JP6633278B2 - 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 101
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 54
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 title claims description 54
- 239000006017 silicate glass-ceramic Substances 0.000 title claims description 21
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims description 15
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims description 14
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 122
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 41
- WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 31
- 239000003103 lithium disilicate glass Substances 0.000 claims description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 24
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 15
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 14
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000005548 dental material Substances 0.000 claims description 9
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims description 9
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical group O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000006123 lithium glass Substances 0.000 claims description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910018071 Li 2 O 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 claims 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 claims 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 claims 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 claims 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 claims 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 10
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000006065 metasilicate glass ceramic Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 3
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000006136 disilicate glass ceramic Substances 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 description 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N aluminum;lithium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Li+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 229910052907 leucite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- -1 oxides Chemical class 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052642 spodumene Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B32/02—Thermal crystallisation, e.g. for crystallising glass bodies into glass-ceramic articles
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0009—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
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- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
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- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
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- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
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- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/831—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising non-metallic elements or compounds thereof, e.g. carbon
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/20—Glass-ceramics matrix
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- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
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Description
本発明は、Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏおよびこれらの混合物から選択される一価の金属酸化物を含有し、特に、歯科で使用するのに適しており、好ましくは、歯修復物の調製に適したケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラスに関する。
ケイ酸リチウムガラスセラミックは、概して、非常に良好な機械特性を特徴とし、これが歯科分野で長く使用されてきた理由であり、主に、歯科クラウンおよび小さなブリッジの調製に使用されてきた。公知のケイ酸リチウムガラスセラミックは、通常は、主成分としてＳｉＯ２、Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３、Ｎａ２ＯまたはＫ２Ｏと、核生成剤（例えばＰ２Ｏ５）とを含有する。
特許文献１は、Ｋ２ＯとＡｌ２Ｏ３とを含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックを記載している。二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、対応する核を含有する出発ガラスを、二ケイ酸リチウムを結晶化させるために８５０〜８７０℃の温度に加熱して調製される。
特許文献２は、歯科目的のための焼結可能な二ケイ酸リチウムガラスセラミックを記載しており、これも、Ｌａ２Ｏ３に加え、Ｋ２ＯまたはＮａ２Ｏを含有する。二ケイ酸リチウム結晶相は、８５０℃の温度で生成される。
Ｋ２ＯおよびＡｌ２Ｏ３を含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックが特許文献３から公知である。二ケイ酸リチウムの形成のために熱処理を８７０℃で行う。
特許文献４は、Ｋ２ＯおよびＡｌ２Ｏ３を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックを記載し、このセラミックは、メタケイ酸リチウムが主結晶相として存在する場合、例えば、ＣＡＤ／ＣＡＭプロセスを用いて非常に満足のいくように機械加工し、次いで８３０〜８５０℃の温度でさらに熱処理することによって、高強度二ケイ酸リチウムガラスセラミックに変換することができる。
特許文献５は、同様のＫ２Ｏ含有ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびＡｌ２Ｏ３含有ケイ酸リチウムガラスセラミックであって、さらに、ＺｎＯを実質的に含まないケイ酸リチウムガラスセラミックを記載する。８３０〜８８０℃での熱処理を行い、二ケイ酸リチウムを生成する。
特許文献６は、歯修復物を生成するためのプロセス、およびこれらのプロセスで使用可能なガラスセラミックを記載する。特に、概して、Ａｌ２Ｏ３およびＮａ２ＯまたはＫ２Ｏのいずれかを含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックが存在する。
特許文献７は、特定の実施形態では、明らかにＣｓ２Ｏも含有することができる二ケイ酸リチウムガラスセラミックに関する。しかし、これらの実施形態では、有意な量のＡｌ２Ｏ３およびＢａＯが存在することも必要である。望ましい二ケイ酸リチウム結晶相の生成は、８００〜１０００℃の高温が必要である。
特許文献８は、酸化ジルコニウムセラミックを覆うための二ケイ酸リチウムガラスセラミックを開示している。ガラスセラミックは、Ｎａ２Ｏを含有し、そしてこれは核を含有するガラスを８００〜９４０℃で熱処理することによって生成される。
特許文献９は、ＧｅＯ２を含有し、さらにＫ２ＯおよびＡｌ２Ｏ３も含有するメタケイ酸リチウムガラスセラミックを記載する。ガラスセラミックは、主に機械加工を用いて処理されて、歯科製品を形成する。
特許文献１０は、高レベルのＺｒＯ２またはＨｆＯ２に加え、Ｋ２ＯおよびＡｌ２Ｏ３も含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックに関する。二ケイ酸リチウムの結晶化は、８００〜１０４０℃の温度で行う。
公知の二ケイ酸リチウムガラスセラミックに共通するのは、二ケイ酸リチウムを主結晶相として沈殿させるために、８００℃を超える熱処理が必要なことである。したがって、調製するのに大量のエネルギーも必要である。さらに、公知のガラスセラミックの場合、アルカリ金属酸化物（Ｋ２ＯまたはＮａ２Ｏ）とＡｌ２Ｏ３およびＢａＯが、概して、ガラスセラミックの生成、特に、得ようとする二ケイ酸リチウム主結晶相の形成に明らかに必要な必須の構成要素として存在する。
したがって、ケイ酸リチウムガラスセラミック調製中に、二ケイ酸リチウムの結晶化をより低い温度で行うことができるようなケイ酸リチウムガラスセラミックが必要である。さらに、主に光学特性および機械特性の観点で歯修復物を調製するために必要でありかつ適切であると以前は考えられていたアルカリ金属酸化物（Ｋ２ＯまたはＮａ２Ｏ）およびＡｌ２Ｏ３およびＢａＯを含まずに上記ケイ酸リチウムガラスセラミックを調製することが可能であるべきである。
本目的は、請求項１〜１５または１８のいずれか１項に記載のケイ酸リチウムガラスセラミックによって達成される。さらに、本発明の主題は、請求項１６または１８に記載の出発ガラス、請求項１７および１８に記載の核を含むケイ酸リチウムガラス、請求項１９および２０に記載の核を含むガラスセラミックおよびケイ酸リチウムガラスを調製するためのプロセス、ならびに請求項２１および２２に記載の使用である。
本発明のケイ酸リチウムガラスセラミックは、Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏおよびこれらの混合物から選択される一価の金属酸化物を含むことを特徴とする。
ガラスセラミックが、一価金属酸化物またはこれらの混合物を０．１〜１７．０質量％、特に、１．０〜１５．０質量％、特に好ましくは、１．５〜８．０質量％の量で含むことが好ましい。
主結晶相として二ケイ酸リチウムを用いた本発明のガラスセラミックの形成は、従来のガラスセラミック、例えば、特に、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、ならびにＡｌ２Ｏ３およびＢａＯに必要であると考えられる種々の構成要素が存在しない状態で、非常に低く、そのため、約７００℃の有利な結晶化温度で達成されることが特に驚くべきことである。
したがって、本発明のガラスセラミックは、好ましくは、１．０質量％未満、特に０．５質量％未満、好ましくは、０．１質量％未満のＫ２Ｏを含む。特に、実質的にＫ２Ｏを含まないものが好ましい。
Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏおよびこれらの混合物を１．０質量％未満、特に０．５質量％未満、好ましくは、０．１質量％未満の量で含むガラスセラミックも好ましく、特に好ましくは、実質的にＫ２ＯおよびＮａ２Ｏを含まない。
さらに、ガラスセラミックは、５．３質量％未満、特に５．１質量％未満、好ましくは４．０質量％未満、および特に好ましくは３．０質量％未満のＡｌ２Ｏ３を含むものが好ましい。
さらに好ましい実施形態では、ガラスセラミックは、実質的にＡｌ２Ｏ３を含まない。
別の好ましい実施形態では、Ａｌ２Ｏ３に対する一価金属酸化物のモル比は、少なくとも０．５、特に、０．５〜１．５である。
さらに好ましい実施形態では、ガラスセラミックは、３．８質量％未満、特に、３．６質量％未満、好ましくは、２．５質量％未満のＢａＯを含む。実質的にＢａＯを含まないことが特に好ましい。
少なくとも６．１質量％のＺｒＯ２を含むケイ酸リチウムガラスセラミックを除く、ガラスセラミックも好ましい。
さらに、ケイ酸リチウムガラスセラミックであって、少なくとも８．５質量％の遷移金属酸化物を含み、上記遷移金属酸化物が、イットリウム酸化物、原子番号が４１〜７９である遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群から選択される、ケイ酸リチウムガラスセラミックを除く、ガラスセラミックも好ましい。
本発明のガラスセラミックは、好ましくは、５５．０〜８５．０質量％、特に、６０．０〜７８．０質量％、好ましくは、６２．０〜７７．０質量％のＳｉＯ２を含む。
ガラスセラミックが、９．０〜２０．０質量％、特に、９．０〜１７．０質量％、特に好ましくは、１２．０〜１６．０質量％のＬｉ２Ｏを含むことも好ましい。
ＳｉＯ２とＬｉ２Ｏとのモル比が２．２〜２．６、特に、２．３〜２．５であることがさらに好ましく、特に約２．４が好ましい。
本発明のガラスセラミックは、核生成剤をさらに含んでいてもよい。核生成剤が好ましくは存在する。Ｐ２Ｏ５は、このために特に好ましく用いられる。ガラスセラミックは、好ましくは、０〜１２．０質量％、特に、１．０〜１２．０質量％、好ましくは、２．０〜９．０質量％、特に好ましくは２．５〜７．５質量％のＰ２Ｏ５を含む。
さらに好ましい実施形態では、ガラスセラミックは、以下の成分：
成分 質量％
ＳｉＯ２ ５５．０〜８５．０
Ｌｉ２Ｏ ９．０〜１７．０
Ｒｂ２Ｏおよび／またはＣｓ２Ｏ ０．１〜１５．０
Ｐ２Ｏ５ ０〜１２．０、特に、１．０〜１２．０
の少なくとも１つ、好ましくは、すべてを含む。
成分 質量％
ＳｉＯ２ ５５．０〜８５．０
Ｌｉ２Ｏ ９．０〜１７．０
Ｒｂ２Ｏおよび／またはＣｓ２Ｏ ０．１〜１５．０
Ｐ２Ｏ５ ０〜１２．０、特に、１．０〜１２．０
の少なくとも１つ、好ましくは、すべてを含む。
本発明のガラスセラミックは、さらに、特に、二価元素の酸化物、三価元素の酸化物、四価元素のさらなる酸化物、五価元素のさらなる酸化物、六価元素の酸化物、溶融促進剤、着色剤、および蛍光剤から選択されるさらなる構成要素も含んでいてもよい。
特に、アルカリ土類金属酸化物、好ましくは、ＣａＯ、ＢａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯまたはこれらの混合物、さらに好ましくは、ＭｇＯを二価元素の酸化物として考慮する。
三価元素の適切な酸化物は、特に、Ｌａ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ならびにこれらの混合物であり、好ましくは、Ｙ２Ｏ３である。
「四価元素のさらなる酸化物」という用語は、ＳｉＯ２を除く四価元素の酸化物を示す。適切な四価元素のさらなる酸化物は、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、およびＧｅＯ２である。
「五価元素のさらなる酸化物」という用語は、Ｐ２Ｏ５を除く五価元素の酸化物を示す。適切な五価元素のさらなる酸化物の例は、Ｔａ２Ｏ５またはＮｂ２Ｏ５である。
六価元素の適切な酸化物の例は、ＷＯ３およびＭｏＯ３である。
少なくとも１種類の二価元素の酸化物、少なくとも１種類の三価元素の酸化物、少なくとも１種類の四価元素のさらなる酸化物、少なくとも１種類の五価元素のさらなる酸化物、および／または少なくとも１種類の六価元素の酸化物を含むガラスセラミックが好ましい。
溶融促進剤の例は、フッ化物である。
