JP5146719B2 - シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体 - Google Patents
シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5146719B2 JP5146719B2 JP2007172080A JP2007172080A JP5146719B2 JP 5146719 B2 JP5146719 B2 JP 5146719B2 JP 2007172080 A JP2007172080 A JP 2007172080A JP 2007172080 A JP2007172080 A JP 2007172080A JP 5146719 B2 JP5146719 B2 JP 5146719B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- formula
- general formula
- trans
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
本発明は以下の製造方法及び製造中間体を提供する。すなわち、一般式(I)
一般式(I)においてR1は炭素原子数1〜10の直鎖状アルキル基を表し、具体的には−CH2CH3、−(CH2)2CH3、−(CH2)3CH3、−(CH2)4CH3を表すことが好ましい。nは0、1又は2を表し、Xは塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフロオロメタンスルホニルオキシ基を表すが、臭素が好ましい。
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、50℃から70℃が好ましい。
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、-70℃から-40℃が好ましい。
化合物記載に下記の略号を使用する。
Pr :プロピル基
Bu :ブチル基
(実施例1)ジメチル(トランス-4-プロピルシクロヘキシルメチル)ホスホナートの合成
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):0.851.30 (m, 11H), 1.501.91 (m, 8H), 3.74 (s,3H), 3.74 (s,3H).
(実施例2)(E)-トランス-4-[2-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)エテニル]-トランス-4'-(3,4-ジフルオロフェニル)ビシクロヘキサンの合成
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):0.851.37 (m, 28H), 1.681.90 (m, 12H), 2.362.44 (m, 1H), 5.30 (d, J = 4.8Hz, 2H),7.056.89 (m, 3H).
(実施例3)(E)- 1,2-ビス(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)エチレンの合成
(比較例1)(E)-1,2-ビス(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)エチレンの合成
得られた粗生成物と無水酢酸1200mLを混合し、5時間還流した。室温まで冷却し、ヘキサンで抽出を行った。分離した有機層を水、飽和重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、301.4gの反応混合物を得た。本反応混合物における(E)-体と(Z)-体の比は95:5であった。
本願発明の合成経路がトランス-4-プロピルシクロヘキサンカルバルデヒドから一工程であるのに対して、比較例の方法では四工程であり工程数の点で本願発明の方法に劣るものであった。
Claims (5)
- 一般式(III)
- 一般式(III)で表される化合物の反応時に、塩基としてアルキル金属を用いる請求項2記載の製造方法。
- 塩基としてリチウムアミドを用いる請求項3記載の製造方法。
- Aが1,4−フェニレン基、3−フルオロ−1,4−フェニレン基、3,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン基又は2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン基を表す請求項2記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007172080A JP5146719B2 (ja) | 2007-06-29 | 2007-06-29 | シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007172080A JP5146719B2 (ja) | 2007-06-29 | 2007-06-29 | シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009007312A JP2009007312A (ja) | 2009-01-15 |
JP5146719B2 true JP5146719B2 (ja) | 2013-02-20 |
Family
ID=40322762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007172080A Expired - Fee Related JP5146719B2 (ja) | 2007-06-29 | 2007-06-29 | シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5146719B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5597973B2 (ja) * | 2009-11-13 | 2014-10-01 | Dic株式会社 | トランス‐1,4−シクロヘキシレン構造を有する化合物の製造方法 |
CN108558595B (zh) * | 2018-05-22 | 2021-02-02 | 南京林业大学 | 一种对苯撑乙烯桥联三聚茚衍生物及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3509170C2 (de) * | 1985-03-14 | 1995-01-05 | Merck Patent Gmbh | trans-Ethenylenverbindungen |
JP3326821B2 (ja) * | 1992-09-11 | 2002-09-24 | チッソ株式会社 | 2−フルオロベンゾニトリル誘導体 |
US5641432A (en) * | 1993-03-10 | 1997-06-24 | Chisso Corporation | Dicyclohexylethylene derivative |
JP3875365B2 (ja) * | 1997-08-18 | 2007-01-31 | 新日本石油株式会社 | ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物の製造方法 |
JP4691937B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2011-06-01 | Dic株式会社 | (e)−1,2−ビス(シクロヘキシル)エチレン誘導体の製造方法及びその製造中間体 |
-
2007
- 2007-06-29 JP JP2007172080A patent/JP5146719B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009007312A (ja) | 2009-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4288729B2 (ja) | ベンゼン誘導体およびその製造方法 | |
JP5263461B2 (ja) | 2−フルオロフェニルオキシメタン構造を持つ化合物 | |
JPS5976027A (ja) | 新規な環化合物 | |
JP2008222588A (ja) | 1−(トリフルオロメチル)ナフタレン誘導体 | |
JP5146719B2 (ja) | シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体 | |
JP2007119423A (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
JP5056118B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
JP2003261478A (ja) | ジフルオロベンジルブロミド誘導体およびジフルオロベンジルエーテル誘導体の製造方法 | |
JP3632702B2 (ja) | 1,7,8−トリフルオロ−2−ナフトール及びこれを用いた液晶化合物の製造方法 | |
JP4691937B2 (ja) | (e)−1,2−ビス(シクロヘキシル)エチレン誘導体の製造方法及びその製造中間体 | |
JP5458787B2 (ja) | フェノールの製造方法 | |
JP4983009B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
JP5305058B2 (ja) | エタン結合を有する液晶性化合物の製造方法 | |
JP2006306756A (ja) | トリフルオロナフタレン誘導体 | |
JP5609011B2 (ja) | ナフタレン誘導体 | |
JP5708994B2 (ja) | フッ素化されたオキサビシクロノナン構造をもつ化合物及びその液晶組成物 | |
JP4759949B2 (ja) | 2−ナフチル−1,3−ジオキサン誘導体 | |
JP5407145B2 (ja) | 4’−ジアルコキシメチルビシクロへキシル−4−イルメタノール及びその製造方法 | |
JP6489369B2 (ja) | ジフルオロメチルエーテル骨格を有する化合物の製造方法及びその製造中間体化合物 | |
JP4779493B2 (ja) | 2−ナフチル−1,3−ジオキサン誘導体 | |
JP2010053117A6 (ja) | ナフタレン誘導体 | |
JPH1017544A (ja) | チオン−0−エステル誘導体、及びその製造方法 | |
JP5741902B2 (ja) | フッ素化されたオキサビシクロノナン構造をもつ化合物及びその液晶組成物 | |
JP2014058490A (ja) | ジフルオロメチレンオキシ基含有液晶化合物の製造方法 | |
JP2003128596A (ja) | フェニルエタン誘導体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120724 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120921 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121101 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121114 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5146719 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |