JP5160500B2 - ハイブリッド位相板 - Google Patents
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- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 56
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 61
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 59
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101710205482 Nuclear factor 1 A-type Proteins 0.000 description 1
- 101710170464 Nuclear factor 1 B-type Proteins 0.000 description 1
- 102100022162 Nuclear factor 1 C-type Human genes 0.000 description 1
- 101710113455 Nuclear factor 1 C-type Proteins 0.000 description 1
- 101710140810 Nuclear factor 1 X-type Proteins 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000013311 covalent triazine framework Substances 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000001239 high-resolution electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000013169 thromboelastometry Methods 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2614—Holography or phase contrast, phase related imaging in general, e.g. phase plates
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Description
Ψ0(G)=δ(G)-iφ(G) [1]
となる。結像系、特にTEMの対物レンズは、この波を以下のように変える。
ここでχ(G)は、デフォーカス及び球面収差のようなパラメータに依存する収差関数である。検出器での強度は、次式で表されるΨ(G)とその複素共役Ψ*(G)の畳み込み積分に等しい。
これは以下のように書くことができる。
フーリエ空間ではGと-Gのいずれの周波数も存在し、かつφ(x)は実関数であるので、φ*(-G)はφ(G)に置き換えられて良い。
同様に、χ(G)はGについて偶関数であるので、χ(-G)はχ(G)に置き換えられて良い。
強度についての表式は以下のように単純化される。
因子sin[2πχ(G)]はコントラスト伝達関数(CTF)と呼ばれる。
φ(G)における2次の項は小さく、通常は無視される。
よって式[7]は、
CTF(G)=sin[2πχ(G)+θ] [9]
となる。
それによりCTFの正弦状の振る舞いは余弦状の振る舞いに変換される。θ=-π/2の位相シフトもまたCTFの余弦状の振る舞いを引き起こす。コントラストの著しい改善は、θ=π/2+nπ以外の位相シフトでも起こりうることにさらに留意して欲しい。式のより詳細な導出については、非特許文献2を参照のこと。
CTFは以下のように変化する。
虚数CTFの効果は非特許文献4に記載されている。非特許文献4によると、CTFが虚数であるということは、構造のシフトが関心対象の空間周波数に相当することを意味している。しかし像平面内で強度バリエーションが得られる。
・前記粒子光学装置には本発明による位相板が備えられていて、かつ
・前記粒子光学装置は、前記対物レンズが可変倍率によって前記位相板上に焦点を形成する面を結像するように備えられている、
ことを特徴とする。
前記像の所望低空間周波数範囲を決定する工程であって、前記低空間周波数範囲は前記ホイルを透過する粒子と前記貫通穴を通り抜ける粒子との干渉によって生じる工程;
前記像の所望高空間周波数範囲を決定する工程であって、前記高空間周波数範囲は前記中央構造の周囲を透過する粒子と前記貫通穴を通り抜ける粒子との干渉によって生じる工程;及び
前記後焦点面が前記位相板上で結像することにより、前記低空間周波数範囲及び前記高空間周波数範囲に相当する粒子が前記中央構造によって妨害されないように前記倍率を調節する工程;
を有する。
12 環状電極
13 環状電極
14 表面
15 表面
16 スポーク
17 内部導電線
21 キャリア
22 カーボンホイル
23 アパーチャ
24 軸
30 カーボンホイル
31 貫通穴
401 従来のTEMについての典型的なCTF曲線
402 本発明によるTEMについての典型的なCTF曲線
403 包絡線
404 バンドストップ
501 従来のTEMについての典型的なCTF曲線
502 本発明によるTEMについての典型的なCTF曲線
503 包絡線
504 バンドストップ
610 非透明構造
611 透明ホイル
612 穴
613 小さな角度
614A 角度
614B 360°から614Aの角度を引いた角度
700 光軸
701 粒子源
702 コンデンサレンズシステム
703 試料
704 試料ホルダ
705 対物レンズ
706 拡大システム
707 位相板
708 マニピュレータ
709 投影システム
710 検出器
711 ガラス窓
Claims (10)
- 粒子光学装置に用いられる位相板であって、
当該位相板は粒子ビームによって照射され、
当該位相板は粒子を透過しない中央構造を有し、
前記中央構造は前記粒子ビームの一部を通過させる貫通穴を取り囲み、
前記中央構造は粒子を透過する領域によって取り囲まれ、
前記中央構造は、該中央構造によって取り囲まれた前記貫通穴を通り抜けるビームの一部と前記中央構造の外側を通り抜けるビームの一部との間に位相シフトを生じさせるように備えられていて、
前記中央構造が粒子を透過するホイルを有し、
該ホイルは中心貫通穴を取り囲み、
前記ホイルは、前記貫通穴を通り抜けるビームの一部と前記中央構造の外側を通り抜けるビームの一部との間に位相シフトを生じさせるように備えられている、
ことを特徴とする位相板。 - 前記ホイルはカーボンホイルである、請求項1に記載の位相板。
- 前記位相板の面内にあって貫通穴の中心を通り抜ける少なくとも1本のラインは2つの対向する側部で中央構造と交差し、
前記少なくとも1本のラインは、一の方向において前記貫通穴からR1だけ離れた地点から、前記貫通穴からR2だけ離れた地点までの間で前記中央構造と交差し、他の方向において前記貫通穴からR3だけ離れた地点から、前記貫通穴からR4だけ離れた地点までの間で前記中央構造と交差し、かつ
R3≧R2である、
請求項1又は2に記載の位相板。 - 前記中央構造は2つの半環から構成され、
一の半環は内径がR1であって外径がR2であり、
他の半環は内径がR3であって外径がR4であり、
R3≧R2であり、
前記貫通穴は2つの環の中心地点に位置し、かつ
前記2つの環は前記2つの半環から構成されている、
請求項1又は2に記載の位相板。 - 位相板と対物レンズが備えられている粒子光学装置であって、
当該粒子光学装置は粒子ビームを試料に照射し、
前記位相板は、前記試料を照射するビームが収束する面内に実質的に設けられ、
前記位相板は請求項1乃至4のいずれか一項に記載の位相板である、
粒子光学装置。 - 動作中、前記ホイル及び前記中央構造によって生じる結合位相シフトの結果、前記ホイルを透過する粒子については実質的にθ=nπの位相シフトが起こり、
nは整数である、
請求項5に記載の粒子光学装置。 - 動作中、前記ホイル及び前記中央構造によって生じる結合位相シフトの結果、前記ホイルを透過する粒子の位相シフトθは実質的にゼロとなる、請求項6に記載の粒子光学装置。
- 可変倍率によって位相板上に対物レンズの後焦点面を結像するように備えられている、請求項5乃至7のいずれか一項に記載の粒子光学装置。
- 試料と位相板を照射する対物レンズが備えられた粒子光学装置を用いて像を生成する方法であって、前記粒子光学装置は前記対物レンズが前記位相板上に焦点を形成する面を結像するように備えられ、
・前記粒子光学装置には請求項1乃至4のいずれか一項に記載の位相板が備えられていて、かつ
・前記粒子光学装置は、前記対物レンズが可変倍率によって前記位相板上に焦点を形成する面を結像するように備えられている、
ことを特徴とする方法であって:
前記像の所望低空間周波数範囲を決定する工程であって、前記低空間周波数範囲は前記ホイルを透過する粒子と前記貫通穴を通り抜ける粒子との干渉によって生じる工程;
前記像の所望高空間周波数範囲を決定する工程であって、前記高空間周波数範囲は前記中央構造の周囲を透過する粒子と前記貫通穴を通り抜ける粒子との干渉によって生じる工程;及び
前記後焦点面が前記位相板上で結像することにより、前記低空間周波数範囲及び前記高空間周波数範囲に相当する粒子が前記中央構造によって妨害されないように前記倍率を調節する工程;
を有する方法。 - 低空間周波数範囲を決定する工程及び高空間周波数範囲を決定する工程は、前記低空間周波数範囲及び前記高空間周波数範囲が中心となるような中央空間周波数を決定する工程の形態をとる、請求項9に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP08157619.1 | 2008-06-05 | ||
EP08157619A EP2131385A1 (en) | 2008-06-05 | 2008-06-05 | Hybrid phase plate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009295586A JP2009295586A (ja) | 2009-12-17 |
JP5160500B2 true JP5160500B2 (ja) | 2013-03-13 |
Family
ID=39810234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009134920A Active JP5160500B2 (ja) | 2008-06-05 | 2009-06-04 | ハイブリッド位相板 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8071954B2 (ja) |
EP (2) | EP2131385A1 (ja) |
JP (1) | JP5160500B2 (ja) |
CN (1) | CN101630622B (ja) |
AT (1) | ATE511205T1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5319579B2 (ja) * | 2010-03-05 | 2013-10-16 | 株式会社日立製作所 | 位相差電子顕微鏡および位相板 |
EP2400522A1 (en) * | 2010-06-24 | 2011-12-28 | Fei Company | Blocking member for use in the diffraction plane of a TEM |
EP2485239A1 (en) * | 2011-02-07 | 2012-08-08 | FEI Company | Method for centering an optical element in a TEM comprising a contrast enhancing element |
EP2667399A1 (en) | 2012-05-23 | 2013-11-27 | FEI Company | Improved phase plate for a TEM |
EP2704178B1 (en) | 2012-08-30 | 2014-08-20 | Fei Company | Imaging a sample in a TEM equipped with a phase plate |
JP6286270B2 (ja) | 2013-04-25 | 2018-02-28 | エフ イー アイ カンパニFei Company | 透過型電子顕微鏡内で位相版を用いる方法 |
JP2015082380A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 日本電子株式会社 | 画像取得方法および透過電子顕微鏡 |
DE102013019297A1 (de) | 2013-11-19 | 2015-05-21 | Fei Company | Phasenplatte für ein Transmissionselektronenmikroskop |
EP2881970A1 (en) | 2013-12-04 | 2015-06-10 | Fei Company | Method of producing a freestanding thin film of nano-crystalline carbon |
EP2887381B1 (en) | 2013-12-18 | 2016-09-21 | Fei Company | Method of investigating the wavefront of a charged-particle beam |
EP3474308A1 (en) | 2017-10-17 | 2019-04-24 | Universiteit Antwerpen | Spatial phase manipulation of charged particle beam |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE8634545U1 (de) | 1986-12-23 | 1987-05-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Korpuskularstrahlgerät zur fehlerarmen Abbildung linienförmiger Objekte |
DE69026242T2 (de) | 1990-04-12 | 1996-10-02 | Philips Electronics Nv | Korrekturvorrichtung für ein teilchengeladenes Strahlgerät |
NL9100294A (nl) | 1991-02-20 | 1992-09-16 | Philips Nv | Geladen deeltjesbundelinrichting. |
JPH09237603A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-09-09 | Hitachi Ltd | 位相差電子顕微鏡およびその位相板 |
US5814815A (en) | 1995-12-27 | 1998-09-29 | Hitachi, Ltd. | Phase-contrast electron microscope and phase plate therefor |
JP3985057B2 (ja) | 1996-05-21 | 2007-10-03 | エフ イー アイ カンパニ | 粒子光学機器のレンズ収差補正用補正装置 |
US5798524A (en) | 1996-08-07 | 1998-08-25 | Gatan, Inc. | Automated adjustment of an energy filtering transmission electron microscope |
DE69733408T2 (de) | 1996-09-20 | 2005-11-10 | Fei Co., Hillsboro | Korrigiervorrichtung zur korrektur chromatischer fehler in einem partikel-optischen gerät |
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EP0960429A1 (en) | 1997-12-11 | 1999-12-01 | Philips Electron Optics B.V. | Correction device for correcting the spherical aberration in particle-optical apparatus |
JP4286913B2 (ja) | 1997-12-22 | 2009-07-01 | エフ イー アイ カンパニ | 粒子光学機器の中の色収差を補正する補正装置 |
DE19802409B4 (de) | 1998-01-23 | 2006-09-21 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Anordnung zur Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung einer Linse, insbesondere der Objektivlinse eines Elektronenmikroskops |
JP3773389B2 (ja) * | 2000-03-27 | 2006-05-10 | 日本電子株式会社 | 位相差電子顕微鏡用薄膜位相板並びに位相差電子顕微鏡及び位相板帯電防止法 |
JP3942363B2 (ja) | 2001-02-09 | 2007-07-11 | 日本電子株式会社 | 透過電子顕微鏡の位相板用レンズシステム、および透過電子顕微鏡 |
JP4328044B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2009-09-09 | 日本電子株式会社 | 差分コントラスト電子顕微鏡および電子顕微鏡像のデータ処理方法 |
AU2002358245A1 (en) | 2001-10-10 | 2003-04-22 | Applied Materials Isreal Limited | Method and device for aligning a charged particle beam column |
DE10206703A1 (de) | 2002-02-18 | 2003-08-28 | Max Planck Gesellschaft | Phasenplatte für die Elektronenmikroskopie und elektronenmikroskopische Bildgebung |
CN1256599C (zh) * | 2004-05-09 | 2006-05-17 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 离散连续混合相位型位相板及其实现超分辨的方法 |
WO2006017252A1 (en) | 2004-07-12 | 2006-02-16 | The Regents Of The University Of California | Electron microscope phase enhancement |
JP4625317B2 (ja) | 2004-12-03 | 2011-02-02 | ナガヤマ アイピー ホールディングス リミテッド ライアビリティ カンパニー | 位相差電子顕微鏡用位相板及びその製造方法並びに位相差電子顕微鏡 |
JP5373251B2 (ja) | 2005-04-05 | 2013-12-18 | エフ イー アイ カンパニ | 収差補正手段を備える粒子光学装置 |
DE102005040267B4 (de) | 2005-08-24 | 2007-12-27 | Universität Karlsruhe | Verfahren zum Herstellen einer mehrschichtigen elektrostatischen Linsenanordnung, insbesondere einer Phasenplatte und derartige Phasenplatte |
EP1783811A3 (en) | 2005-11-02 | 2008-02-27 | FEI Company | Corrector for the correction of chromatic aberrations in a particle-optical apparatus |
WO2007052723A1 (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-10 | Nagayama Ip Holdings, Llc | 電子顕微鏡用位相板及びその製造方法 |
DE102006011615A1 (de) | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Phasenkontrast-Elektronenmikroskop |
US7884326B2 (en) * | 2007-01-22 | 2011-02-08 | Fei Company | Manipulator for rotating and translating a sample holder |
EP2091062A1 (en) | 2008-02-13 | 2009-08-19 | FEI Company | TEM with aberration corrector and phase plate |
-
2008
- 2008-06-05 EP EP08157619A patent/EP2131385A1/en not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-06-04 AT AT09161890T patent/ATE511205T1/de not_active IP Right Cessation
- 2009-06-04 EP EP09161890A patent/EP2131384B1/en active Active
- 2009-06-04 JP JP2009134920A patent/JP5160500B2/ja active Active
- 2009-06-04 US US12/478,707 patent/US8071954B2/en active Active
- 2009-06-05 CN CN200910142684.8A patent/CN101630622B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101630622A (zh) | 2010-01-20 |
US8071954B2 (en) | 2011-12-06 |
ATE511205T1 (de) | 2011-06-15 |
EP2131384A1 (en) | 2009-12-09 |
JP2009295586A (ja) | 2009-12-17 |
CN101630622B (zh) | 2013-10-30 |
EP2131385A1 (en) | 2009-12-09 |
US20090302217A1 (en) | 2009-12-10 |
EP2131384B1 (en) | 2011-05-25 |
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