着色剤および蛍光剤の例は、ｄ−元素およびｆ−元素の酸化物、例えば、Ｔｉ、Ｖ、Ｓｃ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｄｙ、Ｇｄ、Ｅｕ、およびＹｂの酸化物である。金属コロイド、例えば、Ａｇ、ＡｕおよびＰｄの金属コロイドを着色剤として使用してもよく、それに加え、核生成剤として作用してもよい。例えば、溶融プロセスおよび結晶化プロセス中の、対応する酸化物、塩化物またはニトレートの還元によってこれらの金属コロイドを形成することができる。金属コロイドは、ガラスセラミック中に０．００５〜０．５質量％の量で好ましくは存在する。
特に、本発明のガラスセラミックは、Ａｇ２Ｏを０．００５〜０．５質量％の量で含む。
以下で使用する「主結晶相」という用語は、他の結晶相と比較して、体積基準の割合が最も大きい結晶相を示す。
一実施形態では、本発明のガラスセラミックは、主結晶相としてメタケイ酸リチウムを有する。特に、ガラスセラミックは、ガラスセラミック全体に対し、５体積％より多く、好ましくは、１０体積％より多く、特に好ましくは、１５体積％より多いメタケイ酸リチウム結晶を含む。
さらに特に好ましい実施形態では、ガラスセラミックは、二ケイ酸リチウムを主結晶相として有する。特に、ガラスセラミックは、ガラスセラミック全体に対し、１０体積％より多く、好ましくは、２０体積％より多く、特に好ましくは、３０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を含む。
本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、特に良好な機械特性を特徴とし、例えば、本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミックを熱処理することによって生成することができる。しかし、特に、対応する出発ガラスの熱処理または核を含む対応するケイ酸リチウムガラスの熱処理によって生成することができる。
驚くべきことに、従来のガラスセラミックに必須であると考えられる構成要素が存在しない状態であっても、本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックが非常に良好な機械特性および光学特性を有することが示された。その特性の組み合わせは、歯科材料として、特に、歯修復物を調製するための材料として使用することができる。
本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、特に、ＫＩＣ値として測定される、少なくとも約２．０ＭＰａ・ｍ０．５、特に少なくとも約２．３ＭＰａ・ｍ０．５の破壊靱性を有する。この値は、Ｖｉｃｋｅｒｓ法を用いて決定され、Ｎｉｉｈａｒａの式を用いて算出された。さらに、好ましくは、４００〜７００ＭＰａの高い二軸破壊強度を有する。さらに、酢酸中で貯蔵した後の質量損失によって確認される高い化学安定性を示す。化学安定性は、特に、１００μｇ／ｃｍ２未満である。二軸破壊強度および化学安定性をＩＳＯ ６８７２（２００８）によって決定した。
本発明は、さらに、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウム結晶を形成するために適切な核を含むケイ酸リチウムガラスに関し、ガラスは、本発明の上述のガラスセラミックの構成要素を含む。したがって、このガラスは、Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏおよびこれらの混合物から選択される一価の金属酸化物を含む。このガラスの好ましい実施形態に関して、本発明のガラスセラミックの上述の好ましい実施形態を参照する。
本発明の核を含むガラスは、対応して構成される本発明の出発ガラスの熱処理によって生成することができる。次いで、本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミックは、さらなる熱処理によって形成することができ、順にさらなる熱処理によって、本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックに変換することができるか、または、本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、好ましくは、核を含むガラスから直接形成することもできる。その結果、出発ガラス、核を含むガラス、およびメタケイ酸リチウムガラスセラミックは、高強度二ケイ酸リチウムガラスセラミックを生成するための前駆体と考えることができる。
本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスは、特に、粉末、顆粒材料、またはブランク（例えば、モノリスブランク）、例えば、平板状、立方体もしくは円柱形、または粉末圧粉体、未焼結の形態、部分的に焼結した形態、または密に焼結した形態で存在する。本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスは、これらの形態に簡単にさらに処理することができる。しかし、本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスは、例えば、インレー、オンレー、クラウン、ベニア、ファセットまたはアバットメントのような歯修復物の形態でも存在することができる。
本発明は、さらに、対応して構成される出発ガラス、本発明の核を含むガラス、または本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミックが、４５０〜９５０℃、特に、４５０〜８００℃、好ましくは、４５０〜７５０℃の範囲で少なくとも１つの熱処理に供される、本発明のガラスセラミックおよび本発明の核を含むガラスを調製するためのプロセスに関する。
したがって、本発明の出発ガラスは、Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏおよびこれらの混合物から選択される一価の金属酸化物を含む。加えて、ケイ酸リチウムガラスセラミック、特に、二ケイ酸リチウムガラスセラミックを形成するために、適切な量のＳｉＯ２およびＬｉ２Ｏを含むことも好ましい。さらに、出発ガラスは、さらなる構成要素をなお含んでいてもよく、例えば、本発明のケイ酸リチウムガラスセラミックのために上に与えられる。ガラスセラミックのために好ましいものとしても与えられるこれらすべての実施形態は、出発ガラスについても好ましい。
本発明のプロセスでは、核を含むガラスは、通常は、出発ガラスを特に４８０〜５６０℃の温度で熱処理することによって調製される。次いで、本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、通常、６００〜７５０℃、特に、６５０〜７５０℃でさらに熱処理することによって、好ましくは、核を含むガラスから生成される。
したがって、従来の二ケイ酸リチウムガラスセラミックよりも二ケイ酸リチウムの結晶化について、本発明ではかなり低い温度を使用する。このようにして節約されるエネルギーは、明確な利点をあらわす。驚くべきことに、従来のガラスセラミックに必須であると考えられる構成要素（例えば、Ｋ２ＯおよびＡｌ２Ｏ３、ならびにＢａＯ）が存在しない状態で、この低い結晶化温度も可能である。
出発ガラスを調製するために、手順は、特に、適切な出発物質の混合物（例えば、カーボネート、酸化物、ホスフェートおよびフッ化物）を、特に１３００〜１６００℃の温度で２〜１０時間かけて溶融する。特に高い均質性を達成するために、顆粒ガラス材料を形成するために得られたガラス溶融物を水にそそぎ、次いで、得られた顆粒材料を再び溶融する。
次いで、溶融物を型にそそぎ、出発ガラスのブランク（いわゆる、固体ガラスブランクまたはモノリスブランク）を生成することができる。
顆粒材料を調製するために、溶融物を水に再び入れることも可能である。次いで、研磨および場合によりさらなる構成要素（例えば、着色剤および蛍光剤）を加えた後に、この顆粒材料をプレス加工し、ブランク（いわゆる粉末圧粉体）を形成することができる。
最後に、顆粒化後に出発ガラスを処理し、粉末を形成することもできる。
次いで、出発ガラス（例えば、固体ガラスブランクの形態、粉末圧粉体、または粉末の形態）が、４５０〜９５０℃の範囲で少なくとも１つの熱処理に供される。第１の熱処理は、最初に、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウム結晶を形成するのに適した核を含む本発明のガラスを調製するために４８０〜５６０℃の範囲の温度で行うことが好ましい。この第１の熱処理は、好ましくは、１０分〜１２０分、特に１０分〜３０分行われる。次いで、核を含むガラスが、好ましくは、より高い温度で、特に、５７０℃を超える温度で少なくとも１つのさらなる温度処理に供されて、メタケイ酸リチウムまたは二ケイ酸リチウムを結晶化してもよい。このさらなる熱処理は、好ましくは、１０分〜１２０分、特に、１０分〜６０分、特に好ましくは１０分〜３０分行われる。二ケイ酸リチウムを結晶化するために、さらなる熱処理は、通常は、６００〜７５０℃、好ましくは６５０〜７５０℃、特に好ましくは、７００〜７５０℃で行われる。
したがって、このプロセスの好ましい実施形態では、
（ａ）核を含むガラスを形成するために、出発ガラスが、４８０〜５６０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックを形成するために、核を含むガラスが、７００〜７５０℃の温度で熱処理に供される。
（ａ）核を含むガラスを形成するために、出発ガラスが、４８０〜５６０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックを形成するために、核を含むガラスが、７００〜７５０℃の温度で熱処理に供される。
（ａ）および（ｂ）で行われる熱処理の持続時間は、好ましくは、上に与えたとおりである。
本発明のプロセスで行われる少なくとも１つの熱処理は、本発明のガラスまたは本発明のガラスセラミックの熱プレス加工または焼結の間に行うこともできる。
歯修復物、例えば、ブリッジ、インレー、オンレー、クラウン、ベニア、ファセットまたはアバットメントは、本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスから調製することができる。したがって、本発明は、歯修復物を調製するためのその使用にも関する。ガラスセラミックまたはガラスをプレス加工または機械加工によって望ましい歯修復物に成形することが好ましい。
プレス加工は、通常は、高圧高温で行われる。プレス加工は、７００〜１２００℃の温度で行われることが好ましい。２〜１０ｂａｒの圧力でプレス加工を行うことがさらに好ましい。プレス加工中に、望ましい形状変化は、使用する材料の粘性の流れによって達成される。本発明の出発ガラス、特に、本発明の核を含むガラス、本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミック、および本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックをプレス加工に使用することができる。本発明のガラスおよびガラスセラミックを、特にブランクの形態（例えば、固体ブランク、または粉末圧粉体、例えば、未焼結の形態、部分的に焼結した形態、または密に焼結した形態）で使用することができる。
機械加工は、通常は、材料除去プロセス、特に、粉砕および／または研磨によって行われる。機械加工がＣＡＤ／ＣＡＭプロセスの一部として行われることが特に好ましい。本発明の出発ガラス、本発明の核を含むガラス、本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミック、および本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックを機械加工に使用することができる。本発明のガラスおよびガラスセラミックを、特にブランクの形態（例えば、固体ブランク、または粉末圧粉体、例えば、未焼結の形態、部分的に焼結した形態、または密に焼結した形態）で使用することができる。本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミックおよび本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、好ましくは機械加工に使用される。二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、より低い温度で熱処理することによって生成された完全に結晶化していない形態でも使用することができる。より簡単な機械加工、したがって、機械加工のためのより単純な装置の使用が可能であることが利点である。二ケイ酸リチウムをさらに結晶化するために、このような部分的に結晶化された材料の機械加工の後、これは、通常は、より高い温度、特に６５０〜７５０℃、好ましくは約７００℃の温度で熱処理に供される。
一般的に、プレス加工または機械加工によって望ましい形状の歯修復物を調製した後、これは、使用される前駆体、例えば、出発ガラス、核を含むガラスまたはメタケイ酸リチウムガラスセラミックを、二ケイ酸リチウムガラスセラミックに変換するため、または二ケイ酸リチウムの結晶化を高めるため、または、例えば、使用する多孔質粉末圧粉体の多孔度を下げるために、特に、熱処理することもできる。
しかし、本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスは、例えば、セラミックおよびガラスセラミックのコーティング材料としても適している。したがって、本発明は、特に、セラミックおよびガラスセラミックをコーティングするための本発明のガラスまたは本発明のガラスセラミックの使用にも関する。
また、本発明は、セラミックおよびガラスセラミックをコーティングするためのプロセスにも関し、本発明のガラスセラミックまたは本発明のガラスはセラミックまたはガラスセラミックに適用され、高温に供される。
これは、特に、焼結によって、好ましくはプレス加工によって行うことができる。焼結しつつ、ガラスセラミックまたはガラスを、コーティングされるべき材料（例えば、セラミックまたはガラスセラミック）に通常の様式で（例えば、粉末として）適用し、次いで、高温で焼結させる。好ましいプレス加工をしつつ、本発明のガラスセラミックまたは本発明のガラスを、例えば、粉末圧粉体またはモノリスブランクの形態で、例えば、７００〜１２００℃の高温で、例えば、２〜１０ｂａｒの圧力を加えてプレス加工する。ＥＰ ２３１ ７７３号に記載される方法およびそこに開示されるプレス炉を、特にこのために使用することができる。適切な炉は、例えば、Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ、Ｌｉｅｃｈｔｅｎｓｔｅｉｎ製のＰｒｏｇｒａｍａｔ ＥＰ ５０００である。
コーティングプロセスを完了させた後、本発明のガラスセラミックは、特に良好な特性を有するため、主結晶相としての二ケイ酸リチウムとともに存在することが好ましい。
前駆体としての本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスの上述の特性のため、これらは、特に、歯科で使用するのに適している。したがって、本発明の主題は、歯科材料としての、特に、歯修復物を調製するため、また、歯修復物（例えば、クラウン、ブリッジおよびアバットメント）のためのコーティング材料としての本発明のガラスセラミックまたは本発明のガラスの使用でもある。
最後に、所望な場合に調整される特性を有する歯科材料を生成するために、本発明のガラスおよびガラスセラミックを、他のガラスおよびガラスセラミックと混合することもできる。したがって、本発明のガラスまたは本発明のガラスセラミックを、少なくとも１種類の他のガラスおよび／または他のガラスセラミックと組み合わせて含む組成物、特に歯科材料は、さらに、本発明の主題をあらわす。したがって、本発明のガラスまたは本発明のガラスセラミックを、特に、無機−無機コンポジットの主要な構成要素として、または、複数の他のガラスおよび／またはガラスセラミックと組み合わせて使用することができ、コンポジットまたは組み合わせを、特に歯科材料として使用することができる。組み合わせまたはコンポジットは、特に好ましくは、焼結したブランクの形態で存在していてもよい。無機−無機コンポジットおよび組み合わせを調製するための他のガラスおよびガラスセラミックの例は、ＤＥ ４３ １４ ８１７号、ＤＥ ４４ ２３ ７９３号、ＤＥ
４４ ２３ ７９４号、ＤＥ ４４ ２８ ８３９号、ＤＥ １９６ ４７ ７３９号、ＤＥ １９７ ２５ ５５３号、ＤＥ １９７ ２５ ５５５号、ＤＥ １００ ３１
４３１号およびＤＥ １０ ２００７ ０１１ ３３７号に開示される。これらのガラスおよびガラスセラミックは、シリケート、ボレート、ホスフェートまたはアルミノシリケートの群に属する。好ましいガラスおよびガラスセラミックは、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ型（立方晶または正方晶のリューサイト結晶）、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ型、アルカリ−シリケート型、アルカリ−亜鉛−シリケート型、シリコホスフェート型、ＳｉＯ２−ＺｒＯ２型および／またはリチウム−アルミノシリケート型（スポジュメン結晶）である。このようなガラスまたはガラスセラミックと本発明のガラスおよび／またはガラスセラミックとを混合することにより、例えば、熱膨張係数を、所望な場合、６・１０−６Ｋ−１〜２０・１０−６Ｋ−１の広範囲に調整することができる。
４４ ２３ ７９４号、ＤＥ ４４ ２８ ８３９号、ＤＥ １９６ ４７ ７３９号、ＤＥ １９７ ２５ ５５３号、ＤＥ １９７ ２５ ５５５号、ＤＥ １００ ３１
４３１号およびＤＥ １０ ２００７ ０１１ ３３７号に開示される。これらのガラスおよびガラスセラミックは、シリケート、ボレート、ホスフェートまたはアルミノシリケートの群に属する。好ましいガラスおよびガラスセラミックは、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ型（立方晶または正方晶のリューサイト結晶）、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ型、アルカリ−シリケート型、アルカリ−亜鉛−シリケート型、シリコホスフェート型、ＳｉＯ２−ＺｒＯ２型および／またはリチウム−アルミノシリケート型（スポジュメン結晶）である。このようなガラスまたはガラスセラミックと本発明のガラスおよび／またはガラスセラミックとを混合することにより、例えば、熱膨張係数を、所望な場合、６・１０−６Ｋ−１〜２０・１０−６Ｋ−１の広範囲に調整することができる。
実施例により、本発明を以下にさらに詳細に説明する。
（実施例１〜１６−組成物および結晶相）
表Ｉに与えた組成を有する本発明の合計１６種類のガラスおよびガラスセラミックを、対応する出発ガラスを溶融した後、制御された核生成および結晶化のための熱処理によって調製した。
表Ｉに与えた組成を有する本発明の合計１６種類のガラスおよびガラスセラミックを、対応する出発ガラスを溶融した後、制御された核生成および結晶化のための熱処理によって調製した。
このために、１００〜２００ｇの重さの出発ガラスを、第１に従来の原材料から１４００〜１５００℃で溶融させ、この溶融は、気泡または縞を形成することなく非常に簡単に可能であった。出発ガラスを水にそそぐことによって、ガラスフリットを調製し、次いで、第２の時間に、均質化のために１４５０〜１５５０℃で１〜３時間かけて溶融させた。
実施例１〜９および１１〜１６の場合には、次いで、ガラスモノリスを生成するために、得られたガラス溶融物を、あらかじめ加熱しておいた型にそそいだ。すべてのガラスモノリスは透明であることがわかった。
実施例１０の場合には、得られたガラス溶融物を１４００℃まで冷却し、水にそそぐことによって微粒子顆粒材料に変換した。顆粒材料を乾燥し、粒径が９０μｍ未満の粉末に粉砕した。この粉末を水で湿らせ、プレス加工し、プレス加工圧２０ＭＰａで粉末圧粉体を形成した。
次いで、ガラスモノリス（実施例１〜９および１１〜１６）および粉末圧粉体（実施例１０）を、本発明のガラスおよびガラスセラミックを熱処理することによって変換した。制御された核化および制御された結晶化に使用する熱処理を表Ｉに記載する。以下の意味を適用する。
ＴＮおよびｔＮ 核化に使用する温度および時間
ＴＣおよびｔＣ 二ケイ酸リチウムまたはメタケイ酸リチウムの結晶化に使用する温度および時間。
ＴＮおよびｔＮ 核化に使用する温度および時間
ＴＣおよびｔＣ 二ケイ酸リチウムまたはメタケイ酸リチウムの結晶化に使用する温度および時間。
Ｘ線回折試験によって確立されたように、４８０〜５１０℃の範囲での第１の熱処理が、核を含むケイ酸リチウムガラスの形成を生じ、実施例１〜１０および１２の場合、これらのガラスは、７００〜７５０℃で、特に７００℃でのさらなる熱処理により、主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックへとすでに結晶化したことが見られ得る。たった６６０〜６８０℃の温度での熱処理が、実施例１１および１３〜１６の場合には、主結晶相としてメタケイ酸リチウムを含むガラスセラミックの形成を生じる。
生成された二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、臨界応力拡大係数ＫＩＣとして測定された、２．０ＭＰａ・ｍ０．５より大きい、高い破壊靱性値を有していた。
少なくとも４８０ＭＰａで、二軸強度σＢも高かった。それぞれの二ケイ酸リチウムガラスセラミックの機械加工によって調製した試験片について、歯科規格ＩＳＯ ６８７２（２００８）にしたがって決定した。ＣＥＲＥＣ−ＩｎＬａｂ機（Ｓｉｒｏｎａ、Ｂｅｎｓｈｅｉｍ）を機械加工のために使用した。
生成された二ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびメタケイ酸リチウムセラミックは、ＣＡＤ／ＣＡＭプロセスまたは熱プレス加工で種々の歯修復物の形態に非常に満足のいくように機械加工することができ、必要な場合、修復物は、ベニアも伴った。
生成された二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、例えば、所望な場合、歯修復物を覆うために、特に、歯修復物へのコーティングとして熱プレス加工によって適用することもできた。
（実施例１７−核を含むガラスの熱プレス加工）
酸化物またはカーボネートの形態で対応する原材料をＴｕｒｂｕｌａミキサーで３０分間混合し、次いで、白金るつぼでこの混合物を１４５０℃で１２０分溶融することによって、実施例６および７の組成物を含むガラスを調製した。微粒子顆粒ガラス材料を得るために、溶融物を水にそそいだ。特に高い均質性を有するガラス溶融物を得るために、この顆粒ガラス材料を１５３０℃で１５０分かけて再び溶融した。温度を３０分かけて１５００℃まで下げ、次いで、直径が１２．５ｍｍの円柱形ガラスブランクを、あらかじめ加熱しておいた分離可能な鋼鉄型またはグラファイト型にそそいだ。次いで、得られたガラス円柱形を組成に依存して、４８０〜５６０℃の範囲で核化し、応力を緩和した。
酸化物またはカーボネートの形態で対応する原材料をＴｕｒｂｕｌａミキサーで３０分間混合し、次いで、白金るつぼでこの混合物を１４５０℃で１２０分溶融することによって、実施例６および７の組成物を含むガラスを調製した。微粒子顆粒ガラス材料を得るために、溶融物を水にそそいだ。特に高い均質性を有するガラス溶融物を得るために、この顆粒ガラス材料を１５３０℃で１５０分かけて再び溶融した。温度を３０分かけて１５００℃まで下げ、次いで、直径が１２．５ｍｍの円柱形ガラスブランクを、あらかじめ加熱しておいた分離可能な鋼鉄型またはグラファイト型にそそいだ。次いで、得られたガラス円柱形を組成に依存して、４８０〜５６０℃の範囲で核化し、応力を緩和した。
核化したガラス円柱形を、ＥＰ６００プレス炉（Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ）を用い、プレス加工温度９００〜１１００℃で熱プレス加工することによって処理し、歯修復物、例えば、インレー、オンレー、ベニア、部分的なクラウン、クラウン、積層材料および積層体を形成した。それぞれの場合に、二ケイ酸リチウムを主結晶相として検出した。
本発明の好ましい実施形態によれば、例えば、以下が提供される。
（項１）
Ｒｂ ２ Ｏ、Ｃｓ ２ Ｏおよびこれらの混合物から選択される一価金属酸化物を含む、ケイ酸リチウムガラスセラミック。
（項２）
少なくとも６．１質量％のＺｒＯ ２ を含むケイ酸リチウムガラスセラミックが除かれる、上記項１に記載のガラスセラミック。
（項３）
少なくとも８．５質量％の遷移金属酸化物を含み、該遷移金属酸化物が、イットリウム酸化物、原子番号が４１〜７９である遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群から選択されるケイ酸リチウムガラスセラミックが除かれる、上記項１または２に記載のガラスセラミック。
（項４）
１．０質量％未満、特に、０．５質量％未満、好ましくは、０．１質量％未満のＫ ２ Ｏを含む、上記項１〜３のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項５）
５．３質量％未満、特に、５．１質量％未満、好ましくは、４．０質量％未満、特に好ましくは３．０質量％未満のＡｌ ２ Ｏ ３ を含み、さらに好ましくは、実質的にＡｌ ２ Ｏ ３ を含まないか、または、Ａｌ ２ Ｏ ３ に対する一価金属酸化物のモル比が、少なくとも０．５、好ましくは、０．５〜１．５である、上記項１〜４のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項６）
３．８質量％未満、特に、３．６質量％未満、好ましくは、２．５質量％未満のＢａＯを含む、上記項１〜５のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項７）
前記一価金属酸化物またはこれらの混合物を、０．１〜１７．０質量％、特に、１．０〜１５．０質量％、好ましくは、１．５〜８．０質量％の量で含む、上記項１〜６のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項８）
主結晶相としてメタケイ酸リチウムを有し、特に、５体積％より多く、好ましくは、１０体積％より多く、特に好ましくは、２０体積％より多いメタケイ酸リチウム結晶を有する、上記項１〜７のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項９）
主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、特に、１０体積％より多く、好ましくは、２０体積％より多く、特に好ましくは、３０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を有する、上記項１〜８のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１０）
５５．０〜８５．０質量％、特に、６０．０〜７８．０質量％、好ましくは、６２．０〜７７．０質量％のＳｉＯ ２ を含む、上記項１〜９のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１１）
９．０〜２０．０質量％、特に、９．０〜１７．０質量％、好ましくは、１２．０〜１６．０質量％のＬｉ ２ Ｏを含む、上記項１〜１０のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１２）
０〜１２．０質量％、特に１．０〜１２．０質量％、好ましくは、２．０〜９．０質量％、特に好ましくは２．５〜７．５質量％のＰ ２ Ｏ ５ を含む、上記項１〜１１のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１３）
Ｋ ２ Ｏ、Ｎａ ２ Ｏおよびこれらの混合物を１．０質量％未満、特に、０．５質量％未満、
好ましくは、０．１質量％未満の量で含む、上記項１〜１２の１項に記載のガラスセラミック。
（項１４）
以下の成分：
成分 質量％
ＳｉＯ ２ ５５．０〜８５．０
Ｌｉ ２ Ｏ ９．０〜１７．０
Ｒｂ ２ Ｏおよび／またはＣｓ ２ Ｏ ０．１〜１５．０
Ｐ ２ Ｏ ５ ０〜１２．０、好ましくは、１．０〜１２．０
の少なくとも１つ、好ましくは、すべてを含む、上記項１〜１３のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１５）
主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、Ｋ ＩＣ 値として測定される、少なくとも約２．０ＭＰａ・ｍ ０．５ 、特に、少なくとも約２．３ＭＰａ・ｍ ０．５ の破壊靱性を有する、上記項１〜１４のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１６）
ＳｉＯ ２ とＬｉ ２ Ｏとのモル比が２．２〜２．６、特に２．３〜２．５、好ましくは、約２．４である、上記項１〜１５のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１７）
上記項１〜７、１０〜１４または１６のいずれか１項に記載のガラスセラミックの構成要素を含む、出発ガラス。
（項１８）
ケイ酸リチウムガラスであって、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウムの結晶を形成するのに適した核を含み、該ガラスが、上記項１〜７、１０〜１４または１６のいずれか１項に記載のガラスセラミックの構成要素を含む、ケイ酸リチウムガラス。
（項１９）
前記ガラスおよび前記ガラスセラミックが、粉末、顆粒材料、ブランクまたは歯修復物の形態で存在する、上記項１〜１６のいずれか１項に記載のガラスセラミックまたは上記項１７もしくは１８に記載のガラス。
（項２０）
上記項１〜１６もしくは１９のいずれか１項に記載のガラスセラミック、または上記項１８もしくは１９に記載のガラスを調製するプロセスであって、上記項１７もしくは１９に記載の出発ガラス、上記項１８もしくは１９に記載の核を含むガラス、または上記項８、１０〜１６もしくは１９のいずれか１項に記載の主結晶相としてメタケイ酸リチウムを含むガラスセラミックが、４５０〜９５０℃、特に、４５０〜７５０℃、好ましくは、４５０〜７２０℃、特に好ましくは４５０〜７００℃の範囲で少なくとも１つの熱処理に供される、プロセス。
（項２１）
（ａ）前記核を含むガラスを形成するために、出発ガラスが、４８０〜５６０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）前記主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックを形成するために、該核を含むガラスが、７００〜７５０℃の温度で熱処理に供される、上記項２０に記載のプロセス。
（項２２）
歯科材料としての、特に、歯修復物をコーテイングするための歯科材料としての、好ましくは、歯修復物を調製するための歯科材料としての、上記項１〜１６もしくは１９のいずれか１項に記載のガラスセラミックの使用、または上記項１７〜１９のいずれか１項に記載のガラスの使用。
（項２３）
プレス加工または機械加工によって前記ガラスセラミックまたは前記ガラスが、望ましい歯修復物、特に、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、アバットメント、部分的なクラウン、クラウンまたはファセットに成形される、上記項２２に記載の歯修復物を調製するための使用。
（項１）
Ｒｂ ２ Ｏ、Ｃｓ ２ Ｏおよびこれらの混合物から選択される一価金属酸化物を含む、ケイ酸リチウムガラスセラミック。
（項２）
少なくとも６．１質量％のＺｒＯ ２ を含むケイ酸リチウムガラスセラミックが除かれる、上記項１に記載のガラスセラミック。
（項３）
少なくとも８．５質量％の遷移金属酸化物を含み、該遷移金属酸化物が、イットリウム酸化物、原子番号が４１〜７９である遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群から選択されるケイ酸リチウムガラスセラミックが除かれる、上記項１または２に記載のガラスセラミック。
（項４）
１．０質量％未満、特に、０．５質量％未満、好ましくは、０．１質量％未満のＫ ２ Ｏを含む、上記項１〜３のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項５）
５．３質量％未満、特に、５．１質量％未満、好ましくは、４．０質量％未満、特に好ましくは３．０質量％未満のＡｌ ２ Ｏ ３ を含み、さらに好ましくは、実質的にＡｌ ２ Ｏ ３ を含まないか、または、Ａｌ ２ Ｏ ３ に対する一価金属酸化物のモル比が、少なくとも０．５、好ましくは、０．５〜１．５である、上記項１〜４のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項６）
３．８質量％未満、特に、３．６質量％未満、好ましくは、２．５質量％未満のＢａＯを含む、上記項１〜５のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項７）
前記一価金属酸化物またはこれらの混合物を、０．１〜１７．０質量％、特に、１．０〜１５．０質量％、好ましくは、１．５〜８．０質量％の量で含む、上記項１〜６のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項８）
主結晶相としてメタケイ酸リチウムを有し、特に、５体積％より多く、好ましくは、１０体積％より多く、特に好ましくは、２０体積％より多いメタケイ酸リチウム結晶を有する、上記項１〜７のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項９）
主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、特に、１０体積％より多く、好ましくは、２０体積％より多く、特に好ましくは、３０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を有する、上記項１〜８のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１０）
５５．０〜８５．０質量％、特に、６０．０〜７８．０質量％、好ましくは、６２．０〜７７．０質量％のＳｉＯ ２ を含む、上記項１〜９のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１１）
９．０〜２０．０質量％、特に、９．０〜１７．０質量％、好ましくは、１２．０〜１６．０質量％のＬｉ ２ Ｏを含む、上記項１〜１０のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１２）
０〜１２．０質量％、特に１．０〜１２．０質量％、好ましくは、２．０〜９．０質量％、特に好ましくは２．５〜７．５質量％のＰ ２ Ｏ ５ を含む、上記項１〜１１のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１３）
Ｋ ２ Ｏ、Ｎａ ２ Ｏおよびこれらの混合物を１．０質量％未満、特に、０．５質量％未満、
好ましくは、０．１質量％未満の量で含む、上記項１〜１２の１項に記載のガラスセラミック。
（項１４）
以下の成分：
成分 質量％
ＳｉＯ ２ ５５．０〜８５．０
Ｌｉ ２ Ｏ ９．０〜１７．０
Ｒｂ ２ Ｏおよび／またはＣｓ ２ Ｏ ０．１〜１５．０
Ｐ ２ Ｏ ５ ０〜１２．０、好ましくは、１．０〜１２．０
の少なくとも１つ、好ましくは、すべてを含む、上記項１〜１３のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１５）
主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、Ｋ ＩＣ 値として測定される、少なくとも約２．０ＭＰａ・ｍ ０．５ 、特に、少なくとも約２．３ＭＰａ・ｍ ０．５ の破壊靱性を有する、上記項１〜１４のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１６）
ＳｉＯ ２ とＬｉ ２ Ｏとのモル比が２．２〜２．６、特に２．３〜２．５、好ましくは、約２．４である、上記項１〜１５のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項１７）
上記項１〜７、１０〜１４または１６のいずれか１項に記載のガラスセラミックの構成要素を含む、出発ガラス。
（項１８）
ケイ酸リチウムガラスであって、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウムの結晶を形成するのに適した核を含み、該ガラスが、上記項１〜７、１０〜１４または１６のいずれか１項に記載のガラスセラミックの構成要素を含む、ケイ酸リチウムガラス。
（項１９）
前記ガラスおよび前記ガラスセラミックが、粉末、顆粒材料、ブランクまたは歯修復物の形態で存在する、上記項１〜１６のいずれか１項に記載のガラスセラミックまたは上記項１７もしくは１８に記載のガラス。
（項２０）
上記項１〜１６もしくは１９のいずれか１項に記載のガラスセラミック、または上記項１８もしくは１９に記載のガラスを調製するプロセスであって、上記項１７もしくは１９に記載の出発ガラス、上記項１８もしくは１９に記載の核を含むガラス、または上記項８、１０〜１６もしくは１９のいずれか１項に記載の主結晶相としてメタケイ酸リチウムを含むガラスセラミックが、４５０〜９５０℃、特に、４５０〜７５０℃、好ましくは、４５０〜７２０℃、特に好ましくは４５０〜７００℃の範囲で少なくとも１つの熱処理に供される、プロセス。
（項２１）
（ａ）前記核を含むガラスを形成するために、出発ガラスが、４８０〜５６０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）前記主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックを形成するために、該核を含むガラスが、７００〜７５０℃の温度で熱処理に供される、上記項２０に記載のプロセス。
（項２２）
歯科材料としての、特に、歯修復物をコーテイングするための歯科材料としての、好ましくは、歯修復物を調製するための歯科材料としての、上記項１〜１６もしくは１９のいずれか１項に記載のガラスセラミックの使用、または上記項１７〜１９のいずれか１項に記載のガラスの使用。
（項２３）
プレス加工または機械加工によって前記ガラスセラミックまたは前記ガラスが、望ましい歯修復物、特に、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、アバットメント、部分的なクラウン、クラウンまたはファセットに成形される、上記項２２に記載の歯修復物を調製するための使用。
Claims (24)
- Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏおよびこれらの混合物から選択される２．０〜１７．０質量％の一価金属酸化物、５５．０〜８５．０質量％のＳｉＯ２、および９．０〜２０．０質量％のＬｉ２Ｏを含み、そして０〜４．０質量％未満のＡｌ２Ｏ３、０〜３．８質量％未満のＢａＯおよび０〜１．０質量％未満のＫ２Ｏ、Ｎａ２Ｏまたはこれらの混合物を含み、ここで、ＳｉＯ２とＬｉ２Ｏとのモル比が２．２〜２．６である、ケイ酸リチウムガラスセラミック。
- ケイ酸リチウムガラスセラミックが、６．１質量％未満のＺｒＯ２を含む、請求項１に記載のガラスセラミック。
- ケイ酸リチウムガラスセラミックが、８．５質量％未満の遷移金属酸化物を含み、該遷移金属酸化物が、イットリウム酸化物、原子番号が４１〜７９である遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群から選択される、請求項１または２に記載のガラスセラミック。
- ０〜０．５質量％未満のＫ２Ｏを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- 前記ケイ酸リチウムガラスセラミックが、実質的にＡｌ２Ｏ３を含まない、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- Ａｌ２Ｏ３に対する前記一価金属酸化物のモル比が、少なくとも０．５である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- 前記一価金属酸化物またはこれらの混合物を、２．０〜１５．０質量％の量で含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- 主結晶相としてメタケイ酸リチウムを有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- ５体積％より多いメタケイ酸リチウム結晶を有する、請求項８に記載のガラスセラミック。
- 主結晶相として二ケイ酸リチウムを有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- １０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を有する、請求項１０に記載のガラスセラミック。
- ６０．０〜７８．０質量％のＳｉＯ２を含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- ９．０〜１７．０質量％のＬｉ２Ｏを含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- ０〜１２．０質量％のＰ２Ｏ５を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- 以下の成分：
成分 質量％
ＳｉＯ２ ５５．０〜８５．０
Ｌｉ２Ｏ ９．０〜１７．０
Ｒｂ２Ｏおよび／またはＣｓ２Ｏ ２．０〜１５．０
Ｐ２Ｏ５ ０〜１２．０
の全てを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のガラスセラミック。 - 主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、ＫＩＣ値として測定される、少なくとも約２．０ＭＰａ・ｍ０．５の破壊靱性を有する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- 請求項１〜７または１２〜１５のいずれか１項に記載のガラスセラミックの構成要素を含む、出発ガラス。
- ケイ酸リチウムガラスであって、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウムの結晶を形成するのに適した核を含み、該ガラスが、請求項１〜７または１２〜１５のいずれか１項に記載のガラスセラミックの構成要素を含む、ケイ酸リチウムガラス。
- 前記ガラスセラミックが、粉末、顆粒材料、ブランクまたは歯修復物の形態で存在する、請求項１〜１６のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
- 歯科材料としての、ケイ酸リチウムガラスセラミックの使用であって、ここで、該ガラスセラミックが、Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏおよびこれらの混合物から選択される２．０〜１７．０質量％の一価金属酸化物、５５．０〜８５．０質量％のＳｉＯ２、および９．０〜２０．０質量％のＬｉ２Ｏを含み、そして０〜５．１質量％未満のＡｌ２Ｏ３、０〜３．８質量％未満のＢａＯおよび０〜１．０質量％未満のＫ２Ｏ、Ｎａ２Ｏまたはこれらの混合物を含み、ここで、ＳｉＯ２とＬｉ２Ｏとのモル比が２．２〜２．６である、使用。
- 歯修復物をコーティングするための、または、歯修復物を調製するための、請求項２０に記載の使用。
- プレス加工または機械加工によって前記ガラスセラミックが、望ましい歯修復物に成形される、請求項２１に記載の歯修復物を調製するための使用。
- 前記歯修復物は、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、アバットメント、部分的なクラウン、クラウンまたはファセットである、請求項２２に記載の使用。
- Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏおよびこれらの混合物から選択される２．０〜１７．０質量％の一価金属酸化物、５５．０〜８５．０質量％のＳｉＯ２、９．０〜２０．０質量％のＬｉ２Ｏを含み、そして０〜５．１質量％未満のＡｌ２Ｏ３、０〜３．８質量％未満のＢａＯおよび０〜１．０質量％未満のＫ２Ｏ、Ｎａ２Ｏまたはこれらの混合物を含み、ここで、ＳｉＯ２とＬｉ２Ｏとのモル比が２．２〜２．６である、プレス加工または機械加工のために使用されるケイ酸リチウムガラスセラミックの調製のためのプロセスであって、
（ａ）該ガラスセラックの構成要素を含む出発ガラスが、二ケイ酸リチウム結晶を形成するのに適した二ケイ酸リチウムガラスセラミックの核を含むガラスを形成するために、４８０〜５６０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）主結晶相として二ケイ酸リチウムを有するガラスセラミックを形成するために、該二ケイ酸リチウムガラスセラミックの核を含むガラスが、７００〜７５０℃の温度で熱処理に供される、プロセス。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP11185334.7 | 2011-10-14 | ||
| EP11185334 | 2011-10-14 | ||
| PCT/EP2012/070219 WO2013053863A2 (de) | 2011-10-14 | 2012-10-11 | Lithiumsilikat-glaskeramik und -glas mit einwertigem metalloxid |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017172949A Division JP2017214287A (ja) | 2011-10-14 | 2017-09-08 | 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015505786A JP2015505786A (ja) | 2015-02-26 |
