JP5174991B2 - 層間接続孔を備えたセンサ素子 - Google Patents

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Description

本発明は、特にガスの物理的な特性を検出するためのセンサ素子、特に内燃機関の排ガスのガス成分の濃度または排ガスの温度を検出するためのセンサ素子であって、該センサ素子が、第1の固体電解質層を有しており、該第1の固体電解質層が、層間接続孔を有しており、センサ素子が、さらに、伝導エレメントを有しており、該伝導エレメントが、層間接続孔を貫いて第1の固体電解質層の上面から第1の固体電解質層の下面への導電的な接続部を形成しており、第1の固体電解質層が、層間接続孔内で伝導エレメントから絶縁エレメントによって電気的に絶縁されているセンサ素子に関する。
さらに、本発明は、このようなセンサ素子を製造するための方法に関する。
背景技術
本発明は、特定の固体の電解質特性、すなわち、この固体の、特定のイオンを伝導する能力に基づいた公知のセンサ素子から出発する。このような公知のセンサ素子は、特に自動車において、特に酸素センサとして使用される。しかし、本発明は、前述した固体電解質を有する別の種類のセンサ素子、たとえば排ガスの別のガス状の成分を検出するためのセンサおよびパティキュレートセンサにも使用可能である。本発明は、センサ素子ならびにセンサ素子、特に本発明に係るセンサ素子を製造するための方法に関する。
少なくとも1つの固体電解質層を有するセンサ素子の製造時の公知の問題点は、固体電解質層を貫いて電気的な層間接続部が製作されなければならないことにある。この層間接続部は固体電解質層に伝導的に接触すべきでない。したがって、層間接続部は、一般的に固体電解質に対して絶縁層によって電気的に絶縁される。
ドイツ連邦共和国特許第10014995号明細書に開示された層間接続部は、伝導性の層と絶縁性の層とを有している。両層は、セラミック測定フィーラの固体電解質層に設けられた層間接続孔内に配置されている。この層間接続孔は直円筒の形状を有している。この直円筒の軸線は固体電解質層の表面に対して垂直に配置されている。層間接続孔の壁は直角な縁部に沿って固体電解質層の表面に接続されている。
公知の層間接続部では、製造プロセスにおいて、層間接続孔内の絶縁性の層の厚さが最小厚さと最大許容厚さとの間に設定されることが確保しにくいということが不利である。特に層間接続孔の縁部の範囲で最小厚さが下回らないようにすることが確保しにくい。これによって、絶縁性の層の絶縁作用が損なわれる恐れがある。さらに、特に層間接続孔の壁の範囲、特に層間接続孔の縁部の下方の範囲において、絶縁性の層の最大許容厚さが上回らないようにすることが確保しにくい。このような上回りは、製造プロセスにおいて、絶縁性の層の製造のために使用される物質から、固体電解質層の製造のために使用された物質に過剰に多くの溶剤が達した結果発生する。これによって、固体電解質の物質が損なわれ、完成された固体電解質層に亀裂を招くことがある。
発明の利点
本発明に係るセンサ素子によれば、層間接続孔の壁が、面取り部を有している。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、面取り部が、25μmよりも少なくない深さ、特に75μmよりも少なくない深さにまで層間接続孔内に達しており、かつ/または面取り部が、第1の固体電解質層の厚さの5%よりも少なくない深さ、特に第1の固体電解質層の厚さの15%よりも少なくない深さにまで層間接続孔内に達している。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、面取り部が、少なくとも1つの一直線の範囲を有しており、該一直線の範囲が、半径方向において一直線であり、面取り部の一直線の範囲が、特に面取り部全体にわたって延びている。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、面取り部の一直線の範囲が、第1の固体電解質層の上面および/または第1の固体電解質層の下面と共に15゜よりも少なくなくて75゜よりも多くない角度、特に30゜よりも少なくなくて60゜よりも多くない角度を成している。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、面取り部が、少なくとも1つの湾曲させられた範囲を有しており、該湾曲させられた範囲が、特に10μm〜200μmの曲率半径、特に25μm〜115μmの曲率半径を備えて半径方向において丸み付けられており、面取り部の湾曲させられた範囲が、特に面取り部全体にわたって延びている。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、面取り部が、第1の分割面取り部と第2の分割面取り部とを有しており、該第2の分割面取り部が、固体電解質層の大面と第1の分割面取り部との間に配置されており、第2の分割面取り部において、半径方向での壁の傾きが、第1の分割面取り部における半径方向での壁の傾きと、固体電解質層の前記大面の傾きとの間に設定されている。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、第2の分割面取り部が、10μmよりも少なくない深さ、特に30μmよりも少なくない深さにまで層間接続孔内に達していて、かつ/または第1の固体電解質層の厚さの2.5%よりも少なくない深さ、特に第1の固体電解質層の厚さの7.5%よりも少なくない深さにまで層間接続孔内に達しており、かつ/または第2の分割面取り部が、100μmよりも多くない深さ、特に50μmよりも多くない深さにまで層間接続孔内に達していて、かつ/または第1の固体電解質層の厚さの20%よりも多くない深さ、特に第1の固体電解質層の厚さの10%よりも多くない深さにまで層間接続孔内に達している。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、第1の分割面取り部と第2の分割面取り部とが、それぞれ半径方向において少なくとも部分的に一直線であり、半径方向において分割面取り角、特に10゜よりも少なくなくて55゜よりも多くない分割面取り角、特に25゜よりも少なくなくて45゜よりも多くない分割面取り角を成して互いに接続されている。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、第2の分割面取り部が、固体電解質層の上面および/または第1の固体電解質層の下面と共に3゜よりも少なくなくて25゜よりも多くない角度、特に6゜よりも少なくなくて16゜よりも多くない角度を成している。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、第2の分割面取り部が、半径方向において少なくとも部分的に一直線であり、第1の分割面取り部が、半径方向において少なくとも部分的に、特に10μm〜200μmの曲率半径、特に25μm〜115μmの曲率半径を備えて丸み付けられており、特に第2の分割面取り部と第1の分割面取り部とが、半径方向において5゜よりも少ない分割面取り角、特に1゜よりも少ない分割面取り角を成して、特に平坦に互いに接続されている。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、層間接続孔の壁が、層間接続孔の下縁部および上縁部にそれぞれ1つの面取り部を有している。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、絶縁エレメントが、層間接続孔の壁に層状に配置されていて、層間接続孔の壁の少なくとも90%、特に層間接続孔の壁の少なくとも97%に沿って、最小層厚さと最大許容厚さとの間に設定された層厚さを有しており、最小厚さが、5μm〜14μmの範囲内に設定されていて、たとえば10μmであり、前記最大許容厚さが、16μm〜30μmの範囲内に設定されていて、たとえば20μmである。
本発明に係るセンサ素子の有利な態様によれば、絶縁エレメントが、以下の材料:すなわち、
− 特に50質量%よりも多くの割合を備えたAl、特にα−Al
− 特に50質量%よりも少ない割合を備えたガラス相、特にたとえばセルシアンガラスまたはBa−Si−Laガラスの高絶縁性のガラス相:
の少なくとも一方または両方を含有している。
本発明に係る方法によれば、該方法が、以下のステップ:すなわち、
− たとえばY、Caおよび/またはScで安定化させられたZrOから成る焼成されていない固体電解質シートを製造し、
− 該固体電解質シートに打抜き、型押しまたは、特に機械的なドリルまたはレーザ放射による片側または両側からの穿孔によって層間接続孔を加工し、
− 該層間接続孔に印刷、スクリーン印刷、片側または両側からの吸引/押圧、噴霧および/または滴下によって絶縁ペーストおよび/または絶縁懸濁液を1回または複数回供給し、最後にかつ複数回の供給時には付加的に、特に供給の間にも乾燥を行い、
− 層間接続孔内に伝導ペーストを、層間接続孔を通した伝導ペーストの吸引および/または固体電解質シートの表面への伝導ペーストの印刷塗布によって1回または複数回供給し、
− センサ素子を焼結し、伝導ペーストおよび絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液を同時焼結しかつ/または固体電解質シートおよび絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液を同時焼結する:
を、特に記載した順序で行う。
本発明に係る方法の有利な態様によれば、層間接続孔の加工を1つまたはそれ以上の工具、特に1つまたはそれ以上の機械的なドリルおよび/または打抜き工具によって行い、該工具の少なくとも一部範囲が、加工したい層間接続孔の形状にほぼ対応しているかまたは加工したい層間接続孔の少なくとも一部範囲の形状にほぼ対応している形状を有している。
本発明に係る方法の有利な態様によれば、層間接続孔内への絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液の供給を両側からの吸引によって行い、以下の分割ステップ:すなわち、
− 絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液を固体電解質シートの上面で層間接続孔の範囲に塗布し、
− 固体電解質シートの下面で層間接続孔の範囲に負圧を発生させることよって、該層間接続孔を通して絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液を吸引し、
− 絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液を固体電解質シートの下面で層間接続孔の範囲に塗布し、
− 固体電解質シートの上面で層間接続孔の範囲に負圧を発生させることよって、該層間接続孔を通して絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液を吸引する:
を、特に記載した順序で行う。
本発明に係る方法の有利な態様によれば、層間接続孔の壁全体に沿って、絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液の、5μm〜35μm、特に10μm〜25μmの厚さを備えた層を形成するように、前記負圧、絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液の稠度ならびに吸引の回数および方向および層間接続孔の形状を選択する。
本発明に係る方法の有利な態様によれば、絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液が、絶縁材料、特に酸化アルミニウムの粒子を含有していて、さらに、有機成分、特に軟化剤、溶剤および結合剤を含有しており、伝導ペーストが、貴金属、特に白金の粒子を含有していて、固体電解質、特にYSZの粒子を含有していて、さらに、有機成分、特に軟化剤、溶剤および結合剤を含有しており、以下の条件:すなわち、
− 前記絶縁材料の粒子のサイズ(d90)と、前記貴金属の粒子のサイズ(d90)と、前記固体電解質の粒子のサイズ(d90)とが、全て0.8μm〜2.5μmの範囲内にあり、
− 前記絶縁材料の粒子のサイズ(d90)と、前記貴金属の粒子のサイズ(d90)と、前記固体電解質の粒子のサイズ(d90)とが、これら3つの値のうちの最大の値の50%未満だけ互いに異なっており、
− 絶縁ペースト内のかつ/または前記絶縁懸濁液内の固形物含有量(質量%)が、伝導ペースト内の固形物含有量(質量%)と20質量%未満だけ異なっており、
− 絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液において、前記有機成分の含有量(質量%)が、伝導ペースト内の前記有機成分の含有量(質量%)と20質量%未満だけ異なっており、
− 絶縁ペーストおよび/または前記絶縁懸濁液および伝導ペーストが、同一の有機成分を含有している:
の少なくとも1つが満たされている。
本発明に係る方法の有利な態様によれば、前記条件が全て満たされている。
公知のセンサ素子に比べて、請求項1の特徴を備えた本発明に係るセンサ素子は、特にコンタクトホールの範囲に設けられた絶縁体が、規定された層厚さを有していることを簡単に確保することができることによって、センサ素子を簡単に製造することができるという利点を有している。
層間接続孔の壁が、面取り部を有していることによって、絶縁層を製造するための物質を塗布するための層間接続孔の壁への接近性が改善される。さらに、本発明により設けられた面取り部によって、層間接続孔の壁と固体電解質層の外面とが縁部に沿って角張って互いに接続されることが回避される。これによって、製造プロセスにおいて、1つには、縁部の範囲に過度に肉薄の絶縁体または中断すらされた絶縁体が形成されることを回避することができ、もう1つには、層間接続部の内部への過度に肉厚の絶縁層の形成も同じく回避することができる。
最小厚さとは、5μm〜20μmの範囲内の絶縁体の厚さ、たとえば10μmの厚さを意味している。最大許容厚さとは、15μm〜35μmの範囲内の絶縁体の厚さ、たとえば20μmの厚さを意味している。特に層間接続孔の形状と協働して、少なくともほぼ全層間接続孔内で最小厚さと最大許容厚さとの間に設定された層厚さを備えた絶縁体を設けることが特に有利である。
一般的には、面取り部とは、第1の面と第2の面との間に配置された面であって、第1の面の傾きよりも大きくて、第2の面の傾きよりも小さい傾きを備えた面を意味している。
本願の範囲内において、固体電解質層の層間接続孔の壁の面取り部とは、特に層間接続孔の壁の一部分であって、固体電解質層の大面と層間接続孔の壁の別部分との間に配置された部分を意味している。半径方向での壁の別部分における壁の傾きは少なくともほぼコンスタントであり、特に固体電解質層の大面の傾きに対して少なくともほぼ垂直である。層間接続孔の壁の一部分において、半径方向での壁の傾きは、層間接続孔の壁の別部分における半径方向での壁の傾きと、固体電解質層の大面の傾きとの間に設定されている。
固体電解質層の層間接続孔の壁のこのような一部分は、特に固体電解質層への層間接続孔の製作時に一般的にかつ製造に起因して強制的に形成されるような範囲として拡張されている場合に面取り部と解釈してよい。このような範囲は、たとえば層間接続孔の1μmよりも少ない深さ、特に3μmよりも少ない深さ、特に9μmよりも少ない深さにまで達している。
本願の範囲内において、半径方向での層間接続孔の壁の傾きとは、層間接続孔の全周にわたって延びる縁部に対して局所的に垂直に向けられた方向での層間接続孔の壁の傾きを意味している。層間接続孔の円筒状の軸線対称性が付与されている場合、これは、層間接続孔の軸線から層間接続孔の壁に向けられた方向である。
本願の範囲内において、固体電解質層の大面とは、固体電解質層の上面および下面を意味している。
面取り部が、25μmよりも少なくない深さ、特に75μmよりも少なくない深さにまで層間接続孔内に達しており、かつ/または面取り部が、第1の固体電解質層の厚さの5%よりも少なくない深さ、特に第1の固体電解質層の厚さの15%よりも少なくない深さにまで層間接続孔内に達していると、面取り部の前述した有利な効果が特に顕著となる。たとえば、絶縁層を製造するための物質を塗布するための層間接続孔の壁への接近性が特に著しく改善されている。
面取り部が、少なくとも1つの一直線の範囲を有しており、この一直線の範囲が、半径方向において一直線であり、面取り部の一直線の範囲が、特に面取り部全体にわたって延びていると、このような面取り部を従来の工具によって特に簡単に製造することができるという利点が得られる。その上、面取り部の一直線の範囲が、第1の固体電解質層の上面および/または第1の固体電解質層の下面と共に15゜よりも少なくなくて75゜よりも多くない角度、特に30゜よりも少なくなくて60゜よりも多くない角度を成していると、層間接続孔の縁部の範囲における角張り性が特に有効に回避される。
また、面取り部が、少なくとも1つの湾曲させられた範囲を有しており、この湾曲させられた範囲が、半径方向において丸み付けられており、特に相応の曲率半径が、10μm〜200μm、特に25μm〜115μmに設定されており、特に面取り部の湾曲させられた範囲が、面取り部全体にわたって延びており、かつ/または特に層間接続孔が、湾曲させられた面取り部の範囲に凹状の形を有していると、層間接続孔の縁部の範囲における角張り性が同じく特に有効に回避される。
有利な作用に対する面取り部の更なる最適化は、面取り部が、互いに異なる2つの範囲、つまり、第1の分割面取り部と第2の分割面取り部とを有している場合に可能となる。
さらに、固体電解質シートの平面図で見て、第1の分割面取り部が、第2の分割面取り部の内側に配置されていることが提案されている。
択一的または付加的には、第2の分割面取り部が、固体電解質層の大面と第1の分割面取り部との間に配置されており、第2の分割面取り部において、半径方向での壁の傾きが、第1の分割面取り部における半径方向での壁の傾きと、固体電解質層の大面の傾きとの間に設定されていることが提案されている。第2の分割面取り部は、いわば層間接続孔の壁の面取り部の一面取り部を成している。この態様では、センサ素子の簡単な製造可能性および層間接続孔の範囲に設けられた絶縁体の高い信頼性ひいては最終的にセンサ素子の寿命に関する極めて十分な利点が得られる。
第2の分割面取り部が、10μmよりも少なくない深さ、特に30μmよりも少なくない深さにまで層間接続孔内に達していて、かつ/または第1の固体電解質層の厚さの2.5%よりも少なくない深さ、特に第1の固体電解質層の厚さの7.5%よりも少なくない深さにまで層間接続孔内に達していると、絶縁層を製造するための物質を塗布するための層間接続孔の壁への接近性が特に著しく改善されている。
第2の分割面取り部が、100μmよりも多くない深さ、特に50μmよりも多くない深さにまで層間接続孔内に達していて、かつ/または第1の固体電解質層の厚さの20%よりも多くない深さ、特に第1の固体電解質層の厚さの10%よりも多くない深さにまで層間接続孔内に達していると、第2の分割面取り部を特に簡単に製造することができる。
センサ素子の製造の間、絶縁性の材料での壁の十分な湿潤が特に確保されている態様は、第1の分割面取り部と第2の分割面取り部とが、それぞれ半径方向において少なくとも部分的に一直線であり、半径方向において分割面取り角、特に10゜よりも少なくなくて55゜よりも多くない分割面取り角、特に25゜よりも少なくなくて45゜よりも多くない分割面取り角を成して互いに接続されていることを提案している。
センサ素子の製造の間、絶縁性の材料での壁の十分な湿潤が特に確保されている別の態様は、第2の分割面取り部が、固体電解質層の上面または固体電解質層の下面と共に3゜よりも少なくなくて25゜よりも多くない角度、特に6゜よりも少なくなくて16゜よりも多くない角度を成していることを提案している。
出願人の試験によって、特に第2の分割面取り部が、半径方向において少なくとも部分的に一直線であり、第1の分割面取り部が、半径方向において少なくとも部分的に、特に10μm〜200μmの曲率半径、特に25μm〜115μmの曲率半径を備えて丸み付けられており、特に第2の分割面取り部と第1の分割面取り部とが、半径方向において5゜よりも少ない分割面取り角、特に1゜よりも少ない分割面取り角を成して、特に平坦に互いに接続されており、特に第2の分割面取り部が、固体電解質層の上面または固体電解質層の下面と共に3゜よりも少なくなくて25゜よりも多くない角度、特に6゜よりも少なくなくて16゜よりも多くない角度を成していると、センサ素子の寿命が特に高まることが明らかとなった。
有利には、本発明に係るセンサ素子を製造するための方法が、方法に関する独立請求項に記載したステップを、特に記載した順序で有している。
特に有利には、固体電解質シートに層間接続孔を加工するために、少なくとも1つの工具、たとえば機械的なドリルまたは打抜き工具またはレーザビームが使用される。この工具の形状は、製作したい孔の形状に対応しているかまたは工具は、少なくとも製作したい孔の一部の形状を有する部分範囲を有している。工具は、たとえば末端の範囲に円筒形状を有していてよい。末端の範囲はベース近傍の方向で、層間接続孔の面取り部に対応して成形された範囲に続いている。層間接続孔の面取り部の形状に対応する形状を備えた工具または面取り部の形状または面取り部の一部の形状に対応する部分範囲を有する工具の使用も可能である。
工具が、レーザビームである場合には、このレーザビームの形状をDIN EN ISO 11145の意味で解釈してよい。レーザビームの使用時には、アンダカットを形成することもできるという利点が得られる。すなわち、たとえば単に片側からの(レーザ)穿孔によって、上面および下面にそれぞれ1つの面取り部を有する層間接続孔を加工することができる。
特に有利には、層間接続孔内への絶縁ペーストおよび/または絶縁懸濁液の供給が、両側からの吸引によって行われる。この態様では、それぞれ固体電解質シートの一方の大面に絶縁ペーストおよび/または絶縁懸濁液が塗布され、次いで、固体電解質シートの上面と下面との間の圧力差によって層間接続孔を通して吸引されるかもしくは押圧される。有利には、個々の吸引工程の間に絶縁ペーストおよび/または絶縁懸濁液のそれぞれ1回の乾燥が行われてよい。第1の側からの吸引後で第2の側からの吸引前に固体電解質シートが反転させられることが提案されている。
非時効性の層間接続孔を実現するために、伝導エレメントと絶縁エレメントとが緊密に互いに結合されていると有利である。このことは、特に同時焼結によって保証されている。このためには、請求項19に記載した手段の少なくとも1つまたは複数の組合せまたは全てと、特に1350℃〜1450℃の焼結温度とを使用することが必要となる。
センサ素子の概略図である。 本発明の種々異なる実施の形態を示す図であり、図2aは、面取り部の第1の実施の形態を示す図であり、図2bは、面取り部の第2の実施の形態を示す図であり、図2cは、面取り部の第3の実施の形態を示す図であり、図2dは、図2cに示した面取り部の第3の実施の形態の平面図であり、図2eは、面取り部の第4の実施の形態を示す図である。 センサ素子の製造を概略的に示す図である。 センサ素子の層間接続孔の製作の加工工程を示す図である。 センサ素子の層間接続孔の製作の第1の供給工程(図5a)および第2の供給工程(図5b)を示す図である。
実施の形態の説明
図1には、本発明の実施の形態として、たとえば内燃機関(図示せず)の排ガス中の酸素濃度または排ガスの温度を検出するために働く、ガス測定フィーラ(図示せず)のハウジング内に配置されたセンサ素子20の接続側の端区分が示してある。
センサ素子20は複数のセラミック層21,22,28,29a,29bから形成されている。これらのセラミック層21,22,28,29a,29bのうち、2つのセラミック層が、第1の固体電解質シート21および第2の固体電解質シート22として形成されていて、酸化イットリウムで安定化させられた酸化ジルコニウム(YSZ:イットリア安定化ジルコニア)を含有しており、2つのセラミック層が、電気的に絶縁性の内側の層29a,29bとして形成されていて、酸化アルミニウムを含有しており、1つのセラミック層が、電気的に絶縁性の外側の層28として形成されていて、同じく酸化アルミニウムを含有している。
電気的に絶縁性の内側の層29a,29bの上下に第1の固体電解質シート21と第2の固体電解質シート22とが位置している。第1の固体電解質シート21の上側に電気的に絶縁性の外側の層28が配置されている。当然ながら、センサ素子20は、このセンサ素子20の自体公知の機能性を実現するための別の層を有していてよい。
電気的に絶縁性の内側の層29a,29bの間には、機能素子31が位置している。この機能素子31は、本実施の形態では、電気的な抵抗加熱部材と、この電気的な抵抗加熱部材に通じる給電線路131とから形成されている。電気的な抵抗加熱部材は外側の回路(図示せず)と一緒にセンサ素子20を、たとえば650℃を上回る温度に加熱する。電気的な抵抗加熱部材に通じる給電線路131が、センサ素子20の接続側の端区分にまで延びているのに対して、電気的な抵抗加熱部材は、センサ素子20の、図1には示していない反対の測定側の端区分に配置されている。当然ながら、機能素子31は、セラミックセンサ素子に関して自体公知の別の機能を有していてもよい。
センサ素子20は、接続側の端区分の範囲に電気的な層間接続部200を有している。この層間接続部200によって、センサ素子20の内部に位置する機能素子31をセンサ素子20の外面100に電気的に接続することが可能となる。したがって、層間接続部200は、機能素子31から出発して、電気的に絶縁性の内側の層29bと、第1の固体電解質シート21と、電気的に絶縁性の外側の層28とを貫いてセンサ素子20の外面100にまで延びている。層間接続部200の目的のためには、第1の固体電解質層21が層間接続孔25を有している。層間接続部200の内部には、層状に形成された絶縁エレメント42が配置されている。この絶縁エレメント42は、電気的に絶縁性の外側の層28から出発して、層間接続孔25の壁251を越えて、電気的に絶縁性の内側の層29bにまで延びており、これによって、層状に形成された絶縁エレメント42と、絶縁性の内外の層29b,28とにより、第1の固体電解質層21が、層間接続部200の範囲において、たとえば酸化アルミニウムを含有した電気的に絶縁性の材料によって完全に取り囲まれていて、層間接続部200の内部に、高い温度、たとえば400℃を上回る温度の場合でも第1の固体電解質層21に対して電気的に絶縁された範囲が形成されている。この電気的に絶縁された範囲、つまり、層状に形成された絶縁エレメント42には、同じく層状に形成された伝導エレメント41が配置されている。この伝導エレメント41は、機能素子31から出発して、層間接続部200を貫いて、センサ素子20の外面100に配置された接触面43にまで延びており、これによって、全体として、センサ素子20の内部に位置する機能素子31と、センサ素子20の、第1の固体電解質層21に対して電気的に絶縁された外面100との電気的な接続部が形成される。
層間接続孔25の壁251はその上縁部および下縁部にそれぞれ1つの面取り部51を有している。これらの面取り部51は、それぞれ第1の固体電解質層21の一方の大面、つまり、上面もしくは下面と、層間接続孔25の内部の層間接続孔25の壁251の、第1の固体電解質層21の大面に対して垂直な部分との間の斜めの結合部を成している。本実施の形態では、意図的に第1の固体電解質層21から切り取られて面取り部51によって形成された全周にわたって延びる範囲に電気的に絶縁性の材料が位置している。この材料は、図1から明らかであるように、電気的に絶縁性の層28,29bの付属部と解釈してもよいし、絶縁エレメント42の付属部と解釈してもよい。
本実施の形態では、層間接続孔25がその最も狭幅の箇所に、0.3mm〜2mmの範囲内にある直径を有している。層状の絶縁エレメント42と層状の伝導エレメント41とは、層間接続部200の内部に5〜100μmの範囲内の層厚さを有している。絶縁エレメント42の層厚さが極めて均質に形成されていると特に有利であり、これによって、この層厚さが、常にまたは少なくともほぼ至る所で最小厚さと最大許容厚さとの間、たとえば7μm〜26μmに設定されている。
図1に示した面取り部51は、層間接続孔25の壁251の一部分と解釈してよい。この一部分は、第1の固体電解質層21の一方の大面と層間接続孔25の壁251の別部分との間に配置されている。半径方向での層間接続孔25の壁251の別部分における壁251の傾きは、少なくともほぼコンスタントであり、特に第1の固体電解質層21の大面の傾きに対して少なくともほぼ垂直である。層間接続孔25の壁251の一部分では、半径方向での壁251の傾きが、層間接続孔25の壁251の別部分における半径方向での壁251の傾きと、第1の固体電解質層21の大面の傾きとの間に設定されている。
本実施の形態では、絶縁エレメント42が、55質量%の割合のα−Alと、45質量%の割合の、たとえばセルシアンガラスまたはBa−Si−Laガラスの高絶縁性のガラス相とを含有している。これと異なる割合および異なる成分も可能である。
図2a〜図2eには、本発明の種々異なる実施の形態が示してある。これらの実施の形態は、第1の固体電解質層21に設けられた層間接続孔25の壁251の面取り部51の形状の変化形態に該当する。図2a〜図2eには、図面をより見やすくするために、それぞれ第1の固体電解質層21、層間接続孔25および1つまたはそれ以上の面取り部51だけが示してある。しかし、これらの実施の形態も、図1に例示したセンサ素子20の意味で解釈してよい。当然ながら、本発明の全ての実施の形態は、プレーナ型に形成されたセラミックセンサ素子に限定されるものではなく、層構造の別の幾何学的な形状、たとえば円筒形状に直接的に転用可能である。
図2aに示した面取り部51は、一直線の範囲511を有している。この一直線の範囲511は半径方向において一直線であり、全周にわたって延びる面取り部51全体にわたって延びている。この面取り部51は、400μmの厚さの第1の固体電解質層21において、この第1の固体電解質層21の100μmの深さにまで延びている。面取り部51は第1の固体電解質層21の大面に対して45゜の傾きを有している。すなわち、面取り部51の一直線の範囲511は、第1の固体電解質層21の大面と共に45゜の角度61を成している。
図2bに示した面取り部51は、湾曲させられた範囲512を有している。この湾曲させられた範囲512は半径方向において丸み付けられている。湾曲させられた範囲512は半径方向において80μmの曲率半径を有している。面取り部51は、400μmの厚さの第1の固体電解質層21において、この第1の固体電解質層21の80μmの深さにまで延びている。
図2cおよび図2dに示した面取り部51は、それぞれ第1の分割面取り部515と第2の分割面取り部516とから成っている。固体電解質シート21の平面図(図2d参照)で見て、第1の分割面取り部515は第2の分割面取り部516の内側に配置されている。両分割面取り部515,516は、半径方向において37.5゜の分割面取り角60を成して互いに接続されている。第2の分割面取り部516は固体電解質層21の大面に対して22.5゜だけ傾けられている。
第2の分割面取り部516は、固体電解質層21の大面と第1の分割面取り部515との間に配置されている。第2の分割面取り部516において、半径方向での壁251の傾きは、第1の分割面取り部515における半径方向での壁251の傾きと、固体電解質層21の大面の傾きとの間に設定されている。
図2eに示した面取り部51は、それぞれ第1の分割面取り部515と第2の分割面取り部516とから成っている。固体電解質シート21の平面図で見て、第1の分割面取り部515は第2の分割面取り部516の内側に配置されている(図2d参照)。両分割面取り部515,516は、エッジなしに平坦に(なだらかに)互いに移行している。第2の分割面取り部516は、半径方向において一直線の分割面取り部であり、固体電解質層の大面に対して9.3゜だけ傾けられている。第2の分割面取り部516は、層間接続孔25内に38μmの深さ、つまり、第1の固体電解質層21の厚さの約10%にまで延びている。第1の分割面取り部515は半径方向において湾曲させられている。曲率は55μmの半径を有している。
図示の面取り部51の特徴の別の組合せも可能である。
図3には、本発明に係るセンサ素子20の製造、特にこのようなセンサ素子20の層間接続部200の製作が概略的に例示してある。この層間接続部200の製作は、たとえばY、Caおよび/またはScで安定化させられたZrOから成る焼成されていない固体電解質シート21’に層間接続孔25が打抜き、型押しおよび/または、特にレーザ放射による片側または両側からの穿孔により加工されることによって行われてよい。引き続き、層間接続孔25内への絶縁ペースト42’および/または絶縁懸濁液の1回のまたは複数回の供給が、印刷、ステンシル印刷、片側または両側からの吸引/押圧、噴霧および/または滴下によって行われる。最後にかつ複数回の供給時には付加的に供給の間にも乾燥が行われる。引き続き、層間接続孔25内への伝導ペースト41’の1回のまたは複数回の供給が、層間接続孔25を通した伝導ペースト41’の吸引および/または固体電解質シート21’の表面への伝導ペースト41’の印刷塗布によって行われる。
1つの形態では、本発明に係るセンサ素子20を製造するために、特に固体電解質シート21’に層間接続孔25を加工するために、特殊な工具25’が使用される。この工具25’は機械的なドリルまたは打抜き工具として形成されている(図4参照)。この打抜き工具の形状またはドリルの回転時に形成される切断面は、下側の末端の部分範囲では円筒状に形成されていて、上方に続く工具25’のベース近傍の部分範囲では、製作したい面取り部51の形状に対応している。また、この特殊な工具25’によって、層間接続孔25の一部だけ、たとえば面取り部51を有する範囲だけを製作し、残りの孔は別の形式で製作することも可能である。この形態では、工具25’の下側の末端の円筒状の部分が省略されている。
別の形態では、付加的にまたは択一的に、本発明に係るセンサ素子20の製造のために、特に層間接続孔25内への絶縁ペースト42’および/または絶縁懸濁液の供給のために、まず、絶縁ペースト42’が固体電解質シート21’の上面211で層間接続孔25の範囲に塗布される(図5a参照)。固体電解質シート21’の下面212に負圧を加えることによって、絶縁ペースト42’が層間接続孔25内に吸い込まれ、これによって、層間接続部200の壁251がコーティングされる。
さらに、固体電解質シート21’の反転後、塗布および吸引が1回または複数回繰り返される。この場合には、絶縁ペースト42’が、固体電解質シート21’の、図5bにおいて上方に向けられた下面212で層間接続孔25の範囲にだけ塗布され、固体電解質シート21’の、図5bにおいて下方に向けられた上面211の方向に負圧によって吸引される。
別の有利な形態では、付加的にまたは択一的に、層間接続孔25の壁251全体に沿って、5μm〜35μmの厚さ、特に10μm〜25μmの厚さを備えた絶縁ペースト42’および/または絶縁懸濁液の層が形成されるように、負圧、絶縁ペースト42’の稠度ならびに吸引の回数および層間接続孔25の形状が選択される。
別の有利な形態では、付加的にまたは択一的に、センサ素子20を製造するために、特にこのようなセンサ素子20の層間接続部200を製作するために、特に1350℃〜1450℃で焼結が行われている。これに関して、伝導エレメント41と絶縁エレメント42とが、同時焼結された複合体として付与されることを保証するために、以下の手段の1つが使用されるかまたは以下の手段の組合せが使用されるかまたは以下の手段の全てが使用される:
− 絶縁ペースト42’および/または絶縁懸濁液が、絶縁材料、特に酸化アルミニウムの粒子を含有していて、さらに、有機成分、特に軟化剤、溶剤および結合剤を含有しており、伝導ペースト41’が、貴金属、特に白金の粒子を含有していて、固体電解質、特にYSZの粒子を含有していて、さらに、有機成分、特に軟化剤、溶剤および結合剤を含有している。
− 絶縁材料の粒子のサイズ(d90)と、貴金属の粒子のサイズ(d90)と、固体電解質の粒子のサイズ(d90)とが、全て0.8μm〜2.5μmの範囲内にある。
− 絶縁材料の粒子のサイズ(d90)と、貴金属の粒子のサイズ(d90)と、固体電解質の粒子のサイズ(d90)とが、これら3つの値のうちの最大の値の50%未満だけ互いに異なっている。
− 絶縁ペースト42’内のかつ/または絶縁懸濁液内の固形物含有量(質量%)が、伝導ペースト41’内の固形物含有量(質量%)と20質量%未満だけ異なっている。
− 絶縁ペースト42’および/または絶縁懸濁液において、有機成分の含有量(質量%)が、伝導ペースト41’内の有機成分の含有量(質量%)と20質量%未満だけ異なっている。
− 絶縁ペースト42’および/または絶縁懸濁液および伝導ペースト41’が、同一の有機成分を含有している。
20 センサ素子
21 第1の固体電解質層
21’ 固体電解質シート
22 第2の固体電解質層
25 層間接続孔
25’ 工具
28 外側の層
29a 内側の層
29b 内側の層
31 機能素子
41 伝導エレメント
41’ 伝導ペースト
42 絶縁エレメント
42’ 絶縁ペースト
43 接触面
51 面取り部
60 分割面取り角
61 角度
100 外面
131 給電線路
200 層間接続部
211 上面
212 下面
251 壁
511 一直線の範囲
512 湾曲させられた範囲
515 第1の分割面取り部
516 第2の分割面取り部

Claims (41)

  1. ガスの物理的な特性を検出するためのセンサ素子であって、該センサ素子(20)が、第1の固体電解質層(21)を有しており、該第1の固体電解質層(21)が、層間接続孔(25)を有しており、センサ素子(20)が、さらに、導電性エレメント(41)を有しており、該導電性エレメント(41)が、層間接続孔(25)を貫いて第1の固体電解質層(21)の上面(211)から第1の固体電解質層(21)の下面(212)への導電的な接続部を形成しており、第1の固体電解質層(21)が、層間接続孔(25)内で導電性エレメント(41)から絶縁エレメント(42)によって電気的に絶縁されているセンサ素子において、層間接続孔(25)の壁(251)が、面取り部(51)を有していることを特徴とする、ガスの物理的な特性を検出するためのセンサ素子。
  2. 面取り部(51)が、少なくとも1つの一直線の範囲(511)を有しており、該一直線の範囲(511)が、層間接続孔(25)の半径方向において一直線であり、面取り部(51)の一直線の範囲(511)が、面取り部(51)全体にわたって延びている、請求項1記載のセンサ素子。
  3. 面取り部(51)が、25μmよりも少なくない深さにまで層間接続孔(25)内に達しており、かつ/または面取り部(51)が、第1の固体電解質層(21)の厚さの5%よりも少なくない深さにまで層間接続孔(25)内に達している、請求項1または2記載のセンサ素子。
  4. 面取り部(51)が、75μmよりも少なくない深さにまで層間接続孔(25)内に達しており、かつ/または面取り部(51)が、第1の固体電解質層(21)の厚さの15%よりも少なくない深さにまで層間接続孔(25)内に達している、請求項3記載のセンサ素子。
  5. 面取り部(51)の一直線の範囲(511)が、第1の固体電解質層(21)の上面(211)および/または第1の固体電解質層(21)の下面(212)と共に15゜よりも少なくなくて75゜よりも多くない角度(61)を成している、請求項2記載のセンサ素子。
  6. 面取り部(51)の一直線の範囲(511)が、第1の固体電解質層(21)の上面(211)および/または第1の固体電解質層(21)の下面(212)と共に30゜よりも少なくなくて60゜よりも多くない角度(61)を成している、請求項5記載のセンサ素子。
  7. 面取り部(51)が、少なくとも1つの湾曲させられた範囲(512)を有しており、該湾曲させられた範囲(512)が、10μm〜200μmの曲率半径を備えて層間接続孔(25)の半径方向において丸み付けられており、面取り部(51)の湾曲させられた範囲(512)が、面取り部(51)全体にわたって延びている、請求項記載のセンサ素子。
  8. 湾曲させられた範囲(512)が、25μm〜115μmの曲率半径を備えて半径方向において丸み付けられている、請求項7記載のセンサ素子。
  9. 面取り部(51)が、第1の分割面取り部(515)と第2の分割面取り部(516)とを有しており、該第2の分割面取り部(516)が、第1の固体電解質層(21)の上面(211)および下面(212)の少なくとも一方と第1の分割面取り部(515)との間に配置されており、第2の分割面取り部(516)において、層間接続孔(25)の半径方向での壁(251)の傾きが、第1の分割面取り部(515)における半径方向での壁(251)の傾きと、第1の固体電解質層(21)の上面(211)および下面(212)の少なくとも一方の傾きとの間に設定されている、請求項1から3までのいずれか1項記載のセンサ素子。
  10. 第2の分割面取り部(516)が、10μmよりも少なくない深さにまで層間接続孔(25)内に達していて、かつ/または第1の固体電解質層(21)の厚さの2.5%よりも少なくない深さにまで層間接続孔(25)内に達しており、かつ/または第2の分割面取り部(516)が、100μmよりも多くない深さにまで層間接続孔(25)内に達していて、かつ/または第1の固体電解質層(21)の厚さの20%よりも多くない深さにまで層間接続孔(25)内に達している、請求項9記載のセンサ素子。
  11. 第2の分割面取り部(516)が、30μmよりも少なくない深さにまで層間接続孔(25)内に達していて、かつ/または第1の固体電解質層(21)の厚さの7.5%よりも少なくない深さにまで層間接続孔(25)内に達しており、かつ/または第2の分割面取り部(516)が、50μmよりも多くない深さにまで層間接続孔(25)内に達していて、かつ/または第1の固体電解質層(21)の厚さの10%よりも多くない深さにまで層間接続孔(25)内に達している、請求項10記載のセンサ素子。
  12. 第1の分割面取り部(515)と第2の分割面取り部(516)とが、それぞれ半径方向において少なくとも部分的に一直線であり、層間接続孔(25)の半径方向において分割面取り角(60)を成して互いに接続されている、請求項9から11までのいずれか1項記載のセンサ素子。
  13. 第1の分割面取り部(515)と第2の分割面取り部(516)とが、半径方向において10゜よりも少なくなくて55゜よりも多くない分割面取り角(60)を成して互いに接続されている、請求項12記載のセンサ素子。
  14. 第1の分割面取り部(515)と第2の分割面取り部(516)とが、半径方向において25゜よりも少なくなくて45゜よりも多くない分割面取り角(60)を成して互いに接続されている、請求項12または13記載のセンサ素子。
  15. 第2の分割面取り部(516)が、第1の固体電解質層(21)の上面(211)および/または第1の固体電解質層(21)の下面(212)と共に3゜よりも少なくなくて25゜よりも多くない角度(61)を成している、請求項9から14までのいずれか1項記載のセンサ素子。
  16. 第2の分割面取り部(516)が、第1の固体電解質層(21)の上面(211)および/または第1の固体電解質層(21)の下面(212)と共に6゜よりも少なくなくて16゜よりも多くない角度(61)を成している、請求項15記載のセンサ素子。
  17. 第2の分割面取り部(516)が、半径方向において少なくとも部分的に一直線であり、第1の分割面取り部(515)が、半径方向において少なくとも部分的に10μm〜200μmの曲率半径を備えて丸み付けられており、第2の分割面取り部(516)と第1の分割面取り部(515)とが、半径方向において5゜よりも少ない分割面取り角(60)を成して互いに接続されている、請求項9から16までのいずれか1項記載のセンサ素子。
  18. 第1の分割面取り部(515)が、半径方向において少なくとも部分的に25μm〜115μmの曲率半径を備えて丸み付けられている、請求項17記載のセンサ素子。
  19. 第2の分割面取り部(516)と第1の分割面取り部(515)とが、半径方向において1゜よりも少ない分割面取り角(60)を成して互いに接続されている、請求項17記載のセンサ素子。
  20. 第2の分割面取り部(516)と第1の分割面取り部(515)とが、半径方向において平坦に互いに接続されている、請求項17記載のセンサ素子。
  21. 層間接続孔(25)の壁(251)が、層間接続孔(25)の下縁部および上縁部にそれぞれ1つの面取り部(51)を有している、請求項1から20までのいずれか1項記載のセンサ素子。
  22. 絶縁エレメント(42)が、層間接続孔(25)の壁(251)に層状に配置されていて、層間接続孔(25)の壁(251)の少なくとも90%に沿って、最小厚さと最大許容厚さとの間に設定された層厚さを有しており、前記最小厚さが、5μm〜14μmの範囲内に設定されており、前記最大許容厚さが、16μm〜30μmの範囲内に設定されている、請求項1から21までのいずれか1項記載のセンサ素子。
  23. 絶縁エレメント(42)が、層間接続孔(25)の壁(251)の少なくとも97%に沿って、前記最小厚さと前記最大許容厚さとの間に設定された層厚さを有している、請求項22記載のセンサ素子。
  24. 前記最小厚さが、10μmである、請求項22記載のセンサ素子。
  25. 前記最大許容厚さが、20μmである、請求項22記載のセンサ素子。
  26. 絶縁エレメント(42)が、以下の材料:すなわち、
    − 50質量%よりも多くの割合を備えたAl
    − 50質量%よりも少ない割合を備えたガラス相:
    の少なくとも一方または両方を含有している、請求項1から25までのいずれか1項記載のセンサ素子。
  27. 前記Alが、α−Alである、請求項26記載のセンサ素子。
  28. 前記ガラス相が、セルシアンガラスまたはBa−Si−Laガラスの高絶縁性のガラス相である、請求項26記載のセンサ素子。
  29. 前記センサ素子が、内燃機関の排ガスのガス成分の濃度または排ガスの温度を検出するためのセンサ素子である、請求項1から28までのいずれか1項記載のセンサ素子。
  30. 請求項1から29までのいずれか1項記載のセンサ素子(20)を製造するための方法において、該方法が、以下のステップ:すなわち、
    − Y、Caおよび/またはScで安定化させられたZrOから成る焼成されていない固体電解質シート(21’)を製造し、
    − 該固体電解質シート(21’)に打抜き、型押しまたは片側または両側からの穿孔によって層間接続孔(25)を加工し、
    − 該層間接続孔(25)の壁(251)に面取り部(51)を製作し、
    層間接続孔(25)に印刷、スクリーン印刷、片側または両側からの吸引/押圧、噴霧および/または滴下によって絶縁ペースト(42’)および/または絶縁懸濁液を1回または複数回供給し、最後にかつ複数回の供給時には付加的に供給の間にも乾燥を行い、
    − 層間接続孔(25)内に伝導ペースト(41’)を、層間接続孔(25)を通した伝導ペースト(41)の吸引および/または固体電解質シート(21’)の表面への伝導ペースト(41)の印刷塗布によって1回または複数回供給し、
    − センサ素子(20)を焼結し、伝導ペースト(41’)および絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液を同時焼結しかつ/または固体電解質シート(21’)および絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液を同時焼結する:
    を記載した順序で行うことを特徴とする、センサ素子を製造するための方法。
  31. 層間接続孔(25)の加工を1つまたはそれ以上の工具(25’)によって行い、該工具(25’)の少なくとも一部範囲が、加工したい層間接続孔(25)の形状に対応しているかまたは加工したい層間接続孔(25)の少なくとも一部範囲の形状に対応している形状を有している、請求項30記載の方法。
  32. 層間接続孔(25)の加工を1つまたはそれ以上の機械的なドリルおよび/または打抜き工具またはレーザ放射によって行う、請求項30または31記載の方法。
  33. 層間接続孔(25)内への絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液の供給を両側からの吸引によって行い、以下の分割ステップ:すなわち、
    − 絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液を固体電解質シート(21’)の上面(211)で層間接続孔(25)の範囲に塗布し、
    − 固体電解質シート(21’)の下面(212)で層間接続孔(25)の範囲に負圧を発生させることよって、該層間接続孔(25)を通して絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液を吸引し、
    − 絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液を固体電解質シート(21’)の下面(212)で層間接続孔(25)の範囲に塗布し、
    − 固体電解質シート(21’)の上面(211)で層間接続孔(25)の範囲に負圧を発生させることよって、該層間接続孔(25)を通して絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液を吸引する:
    を記載した順序で行う、請求項30から32までのいずれか1項記載の方法。
  34. 層間接続孔(25)の壁(251)全体に沿って、絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液の、5μm〜35μmの厚さを備えた層を形成するように、前記負圧、絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液の稠度ならびに吸引の回数および方向および層間接続孔(25)の形状を選択する、請求項33記載の方法。
  35. 層間接続孔(25)の壁(251)全体に沿って、絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液の、10μm〜25μmの厚さを備えた層を形成するように、前記負圧、絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液の稠度ならびに吸引の回数および方向および層間接続孔(25)の形状を選択する、請求項34記載の方法。
  36. 絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液が、絶縁材料の粒子を含有していて、さらに、有機成分を含有しており、伝導ペースト(41’)が、貴金属の粒子を含有していて、固体電解質の粒子を含有していて、さらに、有機成分を含有しており、以下の条件:すなわち、
    − 前記絶縁材料の粒子のサイズ(d90)と、前記貴金属の粒子のサイズ(d90)と、前記固体電解質の粒子のサイズ(d90)とが、全て0.8μm〜2.5μmの範囲内にあり、
    − 前記絶縁材料の粒子のサイズ(d90)と、前記貴金属の粒子のサイズ(d90)と、前記固体電解質の粒子のサイズ(d90)とが、これら3つの値のうちの最大の値の50%未満だけ互いに異なっており、
    − 絶縁ペースト(42’)内のかつ/または前記絶縁懸濁液内の固形物含有量(質量%)が、伝導ペースト(41’)内の固形物含有量(質量%)と20質量%未満だけ異なっており、
    − 絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液において、前記有機成分の含有量(質量%)が、伝導ペースト(41’)内の前記有機成分の含有量(質量%)と20質量%未満だけ異なっており、
    − 絶縁ペースト(42’)および/または前記絶縁懸濁液および伝導ペースト(41’)が、同一の有機成分を含有している:
    の少なくとも1つが満たされている、請求項30から35までのいずれか1項記載の方法。
  37. 前記絶縁材料が、酸化アルミニウムである、請求項36記載の方法。
  38. 前記有機成分が、軟化剤、溶剤および結合剤である、請求項36記載の方法。
  39. 前記貴金属が、白金である、請求項36記載の方法。
  40. 前記固体電解質が、YSZである、請求項36記載の方法。
  41. 前記条件が全て満たされている、請求項36から40までのいずれか1項記載の方法。
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