JP5158388B2 - 液晶アレイ検査装置、および撮像範囲の補正方法 - Google Patents

Description

本発明は、電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを基板上で二次元的に走査して得られる走査画像に基づいて液晶基板のアレイ検査を行う液晶アレイ検査装置および走査ビーム装置に関する。

検査対象の液晶基板のアレイに検査信号を印加し、電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを基板上で二次元的に走査し、ビーム走査で得られる走査画像に基づいて基板検査を行う基板検査装置が知られている。例えば、ＴＦＴディスプレイ装置に用いるＴＦＴアレイ基板の製造工程では、製造されたＴＦＴアレイ基板が正しく駆動するかの検査が行われるが、このＴＦＴアレイ基板検査では、荷電粒子ビームとして例えば電子ビームを用いて、ＴＦＴアレイ基板を走査することで走査画像を取得し、この走査画像に基づいて検査を行っている。（特許文献１，２）

電子ビームの液晶基板でアレイを二次元的に走査するにために、電子ビームをＸ方向に振ると共に、ステージをＹ方向に移動させている。

この電子ビームの走査とステージの移動とによる走査において、単一の電子銃から照射される電子ビームが高精度で走査し得る走査幅には限界があるため、一つの基板が有する全走査範囲を複数の部分に分け、各部分に対して電子銃を設ける構成が知られている。さらに、各電子銃が走査する範囲をＸ方向に並置した複数のパスに分け、各パス内において、液晶基板の１ピクセルのＹ方向の幅に相当する送り幅のステージ送りと、１ピクセルのＸ方向の幅に相当する走査幅のビーム走査とを交互に行うことによって、パス内の走査画像を取得する制御が知られている。

図１３は、液晶基板上における電子ビームの走査を説明するための図である。図１３において、複数の電子銃（ＧＵＮ１、ＧＵＮ２，…）を液晶基板のＸ方向に所定間隔で配置し、この電子銃から電子ビームを液晶基板上に照射する。この電子ビームの照射において、各電子銃は、液晶基板上に設定した複数のパス（図１３ではパス１〜パス４）の一パス内において、電子ビームを走査幅Ｄxの幅で走査する。この電子ビームの走査は、電子銃による電子ビームの振り動作によってパスを単位として行い、一つのパスが終了した後、ステージを移動して隣接するパスの走査を行う。このステージ移動の際には、パスの幅分に相当するステージ移動幅Ｌxだけ移動する。

図１３（ｂ）は、パス１の走査状態を示し、図１３（ａ）に示すパス１の走査位置からステージをステージ移動幅Ｌxだけ移動し、この移動によってパス２の走査を行う。また、図１３（ｃ）は、図１３（ｂ）の位置からステージをステージ移動幅Ｌxだけ移動させ、パス３を走査する状態を示している。このようにして、液晶基板上に設定した複数の全パスについて走査を行う。

各パスでの走査において、液晶基板に検査信号を印加し、液晶基板のアレイ上に電子ビームを走査して二次電子を検出し、検出信号を取得する。１パスは複数のフレームに分けられ、各フレームについて検査信号の印加と検出信号の検出とを行う。この検査信号の印加と検出信号の検出とを全パスで行い、各走査で撮像した走査画像を組み合わせることによって基板全体の走査画像を取得する。

なお、各フレームにおいて、検査信号の印加と電子ビームの走査および二次電子の検出とを複数回（例えば２０回）行い、得られた複数の検出信号を重畳させることによって、検出信号の信号強度を増加させることができる。

特開２００４−２７１５１６号公報 特開２００４−３０９４８８号公報

一つの液晶基板の走査画像は、液晶基板のＸ方向に一列に配置した複数の電子銃による電子ビームの走査によって得られる複数の走査画像を組み合わせることで取得する。ここで、Ｘ方向に一列に配置した複数の電子銃の配置間隔や、各電子銃が照射する電子ビームの照射角度等の電子ビーム条件は必ずしも一致していない。そのため、各電子銃によって得られる撮像範囲にＸ方向にずれが生じるおそれがある。

撮像範囲のＸ方向に位置ずれが生じた場合には、複数の撮像範囲を組み合わせた際に、Ｘ方向に未撮像の範囲が発生するおそれがある。

また、液晶基板のＸ方向に配列する複数の電子銃の列を方向に複数列配置する構成とすることによって、一つの液晶基板を走査する走査時間が短縮され、これによって、液晶アレイを検査する検査時間が短縮されることが期待される。

このように、電子銃の列を複数列配置する構成では、上記したように、各列に配列される複数の電子銃により得られる撮像範囲に生じる位置ずれの問題の他、各列間において、Ｙ方向で隣接する撮像範囲のＹ方向にずれが生じるおそれがある。

撮像範囲のＹ方向に位置ずれが生じた場合には、複数の撮像範囲を組み合わせた際に、Ｙ方向に未撮像の範囲が発生するおそれがある。

そこで、本発明は前記した従来の問題点を解決し、電子ビームを液晶基板上で二次元的に走査して撮像画像を取得し、この撮像画像に基づいて液晶基板のアレイを検査する液晶アレイ検査において、一つの液晶基板の撮像画像を複数の電子銃による撮像画像を組み合わせて取得する際に、各電子銃の撮像範囲のずれを補正することを目的とする。

より詳細には、液晶基板のＸ方向に配列した複数の電子銃の列を、液晶基板のＹ方向に複数列配置し、各電子銃から電子ビームを走査することによって得られる複数の走査画像を組み合わせ、走査画像により液晶基板のアレイを検査する液晶アレイ検査において、各電子銃による撮像範囲を補正することを目的とする。

本発明は、電子ビームによってステージを撮像して得られる撮像画像を用い、各電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれ量を求め、求めた位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれを補正するための補正量を算出し、Ｘ方向の位置ずれについては、電子ビームのＸ方向の走査を制御することで補正を行い、Ｙ方向の位置ずれについては、電子銃のＹ方向の設置位置を位置合わせすることで補正を行う。

これによって、一つの液晶基板の撮像画像を複数の電子銃による撮像画像を組み合わせて取得する際の各電子銃の撮像範囲のずれを補正することができる。また、液晶基板のＸ方向に配列した複数の電子銃の列を、液晶基板のＹ方向に複数列配置してなる電子銃の構成において、各電子銃の撮像範囲のずれを補正することができる。

本発明の液晶アレイ検査装置は、電子ビームを液晶基板上で二次元的に走査して撮像画像を取得し、取得した撮像画像に基づいて液晶基板のアレイを検査する液晶アレイ検査装置であり、液晶基板を載置するためのステージと、ステージの上方位置にＸ方向およびＹ方向に配置された複数の電子銃と、電子銃の電子ビームの走査を制御する走査制御部と、電子銃の電子ビームの走査によって放出される二次電子を検出する複数の検出器と、検出器の検出信号から電子銃が走査する撮像範囲の撮像画像を生成する画像処理部と、画像処理部で生成されたステージの撮像画像から各電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれ量を求め、求めた位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれを補正するための補正量を算出する補正量算出部と、画像処理部で生成された基板の撮像画像からアレイの欠陥を検査する欠陥判定部とを備える。

本発明の走査制御部は、補正量算出部で算出した撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて電子ビームのＸ方向の走査を制御する。

本発明の補正量算出部は、各電子銃が走査して得られる撮像範囲について位置ずれを求め、この位置ずれに基づいて補正量を算出することによって、各電子銃を単位としてその位置ずれを補正することができる。

本発明の液晶アレイ検査装置は、位置ずれを求めて補正量を算出するために、ステージ上に設けたマークを撮像し、撮像画像からこのマークを識別し、マークの検出位置と基準位置との位置関係から撮像範囲の位置ずれ量を求める構成を備える。

ステージは、電子銃と対向する側の面上にＸ方向に複数のマークを備えるとともに、複数のマークのＸ方向の配置間隔と、電子銃のＸ方向の配置間隔とを同間隔に設定しておく。

画像処理部は電子銃毎に撮像画像を生成し、補正量算出部は各撮像画像においてマークを識別し、識別したマークの位置を検出する機能を備える。さらに、マークの検出位置とマークの基準位置との差分から電子銃の撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量を求める機能と、求めたＸ方向の位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出する機能を備える。

また、Ｙ方向で隣接する撮像画像のマークの検出位置とマークの基準位置から電子銃の撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を求める機能と、求めたＹ方向の位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＹ方向の補正量を算出する機能を備える。

走査制御部は、補正量算出部で算出した電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて電子ビームのＸ方向の走査を制御し、Ｘ方向の撮像範囲を補正する。

補正量算出部の一構成例では、Ｘ方向に配列される電子銃の各列において、列内の各電子銃の撮像範囲で求めたマークの検出位置と基準位置とのＸ方向の差分の平均値を列のＸ方向の位置ずれ量として算出する機能と、算出した位置ずれ量からこの列における電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出する機能を備える。

この構成例では、電子銃がＸ方向に配列されてなる列において、一つの補正量によって各電子銃の走査を制御し、各電子銃の撮像範囲のＸ方向を補正する。電子銃の走査制御は、例えば、走査制御部が偏向レンズに印加する電圧を補正量に応じて調整することによって、電子ビームのＸ方向の偏向を変えることによって行うことができる。

また、Ｙ方向に隣接する２つの電子銃の撮像範囲が重なるオーバーラップ領域において、各撮像範囲のマークの検出位置とマークの基準位置との差から各オーバーラップ量を算出する機能と、各撮像範囲のオーバーラップ量からこの撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を算出する機能と、この位置ずれ量から隣接する２つの電子銃間における電子銃のＹ方向の設置位置を補正する補正量を算出する機能を備える。

また、本発明の液晶アレイ検査装置の撮像範囲の補正方法は、電子ビームを液晶基板上で二次元的に走査して撮像画像を取得し、取得した撮像画像に基づいて液晶基板のアレイを検査する液晶アレイ検査装置の撮像範囲を補正する方法である。

撮像画像を取得する複数の電子銃は、液晶基板を載置するステージの上方位置において、Ｘ方向に配列するとともに、この配列をＹ方向に少なくとも２列配置する構成に適用する。

本発明の補正方法では、ステージを電子銃の電子ビームで走査して撮像画像を取得する工程と、取得した撮像画像から各電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれ量を求め、求めた位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれを補正するための補正量を算出する工程と、算出した撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて電子ビームのＸ方向の走査を制御する工程と、算出した撮像範囲のＹ方向の補正量に基づいて電子銃のＹ方向の設置位置を位置合わせする工程の各工程によって撮像範囲を補正する。

上記各工程において、撮像画像を取得する工程は、電子銃、検出器、および、走査制御部、および画像処理部によって行い、補正量を算出する工程は補正量算出部によって行い、補正量に基づく電子ビームのＸ方向の走査制御は走査制御部によって行う。Ｙ方向の補正は、電子銃の設置位置を位置合わせすることで行う。

また、液晶アレイ検査装置において、ステージの電子銃と対向する側の面上にＸ方向に複数のマークを備えるとともに、複数のマークのＸ方向の配置間隔と、電子銃のＸ方向の配置間隔とを同間隔に設定する構成において、このマークを用いて位置ずれ量および補正量を算出する。

補正量を算出する工程は、各撮像画像においてマークを識別し、識別したマークの位置を検出する。Ｘ方向の補正量の算出では、検出したマークの検出位置とマークの基準位置との差分から電子銃の撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量を求め、求めた位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出する。一方、Ｙ方向の補正量の算出では、Ｙ方向で隣接する撮像画像のマークの検出位置とマークの基準位置から電子銃の撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を求め、求めた位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＹ方向の補正量を算出する。

Ｘ方向の走査制御は、算出した電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて電子ビームのＸ方向の走査を制御することでＸ方向の撮像範囲を補正する。

補正量を算出するより詳細な工程例では、Ｘ方向の補正量の算出では、Ｘ方向に配列される電子銃の各列において、列内の各電子銃の撮像範囲で求めたマークの検出位置と基準位置とのＸ方向の差分の平均値をこの列のＸ方向の位置ずれ量として算出し、算出した位置ずれ量からその列における電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出する。

一方、Ｙ方向の補正量の算出では、Ｙ方向に隣接する２つの電子銃の撮像範囲が重なるオーバーラップ領域において、各撮像範囲のマークの検出位置とマークの基準位置との差から各オーバーラップ量を算出し、各撮像範囲のオーバーラップ量から撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を算出し、算出した位置ずれ量から隣接する２つの電子銃間における電子銃のＹ方向の設置位置を補正する補正量を算出する。

本発明によれば、電子ビームを液晶基板上で二次元的に走査して撮像画像を取得し、この撮像画像に基づいて液晶基板のアレイを検査する液晶アレイ検査において、一つの液晶基板の撮像画像を複数の電子銃による撮像画像を組み合わせて取得する際に、各電子銃の撮像範囲のずれを補正することができる。

また、液晶基板のＸ方向に配列した複数の電子銃の列を、液晶基板のＹ方向に複数列配置し、各電子銃から電子ビームを走査することによって得られる複数の走査画像を組み合わせ、走査画像により液晶基板のアレイを検査する液晶アレイ検査において、各電子銃による撮像範囲を補正することができる。

本発明の液晶アレイ検査装置の構成例を説明するための概略ブロック図である。 本発明の画像処理部および補正量算出部が備え機能を実現する一構成例を説明するための概略ブロック図である。 本発明の液晶アレイ検査において複数の電子銃と各撮像範囲との関係を説明するための図である。 本発明の液晶アレイ検査において複数の電子銃と各撮像範囲との関係を説明するための図である。 電子銃の撮像範囲のＸ方向の位置ずれを説明するための撮像画像の図である。 本発明の液晶アレイ検査の手順例を説明するためのフローチャートである。 本発明の液晶アレイ検査の撮像画像例を説明するための図である。 本発明の撮像画像のＸ方向の補正を、各列の全電子銃について共通の補正量によって行う動作例を説明するためのフローチャートである。 本発明の撮像画像のＸ方向の補正を、各列の各電子銃について個々の補正量によって行う動作例を説明するためのフローチャートである。 本発明の撮像画像のＸ方向の補正を、各列の各電子銃について個々の補正量によって行う動作例を説明するため説明図である。 本発明のＹ方向のオーバーラップ量の算出を説明するための図である。 本発明のＹ方向のオーバーラップ量の算出を説明するための図である。 従来の液晶基板上における電子ビームの走査を説明するための図である。

符号の説明

１…液晶アレイ検査装置、２…電子銃、２Ａ…第１列の電子銃、２Ｂ…第２列の電子銃、３…検出器、４…ステージ、５…マーク、１１…制御部、１２…走査制御部、１３…画像処理部、１３ａ…撮像画像生成手段、１３ｂ…画像記憶手段、１３b1…Ｘ方向領域画像記憶手段、１３b2…オーバーラップ領域画像記憶手段、１３b3…走査画像記憶手段、１３ｃ…画像合成手段、１４…ステージ制御部、１５…補正量算出部、１５ａ…マーク検出手段、１５ｂ…位置ずれ量算出手段、１５ｃ…補正量算出手段、１５ｄ…オーバーラップ量・オーバーラップ中心位置算出手段、１５ｅ…補正量算出手段、１６…欠陥判定部、２０，２０A1〜２０A4、２０B1〜２０B4…撮像範囲、２１…検出マーク位置、２２…オーバーラップ領域、３０…対象領域、３１…基準マーク位置。

以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。

図１は、本発明の液晶アレイ検査装置の構成例を説明するための概略ブロック図である。図１において、液晶アレイ検査装置１は、液晶基板（図示していない）を載置するためのステージ４と、ステージ４の上方位置にＸ方向およびＹ方向に配置された複数の電子銃２と、電子銃２の電子ビームの走査を制御する走査制御部１２と、電子銃２の電子ビームの走査によって放出される二次電子を検出する複数の検出器３と、検出器３の検出信号から電子銃２が走査する撮像範囲の撮像画像を生成する画像処理部１３と、画像処理部１３で生成されたステージ４の撮像画像から各電子銃２の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれ量を求め、位置ずれ量から電子銃２の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれを補正するための補正量を算出する補正量算出部１５と、画像処理部１３で生成された基板の撮像画像からアレイの欠陥を検査する欠陥判定部１６とを備える。

電子銃２は、電子銃２の撮像範囲のＸ方向に所定間隔を開けて配置し列を形成し、さらにこのＸ方向の列を少なくとも２列分Ｙ方向に配置する。なお、Ｙ方向に配置する電子銃の列は２列に限らず複数列とすることができる。図１では、第１の電子銃列２Ａと第２の電子銃列２Ｂの２列を配置した例を示している。

各電子銃２は、電子ビームを少なくともＸ方向に振ることによってステージ４上に載置した液晶基板（図示していない）上を走査する。電子ビームのＸ方向の走査は、例えば、偏向レンズに印加する電圧を変えることによって電子ビームの偏向量および偏向方向を変えることで行うことができる。

検出器３は、電子ビームの走査によって液晶基板から放出された二次電子を検出する。画像処理部１３は、検出器３の検出信号を入力して撮像画像を生成する。この撮像画像の撮像範囲は、電子ビームが液晶基板上を走査する走査範囲と一致している。検出器３は各電子銃２と対応して配置し、各電子銃２による走査に応じて検出信号を出力する。これによって、撮像画像は、各電子銃２に対応して形成される。電子銃２の列上の配置間隔は、各電子銃が走査する走査幅に応じて設定される。

ステージ４上には、各電子銃２の撮像範囲２０のずれを検出するためのマーク５が設けられる。電子銃２の電子ビームは、ステージ４のマーク５を走査することによって撮像範囲２０内にマーク５の画像を取得する。この撮像範囲２０内のマークの位置は、撮像範囲２０の位置ずれに対応しているため、撮像範囲２０内のマークの位置を検出することによって撮像範囲２０自体の位置ずれを求めることができる。

補正量算出部１５は、画像処理部１３で生成した撮像画像からマークを識別し、識別したマークの位置を検出する機能と、検出したマークの検出位置とマークの基準位置との差分から電子銃の撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量を求める機能と、Ｘ方向の位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出する機能とを備える。また、Ｙ方向で隣接する撮像画像のマークの検出位置とマークの基準位置から電子銃の撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を求める機能と、このＹ方向の位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＹ方向の補正量を算出する機能を備える。

走査制御部１２は、補正量算出部１５が算出した電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて、電子銃２が照射する電子ビームのＸ方向の走査を制御し、Ｘ方向の撮像範囲を補正する。

ステージ制御部１４はステージ４の移動を制御し、ステージ４上に載置した液晶基板のＹ方向の移動を制御する。このステージ４による液晶基板のＹ方向の移動と、電子銃２による電子ビームのＸ方向の偏向とを組み合わせることによって、液晶基板上の２次元的に走査し、２次元の撮像範囲で撮像画像を取得することができる。

また、液晶アレイ検査装置１は、装置全体を制御する制御部１１を備え、走査制御部１２，画像処理部１３，ステージ制御部１４，補正量算出部１５，および欠陥判定部１６の各部の処理のタイミングを制御する。

次に、図２を用いて画像処理部１３および補正量算出部１５が備える機能を実現する一構成例について説明する。なお、この構成例は、ＣＰＵと記憶手段に格納した処理手順や位置ずれや補正量を算出するプログラムによってソフトウエアで各機能を実行する構成とする他に、ハードウエアによって各機構を実行する構成としてもよい。また、図２に示す構成例は一例であってこの構成に限られるものでない。

図２において、画像処理部１３は、検出器３で検出した検出信号を入力し、検出信号を用いて撮像画像を生成する撮像画像生成手段１３ａと、生成した撮像画像を記憶する画像記憶信号１３ｂと、画像合成手段１３ｃとを備える。

撮像画像生成手段１３ａは、撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量を算出するために用いる走査領域画像、Ｙ方向で隣接する撮像範囲が重なることによるオーバーラップ量を算出するために用いるオーバーラップ領域画像、および液晶アレイの欠陥を判定するために用いる走査画像を生成する。

画像記憶信号１３ｂは、撮像画像生成手段１３ａで生成した、Ｘ方向の列における各領域画像を記憶するＸ方向領域画像記憶手段１３b1と、オーバーラップ領域画像を記憶するオーバーラップ領域画像記憶手段１３b2と、走査画像を記憶する走査画像記憶手段１３b3とを含む。

画像合成手段１３ｃは、走査画像記憶手段１３b3に記憶した走査画像を組み合わせることによって液晶基板の全面の走査画像を生成することができる。

走査画像記憶手段１３b3には、補正量算出部１５で算出した補正量に基づいて補正して得られた各電子銃の撮像範囲が記憶されているため、これらを二次元で組み合わせることによって液晶基板の全体の撮像画像を得ることができる。

補正量算出手段１５は、撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量および補正量を算出する機能を実現する手段（１５ｂ，１５ｃ）と、電子銃の撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量および補正量を算出する機能を実現する手段（１５ｄ，１５ｅ）と、両算出手段に共通するマーク位置を検出するマーク検出手段１５ａとを備える。

マーク検出手段１５ａは、撮像画像の中からマークを識別し、そのマークの撮像画像上の位置を検出する。マークの識別は、例えば、予めマークを特徴付ける形状データを用意し、撮像画像からこの形状データと類似性が高い形状を検出することで行うことができる。

位置ずれ量算出手段１５ｂは、撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量および補正量の算出を行う。位置ずれ量算出手段１５ｂは、Ｘ方向領域画像記憶手段１３b1から、Ｘ方向に配置された電子銃の列の各電子銃で撮像された撮像画像で検出したマーク位置を基準位置と比較することによって、各電子銃により撮像画像のＸ方向の位置ずれ量を算出する。

補正量算出手段１５ｃは、位置ずれ量算出手段１５ｂで算出した位置ずれ量に基づいて、撮像画像の位置ずれを補正する補正量を算出する。走査制御部１２は、補正量算出手段１５ｃで算出した補正量を用いて、電子銃の電子ビームのＸ方向の偏向を調整し、これによって撮像範囲のＸ方向の位置ずれを補正する。

この補正量を算出する一例では、例えば、Ｘ方向に配列される電子銃の各列において、列内の各電子銃の撮像範囲で求めたマークの検出位置と基準位置とのＸ方向の差分をそれぞれ求め、これらの差分の平均値を求め、この平均値をその列のＸ方向の位置ずれ量として算出する。この平均値に基づく補正量を用いてＸ方向の位置ずれを補正する場合には、Ｘ方向に配置された複数の電子銃の各位置ずれを一補正量によって平均的に補正することになる。

また、この補正量を算出する他の例では、各電子銃の撮像範囲で求めたマークの検出位置と基準位置とのＸ方向の差分を、各撮像範囲の位置ずれ量として算出してもよい。このように、各電子銃の補正量を用いてＸ方向の位置ずれを補正する場合には、Ｘ方向に配置された複数の電子銃の各位置ずれを個別に補正することになる。

一方、電子銃の撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を算出する手段として、オーバーラップ量、オーバーラップ中心位置算出手段１５ｄを用いることができる。オーバーラップ量、オーバーラップ中心位置算出手段１５ｄは、Ｙ方向に隣接する電子銃の撮像範囲が重なるように配置し、２つの撮像範囲が重なるオーバーラップ領域の量とオーバーラップの中心位置に基づいてＹ方向の位置ずれ量を算出する。Ｙ方向に隣接する電子銃の撮像範囲に位置ずれがある場合には、このオーバーラップ領域のオーバーラップ量およびオーバーラップの中心位置が変動する。オーバーラップ量、オーバーラップ中心位置算出手段１５ｄは、オーバーラップ量からＹ方向の位置ずれ量を算出し、オーバーラップ中心位置から両撮像範囲の位置を算出する。

補正量算出手段１５ｅは、オーバーラップ量、オーバーラップ中心位置算出手段１５ｄで算出したオーバーラップ量、オーバーラップ中心位置に基づいて、撮像画像のＹ方向の位置ずれを補正する補正量を算出する。Ｙ方向に隣接する２つの電子銃の撮像範囲が重なるオーバーラップ領域において、各撮像範囲のマークの検出位置とマークの基準位置との差から各オーバーラップ量を算出する。また、各撮像範囲のオーバーラップ量から撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を算出し、位置ずれ量から隣接する２つの電子銃間における電子銃のＹ方向の設置位置を補正する補正量を算出する。補正量算出手段１５ｅで算出した補正量に基づいて、Ｙ方向で隣接する電子銃の間においてＹ方向の配置を位置合わせする。

本発明の補正量算出部１５によれば、位置ずれ量算出手段１５ｂと補正量算出手段１５ｃとによって、Ｘ方向に配置された電子銃の列内でのＸ方向の位置を合わせる補正量を算出し、オーバーラップ量、オーバーラップ中心位置算出手段１５ｄとによって、Ｙ方向で隣接する電子銃間のＹ方向の位置を合わせる補正量を算出することができ、これによって、Ｘ方向の補正とＹ方向の補正を行うことができる。

欠陥判定部１６は、画像合成手段１３ｃで画像合成した撮像画像に基づいて液晶基板の欠陥判定を行う。

次に、図３、図４を用いて本発明の液晶アレイ検査装置において、複数の電子銃と各撮像範囲との関係について説明する。

複数の電子銃２は、液晶基板（図示していない）のＸ方向に列状に配置されるとともに、この列状の配置をＹ方向に複数配置することによって二次元配置される。図３では、Ｘ方向に４個の電子銃２を配置してなる第１列２Ａおよび第２列２Ｂの２列をＹ方向に配置した例を示している。

第１列２Ａが備える４個の電子銃２は撮像範囲２０A1〜２０A4の画像を取得し、第１列２Ｂが備える４個の電子銃２は撮像範囲２０B1〜２０B4の画像を取得し、これらの撮像範囲２０A1〜２０A4，２０B1〜２０B4の各画像を組み合わせて画像合成することによって、液晶基板の全面の撮像画像を得ることができる。

なお、Ｘ方向の電子銃の配置数、およびＹ方向の列の配置数は図３に示した例に限らず、液晶基板のサイズや、電子銃の電子ビームが走査する範囲等に応じて任意に定めることができる。

液晶基板を載置するステージ４には、Ｘ方向に沿って所定間隔でマーク５を設け、各電子銃２はこのマーク５を含む走査範囲を走査して撮像範囲２０A1〜２０A4，２０B1〜２０B4の画像を取得する。したがって、撮像範囲２０A1〜２０A4，２０B1〜２０B4のそれぞれ画像には、マーク５が写り込まれる。

また、各電子銃２は、Ｙ方向に隣接する電子銃において両走査範囲の一部が重なる様に走査すると共に、走査範囲が重なる各撮像画像のオーバーラップ領域内に共通のマーク５が写り込むようにする。

図３（ｂ）は、第１列２Ａの電子銃および第２列２Ｂの電子銃の電子ビームが走査することで得られる各撮像範囲２０A1〜２０A4，２０B1〜２０B4の画像を示している。各撮像範囲２０A1〜２０A4，２０B1〜２０B4の画像は、各電子銃の電子ビームを走査することで得られ、各撮像画像にはそれぞれ対応するマーク５のマーク像２１が写り込んでいる。

また、Ｙ方向に隣接する電子銃が取得する撮像範囲２０A1の画像と撮像範囲２０B1の画像とは、撮像範囲が一部重なるオーバーラップ領域２２Ａを有し、このオーバーラップ領域２２内に同じマーク５のマーク像２１Ａ，２１Ｂが写り込んでいる。図３（ｂ）中の斜線を施した部分はオーバーラップ領域２２を示している。

本発明は、撮像範囲に写し込まれたマークを用い、検出マーク位置と基準マーク位置と比較することによって電子銃の列内における各電子銃の撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量を算出し、また、隣接する撮像画像間において、同一のマークを基準とすることでオーバーラップ量を算出すると共に、マークの位置をオーバーラップの中心位置として算出する。

図４は撮像画像中に写し込まれるマークを説明するための図である。図４（ａ）は、対象領域３０を示し、マーク５が設けられている。図４（ｂ）は、対象領域３０を位置ずれすることなく撮像した際の撮像画像を示している。この場合には、撮像範囲２０と対象領域３０との間で位置ずれしていないため、撮像範囲２０内で検出されるマーク像の検出マーク位置２１は、基準マーク位置３１と一致することになる。

一方、図４（ｃ）は、対象領域３０を位置ずれした状態で撮像した際の撮像画像を示している。この場合には、撮像範囲２０と対象領域３０との間で位置ずれしているため、撮像範囲２０内で検出されるマーク像の検出マーク位置２１は、基準マーク位置３１からずれた位置に検出される。

撮像範囲２０の位置ずれ量は検出マーク位置２１と基準マーク位置３１とのずれ量によって求めることができる。図４（ｃ）において、撮像範囲２０のＸ方向の位置ずれはΔｘで表され、撮像範囲２０のＹ方向の位置ずれはΔｙで表される。

ここで、本発明のマークの配列では、電子銃のＸ方向の配列に沿って複数のマークが配列されているため、各マークのずれ量から各電子銃のＸ方向の位置ずれ量を算出することができる。そこで、Ｘ方向の撮像範囲２０の位置ずれΔｘを用いて算出する。

一方、本発明のマークの配列では、電子銃のＹ方向の配列に沿って複数のマークが配列されていないため、各マークのずれ量から各電子銃のＹ方向の位置ずれ量を算出することができない。そこで、Ｙ方向に隣接する撮像画像において一部が重なるように撮像してオーバーラップ領域を設け、このオーバーラップ領域内で同一のマークを撮像し、このオーバーラップ量からＹ方向の位置ずれ量を求め、マークの位置をオーバーラップの中心位置として算出する。

なお、Ｙ方向に電子銃のＹ方向の配置に沿って複数のマークを設けた場合には、前記したＸ方向の位置ずれと同様に扱うことができる。

図５（ａ）、（ｂ）は電子銃の列内における各電子銃の撮像範囲のＸ方向の位置ずれを説明するための撮像画像の図である。図５（ａ）は第１列の撮像画像の一例を示し、図５（ｂ）は第２列の撮像画像の一例を示している。また、図５（ｃ）は隣接する撮像画像間のオーバーラップ量を説明するための撮像画像の図である。図５において、破線で示すマークは基準マーク位置３１を示し、太線で示すマークは撮像範囲２０内で検出されるマーク像の検出マーク位置２１を示している。

次に、本発明の液晶アレイ検査の手順例について、図６のフローチャート、図７の撮像画像例を説明する図、図８，９，１０の撮像画像のＸ方向の位置ずれ量の算出を説明するフローチャートおよび説明図、図１１，１２のＹ方向のオーバーラップ量の算出を説明するための図を用いて説明する。

はじめに、ステージ上にＸ方向に設けられた一列のマークを、第１列および第２列の電子銃によって同時に走査して撮像画像を取得する(S1)。

各電子銃で取得した各撮像画像のＸ方向の位置ずれ量Δｘを算出し(S2)、算出した位置ずれ量Δｘに基づいて電子銃のＸ方向の走査位置を補正する。走査位置の補正は、例えば、算出した位置ずれ量Δｘと逆方向で同量の値を補正値とし、走査制御部によってこの補正量に応じた電圧を偏向部に印加し、電子ビームの振り幅を制御することによって走査範囲のＸ方向の位置を調整することで行うことができる(S3)。

電子銃のＸ方向の走査位置を補正した後、S1のステップと同様に、第１列と第２列の２列配置された電子銃によってステージ上の同一のマークを同時に走査して撮像し(S4)、S2のステップと同様に、各電子銃で取得した各撮像画像のＸ方向の位置ずれ量Δｘを算出する(S5)。

S5で算出した位置ずれ量Δｘが予め定めておいた許容量と比較し(S6)、位置ずれ量Δｘが許容量以上である大きい場合には、S3〜S5の工程を繰り返して位置ずれ量Δｘを低減させる。

また、S5の工程において、位置ずれ量Δｘが許容量を越えない場合には、Ｙ方向の位置ずれ量を算出し補正する。Ｙ方向の位置ずれ量は、Ｙ方向で隣接する撮像範囲のオーバーラップ量によって算出し補正する(S7)。

S7の工程によって電子銃の位置を補正した後、各電子銃によって対象領域を分割して走査し、複数の撮像画像を取得する(S8)。取得した複数の撮像画像を組み合わせ、対象領域の全撮像画像を生成する。Ｙ方向に隣接する撮像画像は、オーバーラップ領域で重なり合っているため、画像生成においてS7で算出したオーバーラップ量およびオーバーラップの中心位置によって、両撮像画像のオーバーラップ領域を重ね合わせる(S9)。

図７を用いて、S2,S3の撮像画像のＸ方向の位置ずれ量および補正量の算出工程例について説明する。

図７（ａ）は、前記図４（ｃ）で示したように、Ｘ方向で位置ずれした場合の対象領域３０と撮像範囲２０との関係を示し、図７（ｂ）はこの時に得られる撮像範囲２０を示している。図７（ｂ）において、撮像範囲２０には検出マークが検出される。この撮像範囲２０上で検出される検出マーク位置２１と、基準マーク位置３１との差分は位置ずれを表し、撮像範囲２０を対象領域３０に重ねる際に要するＸ方向の移動量はＸ方向の補正量を表している。

図７（ｃ）は、Ｘ方向の位置ずれを補正した後の対象領域３０と撮像範囲２０との関係を示し、図７（ｄ）はこの時に得られる撮像範囲２０を示している。電子銃の電子ビーム走査において、Ｘ方向の補正量だけずらして走査することによって、図７（ｄ）に示すように、撮像範囲２０中の検出マーク位置２１を基準マーク位置３１に一致させることができる。

なお、図７において、基準マーク位置３１は、撮像画像中の像として検出されるものではなく、撮像範囲２０に対して予め定められた位置を表すものであって、撮像範囲２０の領域に対する位置座標によって表すことができる。

撮像画像のＸ方向の算出および補正は、複数の形態によって行うことができる。以下、図８〜図１０を用いて２つの形態について説明する。なお、図８は第１の形態を説明するためのフローチャートであり、図９は第２の形態を説明するためのフローチャートであり、図１０は、撮像画像内の検出マーク位置と基準マーク位置との関係を示している。

第１の形態は、撮像画像のＸ方向の補正を、各列に含まれる全電子銃を共通の補正量によって行う形態であり、第２の形態は、撮像画像のＸ方向の補正を、各列に含まれる各電子銃を個々の補正量によって行う形態である。

第１の形態について説明する。撮像画像のＸ方向の補正を、各列の全電子銃について共通の補正量によって行う場合には、電子銃によって得られる撮像画像から検出マーク位置と基準マーク位置のＸ方向の位置ずれ量Δｘを求め（S11）、各列において、Ｘ方向の位置ずれ量Δｘを加算して平均位置ずれ量Δｘmeanを求める。Ｘ方向の電子銃の列が第１列および第２列の２列分ある場合には、平均位置ずれ量Δｘmeanは、第１列および第２列の各列に応じて求められる（S12）。

各列において、平均位置ずれ量Δｘmeanを補正量ｄmeanとする。この補正量ｄmeanは各列について定められ、列内の電子銃に共通する補正量とする(S13)。各列の電子銃に対して、算出した補正量ｄmeanによって電子ビームの走査を制御する(S14)。

図１０（ａ）は、撮像画像内の検出マーク位置２１（太線で示す）が基準マーク位置３１（破線で示す）に一致している場合を示し、図１０（ｂ）は、一列分の各撮像画像のずれ状態を示し、それぞれ位置ずれ量Δx1〜Δx4だけずれている状態を示している。

図１０（ｃ）は、位置ずれ量Δx1〜Δx4を平均して得られた平均位置ずれ量Δｘmeanから求めた補正量ｄmeanを用いて各電子銃の走査を制御することによって取得した撮像画像を示している。平均位置ずれ量を用いて各電子銃の走査を制御する場合には、走査制御部は一つの制御信号によって列内の複数の電子銃を制御することができる。これによって、各電子銃の撮像画像の位置ずれ量を平均的に補正する。

第２の形態について説明する。撮像画像のＸ方向の補正を、各列の全電子銃の個々の補正量によって行う場合には、電子銃によって得られる撮像画像から検出マーク位置と基準マーク位置のＸ方向の位置ずれ量Δｘを求め（S21）、各列において、Ｘ方向の各電子銃の位置ずれ量Δｘを各電子銃の補正量ｄｘとする。この補正量ｄｘは各電子銃について定められ (S23)、各電子銃に対して、算出した補正量ｄｘによって電子ビームの走査を制御する(S24)。

図１０（ｄ）は、位置ずれ量Δx1〜Δx4に応じて算出した補正量ｄx1〜ｄx4を用いて各電子銃の走査を制御することによって取得した撮像画像を示している。各電子銃の位置ずれ量を用いて各電子銃の走査を制御する場合には、各電子銃の撮像画像の位置ずれ量を個々に補正することができる。

次に、Ｙ方向の位置ずれの算出および補正を、Ｙ方向に隣接する撮像画像のオーバーラップを用いて行う例について図１１，図１２を用いて説明する。

図１１は、Ｙ方向に隣接する撮像画像を示している。図１１（ａ）は、撮像範囲２０Ａと撮像範囲２０Ｂとはオーバーラップ領域２２を共通に備える。このオーバーラップ領域２２は、撮像範囲２０Ａと撮像範囲２０Ｂが共通して走査する部分である。Ｙ方向に隣接する２つの電子銃は、オーバーラップ領域２２内に検出マーク位置２１が写り込むように走査する。

図１１（ｂ）は撮像範囲２０Ａを示し、図１１（ｃ）は撮像範囲２０Ａを示している。なお、ここでは、Ｘ方向の位置ずれおよびＹ方向の位置ずれが無い場合を示している。Ｙ方向の位置ずれが無い場合には、撮像範囲２０Ａおよび撮像範囲２０Ｂにおいて、検出マーク位置２１と基準マーク位置３１のＹ方向の位置は一致する。このマーク位置の一致は、Ｙ方向に位置ずれしていないことを示している。

オーバーラップ領域２２のＹ方向のオーバーラップ量OWは、撮像範囲２０Ａ中のOWAと撮像範囲２０Ｂ中のOWBとの和（OXA＋OWB）によって表される。

オーバーラップ量OWAは、撮像範囲２０Ａ中の基準マーク位置３１と撮像範囲２０Ａの下端との間の長さによって求めることができ、また、オーバーラップ量OWBは、撮像範囲２０Ｂ中の基準マーク位置３１と撮像範囲２０Ｂの上端との間の長さによって求めることができる。

図１２は撮像範囲がＹ方向に位置ずれした状態を示し、図１２（ａ）〜（ｃ）は撮像範囲２０Ａが図中の上方の位置ずれした場合を示し、図１２（ｄ）〜（ｆ）は撮像範囲２０Ｂが図中の下方に位置ずれした場合を示している。

図１２（ａ）〜（ｃ）において、撮像範囲２０ＡがＹ方向に位置ずれした場合（ここでは図中の上方向に位置ずれした場合）には、撮像範囲２０Ａにおいて検出マーク位置２１は基準マーク位置３１からＹ方向に位置ずれし、撮像範囲２０Ｂにおいて検出マーク位置２１と基準マーク位置３１のＹ方向の位置は一致する。

オーバーラップ領域２２のＹ方向のオーバーラップ量OWは、撮像範囲２０Ａ中のOWAと撮像範囲２０Ｂ中のOWBとの和（OXA＋OWB）によって表される。

図１２（ｂ）において、オーバーラップ量OWAは、撮像範囲２０Ａ中の基準マーク位置３１と撮像範囲２０Ａの下端との間の長さによって求めることができ、検出マーク位置２１と基準マーク位置３１との間の長さは位置ずれ量Δy1を表している。

また、図１２（ｃ）において、オーバーラップ量OWBは、撮像範囲２０Ｂ中の基準マーク位置３１と撮像範囲２０Ｂの上端との間の長さによって求めることができる。ここでは、検出マーク位置２１と基準マーク位置３１のＹ方向の位置が一致し、Ｙ方向に位置ずれしていないことを示している。この場合には、位置ずれ量Δy1に基づいて補正量を算出する。

また、図１２（ｄ）〜（ｆ）において、撮像範囲２０ＡがＹ方向に位置ずれした場合（ここでは図中の下方向に位置ずれした場合）には、撮像範囲２０Ａにおいて検出マーク位置２１は基準マーク位置３１からＹ方向に位置ずれし、撮像範囲２０Ｂにおいて検出マーク位置２１と基準マーク位置３１のＹ方向の位置は一致する。

オーバーラップ領域２２のＹ方向のオーバーラップ量OWは、撮像範囲２０Ａ中のOWAと撮像範囲２０Ｂ中のOWBとの和（OXA＋OWB）によって表される。

図１２（ｅ）において、オーバーラップ量OWAは、撮像範囲２０Ａ中の基準マーク位置３１と撮像範囲２０Ａの下端との間の長さによって求めることができ、検出マーク位置２１と基準マーク位置３１との間の長さは位置ずれ量Δy2を表している。

また、図１２（ｆ）において、オーバーラップ量OWBは、撮像範囲２０Ｂ中の基準マーク位置３１と撮像範囲２０Ｂの上端との間の長さによって求めることができる。ここでは、検出マーク位置２１と基準マーク位置３１のＹ方向の位置が一致し、Ｙ方向に位置ずれしていないことを示している。この場合には、位置ずれ量Δy2に基づいて補正量を算出する。

本発明は、電子線マイクロアナライザ、走査電子顕微鏡、Ｘ線分析装置等に適用することができる。

Claims (6)

1. 電子ビームを液晶基板上で二次元的に走査して撮像画像を取得し、当該撮像画像に基づいて液晶基板のアレイを検査する液晶アレイ検査装置であって、
   前記液晶基板を載置するためのステージと、
   前記ステージの上方位置にＸ方向およびＹ方向に配置された複数の電子銃と、
   前記電子銃の電子ビームの走査を制御する走査制御部と、
   前記電子銃の電子ビームの走査によって放出される二次電子を検出する複数の検出器と、
   前記検出器の検出信号から前記電子銃が走査する撮像範囲の撮像画像を生成する画像処理部と、
   前記画像処理部で生成されたステージの撮像画像から各電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれ量を求め、当該位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれを補正するための補正量を算出する補正量算出部と、
   前記画像処理部で生成された基板の撮像画像からアレイの欠陥を検査する欠陥判定部とを備え、
   前記走査制御部は、前記補正量算出部で算出した撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて電子ビームのＸ方向の走査を制御することを特徴とする、液晶アレイ検査装置。
2. 前記ステージは、前記電子銃と対向する側の面上にＸ方向に複数のマークを備え、
   前記複数のマークのＸ方向の配置間隔と、前記電子銃のＸ方向の配置間隔とを同間隔に設定し、
   前記画像処理部は電子銃毎に撮像画像を生成し、
   前記補正量算出部は前記各撮像画像においてマークを識別し、当該識別したマークの位置を検出する機能と、
   当該マークの検出位置とマークの基準位置との差分から電子銃の撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量を求める機能と、当該Ｘ方向の位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出する機能と、
   Ｙ方向で隣接する撮像画像のマークの検出位置とマークの基準位置から電子銃の撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を求める機能と、当該Ｙ方向の位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＹ方向の補正量を算出する機能を備え、
   前記走査制御部は、前記補正量算出部が算出した電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて電子ビームのＸ方向の走査を制御し、Ｘ方向の撮像範囲を補正することを特徴とする、請求項１に記載の液晶アレイ検査装置。
3. 前記補正量算出部は、
   Ｘ方向に配列される電子銃の各列において、列内の各電子銃の撮像範囲で求めたマークの検出位置と基準位置とのＸ方向の差分の平均値を当該列のＸ方向の位置ずれ量として算出する機能と、当該位置ずれ量から当該列における電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出する機能を備え、
   Ｙ方向に隣接する２つの電子銃の撮像範囲が重なるオーバーラップ領域において、各撮像範囲のマークの検出位置とマークの基準位置との差から各オーバーラップ量を算出する機能と、
   各撮像範囲のオーバーラップ量から当該撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を算出する機能と、当該位置ずれ量から隣接する２つの電子銃間における電子銃のＹ方向の設置位置を補正する補正量を算出する機能を備えることを特徴とする、請求項２に記載の液晶アレイ検査装置。
4. 電子ビームを液晶基板上で二次元的に走査して撮像画像を取得し、当該撮像画像に基づいて液晶基板のアレイを検査する液晶アレイ検査装置の撮像範囲を補正する方法であって、
   撮像画像を取得する複数の電子銃を、液晶基板を載置するステージの上方位置において、Ｘ方向に配列するとともに、当該配列をＹ方向に少なくとも２列配置し、
   前記ステージを前記電子銃の電子ビームで走査して撮像画像を取得する工程と、
   前記取得した撮像画像から各電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれ量を求め、当該位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向およびＹ方向の位置ずれを補正するための補正量を算出する工程と、
   算出した前記撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて電子ビームのＸ方向の走査を制御する工程と、
   算出した前記撮像範囲のＹ方向の補正量に基づいて電子銃のＹ方向の設置位置を位置合わせする工程と
   を備えることを特徴とする、液晶アレイ検査装置の撮像範囲の補正方法。
5. 液晶アレイ検査装置は、前記ステージの電子銃と対向する側の面上にＸ方向に複数のマークを備えるとともに、前記複数のマークのＸ方向の配置間隔と、前記電子銃のＸ方向の配置間隔とを同間隔に設定し、
   前記補正量を算出する工程は、
   前記各撮像画像においてマークを識別し、当該識別したマークの位置を検出し、当該マークの検出位置とマークの基準位置との差分から電子銃の撮像範囲のＸ方向の位置ずれ量を求め、当該位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出するとともに、
   Ｙ方向で隣接する撮像画像のマークの検出位置とマークの基準位置から電子銃の撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を求め、当該位置ずれ量から電子銃の撮像範囲のＹ方向の補正量を算出し、
   前記Ｘ方向の走査制御は、前記算出した電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量に基づいて電子ビームのＸ方向の走査を制御し、Ｘ方向の撮像範囲を補正することを特徴とする、請求項４に記載の液晶アレイ検査装置の撮像範囲の補正方法。
6. 前記補正量を算出する工程は、
   Ｘ方向に配列される電子銃の各列において、列内の各電子銃の撮像範囲で求めたマークの検出位置と基準位置とのＸ方向の差分の平均値を当該列のＸ方向の位置ずれ量として算出し、当該位置ずれ量から当該列における電子銃の撮像範囲のＸ方向の補正量を算出するとともに、
   Ｙ方向に隣接する２つの電子銃の撮像範囲が重なるオーバーラップ領域において、各撮像範囲のマークの検出位置とマークの基準位置との差から各オーバーラップ量を算出し、各撮像範囲のオーバーラップ量から当該撮像範囲のＹ方向の位置ずれ量を算出し、当該位置ずれ量から隣接する２つの電子銃間における電子銃のＹ方向の設置位置を補正する補正量を算出することを特徴とする、請求項５に記載の液晶アレイ検査装置の撮像範囲の補正方法。

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