Org.Chem.、1991年、第56版、4733〜4737頁
(3)Albertini A.、Carloni,P.、Greci,L.、Stipa,P.、Neri,C.、Polym.Degrad.Stab.、1993年、第39版、215〜224頁
(4)Stipa,P.、Greci,L.、)Carloni,P.、Damiani,E.、Polym.Degrad.Stab.、1997年、第55版、323〜327頁。
第2変形例では、重合開始/制御化合物として〔化27〕で表されるラジカル(Z・)を発生できる化合物(IV)が選択される:
Z1は−官能価のラジカル開始剤(z1・)の開始断片、例えば上記のラジカル(Z・)等を表し、
(PM)1は、フリーラジカル開始剤(Z1・)と上記定義の少なくとも一種のフリーラジカル制御剤(SFR・)との存在下でラジカル重合可能な少なくとも一種のモノマーのリビングラジカル重合または共重合によって得られるポリマーブロックを表し、
(PM2は、開始剤(Z1-(PM)1・)と上記定義の少なくとも一種のフリーラジカル制御剤(SFR・)との存在下でラジカル重合可能な少なくとも一種のモノマーのリビングラジカル重合または共重合によって形成される、必要に応じて存在する(PM)1以外の他のポリマーブロックを表す)
TおよびUは互いに独立して水素または置換されていてもよいC1-10アルキル基を表し、
VおよびWは互いに独立して水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアリールまたは〔化29〕で表される化学式の基を表し、
nは重合度を表し、特に10,000に達することもある]
この第2変形例はマクロな重合開始/制御化合物を使用するものである。このマクロな重合開始/制御化合物の「マクロ開始」部分は、エチレンが少なくとも一種のブロックの製造に関与する(T=U=V=W=H)場合には高圧下(例えば>100MPa)で、逆の場合には低圧下で、リビングラジカル(共)重合による公知の方法で製造できる。
本発明で得られる(コ)ポリマーの分子量は制限されない。重合または共重合条件(特にモノマーをポリマーまたはコポリマーに変換する時間、温度または変換度)によって各種の異なる分子量のポリマーを製造することができる。特に、エチレン重合の場合には、本発明方法で重量平均分子量がポリエチレン当量で70,000以上で、数平均分子量がポリエチレン当量で20,000以上であるポリエチレンを得るのに十分な温度、圧力、時間が用いられる。
本発明ではエチレンとラジカル重合または共重合可能な炭素−炭素二重結合を有する他の任意のモノマーとを共重合することができる。コモノマーは(エチレン以外の)ビニル、アリル、ビニリデン、ジエン、オレフィンモノマーの中から選択することができる。
(メタ)アクリレートは特に〔化30〕で表されるものと、さらには、グリシジル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレートまたはイソボルニル(メタ)アクリレートを意味する:
ビニルエステルとしては酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、塩化ビニルおよび弗化ビニルを挙げることができ、ビニルエーテルとしてはビニルメチルエーテルおよびビニルエチルエーテルを挙げることができる。
ビニリデンモノマーとしては弗化ビニリデンが挙げられる。
好ましいコモノマーは酢酸ビニル、n-ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、メチルメタクリレートおよび無水マレイン酸である。
本発明方法は管状反応器またはオートクレーブ中あるいは両者を組合せて行われる。
オートクレーブおよび管状反応器を用いるプロセスは両者とも当業者に周知な「高圧」重合法とよばれる重合法に含まれる。これら2つの方法では高圧下、一般に100〜350Mpaで、生成時のポリエチレンの溶融温度より高い温度でエチレンをラジカル重合する。管状反応器を用いる方法では管状反応器内で重合する。管状反応器は内径が一般に1〜10cmで、長さが一般に0.1〜3kmの円筒で、反応混合物は速い線速度、一般に毎秒2mで移動し、反応時間は例えば0.1〜5分にすることができる。
オートクレーブを用いる方法では、単一反応帯域の場合、長さ/直径比が一般に1〜25のオートクレーブで重合する。複数の反応帯域を有し、反応混合物を長さ方向へ流す場合には各帯域の長さ/直径比は一般に0.5〜6にする。
本発明はさらに、開始ラジカル(Z・)から生じるZ断片を一端に有し、インドリンニトロキシドラジカル(SFR・)から生じるSFR断片を他端または移動反応に従って鎖に沿って有するエチレンのホモポリマーまたはランダムコポリマーに関するものである。
〔化31〕で表される短い鎖を生じる分子間移動(バックバイティング(back biting)ともよばれる):
本発明はさらに、少なくとも一種のブロック成分としてエチレンを含む〔化33〕の化学式で表されるブロックコポリマーに関するものである:
Zはラジカル開始剤から生じる開始断片を表し、
PM)1、(PM)2、(PM)3はラジカル重合可能な少なくとも一種のモノマーの重合によって得られる互いに異なる3つのポリマーブロックを表し、(PM)2は任意成分であり、
SFRは請求項1〜11のいずれか一項に記載のフリーラジカル制御剤(SFR・)から生じるフリーラジカル制御剤断片を表し、このSFR断片はコポリマー鎖の末端か、SFR断片を有するポリマーブロック(PM)3鎖に沿って位置することができる)
このブロックコポリマーの製造は単一または複数の反応器で行うことができる。単一反応器で行う場合は、第1ブロックを製造するのに用いた部分とは別の帯域にモノマーを導入して第2ブロックを製造する。また、エチレンを加える必要がある際にまず初めに高圧下(例えばP>100MPa)で行い、次いで、この段階で高圧下に得られたポリマーをコポリマーを製造するためのマクロ開始剤として用いることもできる。この2番目の操作は低圧(例えばP<100MPa)で運転する任意の型の反応器で行うことができる。
ポリスチレン-(b)-ポリエチレン、
ポリアクリレート-(b)-ポリエチレン、
ポリメタクリレート-(b)-ポリエチレン、
ポリ(スチレン-(co)-アタリレート)-(b)-ポリエチレン、
ポリスチレン-(b)-ポリ(エチレン-(co)-アタリレート)、
ポリスチレン-(b)-ポリ(エチレン-(co)-酢酸ビニル)。
本発明はさらに、本発明の少なくとも一種のエチレンのホモポリマーまたはランダムコポリマーおよび/または本発明の少なくとも一種のブロックコポリマーおよび/または従来法で製造される少なくとも一種のエチレン(コ)ポリマー(例えばLDPEまたはHDPE)との混合物を含み、少なくとも一種の一般的な添加剤を含むことができるポリマー組成物に関するものである。
以下、本発明方法によるポリマーの製造法の比較例および実施例を説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
以下の実施例では下記の略語を用いる:
TEMPO:〔化34〕で表される2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシ
Hexyl-TEMPO存在下、200MPa、160℃でのエチレンの非制御重合
耐圧鋼からなる金属反応器をリングヒーターを用いて160℃の温度に予熱する。6Mpaのエチレンで数回、次いで100MPaのエチレンでパージした後、反応器にエチレン(19.2g)を充填する。次いでシリンジを用いて下記の化合物を注入する:
1)0.01626gのHexyl-TEMPO(エチレンに対して103モルppmのフリーラジカル)、2)0.804gのヘプタン。
3時間後、エチレンは重合していなかった。
この結果は電子常磁性分光測定と一致している。電子常磁性分光測定ではTEMPOのシグナルの出現を認めるにはHexyl-TEMPOを200℃以上の温度に加熱する必要があることがわかる。ポリエチレン鎖とTEMPOとの結合は同じ種類であり、従って、エチレンを重合するためには200℃以上の温度に加熱する必要がある。
200MPa、160℃での重合開始/制御化合物ヘキシル−CR1によるエチレン重合
実施例1の運転条件を繰返したが、19.09gのエチレンを用い、0.01626gのHexyl-TEMPOの代わりに0.03147gのHexyl-CR1(エチレンに対して101モルppmのフリーラジカル)を用いた。
時間の関数としてのln(1/(1−変換率))曲線を用いて重合の制御状態を評価した。曲線が直線に近づく程よく制御できているということを意味する。
時間の経過とともに〔表1〕の結果が得られた:
実施例2の実験を時間を変えて数回繰返し、異なる変換度のポリエチレンを単離した。
ポリエチレンを145℃のトリクロロベンゼンに溶解させた後、ポリエチレンの分子量を立体除外クロマトグラフィーを用いて求めた。分子量はポリエチレン当量で表した。ピーク分子量はクロマトグラフィーのピーク時に測定される分子量である。
多分散指数が変換率とともに増加しているが、このことは必ずしも重合の制御の低下を示すものではない。なぜなら、多分散指数は分子間移動の結果として増加するからである。分子間移動はカウンタラジカルの存在下でも起こる。米国特許第5,449,724号には多分散指数が1.0~2.0であるエチレン(コ)ポリマーが開示されているが、本発明ではそれより高い多分散指数を有するポリマーを得ることができ、ある種の用途(例えばフィルムの製造)や特定の流動学的特性を与えるのに有利である。
エチレン重合がHexyl-CRlのような化合物によって上記のような速度でよりよく制御できるということはこれまで全く知られていなかった。
ニトロシキシドTEMPOとニトロキシドCRlの熱安定性の比較
温度が可変なBruker社のB-VT-2000装置を備えたBrukerモデルEMX分光計を用いて熱安定性試験を行った。この試験は5×10-4Mのニトロキシド濃度のジフェニルエーテル中で行った。予め活性化した中性アルミナ90にジフェニルエーテルを通し、凍結−減圧−解凍サイクルを数回行ってサンプルを脱酸棄した。次に、サンプルを分光計の空洞部に入れ、200℃で6時間加熱する。スペクトルを5分毎に記録し、ニトロキシド濃度の変化をEPRスペクトルの二重積分によって求める。
基準積分は200℃のニトロキシドの第1スペクトルに対応する積分である。
結果は〔表3〕に示してある。
TEMPO:6.6%/時
CRl: 0.83%/時。
従って、CRlは熱的により安定なカウンタラジカルである。
Claims (31)
- 少なくとも一つのフリーラジカル開始剤(Z・)と、〔化2〕で表されるラジカル(II)の中から選択される少なくとも一種の安定なフリーラジカル制御剤(SFR・)との存在下で、エチレンの重合またはエチレンとビニル、アリル、ビニリデンおよびジエンの中から選択されるコモノマーとの共重合を高圧下にラジカル重合する方法:
【化2】
[ここで、
Aはそれが結合した2つの炭素原子と一緒に芳香族環を形成する炭化水素鎖であり、この芳香族環は置換基を有していてもよく、また、必要に応じて置換されていてもよい芳香族または脂肪族の一つまたは複数の並列環を有していてもよく、窒素原子に対してα位およびβ位にある窒素環を形成する炭素原子は水素原子または置換基を有することができ、
R1はアリール基を表し、R2はC1〜C4アルキル基、アリール基、ベンジル残基またはアリル残基を表し、R3およびR4は互いに同一でも異なっていてもよく、互いに独立して水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、OH、-OR5(R5はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基、-COOH、-COOR6(R6はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基を表し)またはCNを表し、またR3とR4とが互いに結合して=X基(XはOまたは=NR7を表し、R7はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基を表す)を形成してもよく、R1〜R6で定義のアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基は置換基を有していてもよい] - R1およびR2の少なくとも1つのラジカルのモル質量が15以上である請求項1に記載の方法。
- R3とR4とが互いに結合して=Xを形成し、Xが請求項1に定義のものである請求項1または2に記載の方法。
- R8〜R11がそれぞれ水素を表し、これらの少なくとも1つがメチル基で置換されていてもよい請求項4に記載の方法。
