JP5190291B2 - 配線回路基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明の一実施の形態に係るサスペンション基板の上面図である。図1に示すように、サスペンション基板1は、金属製の長尺状基板により形成されるサスペンション本体部10を備える。サスペンション本体部10上には、太い点線で示すように、書込用配線パターンW1,W2および読取用配線パターンR1,R2が形成されている。
サスペンション基板1の製造方法を説明する。ここでは、図1のタング部12、電極パッド21〜24,31〜34、孔部Hおよび読込用配線パターンR1,R2の形成工程についての説明は省略する。
本実施の形態に係るサスペンション基板1においては、書込用配線パターンW1,W2の一部が互いに離間した配線部W1a,W1b,W2a,W2bに分離し、配線部W1a,W1bで囲まれた開口部H1および配線部W2a,W2bで囲まれた開口部H2にグランドパターンG1,G2がそれぞれ配置される。このような構成により、良好な伝送特性が得られるとともに、インピーダンスを低減することが可能となる。
(4−1)実施例
実施例として、図1〜図3に示したサスペンション基板1を作製した。なお、書込用配線パターンW1,W2およびグランドパターンG1,G2の材料として銅を用いた。また、書込用配線パターンW1,W2の分離していない部分の幅をそれぞれ20μmとし、配線部W1a,W1b,W2a,W2bの幅をそれぞれ10μmとし、グランドパターンG1,G2の幅をそれぞれ10μmとした。また、書込用配線パターンW1,W2およびグランドパターンG1,G2の厚みをそれぞれ10μmとした。
図5は、比較例としてのサスペンション基板を示す模式的断面図である。図5のサスペンション基板1aが実施例2のサスペンション基板1と異なるのは次の点である。
実施例および比較例のサスペンション基板1,1aにおいて、差動モード入力および差動モード出力(Sdd21)における利得を調べた。また、実施例および比較例のサスペンション基板1,1aにおけるインピーダンスをタイムドメインリフレクトメトリ(TDR)の原理を用いて計算した。なお、負の利得は損失を示す。
上記実施の形態では、書込用配線パターンW1,W2の一部が配線部W1a,W1bおよび配線部W2a,W2bにそれぞれ分離し、その間の開口部H1,H2にグランドパターンG1,G2が形成されるが、同様に、読込用配線パターンR1,R2の一部がそれぞれ分離し、その間の開口部にグランドパターンが形成されてもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
10 サスペンション本体部
12 タング部
41 第1の絶縁層
42 第2の絶縁層
G1,G2 グランドパターン
R1,R2 読取用配線パターン
W1,W2 書込用配線パターン
W1a,W1b,W2a,W2b 配線部
H1,H2 開口部
Claims (8)
- 第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上に配置され、第1の開口部を有する第1の配線パターンと、
前記第1の絶縁層上で前記第1の配線パターンの前記第1の開口部内に配置される第1のグランドパターンとを備えたことを特徴とする配線回路基板。 - 前記第1の配線パターンは、一定の範囲で互いに離間した複数の第1の配線部を有し、前記複数の第1の配線部間に前記第1の開口部が形成されることを特徴とする請求項1記載の配線回路基板。
- 前記複数の第1の配線部の幅の合計は、第1の配線パターンの離間していない部分の幅と等しいことを特徴とする請求項2記載の配線回路基板。
- 金属基板をさらに備え、
前記第1の絶縁層は、前記金属基板上に形成され、
前記第1のグランドパターンは、前記金属基板に電気的に接続されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の配線回路基板。 - 前記金属基板に設けられ、信号の読み書きを行うためのヘッド部をさらに備え、
前記第1の配線パターンは、前記ヘッド部に電気的に接続されることを特徴とする請求項4記載の配線回路基板。 - 前記第1の配線パターンおよび前記第1のグランドパターンを覆うように前記第1の絶縁層上に形成された第2の絶縁層をさらに備えることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の配線回路基板。
- 前記第1の絶縁層上に前記第1の配線パターンに間隔をおいて配置され、第2の開口部を有する第2の配線パターンと、
前記第1の絶縁層上で前記第2の配線パターンの前記第2の開口部内に配置される第2のグランドパターンとをさらに備え、
前記第1および第2の配線パターンは、信号線路対を形成することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の配線回路基板。 - 第1の絶縁層上に第1の開口部を有する第1の配線パターンを形成する工程と、
前記第1の絶縁層上で前記第1の配線パターンの前記第1の開口部内に第1のグランドパターンを形成する工程とを備えたことを特徴とする配線回路基板の製造方法。
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