JP5188407B2 - 二軸延伸ポリアミド積層フィルム及びその製造方法 - Google Patents
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(2)エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層がエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物とポリアミドとの混合物からなり、95℃の熱水中に30分間浸漬後のヘーズが10%以下である前記(1)に記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム、
(3)エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物のエチレン単位の含有比率が20〜30モル%である前記(1)又は(2)に記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム、
(4)エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層が酸素吸収剤を含有する前記(1)〜(3)に記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム、
(5)ポリアミド(B)層/エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層/ポリアミド(B)層からなる積層部全体の厚みに対するエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層の厚みの比率が50〜99.9%である前記(1)〜(4)に記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム、
(6)二軸延伸ポリアミド積層フィルムの厚みに対するポリアミド(A)層全体の厚みの比率が40〜95%である前記(1)〜(5)のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム、
(7)ポリアミド(A)がポリアミド6を主成分とする前記(1)〜(6)のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム、
(8)ポリアミド(B)がポリアミド6−66を主成分とする前記(1)〜(7)のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム、
(9)フィルムを流れ方向及びこれと直角な方向に延伸後、95℃の熱水中に5分間浸漬した際の熱水収縮率が両方向ともに0.5〜5.0%である前記(1)〜(8)のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム、
(10)基材フィルム上に前記(1)〜(9)のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルムを有することを特徴とする積層フィルム、
(11)融点が210〜250℃のポリアミドを主成分とするポリアミド(A)層と、融点が170〜205℃のポリアミドを主成分とするポリアミド(B)層と、エチレン単位の含有比率が20〜38モル%のエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物を主成分とするエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層とを有するポリアミド積層フィルムの製造方法であって、共押出法により、ポリアミド(A)層、ポリアミド(B)層、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層、ポリアミド(B)層及びポリアミド(A)層の順で積層する工程、及び、得られた積層体を流れ方向及びこれと直角な方向の各々に2〜5倍延伸する工程を有することを特徴とする二軸延伸ポリアミド積層フィルムの製造方法、
各積層未延伸フィルムの任意の5箇所から縦800mm×横250mmのサンプルを切り出し、EVOH層1m2当たりの、1mm2以上の大きさのブツの個数をカウントした。なお、EVOH層のブツであるかの確認は光学顕微鏡による断面観察で確認した。
51〜100個: △
101個以上 : ×
(2)積層フィルムの各層の厚みの測定方法
延伸フィルムの断面を電子顕微鏡観察して各層の厚みを測定した。
フィルム試験片を幅120mm、長さ120mmに切りだし、このサンプルに、縦(MD)方向と横(TD)方向に約100mmの線を引く。このサンプルを温度23℃、相対湿度50%雰囲気下、24時間放置し基準線を測長する。測長した長さを熱処理前の長さFとする。このサンプルフイルムを95℃の熱水中に5分間浸漬した後、付着した水分を完全に拭き取り、温度23℃、相対湿度50%の雰囲気のもとで約5時間放置して乾燥させた後、前記基準線を測長し、熱処理後の長さGとする。
フィルム試験片を幅50mm、長さ50mmに切り出し、95℃×30分のボイルを行った後、温度23℃、相対湿度50%の雰囲気下に24hr保管後、フィルム試験片をヘーズメーター(日本電色工業社製、NDH−300A型)の試料台にとりつけ、全光線透過率(Tt%)と散乱光透過率(Td%)を測定し、散乱光透過率を全光線透過率で除した値(Td/Tt×100)をフィルムのヘーズとした。測定はn=5で実施し、平均値をヘーズとした。
最外層のポリアミド層を構成するポリアミド(A)としてポリアミド6(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、ノバミッド1022C6、融点224℃)をφ65mmの押出機に、ポリアミド(B)としてポリアミド6−66共重合体(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、ノバミッド2420、融点192℃、66比率20wt%)をφ40mmの押出機に、EVOH層にEVOH(日本合成化学工業(株)製、ソアノールDC3203B エチレン単位の比率32モル%、融点183℃)90wt%とEVOHとの反応を抑えるため末端基調整されたポリアミド6(融点220℃)10wt%をφ50mmの押出機に投入し溶融させた。EVOHについては、口金の上流の220℃に温調された導管中において、ポリアミド(B)を内壁に沿って円筒状に展開させて、円柱状に流れるEVOHを包み込む形で、EVOHとポリアミド(B)の同心円積層流を形成し、260℃に温調された口金に導入した。最外層のポリアミド層を構成するポリアミド6については分配ブロックでほぼ半々に分割して口金に導入した。マニホールドを3つ持つマルチマニホールド共押出Tダイ内で積層させて5層構造の溶融体として押出し、30℃の冷却ロール上で急冷して、厚み150μmの未延伸積層フィルム(ポリアミド(A)層/ポリアミド(B)層/EVOH層/ポリアミド(B)層/ポリアミド(A)層)を得た。ポリアミド(A)層/(ポリアミド(B)/EVOH層/ポリアミド(B))/ポリアミド(A)の厚み比率が5.5/(4)/5.5となるように、またポリアミド(B)/EVOHの押出比率が5/95となるように押出量を調整した。尚、ポリアミド(B)を口金のマニホールドで円筒状に展開したため、未延伸積層フィルムの中央部におけるポリアミド(B)の厚みは薄く、端部におけるポリアミド(B)の厚みは厚くなる傾向が見られた。
EVOH層にEVOH(日本合成化学工業(株)製、ソアノールDC3203B エチレン単位の比率32モル%、融点183℃)90wt%とEVOHとの反応を抑えるため末端基調整されたポリアミド6−12(融点221℃、質量比90/10)共重合体を使用した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
EVOH層にEVOH(日本合成化学工業(株)製、ソアノールDC3203B エチレン単位の比率32モル%、融点183℃)90wt%とEVOHとの反応を抑えるため末端基調整されたポリアミド6−12(融点195℃、質量比80/20)共重合体を使用した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
EVOH層にEVOH(日本合成化学工業(株)製、ソアノールDC3203B エチレン単位の比率32モル%、融点183℃)90wt%とEVOHとの反応を抑えるため末端基調整されたポリアミド6−66−12(融点178℃、質量比75/15/10)共重合体を使用した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
EVOHが、共役ジエン系重合体とコバルト有機酸塩を含有する酸素吸収性EVOH(Tm=183℃、酸素吸収能力:53cc/g)とした以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
EVOHが、共役ジエン重合体環化物を含有する酸素吸収性EVOH(Tm=183℃、酸素吸収能力:42cc/g)とした以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
EVOH層にEVOH(日本合成化学工業(株)製、ソアノールV2504RB エチレン単位の比率25モル%、融点195℃)を使用した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
ポリアミド(B)にポリアミド6−66共重合体(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、ノバミッド2020、融点200℃、66比率15wt%)を使用した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
積層フィルムの各層(ポリアミド(A)層/ポリアミド(B)層/EVOH層/ポリアミド(B)層/ポリアミド(A)層)の厚み(μm)を5.5/0.3/3.4/0.3/5.5に設定した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
積層フィルムの各層(ポリアミド(A)層/ポリアミド(B)層/EVOH層/ポリアミド(B)層/ポリアミド(A)層)の厚み(μm)を4.5/0.03/5.94/0.03/4.5に設定した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
積層フィルムの各層(ポリアミド(A)層/ポリアミド(B)層/EVOH層/ポリアミド(B)層/ポリアミド(A)層)の厚み(μm)を6.5/0.1/1.8/0.1/6.5に設定した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
口金に入る前にフィードブロックを用いてEVOHをポリアミド(B)で包み込むように、EVOHとポリアミド(B)を合流させた以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
ポリアミド(B)層を設けずにポリアミド(A)/EVOH/ポリアミド(A)とし、EVOHにEVOH(日本合成化学工業(株)製、ソアノールDC3203B エチレン単位の比率32モル%、融点183℃)を用い、各層厚み(μm)を5.5/4.0/5.5とした以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
ポリアミド(B)層を設けずに、ポリアミド(A)/EVOH/ポリアミド(A)とし、各層厚み(μm)を5.5/4.0/5.5とした以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
ポリアミド(B)にポリアミド6(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、ノバミッド1022C6、融点224℃)を使用した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
ポリアミド(A)にポリアミド6−66共重合体(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、ノバミッド2020、融点200℃、66比率15wt%)を用い、押出機以外の口金を含めた全メルトラインを220℃に温調し、二軸延伸後の熱固定を195℃の条件で6秒間熱処理した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
ポリアミド(A)にポリアミド66(旭化成(株)製、レオナ1700、融点262℃)を用い、口金温度を含めたポリアミド66が流れるメルトラインを280℃に温調し、二軸延伸後の熱固定を235℃の条件で6秒間熱処理した以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
ポリアミド(B)層を設けずにポリアミド(A)/EVOH/ポリアミド(A)とし、EVOHが共役ジエン系重合体とコバルト有機酸塩を含有する酸素吸収性EVOH(Tm=183℃、酸素吸収能力:53cc/g)を用い、各層厚み(μm)を5.5/4.0/5.5とした以外は実施例1と同様に実施し、表1の結果を得た。
Claims (11)
- ポリアミド(A)層、ポリアミド(B)層、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層、ポリアミド(B)層及びポリアミド(A)層をこの順で有するポリアミド積層フィルムであって、ポリアミド(A)層は融点が210〜250℃のポリアミド(以下、「ポリアミド(A)」という。)を主成分とし、ポリアミド(B)層は融点が170〜205℃のポリアミド(以下、「ポリアミド(B)」という。)を主成分とし、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層はエチレン単位の含有比率が20〜38モル%のエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物を主成分とし、かつ、フィルムの流れ方向及びこれと直角な方向の各々に2〜5倍延伸されてなることを特徴とする二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層がエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物とポリアミドとの混合物からなり、95℃の熱水中に30分間浸漬後のヘーズが10%以下である請求項1に記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物のエチレン単位の含有比率が20〜30モル%である請求項1又は2に記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層が酸素吸収剤を含有する請求項1〜3のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- ポリアミド(B)層/エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層/ポリアミド(B)層からなる積層部全体の厚みに対するエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層の厚みの比率が50〜99.9%である請求項1〜4のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- 二軸延伸ポリアミド積層フィルムの厚みに対するポリアミド(A)層全体の厚みの比率が40〜95%である請求項1〜5のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- ポリアミド(A)がポリアミド6を主成分とする請求項1〜6のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- ポリアミド(B)がポリアミド6−66を主成分とする請求項1〜7のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- フィルムを流れ方向及びこれと直角な方向に延伸後、95℃の熱水中に5分間浸漬した際の熱水収縮率が両方向ともに0.5〜5.0%である請求項1〜8のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルム。
- 基材フィルム上に請求項1〜9のいずれかに記載の二軸延伸ポリアミド積層フィルムを有することを特徴とする積層フィルム。
- 融点が210〜250℃のポリアミドを主成分とするポリアミド(A)層と、融点が170〜205℃のポリアミドを主成分とするポリアミド(B)層と、エチレン単位の含有比率が20〜38モル%のエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物を主成分とするエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層とを有するポリアミド積層フィルムの製造方法であって、共押出法により、ポリアミド(A)層、ポリアミド(B)層、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物層、ポリアミド(B)層及びポリアミド(A)層の順で積層する工程、及び、得られた積層体を流れ方向及びこれと直角な方向の各々に2〜5倍延伸する工程を有することを特徴とする二軸延伸ポリアミド積層フィルムの製造方法。
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