| JP6633278B2 true JP6633278B2 (ja) | 2020-01-22 |
Family
ID=47018216
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014535089A Active JP6633278B2 (ja) | 2011-10-14 | 2012-10-11 | 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
| JP2017172949A Pending JP2017214287A (ja) | 2011-10-14 | 2017-09-08 | 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017172949A Pending JP2017214287A (ja) | 2011-10-14 | 2017-09-08 | 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9101439B2 (ja) |
| EP (1) | EP2765977B1 (ja) |
| JP (2) | JP6633278B2 (ja) |
| KR (1) | KR101628587B1 (ja) |
| CN (1) | CN103930086B (ja) |
| CA (1) | CA2851386C (ja) |
| DE (1) | DE112012004261A5 (ja) |
| DK (1) | DK2765977T3 (ja) |
| ES (1) | ES2562338T3 (ja) |
| HU (1) | HUE027869T2 (ja) |
| MX (1) | MX350427B (ja) |
| PL (1) | PL2765977T3 (ja) |
| PT (1) | PT2765977E (ja) |
| RU (1) | RU2606999C2 (ja) |
| WO (1) | WO2013053863A2 (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2017112372A (ru) * | 2011-10-14 | 2019-01-24 | Ивоклар Вивадент Аг | Литиево-силикатные стеклокерамика и стекло с оксидом двухвалентного металла |
| US10227255B2 (en) * | 2011-10-14 | 2019-03-12 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate glass ceramic and lithium silicate glass comprising a pentavalent metal oxide |
| WO2013086187A1 (en) | 2011-12-08 | 2013-06-13 | 3M Innovative Properties Company | Lithium silicate glass ceramic material, process of production and use thereof |
| EP2792649B1 (de) | 2013-04-15 | 2019-11-27 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Gehalt an Rubidiumoxid |
| EP2792345B1 (de) * | 2013-04-15 | 2019-10-09 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Gehalt an Cäsiumoxid |
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- 2012-10-11 ES ES12772325.2T patent/ES2562338T3/es active Active
- 2012-10-11 WO PCT/EP2012/070219 patent/WO2013053863A2/de active Application Filing
- 2012-10-11 PL PL12772325T patent/PL2765977T3/pl unknown
- 2012-10-11 CA CA2851386A patent/CA2851386C/en active Active
- 2012-10-11 MX MX2014004514A patent/MX350427B/es active IP Right Grant
- 2012-10-11 HU HUE12772325A patent/HUE027869T2/en unknown
- 2012-10-11 DK DK12772325.2T patent/DK2765977T3/en active
- 2012-10-11 PT PT127723252T patent/PT2765977E/pt unknown
- 2012-10-11 US US14/001,180 patent/US9101439B2/en active Active
- 2012-10-11 RU RU2014119361A patent/RU2606999C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2012-10-11 DE DE112012004261.1T patent/DE112012004261A5/de not_active Withdrawn
- 2012-10-11 JP JP2014535089A patent/JP6633278B2/ja active Active
- 2012-10-11 CN CN201280049650.4A patent/CN103930086B/zh active Active
-
2015
- 2015-06-26 US US14/751,770 patent/US9878939B2/en active Active
-
2017
- 2017-09-08 JP JP2017172949A patent/JP2017214287A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MX350427B (es) | 2017-09-05 |
| JP2015505786A (ja) | 2015-02-26 |
| RU2606999C2 (ru) | 2017-01-10 |
| US20140135202A1 (en) | 2014-05-15 |
| US9878939B2 (en) | 2018-01-30 |
| CA2851386C (en) | 2017-07-11 |
| JP2017214287A (ja) | 2017-12-07 |
| CA2851386A1 (en) | 2013-04-18 |
| ES2562338T3 (es) | 2016-03-03 |
| KR20140075776A (ko) | 2014-06-19 |
| US9101439B2 (en) | 2015-08-11 |
| WO2013053863A8 (de) | 2013-06-20 |
| PL2765977T3 (pl) | 2016-06-30 |
| CN103930086A (zh) | 2014-07-16 |
| HUE027869T2 (en) | 2016-11-28 |
| KR101628587B1 (ko) | 2016-06-08 |
| RU2014119361A (ru) | 2015-11-20 |
| PT2765977E (pt) | 2016-03-29 |
| CN103930086B (zh) | 2017-09-15 |
| MX2014004514A (es) | 2014-05-28 |
| EP2765977A2 (de) | 2014-08-20 |
| WO2013053863A2 (de) | 2013-04-18 |
| EP2765977B1 (de) | 2015-12-30 |
| DK2765977T3 (en) | 2016-03-07 |
| DE112012004261A5 (de) | 2014-08-28 |
| WO2013053863A3 (de) | 2013-08-01 |
| US20150299031A1 (en) | 2015-10-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
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|
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|
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|
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|
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