- 安定なフリーラジカル制御剤(SFR・)が1,2-ジヒドロ-2,2-ジフェニル-3-フェニルイミノ-3H-インドール-N-オキシルである請求項5に記載の方法。
- フリーラジカル開始剤(Z・)がジアシルペルオキシド、ペルオキシエステル、ジアルキルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、クミル-tert-ブチルペルオキシド、ペルオキシケタール、ヒドロペルオキシドおよびペルオキシジカルボネートの中から選択される化合物から得られる請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- フーラジカル開始剤(Z・)を発生する化合物/モノマーの比が0.0005〜20重量%である請求項8に記載の方法。
- 安定なフリーラジカル制御剤(SFR・)/モノマーの比が0.0005〜15重量%である請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 化合物(I)の安定なフリーラジカル制御剤(SFR・)/フリーラジカル開始剤(Z・)を発生する化合物の比が0.1〜5である請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- フリーラジカル開始剤が、重合または共重合条件下で分解して(1)一官能価のフリーラジカル開始剤(Z・)と、(2)(共)重合状態下で安定している請求項1〜6のいずれか一項に定義の安定なフリーラジカル(SFR・)とを発生することが可能な少なくとも一種の重合開始/制御化合物から得られる請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 重合開始/制御化合物として、-O・が-O-アルキルまたは-O-スチリルで置換された請求項1〜6のいずれか一項に記載の化学式(II)の化合物が選択される請求項12〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 重合開始/制御化合物として1,2-ジヒドロ-2,2-ジフェニル-3-フェニルイミノ−3H-インドール−N-オキシヘキシルを選択する請求項15に記載の方法。
- (重合開始/制御化合物)/モノマーの比を0.0001〜10重量%にする請求項12〜15のいずれか一項に記載の方法。
- (重合開始/制御化合物)/モノマーの比を0.0005〜5重量%にする請求項17に記載の方法。
- 100〜300MPaの圧力下で行う請求項1〜18のいずれか一項に記載の方法。
- 150〜250MPaの圧力下で行う請求項19に記載の方法。
- 100〜300℃の温度で行う請求項1〜20のいずれか一項に記載の方法。
- 120〜250℃の温度で行う請求項21に記載の方法。
- 重量平均分子量がポリエチレン当量で70,000以上であり、数平均分子量がポリエチレン当量で20,000以上であるポリエチレンを得るのに十分な温度、圧力、時間でエチレンを重合する請求項1〜21のいずれか一項に記載の方法。
- 溶媒の存在下で行う請求項1〜23のいずれか一項に記載の方法。
- 溶媒がベンゼン、トルエン、キシレン、ヘプタン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、アミルアルコール、ジメチルスルホキシド、グリコール、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランおよびこれらの混合物の中から選択される請求項24に記載の方法。
- 溶媒/重合成分の重量比が5以下である請求項24または25に記載の方法。
- 移動剤の存在下で行う請求項1〜26のいずれか一項に記載の方法。
- エチレンと、ビニル、アリル、ビニリデン、ジエン、オレフィンモノマーの中から選択される少なくとも一種のコモノマーとの共重合を行う請求項1〜27のいずれか一項に記載の方法。
- 管状反応器またはオートクレーブ中あるいは両者を組合せて行う請求項1〜28のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載のラジカル開始剤(Z・)から生じるZ断片を一端に有し、ラジカル(SFR・)から生じるSFR断片を他端または移動反応で得られる鎖に有するエチレンのホモポリマーまたはエチレンとビニル、アリル、ビニリデンおよびジエンの中から選択されるコモノマーとのランダムコポリマー。
- 請求項30に記載の少なくとも一種のエチレンのホモポリマーまたはランダムコポリマーおよび/または従来法で製造された少なくとも一種のエチレン(コ)ポリマーの混合物からなり、少なくとも一種の添加剤を含んでいてもよいポリマー組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0000990A FR2804118B1 (fr) | 2000-01-26 | 2000-01-26 | Procede de polymerisation ou copolymerisation radicalaire controlee de l'ethylene sous haute pression en presence de radicaux libres amorceurs et de radicaux nitroxydes indoliniques controleurs |
FR0000990 | 2000-01-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001213907A JP2001213907A (ja) | 2001-08-07 |
JP5214828B2 true JP5214828B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=8846329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001017066A Expired - Fee Related JP5214828B2 (ja) | 2000-01-26 | 2001-01-25 | フリーラジカル開始剤とインドリンニトロキシドラジカル制御剤との存在下でエチレンを制御下に高圧ラジカル重合または共重合する方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6531556B2 (ja) |
EP (1) | EP1120430B1 (ja) |
JP (1) | JP5214828B2 (ja) |
KR (1) | KR100742143B1 (ja) |
CN (1) | CN1183169C (ja) |
AT (1) | ATE279453T1 (ja) |
CA (1) | CA2332493C (ja) |
DE (1) | DE60106302T2 (ja) |
FR (1) | FR2804118B1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2804118B1 (fr) | 2000-01-26 | 2003-08-22 | Atofina | Procede de polymerisation ou copolymerisation radicalaire controlee de l'ethylene sous haute pression en presence de radicaux libres amorceurs et de radicaux nitroxydes indoliniques controleurs |
US20100210800A1 (en) * | 2004-03-24 | 2010-08-19 | Ciba Corporation | Method of preparing ethylene polymers by controlled high pressure polymerization |
DE602005003808T2 (de) * | 2004-03-24 | 2008-12-04 | Ciba Holding Inc. | Verfahren zur herstellung von ethylenpolymeren durch kontrollierte hochdruckpolymerisation |
FR2893620A1 (fr) * | 2005-11-24 | 2007-05-25 | Arkema Sa | Procede de polymerisation ou copolymerisation radicalaire controlee de monomeres methacryliques et/ou methacrylates pour realiser des polymeres methacryliques ou methacrylates ou des copolymeres exclusivement |
US7498398B2 (en) * | 2006-03-21 | 2009-03-03 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Thermoplastic composition, method of making, and articles formed therefrom |
EP2838950A2 (de) * | 2012-04-20 | 2015-02-25 | Hilti Aktiengesellschaft | ß-PHOSPHORYLIERTE NITROXIDRADIKALE ALS INHIBITOREN FÜR REAKTIONSHARZE, DIESE ENTHALTENDE REAKTIONSHARZE SOWIE DEREN VERWENDUNG |
ES2643047T3 (es) * | 2012-04-20 | 2017-11-21 | Hilti Aktiengesellschaft | Radical indolin-nitróxido como estabilizante e inhibidor para resinas de reacción, resinas de reacción que lo contienen y su uso |
CA2798036C (en) * | 2012-12-05 | 2020-01-21 | Nova Chemicals Corporation | Reduction of fouling in high pressure reactors |
FR3030525B1 (fr) * | 2014-12-18 | 2018-05-11 | Arkema France | Polymerisation radicalaire d'alcoxyamines a basse temperature |
US10131735B2 (en) | 2014-12-18 | 2018-11-20 | Arkema France | Low-temperature radical polymerisation of alkoxyamines |
FR3030526B1 (fr) * | 2014-12-18 | 2018-06-15 | Arkema France | Polymerisation radicalaire d'alcoxyamines a basse temperature |
TW202030081A (zh) * | 2018-11-12 | 2020-08-16 | 日商日東電工股份有限公司 | 偏光薄膜、積層偏光薄膜、影像顯示面板及影像顯示裝置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3486145T2 (de) * | 1983-07-11 | 1993-09-23 | Commw Scient Ind Res Org | Verfahren zur polymerisation und nach diesem verfahren hergestellte polymere. |
JPS6089452A (ja) * | 1983-07-11 | 1985-05-20 | コモンウエルス サイエンテイフイツク アンド インダストリアル リサ−チ オ−ガニゼ−シヨン | 遊離基重合開始用化合物 |
US5322912A (en) * | 1992-11-16 | 1994-06-21 | Xerox Corporation | Polymerization processes and toner compositions therefrom |
US5449724A (en) * | 1994-12-14 | 1995-09-12 | Xerox Corporation | Stable free radical polymerization process and thermoplastic materials produced therefrom |
US5552502A (en) * | 1995-11-16 | 1996-09-03 | Xerox Corporation | Polymerization process and compositions thereof |
DE19622441A1 (de) | 1996-06-05 | 1997-12-11 | Basf Ag | Verfahren zum Verdichten ethylenisch ungesättigter Monomerer |
FR2773158B1 (fr) * | 1997-12-30 | 2000-02-04 | Atochem Elf Sa | Procede de polymerisation radicalaire controlee faisant intervenir une faible quantite de radical libre stable |
DE69918151T2 (de) * | 1998-10-06 | 2005-06-30 | Atofina | Verfahren zur kontrollierten radikalischen Hochdruck-(Co)Polymerisation von Ethylen in Gegenwart von einem Kontrollfunktionsinitiator |
FR2804118B1 (fr) | 2000-01-26 | 2003-08-22 | Atofina | Procede de polymerisation ou copolymerisation radicalaire controlee de l'ethylene sous haute pression en presence de radicaux libres amorceurs et de radicaux nitroxydes indoliniques controleurs |
-
2000
- 2000-01-26 FR FR0000990A patent/FR2804118B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-01-20 KR KR1020010003360A patent/KR100742143B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-01-23 CA CA2332493A patent/CA2332493C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2001-01-23 US US09/767,988 patent/US6531556B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-01-23 CN CNB011047054A patent/CN1183169C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-01-24 AT AT01400193T patent/ATE279453T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-01-24 EP EP01400193A patent/EP1120430B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2001-01-24 DE DE60106302T patent/DE60106302T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-01-25 JP JP2001017066A patent/JP5214828B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-01-27 US US10/351,904 patent/US6706832B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2804118B1 (fr) | 2003-08-22 |
CA2332493C (fr) | 2011-01-11 |
CN1183169C (zh) | 2005-01-05 |
JP2001213907A (ja) | 2001-08-07 |
US20030149204A1 (en) | 2003-08-07 |
US6706832B2 (en) | 2004-03-16 |
FR2804118A1 (fr) | 2001-07-27 |
DE60106302T2 (de) | 2006-02-09 |
KR20010078031A (ko) | 2001-08-20 |
KR100742143B1 (ko) | 2007-07-24 |
US20010041774A1 (en) | 2001-11-15 |
US6531556B2 (en) | 2003-03-11 |
EP1120430A1 (fr) | 2001-08-01 |
CN1325910A (zh) | 2001-12-12 |
ATE279453T1 (de) | 2004-10-15 |
CA2332493A1 (fr) | 2001-07-26 |
EP1120430B1 (fr) | 2004-10-13 |
DE60106302D1 (de) | 2004-11-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20051004 |
|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110810 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
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|
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130129 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |