JP5156031B2 - イットリウム安定化二酸化ジルコニウム製歯科修復物用ベニアセラミック、およびイットリウム安定化二酸化ジルコニウム製歯科修復物のベニア形成方法 - Google Patents
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Description
a)SiO2 58.0〜74.0重量パーセント、
b)Al2O3 4.0〜19.0重量パーセント、
c)Li2O 5.0〜17.0重量パーセント、
d)Na2O 4.0〜12.0重量パーセント、
e)ZrO2 0.5〜6.0重量パーセント
により生成されるベニアセラミックにおいて、叶えられる。
a)SiO2 58.0〜72.0重量パーセント、
b)Al2O3 4.0〜18.0重量パーセント、
c)Li2O 5.0〜17.0重量パーセント、
d)Na2O 4.0〜11.0重量パーセント、
e)ZrO2 0.5〜5.5重量パーセント、
f)TiO2 0.2〜8.0重量パーセント。
(項目1)
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックであって、下記の成分:
a)SiO 2 58.0〜74.0重量パーセント、
b)Al 2 O 3 4.0〜19.0重量パーセント、
c)Li 2 O 5.0〜17.0重量パーセント、
d)Na 2 O 4.0〜12.0重量パーセント、
e)ZrO 2 0.5〜6.0重量パーセント
を含有することを特徴とするベニアセラミック。
(項目2)
イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックであって、下記の成分:
a)SiO 2 58.0〜72.0重量パーセント、
b)Al 2 O 3 4.0〜18.0重量パーセント、
c)Li 2 O 5.0〜17.0重量パーセント、
d)Na 2 O 4.0〜11.0重量パーセント、
e)ZrO 2 0.5〜5.5重量パーセント、
f)TiO 2 0.2〜8.0重量パーセント
を含有することを特徴とするベニアセラミック。
(項目3)
下記のさらなる成分:
a)La 2 O 3 1.0〜4.0重量パーセント、
b)B 2 O 3 0.0〜2.0重量パーセント、
c)MgO 0.0〜2.0重量パーセント、
d)CaO 0.0〜2.0重量パーセント、
e)ZnO 0.0〜2.0重量パーセント、
f)BaO 0.0〜1.0重量パーセント
g)P 2 O 5 0.0〜2.0重量パーセント、
h)フッ化物 0.0〜3.0重量パーセント
が含有されることを特徴とする、項目1または2に記載のベニアセラミック。
(項目4)
元素Ce、Fe、Mn、Sn、V、Cr、Inの、ならびに希土類Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、DyおよびErの着色もしくは蛍光添加物である酸化物が個別にまたは組み合わせて含有されることを特徴とする、前記項目の一項に記載のベニアセラミック。
(項目5)
ベータ−石英混晶の結晶化を抑制するために他の酸化アルカリ、好ましくは酸化ナトリウムが含有されることを特徴とする、項目1または2に記載のベニアセラミック。
(項目6)
項目1または2に記載のベニアセラミックによる、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物へのベニア形成方法であって、下記の方法ステップ:
a)1530℃で溶融したガラスを、水中でフリット化するステップと、
b)前記フリット化したガラスを、核形成のため500℃〜680℃の温度で2〜6時間鍛錬するステップと、
c)冷却後、前記鍛錬したガラスを機械的に微粉砕するステップと、
d)前記前処理した粉末を、水の添加によりペーストに変換するステップと、
e)前記ペーストを、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む前記修復物に塗布するステップと、
f)次いで、800℃〜940℃における熱処理に掛けるステップであり、前記ベニアセラミックにおいて、主結晶相として二ケイ酸リチウムが結晶化されるステップとを特徴とする方法。
(項目7)
前記二ケイ酸リチウムに加えて、ケイ酸リチウムアルミニウム、およびリチウムチタンオキシドシリケートLi 2 TiOSiO 4 も結晶化されることを特徴とする、項目6に記載の方法。
(項目8)
前記フリット化されたガラスに、固相反応により生成された二ケイ酸リチウム微粉砕物を含む結晶性添加物が添加されることを特徴とする、項目6または7に記載の方法。
Claims (19)
- イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックであって、下記の成分:
a)SiO2 58.9〜71.1重量パーセント、
b)Al2O3 4.8〜17.9重量パーセント、
c)Li2O 5.0〜14.9重量パーセント、
d)Na2O 2.9〜10.9重量パーセント、
e)ZrO2 1.1〜3.9重量パーセント
を含有することを特徴とするベニアセラミック。 - イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックのための出発ガラスであって、下記の成分:
a)SiO2 58.9〜71.1重量パーセント、
b)Al2O3 4.8〜17.9重量パーセント、
c)Li2O 5.0〜14.9重量パーセント、
d)Na2O 2.9〜10.9重量パーセント、
e)ZrO2 1.1〜3.9重量パーセント
を含有することを特徴とする出発ガラス。 - 結晶粉末をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の出発ガラス。
- 前記結晶粉末が二ケイ酸リチウム粉末である、請求項3に記載の出発ガラス。
- ZrO2に加えて、1.2〜5.0重量パーセントで、TiO2をも含むことを特徴とする、請求項1に記載のベニアセラミック、または請求項2〜4のいずれか1項に記載の出発ガラス。
- 添加剤La2O3、B2O3、P2O5、CaO、MgO、ZnOおよびフッ化物を、最大で4.0重量パーセントまでの濃度で互いに独立して含有することを特徴とする、請求項1もしくは5のいずれか一項に記載のベニアセラミック、または請求項2〜5のいずれか一項に記載の出発ガラス。
- 下記のさらなる成分:
a)La2O3 1.0〜4.0重量パーセント、
b)B2O3 0.0〜2.0重量パーセント、
c)MgO 0.0〜2.0重量パーセント、
d)CaO 0.0〜2.0重量パーセント、
e)ZnO 0.0〜2.0重量パーセント、
f)BaO 0.0〜1.0重量パーセント
g)P2O5 0.0〜2.0重量パーセント、
h)フッ化物 0.0〜3.0重量パーセント
を含有することを特徴とする、請求項6に記載のベニアセラミック、または請求項6に記載の出発ガラス。 - 元素Ce、Fe、Mn、Sn、V、Cr、Inの、ならびに希土類Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、DyおよびErの着色もしくは蛍光添加物である酸化物、またはこれらの組み合わせが含有されることを特徴とする、請求項1もしくは5〜7のいずれか一項に記載のベニアセラミック、または請求項2〜7のいずれか一項に記載の出発ガラス。
- ベータ−石英混晶の結晶化を抑制するために他の酸化アルカリが含有されることを特徴とする、請求項1または5のいずれか一項に記載のベニアセラミック。
- 二ケイ酸リチウム、リチウムチタンオキシドシリケートLi2TiOSiO4、ケイ酸リチウムアルミニウム(ベータスポジュメン)、および少量のメタケイ酸リチウムを含有することを特徴とする、請求項1または5〜9のいずれか一項に記載のベニアセラミック。
- イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックのための出発ガラスであって、該出発ガラスは、
71.1重量パーセント SiO2、
4.9重量パーセント Al2O3、
14.9重量パーセント Li2O、
3.0重量パーセント Na2O、
5.0重量パーセント TiO2、および
1.1重量パーセント ZrO2
を含有することを特徴とする、出発ガラス。 - イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックのための出発ガラスであって、該出発ガラスは、
69.7重量パーセント SiO2、
4.8重量パーセント Al2O3、
14.6重量パーセント Li2O、
2.9重量パーセント Na2O、
4.9重量パーセント TiO2、
1.1重量パーセント ZrO2、
0.6重量パーセント CaO、および
1.4重量パーセント P2O5
を含有することを特徴とする、出発ガラス。 - イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物用ベニアセラミックのための出発ガラスであって、該出発ガラスは、
70.5重量パーセント SiO2、
4.9重量パーセント Al2O3、
14.8重量パーセント Li2O、
3.0重量パーセント Na2O、
5.0重量パーセント TiO2、
1.1重量パーセント ZrO2、および
0.7重量パーセント CaF2、
を含有することを特徴とする、出発ガラス。 - イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物へのベニア形成のための、請求項1もしくは5〜10のいずれか一項に記載のベニアセラミックの使用または請求項2、5〜7、もしくは11〜13のいずれか一項に記載の出発ガラスの使用。
- 請求項1もしくは5〜10のいずれか一項に記載のベニアセラミック、または請求項2、5〜7、もしくは11〜13のいずれか一項に記載の出発ガラスを使用することにより、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物へのベニア形成方法。
- 請求項1または5〜10のいずれか一項に記載のベニアセラミックの調製方法であって、ここで、500℃〜680℃の温度範囲で核形成が行われ、そして、800℃〜940℃の温度範囲で溶融および結晶化が行われる、方法。
- 請求項1もしくは5〜10のいずれか一項に記載のベニアセラミックを使用することにより、請求項15に記載のイットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む歯科修復物へのベニア形成方法であって、下記の方法ステップ:
a)1530℃で溶融したガラスを、水中でフリット化するステップと、
b)前記フリット化したガラスを、核形成のため500℃〜680℃の温度で2〜6時間鍛錬するステップと、
c)冷却後、前記鍛錬したガラスを機械的に微粉砕するステップと、
d)前記前処理した粉末を、水の添加によりペーストに変換するステップと、
e)前記ペーストを、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを含む前記修復物に塗布するステップと、
f)次いで、800℃〜940℃における熱処理に掛けるステップであり、前記ベニアセラミックにおいて、主結晶相として二ケイ酸リチウムが結晶化されるステップとを特徴とする方法。 - 前記二ケイ酸リチウムに加えて、ケイ酸リチウムアルミニウム、およびリチウムチタンオキシドシリケートLi2TiOSiO4も結晶化されることを特徴とする、請求項17に記載の方法。
- 前記フリット化されたガラスに、固相反応により生成された二ケイ酸リチウム微粉砕物
を含む結晶性添加物が添加されることを特徴とする、請求項17または18に記載の方法。
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