JP5609011B2 - ナフタレン誘導体 - Google Patents
ナフタレン誘導体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5609011B2 JP5609011B2 JP2009127604A JP2009127604A JP5609011B2 JP 5609011 B2 JP5609011 B2 JP 5609011B2 JP 2009127604 A JP2009127604 A JP 2009127604A JP 2009127604 A JP2009127604 A JP 2009127604A JP 5609011 B2 JP5609011 B2 JP 5609011B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- mol
- alkyl group
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 title claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 92
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 76
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 52
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 27
- -1 hydrogen atom 1-naphthol derivative Chemical class 0.000 claims description 22
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 15
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 12
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MWKJTNBSKNUMFN-UHFFFAOYSA-N trifluoromethyltrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)F MWKJTNBSKNUMFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NHPPIJMARIVBGU-UHFFFAOYSA-N 1-iodonaphthalene Chemical class C1=CC=C2C(I)=CC=CC2=C1 NHPPIJMARIVBGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000005951 trifluoromethanesulfonyloxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 84
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 70
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 51
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 46
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 40
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 24
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 22
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 20
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 17
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 16
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 15
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 15
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 15
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 12
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 12
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 10
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 9
- CREVKNRUAVUGHT-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-8-(trifluoromethyl)naphthalene Chemical compound COC1=CC=CC2=CC=CC(=C12)C(F)(F)F CREVKNRUAVUGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004782 1-naphthols Chemical class 0.000 description 8
- ZMVMIRGSTHRUHP-UHFFFAOYSA-N 7,8-difluoronaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC(F)=C(F)C2=CC(O)=CC=C21 ZMVMIRGSTHRUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 8
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N tripropan-2-yl borate Chemical compound CC(C)OB(OC(C)C)OC(C)C NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MMYUSXKBJJXADQ-UHFFFAOYSA-N 6-butoxy-3,4-difluoro-5-(trifluoromethyl)naphthalen-2-ol Chemical compound C1=C(O)C(F)=C(F)C2=C(C(F)(F)F)C(OCCCC)=CC=C21 MMYUSXKBJJXADQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N N-iodosuccinimide Chemical compound IN1C(=O)CCC1=O LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 6
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 6
- WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N triflic anhydride Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OS(=O)(=O)C(F)(F)F WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DTXMOCYEIGHFTQ-UHFFFAOYSA-N FC=1C(=CC2=CC=C(C(=C2C1F)C(F)(F)F)CCCCC)O Chemical compound FC=1C(=CC2=CC=C(C(=C2C1F)C(F)(F)F)CCCCC)O DTXMOCYEIGHFTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 5
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 5
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 5
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 5
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 5
- KBIVWDIOIUXJEY-QAQDUYKDSA-N C(CCC)OC1=CC=C2C=C(C(=C(C2=C1C(F)(F)F)OCF)F)[C@@H]1CC[C@H](CC1)CCC Chemical compound C(CCC)OC1=CC=C2C=C(C(=C(C2=C1C(F)(F)F)OCF)F)[C@@H]1CC[C@H](CC1)CCC KBIVWDIOIUXJEY-QAQDUYKDSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- XXECWTBMGGXMKP-UHFFFAOYSA-L dichloronickel;2-diphenylphosphanylethyl(diphenyl)phosphane Chemical compound Cl[Ni]Cl.C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 XXECWTBMGGXMKP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- AQBLLJNPHDIAPN-LNTINUHCSA-K iron(3+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Fe+3].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O AQBLLJNPHDIAPN-LNTINUHCSA-K 0.000 description 4
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LGQXXHMEBUOXRP-UHFFFAOYSA-N tributyl borate Chemical compound CCCCOB(OCCCC)OCCCC LGQXXHMEBUOXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N triethyl borate Chemical compound CCOB(OCC)OCC AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N Cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XWWFYNMMZKIQFA-UHFFFAOYSA-N FC=1C(=CC2=CC=C(C(=C2C1F)OC(F)(F)F)CCCCC)O Chemical compound FC=1C(=CC2=CC=C(C(=C2C1F)OC(F)(F)F)CCCCC)O XWWFYNMMZKIQFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 3
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 0 *c(cc(ccc([Re+])c1[*-])c1c1F)c1F Chemical compound *c(cc(ccc([Re+])c1[*-])c1c1F)c1F 0.000 description 2
- DSLKOTQBUFGMQY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trifluoronaphthalene Chemical class C1=CC=C2C(F)=C(F)C(F)=CC2=C1 DSLKOTQBUFGMQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- XHEOXSQMBWJOKP-UHFFFAOYSA-N 1-(trifluoromethyl)-1$l^{3},2-benziodoxol-3-one Chemical group C1=CC=C2I(C(F)(F)F)OC(=O)C2=C1 XHEOXSQMBWJOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTCCNERMXRIPTR-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-naphthaldehyde Chemical class C1=CC=CC2=C(C=O)C(O)=CC=C21 NTCCNERMXRIPTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEBHGVAIWDCJPN-UHFFFAOYSA-N C1=CC(=C(C2=C1C=CC(=C2F)F)C=O)O Chemical compound C1=CC(=C(C2=C1C=CC(=C2F)F)C=O)O DEBHGVAIWDCJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVAWCZSCOOAIRW-UHFFFAOYSA-N C1=CC(F)=C(F)C2=C(I)C(OCCCC)=CC=C21 Chemical compound C1=CC(F)=C(F)C2=C(I)C(OCCCC)=CC=C21 AVAWCZSCOOAIRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPABIOINCOWVGE-UHFFFAOYSA-N CCCCOC1=C(C2=C(C(=C(C=C2C=C1)O)F)F)OC(F)(F)F Chemical compound CCCCOC1=C(C2=C(C(=C(C=C2C=C1)O)F)F)OC(F)(F)F ZPABIOINCOWVGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAMIIXGELNCKLR-UHFFFAOYSA-N CCCCOC1=CC2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F Chemical compound CCCCOC1=CC2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F YAMIIXGELNCKLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 2
- 238000005574 benzylation reaction Methods 0.000 description 2
- KMGBZBJJOKUPIA-UHFFFAOYSA-N butyl iodide Chemical compound CCCCI KMGBZBJJOKUPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- GRGCWBWNLSTIEN-UHFFFAOYSA-N trifluoromethanesulfonyl chloride Chemical compound FC(F)(F)S(Cl)(=O)=O GRGCWBWNLSTIEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBXNCJKFFQIKKY-UHFFFAOYSA-N 1-pentyne Chemical compound CCCC#C IBXNCJKFFQIKKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGAAHAGXOWKGJE-UHFFFAOYSA-N 3,7-dinitro-5-(trifluoromethyl)dibenzothiophen-5-ium Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3[S+](C(F)(F)F)C2=C1 MGAAHAGXOWKGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRWYCCFUQRYPAV-UHFFFAOYSA-N C1=CC(F)=C(F)C2=C(C(F)(F)F)C(OCCCC)=CC=C21 Chemical compound C1=CC(F)=C(F)C2=C(C(F)(F)F)C(OCCCC)=CC=C21 BRWYCCFUQRYPAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDRCICLPLJJUIF-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C(C=C1)COC2=C(C3=C(C=C2)C=CC(=C3F)F)C(F)(F)F Chemical compound C1=CC=C(C=C1)COC2=C(C3=C(C=C2)C=CC(=C3F)F)C(F)(F)F GDRCICLPLJJUIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWAYZKTVRFUCTL-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C(C=C1)COC2=C(C3=C(C=C2)C=CC(=C3F)F)I Chemical compound C1=CC=C(C=C1)COC2=C(C3=C(C=C2)C=CC(=C3F)F)I LWAYZKTVRFUCTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OATMIVVMAXNEDD-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C(C=C1)COC2=CC3=C(C=C2)C=CC(=C3F)F Chemical compound C1=CC=C(C=C1)COC2=CC3=C(C=C2)C=CC(=C3F)F OATMIVVMAXNEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQWNQCQEPLXHMD-UHFFFAOYSA-N CCCCCC1=C(C2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F)C(F)(F)F Chemical compound CCCCCC1=C(C2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F)C(F)(F)F SQWNQCQEPLXHMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCAUPERSXMHJNP-UHFFFAOYSA-N CCCCOC1=C(C2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F)C=O Chemical compound CCCCOC1=C(C2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F)C=O ZCAUPERSXMHJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZTVXGJFPDWNCX-UHFFFAOYSA-N CCCCOC1=C(C2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F)O Chemical compound CCCCOC1=C(C2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F)O QZTVXGJFPDWNCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEXZJYHQKDPMBW-UHFFFAOYSA-N CCCCOC1=C(C2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F)OC(F)(F)F Chemical compound CCCCOC1=C(C2=C(C=C1)C=CC(=C2F)F)OC(F)(F)F IEXZJYHQKDPMBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- LQPMYLQECDJHJT-UHFFFAOYSA-N FC1=CC=C2C=CC(=C(C2=C1F)C(F)(F)F)O Chemical compound FC1=CC=C2C=CC(=C(C2=C1F)C(F)(F)F)O LQPMYLQECDJHJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- FHKPLLOSJHHKNU-INIZCTEOSA-N [(3S)-3-[8-(1-ethyl-5-methylpyrazol-4-yl)-9-methylpurin-6-yl]oxypyrrolidin-1-yl]-(oxan-4-yl)methanone Chemical compound C(C)N1N=CC(=C1C)C=1N(C2=NC=NC(=C2N=1)O[C@@H]1CN(CC1)C(=O)C1CCOCC1)C FHKPLLOSJHHKNU-INIZCTEOSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- QQVDYSUDFZZPSU-UHFFFAOYSA-M chloromethylidene(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)=CCl QQVDYSUDFZZPSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- OPHUWKNKFYBPDR-UHFFFAOYSA-N copper lithium Chemical compound [Li].[Cu] OPHUWKNKFYBPDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HKYGSMOFSFOEIP-UHFFFAOYSA-N dichloro(dichloromethoxy)methane Chemical compound ClC(Cl)OC(Cl)Cl HKYGSMOFSFOEIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRTGGSXWHGKRSB-UHFFFAOYSA-N dichloromethyl methyl ether Chemical compound COC(Cl)Cl GRTGGSXWHGKRSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical group OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本発明は電気光学的液晶表示材料として有用な、1-置換ナフチル基を有する液晶性化合物の製造中間体に関する。
液晶表示素子は、低電圧作動、薄型表示等の優れた特徴から現在広く用いられている。従来の液晶表示素子の表示方式にはTN(ねじれネマチック)、STN(超ねじれネマチック)、またはTNをベースにしたアクティブマトリックス(TFT:薄膜トランジスタ)等があり、これらは誘電率異方性値が正の液晶組成物を利用するものである。しかし、これら表示方式の欠点の一つとして視野角の狭さがあり、近年高まっている液晶パネルの大型化の要求に伴い、その改善が大きな課題となっている。
この解決策として近年、垂直配向方式、IPS(インプレインスイッチング)等の表示方式が新たに実用化されてきた。垂直配向方式は液晶分子の垂直配向を利用して視野角の改善を図った方式であり、誘電率異方性(Δε)が負の液晶組成物が使用される。またIPSは、ガラス基板に対して水平方向の横電界を用いて液晶分子をスイッチングさせることで視野角の改善を図った方法であり、Δεが正または負の液晶組成物が使用される。このように、視野角改善のために有効な表示方式である垂直配向方式およびIPSにはΔεが負である液晶化合物ならびに液晶組成物が必要であり、強く要望されるようになってきた。従来、Δεが負の液晶組成物は、2,3-ジフルオロフェニレン基を有する化合物が主として用いられてきた(特許文献1)。しかしながら、この化合物を用いた液晶組成物はΔεの絶対値が十分に大きくないとの問題を有していた(特許文献2)。
そこで、2,3-ジフルオロフェニレン基を有する化合物より絶対値の大きい負のΔεを有する化合物としてトリフルオロナフタレン誘導体が報告されている(特許文献3)。しかしながら、液晶表示素子においてより消費電力を低減する要求は強く、トリフルオロナフタレン骨格を用いてもなお、Δεの絶対値が十分大きいとは言えない問題を有していた。
一方、ベンゼン環の側方にトリフルオロメチル基を有する化合物は報告されている(特許文献４)。又、ベンゼン環の側方にトリフルオロメチルメトキシ基を有する化合物は報告されている(特許文献５)。更に当該引用文献記載の化合物は、大きな負のΔεを有する液晶組成物の成分として有利に使用できることも報告されている。しかしながら、ベンゼン環の側方にトリフルオロメチル基ないしトリフルオロメトキシ基を有した化合物は、次のようなことから誘電率異方性の絶対値が十分大きくならない問題を有している。すなわち、負のΔεを有する化合物において、Δεの絶対値を大きくするためには、電子吸引性の大きい置換基を側方に置換する必要がある。しかし、1,4-フェニレン基において側方置換位置は2位および3位の2箇所しかなく、Δεの絶対値を増大することには限界がある。また、ビフェニル骨格のように1,4-フェニレン基を連結した構造においては、2つのフェニレン基に置換した電子吸引性基が同じ方向を向く可能性は低くΔεの絶対値は増大しないことが一般的である。
以上のように、Δεが負の化合物において、より大きいΔεの絶対値を有する化合物の開発が望まれている。
本発明が解決しようとする課題は、Δεが負の化合物において、より大きいΔεの絶対値を有する化合物の製造中間体を提供することにある。
本発明は、上記課題を解決するための手段として、一般式(I)
(式中、X1およびX2は、それぞれ独立的に水素原子またはフッ素原子を表し、
X3は、水素原子、水酸基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数2〜12のアルケニルオキシ基を表し、ベンジルオキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数2〜12のアルケニルオキシ基中の1個以上の水素原子は独立的にフッ素原子に置換されていてもよく、またそれぞれの-CH2-基は独立的に-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-または-OCOO-に置換されていてもよく、
X4は、水素原子、水酸基または-B(OR1)2基を表し、-R1基は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、
nは0又は1を表す。)で表されるナフタレン誘導体を提供する。
X3は、水素原子、水酸基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数2〜12のアルケニルオキシ基を表し、ベンジルオキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数2〜12のアルケニルオキシ基中の1個以上の水素原子は独立的にフッ素原子に置換されていてもよく、またそれぞれの-CH2-基は独立的に-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-または-OCOO-に置換されていてもよく、
X4は、水素原子、水酸基または-B(OR1)2基を表し、-R1基は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、
nは0又は1を表す。)で表されるナフタレン誘導体を提供する。
本発明の一般式(I)で表される化合物は、1-(トリフルオロメチル)ナフチル基および1-(トリフルオロメトキシ)ナフチル基を有する液晶性化合物の製造に有用である。また、当該液晶性化合物はΔεが負であって極めて大きい絶対値を有し、更に、熱、光、水等に対し、化学的に安定であり、現在汎用されている液晶化合物あるいは液晶組成物との相溶性に優れているため、低電圧駆動が可能である実用的な液晶組成物の成分として適している。
一般式(I)において、X1およびX2は、それぞれ独立的に水素原子またはフッ素原子を表すが、Δεの絶対値をより大きくするためには、X1およびX2がそれぞれフッ素原子であることが好ましい。
X3は、水素原子、水酸基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数2〜12のアルケニルオキシ基を表し、ベンジルオキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数2〜12のアルケニルオキシ基中の1個以上の水素原子は独立的にフッ素原子に置換されていてもよく、またそれぞれの-CH2-基は独立的に-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-または-OCOO-に置換されていてもよいが、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数2〜8のアルキニル基、炭素数1〜7のアルコキシル基または炭素数2〜7のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数2〜5の直鎖状アルキル基または炭素原子数1〜5の直鎖状アルコキシル基がより好ましい。
X4は、水素原子、水酸基または-B(OR1)2基を表し、-R1基は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表すが、X4は、水素原子または水酸基であることが好ましい。
上述のように一般式(I)の化合物はそのX1、X2、X3およびX4の選択により多種の化合物を包含しうるわけであるが、これらの中では以下の一般式(I-a)〜一般式(I-x)で表される各化合物が好ましい。
(式中、R2は、水素原子または炭素数1〜3の直鎖状アルキル基を表し、R3は、炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表し、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表し、R5は、炭素数1〜4の分岐してもよいアルキル基を表す。)
本発明の(I)の化合物は、例えば、以下のようにして製造することができる。
本発明の(I)の化合物は、例えば、以下のようにして製造することができる。
一般式(IV)
を得る。得られた化合物(V-1)をN-ヨードコハク酸イミド、ヨウ素等によりヨード化して1-ヨードナフタレン誘導体(II-1)
を得る。得られた化合物(II-1)を、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非極性プロトン溶媒中、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のフッ素化物および塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)等の銅塩存在下、トリフルオロメチルトリメチルシランを作用させることにより、一般式(I-b)
で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-b)をパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム等の遷移金属触媒存在下、接触水素還元するなど脱ベンジル化することにより、一般式(I-a)
で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-a)にピリジン、トリエチルアミン等の塩基存在下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、塩化トリフルオロメタンスルホニル等を作用させることにより、一般式(I-c)
で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-c)に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、二塩化(1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)ニッケル(II)、トリス(アセチルアセトナト)鉄(III)等のパラジウム、ニッケルあるいは鉄系遷移金属触媒存在下、1-アルキン(VI)
(式中、R2は水素原子または炭素数1〜3の直鎖状アルキル基を表す。)を作用させることにより、一般式(I-d)
(式中、R2は水素原子または炭素数1〜3の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-d)をパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム等の遷移金属触媒存在下、接触水素還元することにより一般式(I-e)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-e)にn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムヂイソプロピルアミド等のリチオ化剤を作用させた後、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリイソプロピルなどのホウ酸トリアルキルエステルを作用させることにより、一般式(I-g)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表し、R5は、炭素数1〜4の分岐してもよりアルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-g)に塩酸などを作用させて加水分解することにより、一般式(I-i)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-g)に過酸化水素などを作用させて酸化することにより、一般式(I-k)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
あるいは、7,8-ジフルオロ-2-ナフトール(IV)を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなどの塩基存在下、ハロゲン化アルキル、硫酸エステル等を作用させてアルキル化してアルキルエーテル誘導体(V-2)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)を得る。得られた化合物(V-2)をN-ヨードコハク酸イミド、ヨウ素等によりヨード化して1-ヨードナフタレン誘導体(II-2)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)を得る。得られた化合物(II-2)を、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非極性プロトン溶媒中、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のフッ素化物および塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)等の銅塩存在下、トリフルオロメチルトリメチルシランを作用させることにより、一般式(I-f)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)を得ることができる。
得られた化合物(I-f)にn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムヂイソプロピルアミド等のリチオ化剤を作用させた後、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリイソプロピルなどのホウ酸トリアルキルエステルを作用させることにより、一般式(I-h)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表し、R5は、炭素数1〜4の分岐してもよりアルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-h)に塩酸などを作用させて加水分解することにより、一般式(I-j)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-j)に過酸化水素などを作用させて酸化することにより、一般式(I-l)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
あるいは、化合物(I-c)に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、二塩化(1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)ニッケル(II)、トリス(アセチルアセトナト)鉄(III)等のパラジウム、ニッケルあるいは鉄系遷移金属触媒存在下、1-アルキン(VI)を作用させることにより、一般式(VII)
(式中、R2は水素原子または炭素数1〜3の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VII)をパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム等の遷移金属触媒存在下、接触水素還元することにより一般式(V-3)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(V-3)をN-ヨードコハク酸イミド、ヨウ素等によりヨード化して1-ヨードナフタレン誘導体(II-3)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(II-3)を、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非極性プロトン溶媒中、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のフッ素化物および塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)等の銅塩存在下、トリフルオロメチルトリメチルシランを作用させることにより、一般式(I-e)で表される化合物を得ることもできる。
あるいは、化合物(I-c)に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、二塩化(1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)ニッケル(II)、トリス(アセチルアセトナト)鉄(III)等のパラジウム、ニッケルあるいは鉄系遷移金属触媒存在下、有機金属化合物(VIII)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表し、Z2は塩化マグネシウム、塩化亜鉛、リチウム、銅、銅リチウム、トリアルキルケイ素、ホウ酸等の金属あるいは金属塩を表す。)を作用させることにより、一般式(I-e)で表される化合物を得ることもできる。
あるいは、一般式(V-3)で表される化合物に、N-クロロコハク酸イミド、N-ブロモコハク酸イミド、塩化スルフリル、臭素等によりハロゲン化して1-ハロゲノナフタレン誘導体(IX)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表し、Z3は塩素原子または臭素原子を表す。)を得る。得られた化合物(IX)にN,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非極性プロトン溶媒中、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化セシウム等のヨウ化物および塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)等の銅塩を作用させることにより、1-ヨードナフタレン誘導体(II-3)を得ることもできる。
あるいは、7,8-ジフルオロ-2-ナフトール誘導体(IV)に、N,N-ジメチルホルムアミドと塩化ホスホリル等の活性化剤から調製したビルスマイヤー試薬を作用させるか、水酸化ナトリウム存在下、クロロホルムを作用させるか、或いは四塩化チタン等のルイス酸存在下、ジクロロメチルエーテルを作用させることにより、1-ホルミル-2-ナフトール誘導体(X)
を得た後、ハロゲン化ベンジル等によりベンジル化してベンジルエーテル誘導体(XI)
を得る。得られたベンジルエーテル誘導体(XI)をホウ酸等の酸化剤を作用させることにより、1-ナフトール誘導体(III-1)
を得る。得られた1-ナフトール誘導体(III-1)をS-トリフルオロメチル塩などの梅本試薬あるいは高原子ヨウ素化トリフルオロメチル塩などのトニ試薬を作用させることにより、一般式(I-n)
で表される化合物を得ることができる。
梅本試薬としてはトリフルオロメタンスルホン酸=S-(トリフルオロメチル)-3,7-ジニトロジベンゾチオフェニウムが好ましく、トニ試薬としては1-(トリフルオロメチル)-1,2-ベンズヨードキソール-3-(1H)-オンが好ましい。
得られた化合物(I-n)をパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム等の遷移金属触媒存在下、接触水素還元するなど脱ベンジル化することにより、一般式(I-m)
で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-m)にピリジン、トリエチルアミン等の塩基存在下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、塩化トリフルオロメタンスルホニル等を作用させることにより、一般式(I-o)
で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-o)に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、二塩化(1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)ニッケル(II)、トリス(アセチルアセトナト)鉄(III)等のパラジウム、ニッケルあるいは鉄系遷移金属触媒存在下、1-アルキン(VI)を作用させることにより、一般式(I-p)
(式中、R2は水素原子または炭素数1〜3の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-p)をパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム等の遷移金属触媒存在下、接触水素還元することにより一般式(I-q)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-q)にn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムヂイソプロピルアミド等のリチオ化剤を作用させた後、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリイソプロピルなどのホウ酸トリアルキルエステルを作用させることにより、一般式(I-s)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表し、R5は、炭素数1〜4の分岐してもよりアルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-s)に塩酸などを作用させて加水分解することにより、一般式(I-u)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-u)に過酸化水素などを作用させて酸化することにより、一般式(I-w)
(式中、R3は炭素数2〜5の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
あるいは、化合物(I-m)を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなどの塩基存在下、ハロゲン化アルキル、硫酸エステル等を作用させてアルキル化することにより、一般式(I-r)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)を得ることができる。
あるいは、1-ホルミル-2-ナフトール(X)を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなどの塩基存在下、ハロゲン化アルキル、硫酸エステル等を作用させてアルキル化することにより、一般式(XII)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)で表されるエーテル誘導体を得る。得られたベンジルエーテル誘導体(XII)をホウ酸等の酸化剤を作用させることにより、一般式(XIII)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)で表される1-ナフトール誘導体(XIII)を得る。得られた1-ナフトール誘導体(XIII)をS-トリフルオロメチル塩などの梅本試薬あるいは高原子ヨウ素化トリフルオロメチル塩などのトニ試薬を作用させることにより、一般式(I-r)を得ることもできる。
得られた化合物(I-r)にn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムヂイソプロピルアミド等のリチオ化剤を作用させた後、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリイソプロピルなどのホウ酸トリアルキルエステルを作用させることにより、一般式(I-t)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表し、R5は、炭素数1〜4の分岐してもよりアルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-t)に塩酸などを作用させて加水分解することにより、一般式(I-v)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
得られた化合物(I-v)に過酸化水素などを作用させて酸化することにより、一般式(I-x)
(式中、R4は、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物を得ることができる。
以下に本発明の実施例を示し、本発明を更に説明する。しかし、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、相転移温度の測定は温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡および示差走査熱量計(DSC)を併用して行った。また、化合物の構造は核磁気共鳴スペクトル(NMR)、赤外共鳴スペクトル(IR)、質量スペクトル(MS)等により確認した。
（実施例１）6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-1)の製造
（実施例１）6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-1)の製造
（実施例1-1）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロナフタレン
7,8-ジフルオロ-2-ナフトール(150 g、0.832 mol)、ヨードブタン(230 g、1.249 mol)、炭酸カリウム(305 g、2.206 mol)の2-ブタノン(1,000 ml)懸濁液を3時間加熱還流した。不溶物を濾別した後、溶媒を留去し、水、酢酸エチルを加え、有機層を分離した。得られた有機層を10%食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体を得た。減圧蒸留した後、さらに再結晶(ヘキサン)を行い、白色結晶(136 g)を得た。(収率69%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.10 (t, J = 5.6Hz, 3H), 1.50−1.59 (m, 2H), 1.81−1.88 (m, 2H), 4.11 (t, J = 4.8Hz, 2H), 7.11−7.18 (m, 2H), 7.26−7.29 (m, 1H), 7.47−7.50 (m, 1H), 7.70 (dd, J = 6.8, 1.4Hz, 1H)、MS m/z 236 (M+)
（実施例1-2）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-8-ヨードナフタレン
7-ブトキシ-1,2-ジフルオロナフタレン(100 g、0.423 mol)、メタ過ヨウ素酸二水和物(21.0 g、0.092 mol) 、ヨウ素(44.0 g、0.173 mol)の酢酸(200 ml)溶液に、30℃以下に保ちながら15%硫酸水溶液(100 ml)と酢酸(300 ml)の混合溶液を約10分間かけて滴下して加えた。70℃で2時間攪拌した後、室温まで放冷し、水(1,000 ml)、トルエン(800 ml)を加えた。有機層を分離した後、水層からトルエンで2回抽出した。有機層を合わせ、水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、10%炭酸水素ナトリウム水溶液、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物を再結晶(メタノール、エタノール)し、褐色結晶(136 g)を得た。(収率89%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, J = 2.7Hz, 3H), 1.58−1.66 (m, 2H), 1.86−1.93 (m, 2H), 4.17 (t, J = 4.7Hz, 2H), 7.12 (d, J = 6.9Hz, 1H), 7.21−7.26 (m, 1H), 7.51−7.75 (m, 1H), 7.76 (d, J = 6.6Hz, 1H)、MS m/z 362 (M+)
（実施例1-3）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン
7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-8-ヨードナフタレン(65.0 g、0.179 mol)、ヨウ化銅(49.6 g、0.260 mol)、フッ化カリウム(13.6 g、0.234 mol)のN,N-ジメチルホルムアミド(DMF、325 ml)懸濁液に、30℃以下に保ちながらトリフルオロメチルトリメチルシラン(39.0 ml、0.264 mol)を約10分間かけて滴下して加えた。70℃で3.5時間攪拌した後、室温まで放冷し、水(1,000 ml)、酢酸エチル(500 ml)を加えた。不溶物を濾別し、有機層を分離した後、水層から酢酸エチル(250 ｍl)で2回抽出した。有機層を合わせ、5%アンモニア水溶液、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、10%炭酸水素ナトリウム水溶液、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらに再結晶(ヘキサン)を行い、白色結晶(51.3 g)を得た。(収率94%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, J = 5.5Hz, 3H), 1.50−1.59 (m, 2H), 1.81−1.88 (m, 2H), 4.18 (t, J = 4.8Hz, 2H), 7.25−7.31 (m, 2H), 7.53−7.57 (m, 1H), 7.90 (d, J = 6.9Hz, 1H)、MS m/z 304 (M+)
（実施例1-4）6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-1)
ジイソプロピルアミン(24.0 g、0.237 mol)のテトラヒドロフラン(THF、240 ml)溶液に、0℃を保ちながら1.57 Mブチルリチウムヘキサン溶液(141 ml、0.221 mmol)を滴下して加えた。-5〜0℃で30分間攪拌した後、反応液を-60℃まで冷却した。-55℃以下に保ちながら、7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-8-トリフルオロメチルナフタレン(48.0 g、0.158 mol)のTHF溶液(144 ml)を約30分間かけて滴下して加え、-60℃で1時間攪拌した。55℃以下に保ちながらホウ酸トリイソプロピル(42.0 g、0.223mol)を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。10%塩酸を加えた後、室温まで放冷し、酢酸エチル(240 ml)で3回抽出した。有機層を合わせ、10%食塩水で洗浄した。溶媒を留去し、再結晶(ヘキサン)を行い、白色結晶(43.6 g)を得た。
7,8-ジフルオロ-2-ナフトール(150 g、0.832 mol)、ヨードブタン(230 g、1.249 mol)、炭酸カリウム(305 g、2.206 mol)の2-ブタノン(1,000 ml)懸濁液を3時間加熱還流した。不溶物を濾別した後、溶媒を留去し、水、酢酸エチルを加え、有機層を分離した。得られた有機層を10%食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体を得た。減圧蒸留した後、さらに再結晶(ヘキサン)を行い、白色結晶(136 g)を得た。(収率69%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.10 (t, J = 5.6Hz, 3H), 1.50−1.59 (m, 2H), 1.81−1.88 (m, 2H), 4.11 (t, J = 4.8Hz, 2H), 7.11−7.18 (m, 2H), 7.26−7.29 (m, 1H), 7.47−7.50 (m, 1H), 7.70 (dd, J = 6.8, 1.4Hz, 1H)、MS m/z 236 (M+)
（実施例1-2）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-8-ヨードナフタレン
7-ブトキシ-1,2-ジフルオロナフタレン(100 g、0.423 mol)、メタ過ヨウ素酸二水和物(21.0 g、0.092 mol) 、ヨウ素(44.0 g、0.173 mol)の酢酸(200 ml)溶液に、30℃以下に保ちながら15%硫酸水溶液(100 ml)と酢酸(300 ml)の混合溶液を約10分間かけて滴下して加えた。70℃で2時間攪拌した後、室温まで放冷し、水(1,000 ml)、トルエン(800 ml)を加えた。有機層を分離した後、水層からトルエンで2回抽出した。有機層を合わせ、水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、10%炭酸水素ナトリウム水溶液、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物を再結晶(メタノール、エタノール)し、褐色結晶(136 g)を得た。(収率89%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, J = 2.7Hz, 3H), 1.58−1.66 (m, 2H), 1.86−1.93 (m, 2H), 4.17 (t, J = 4.7Hz, 2H), 7.12 (d, J = 6.9Hz, 1H), 7.21−7.26 (m, 1H), 7.51−7.75 (m, 1H), 7.76 (d, J = 6.6Hz, 1H)、MS m/z 362 (M+)
（実施例1-3）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン
7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-8-ヨードナフタレン(65.0 g、0.179 mol)、ヨウ化銅(49.6 g、0.260 mol)、フッ化カリウム(13.6 g、0.234 mol)のN,N-ジメチルホルムアミド(DMF、325 ml)懸濁液に、30℃以下に保ちながらトリフルオロメチルトリメチルシラン(39.0 ml、0.264 mol)を約10分間かけて滴下して加えた。70℃で3.5時間攪拌した後、室温まで放冷し、水(1,000 ml)、酢酸エチル(500 ml)を加えた。不溶物を濾別し、有機層を分離した後、水層から酢酸エチル(250 ｍl)で2回抽出した。有機層を合わせ、5%アンモニア水溶液、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、10%炭酸水素ナトリウム水溶液、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらに再結晶(ヘキサン)を行い、白色結晶(51.3 g)を得た。(収率94%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, J = 5.5Hz, 3H), 1.50−1.59 (m, 2H), 1.81−1.88 (m, 2H), 4.18 (t, J = 4.8Hz, 2H), 7.25−7.31 (m, 2H), 7.53−7.57 (m, 1H), 7.90 (d, J = 6.9Hz, 1H)、MS m/z 304 (M+)
（実施例1-4）6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-1)
ジイソプロピルアミン(24.0 g、0.237 mol)のテトラヒドロフラン(THF、240 ml)溶液に、0℃を保ちながら1.57 Mブチルリチウムヘキサン溶液(141 ml、0.221 mmol)を滴下して加えた。-5〜0℃で30分間攪拌した後、反応液を-60℃まで冷却した。-55℃以下に保ちながら、7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-8-トリフルオロメチルナフタレン(48.0 g、0.158 mol)のTHF溶液(144 ml)を約30分間かけて滴下して加え、-60℃で1時間攪拌した。55℃以下に保ちながらホウ酸トリイソプロピル(42.0 g、0.223mol)を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。10%塩酸を加えた後、室温まで放冷し、酢酸エチル(240 ml)で3回抽出した。有機層を合わせ、10%食塩水で洗浄した。溶媒を留去し、再結晶(ヘキサン)を行い、白色結晶(43.6 g)を得た。
得られた白色結晶(全量)をトルエン(430 ml)、THF(215 ml)に溶かした溶液に、15%過酸化水素水(40 g)を滴下して加えた後、35℃で3.5時間攪拌した。室温まで放冷した後、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層を分離した。得られた有機層を、水、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶(34.9 g)を得た。(収率69%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, J = 6.9Hz, 3H), 1.49−1.61 (m, 2H), 1.80−1.87 (m, 2H), 4.14 (t, J = 4.8Hz, 2H), 6.97 (dd, J = 5.7, 1.5Hz, 1H), 7.23 (d, J = 7.0Hz, 1H), 7.77 (d, J = 7.0Hz, 1H)、MS m/z 320 (M+)
（実施例２）3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-6-ペンチル-2-ナフトール(I-2)の製造
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, J = 6.9Hz, 3H), 1.49−1.61 (m, 2H), 1.80−1.87 (m, 2H), 4.14 (t, J = 4.8Hz, 2H), 6.97 (dd, J = 5.7, 1.5Hz, 1H), 7.23 (d, J = 7.0Hz, 1H), 7.77 (d, J = 7.0Hz, 1H)、MS m/z 320 (M+)
（実施例２）3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-6-ペンチル-2-ナフトール(I-2)の製造
（実施例2-1）7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロナフタレン
7,8-ジフルオロ-2-ナフトール(100 g、0.555 mol)、炭酸カリウム(115 g、0.832mol)のアセトン(300 ml)懸濁液に、塩化ベンジル(77 ml、0.669 mol)を加えた後、2時間加熱還流した。塩化ベンジル(20 ml、0.173 mol)を追加し、さらに3時間加熱還流した。室温まで放冷し、不溶物を濾別した後、水、トルエンを加え、有機層を分離した。得られた有機層を水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物を再結晶(ヘキサン)で精製し、白色結晶(107 g)を得た。(収率71%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.21 (s, 2H), 7.16−7.52 (m, 9H), 7.73 (dd, J = 6.8, 1.1Hz, 1H)
（実施例2-2）7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロ-8-ヨードナフタレン
7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロナフタレン(100 g、0.370 mol)、メタ過ヨウ素酸二水和物(19.0 g、0.083 mol)、ヨウ素(38.5 g、0.151 mol)の酢酸(500 ml)溶液に、30℃以下に保ちながら、15%硫酸水溶液(100 ml)を約10分間かけて滴下して加えた。60℃で3.5時間攪拌した後、室温まで放冷した。水(1,250 ml)を加え、室温で30分攪拌した後、濾別した。得られた結晶を水で洗浄し、減圧下乾燥した。得られた粗生成物を再結晶(アセトン)し、褐色結晶(99.5 g)を得た。母液からさらに再結晶(アセトン、ヘキサン)し、褐色結晶(38.9 g)を得た。(収率94%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.32 (s, 2H), 7.15−7.57 (m, 8H), 7.75 (dd, J = 6.6, 0.9Hz, 1H)
（実施例2-3）7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン
7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロ-8-ヨードナフタレン(125 g、0.315 mol)、ヨウ化銅(84 g、0.441 mol)、フッ化カリウム(26 g、0.448 mol)のDMF懸濁液(1,250 ml)に、30℃以下を保ちながらトリフルオロメチルトリメチルシラン(72.0 g、0.506 mol)を約10分間かけて滴下して加えた。80℃で3時間攪拌した後、室温まで放冷した。水(2,500 ml)、トルエン(1,000 ml)を加え、不溶物を濾別した後、有機層を分離し、水層からトルエンで抽出した。有機層を合わせ、5%アンモニア水溶液、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、白色結晶(108 g)を得た。(収率100%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.31 (s, 2H), 7.27−7.58 (m, 8H), 7.89 (d, J = 6.6Hz, 1H)
（実施例2-4）7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール
7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(99.0 g、0.292 mol)、5%パラジウムカーボン(50%含水品、9.9 g)のTHF(500 ml)溶液を、水素圧(0.5MPa)下、室温で3時間撹拌した。触媒を濾別した後、溶媒を留去し、黄色結晶(73.4 g)を得た。(収率100%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.12 (d, J = 6.9Hz, 1H), 7.28-7.34 (m, 1H), 7.54-7.58 (m, 1H), 7.84 (d, J = 6.9Hz, 1H)、MS m/z 248 (M+)
（実施例2-5）トリフルオロメタンスルホン酸7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-2-ナフチル
7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(70.0 g、0.282 mol)のジクロロメタン(420 ml)溶液に、5℃以下を保ちながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物(52.0 ml、0.306 mol)を約30分間かけて滴下して加えた後、5〜10℃で1時間半攪拌した。水(300 ml)を加えた後、有機層を分離し、水層からジクロロメタン(150 ｍl)で抽出した。有機層を合わせ、5%塩酸で2回、飽和食塩水の順で洗浄した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色結晶を得た。さらに再結晶(ヘキサン、トルエン)を行い、白色結晶(94.7 g)を得た。(収率88%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.45 (d, J = 6.6Hz, 1H), 7.55-7.61 (m, 1H), 7.74-7.78 (m, 1H), 8.11 (d, J = 6.3Hz, 1H)、MS m/z 380 (M+)
（実施例2-6）1,2-ジフルオロ-7-(1-ペンチニル)-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン
トリフルオロメタンスルホン酸7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-2-ナフチル(92 .0 g、0.241 mol)、トリエチルアミン(52.0 g、0.513 mol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(5.5 g、0.005 mol)、ヨウ化銅(1.7 g、0.009 mol)のDMF(325 ml)懸濁液に、100℃以下を保ちながら1-ペンチン(29.0 ml、0.293 mol)を約1時間かけて滴下して加えた。90℃で1時間攪拌した後、水(200 ml)を加え室温まで放冷した。トルエン(200 ml)、濃塩酸(66 ml)を加えた後、不溶物を濾別し、トルエンで2回抽出した。有機層を合わせ、5%アンモニア水溶液、飽和食塩水の順で洗浄した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をヘキサン(1,000 ml)に溶解し、不溶物を濾別した。得られたヘキサン溶液に、70% t-ブチルヒドロペルオキシド(10 ml)を加え、室温下1時間攪拌した。水(100 ml)を加え、不溶物を濾別した後、トルエンで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色液体(15.0 g)を得た。(収率21%)
（実施例2-7）1,2-ジフルオロ-7-ペンチル-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン
1,2-ジフルオロ-7-(1-ペンチニル)-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(15.0 g、0.050 mol)、5%パラジウムカーボン(50%含水品、1.5 g)のエタノール(65 ml)溶液を、水素圧(0.5MPa)下、室温で1時間撹拌した。触媒を濾別し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色液体(14.0 g)を得た。(収率92%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.92 (t, J = 5.2Hz, 3H), 1.37-1.43 (m, 4H), 1.69-1.72 (m, 2H), 2.95-3.00 (m, 2H), 7.31-7.42 (m, 2H), 7.58-7.62 (m, 1H), 7.84 (d, J = 6.3Hz, 1H)、
MS m/z 302 (M+)
（実施例2-8）3,4-ジフルオロ-6-ペンチル-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-2)
ジイソプロピルアミン(7.0 g、0.069 mol)のTHF(70 ml)溶液に、-5℃以下を保ちながら1.65 M ブチルリチウムヘキサン溶液(39.9 ml、0.066 mol)を滴下して加えた後、-5〜0℃で30分間攪拌した。反応液を-60℃まで冷却し、-55℃以下を保ちながら7-ペンチル-1,2-ジフルオロ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(14.0 g、0.046 mol)のTHF(42 ml)溶液を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。-55℃以下を保ちながら、ホウ酸トリイソプロピル(12.3 g、0.065 mol)を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。10%塩酸を加えた後、室温まで放冷し、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、褐色液体(16.0 g)を得た。
7,8-ジフルオロ-2-ナフトール(100 g、0.555 mol)、炭酸カリウム(115 g、0.832mol)のアセトン(300 ml)懸濁液に、塩化ベンジル(77 ml、0.669 mol)を加えた後、2時間加熱還流した。塩化ベンジル(20 ml、0.173 mol)を追加し、さらに3時間加熱還流した。室温まで放冷し、不溶物を濾別した後、水、トルエンを加え、有機層を分離した。得られた有機層を水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物を再結晶(ヘキサン)で精製し、白色結晶(107 g)を得た。(収率71%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.21 (s, 2H), 7.16−7.52 (m, 9H), 7.73 (dd, J = 6.8, 1.1Hz, 1H)
（実施例2-2）7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロ-8-ヨードナフタレン
7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロナフタレン(100 g、0.370 mol)、メタ過ヨウ素酸二水和物(19.0 g、0.083 mol)、ヨウ素(38.5 g、0.151 mol)の酢酸(500 ml)溶液に、30℃以下に保ちながら、15%硫酸水溶液(100 ml)を約10分間かけて滴下して加えた。60℃で3.5時間攪拌した後、室温まで放冷した。水(1,250 ml)を加え、室温で30分攪拌した後、濾別した。得られた結晶を水で洗浄し、減圧下乾燥した。得られた粗生成物を再結晶(アセトン)し、褐色結晶(99.5 g)を得た。母液からさらに再結晶(アセトン、ヘキサン)し、褐色結晶(38.9 g)を得た。(収率94%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.32 (s, 2H), 7.15−7.57 (m, 8H), 7.75 (dd, J = 6.6, 0.9Hz, 1H)
（実施例2-3）7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン
7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロ-8-ヨードナフタレン(125 g、0.315 mol)、ヨウ化銅(84 g、0.441 mol)、フッ化カリウム(26 g、0.448 mol)のDMF懸濁液(1,250 ml)に、30℃以下を保ちながらトリフルオロメチルトリメチルシラン(72.0 g、0.506 mol)を約10分間かけて滴下して加えた。80℃で3時間攪拌した後、室温まで放冷した。水(2,500 ml)、トルエン(1,000 ml)を加え、不溶物を濾別した後、有機層を分離し、水層からトルエンで抽出した。有機層を合わせ、5%アンモニア水溶液、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、白色結晶(108 g)を得た。(収率100%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.31 (s, 2H), 7.27−7.58 (m, 8H), 7.89 (d, J = 6.6Hz, 1H)
（実施例2-4）7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール
7-ベンジルオキシ-1,2-ジフルオロ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(99.0 g、0.292 mol)、5%パラジウムカーボン(50%含水品、9.9 g)のTHF(500 ml)溶液を、水素圧(0.5MPa)下、室温で3時間撹拌した。触媒を濾別した後、溶媒を留去し、黄色結晶(73.4 g)を得た。(収率100%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.12 (d, J = 6.9Hz, 1H), 7.28-7.34 (m, 1H), 7.54-7.58 (m, 1H), 7.84 (d, J = 6.9Hz, 1H)、MS m/z 248 (M+)
（実施例2-5）トリフルオロメタンスルホン酸7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-2-ナフチル
7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(70.0 g、0.282 mol)のジクロロメタン(420 ml)溶液に、5℃以下を保ちながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物(52.0 ml、0.306 mol)を約30分間かけて滴下して加えた後、5〜10℃で1時間半攪拌した。水(300 ml)を加えた後、有機層を分離し、水層からジクロロメタン(150 ｍl)で抽出した。有機層を合わせ、5%塩酸で2回、飽和食塩水の順で洗浄した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色結晶を得た。さらに再結晶(ヘキサン、トルエン)を行い、白色結晶(94.7 g)を得た。(収率88%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.45 (d, J = 6.6Hz, 1H), 7.55-7.61 (m, 1H), 7.74-7.78 (m, 1H), 8.11 (d, J = 6.3Hz, 1H)、MS m/z 380 (M+)
（実施例2-6）1,2-ジフルオロ-7-(1-ペンチニル)-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン
トリフルオロメタンスルホン酸7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-2-ナフチル(92 .0 g、0.241 mol)、トリエチルアミン(52.0 g、0.513 mol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(5.5 g、0.005 mol)、ヨウ化銅(1.7 g、0.009 mol)のDMF(325 ml)懸濁液に、100℃以下を保ちながら1-ペンチン(29.0 ml、0.293 mol)を約1時間かけて滴下して加えた。90℃で1時間攪拌した後、水(200 ml)を加え室温まで放冷した。トルエン(200 ml)、濃塩酸(66 ml)を加えた後、不溶物を濾別し、トルエンで2回抽出した。有機層を合わせ、5%アンモニア水溶液、飽和食塩水の順で洗浄した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をヘキサン(1,000 ml)に溶解し、不溶物を濾別した。得られたヘキサン溶液に、70% t-ブチルヒドロペルオキシド(10 ml)を加え、室温下1時間攪拌した。水(100 ml)を加え、不溶物を濾別した後、トルエンで2回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色液体(15.0 g)を得た。(収率21%)
（実施例2-7）1,2-ジフルオロ-7-ペンチル-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン
1,2-ジフルオロ-7-(1-ペンチニル)-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(15.0 g、0.050 mol)、5%パラジウムカーボン(50%含水品、1.5 g)のエタノール(65 ml)溶液を、水素圧(0.5MPa)下、室温で1時間撹拌した。触媒を濾別し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色液体(14.0 g)を得た。(収率92%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.92 (t, J = 5.2Hz, 3H), 1.37-1.43 (m, 4H), 1.69-1.72 (m, 2H), 2.95-3.00 (m, 2H), 7.31-7.42 (m, 2H), 7.58-7.62 (m, 1H), 7.84 (d, J = 6.3Hz, 1H)、
MS m/z 302 (M+)
（実施例2-8）3,4-ジフルオロ-6-ペンチル-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-2)
ジイソプロピルアミン(7.0 g、0.069 mol)のTHF(70 ml)溶液に、-5℃以下を保ちながら1.65 M ブチルリチウムヘキサン溶液(39.9 ml、0.066 mol)を滴下して加えた後、-5〜0℃で30分間攪拌した。反応液を-60℃まで冷却し、-55℃以下を保ちながら7-ペンチル-1,2-ジフルオロ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(14.0 g、0.046 mol)のTHF(42 ml)溶液を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。-55℃以下を保ちながら、ホウ酸トリイソプロピル(12.3 g、0.065 mol)を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。10%塩酸を加えた後、室温まで放冷し、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、褐色液体(16.0 g)を得た。
得られた褐色液体(全量)のトルエン(80 ml)、THF(80 ml)混合溶液に、15%過酸化水素水(17.0 g)を滴下して加えた後、35℃で4時間攪拌した。室温まで放冷し、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層を分離した。得られた有機層を、水、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶を得た。さらに再結晶(ヘキサン)を行い、白色結晶(11.1 g)を得た。(収率75%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.92 (t, J = 5.4Hz, 3H), 1.33-1.44 (m, 4H), 1.66-1.71 (m, 2H), 2.90-2.96 (m, 2H), 5.75 (brs, 1H), 7.17 (dd, J = 6.0, 1.5Hz, 1H), 7.27 (d, J = 5.7Hz, 1H), 8.11 (d, J = 6.3Hz, 1H)、MS m/z 318 (M+)
（実施例３）3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメトキシ)-6-ペンチル-2-ナフトール(I-3)の製造
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.92 (t, J = 5.4Hz, 3H), 1.33-1.44 (m, 4H), 1.66-1.71 (m, 2H), 2.90-2.96 (m, 2H), 5.75 (brs, 1H), 7.17 (dd, J = 6.0, 1.5Hz, 1H), 7.27 (d, J = 5.7Hz, 1H), 8.11 (d, J = 6.3Hz, 1H)、MS m/z 318 (M+)
（実施例３）3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメトキシ)-6-ペンチル-2-ナフトール(I-3)の製造
（実施例3-1）7,8-ジフルオロ-1-ホルミル-2-ナフトール
7,8-ジフルオロ-2-ナフトール(50.0 g、0.277 mol)のジクロロメタン(250 ml)溶液を5~10℃に冷却しながら激しく攪拌している中に、ジクロロメチルメチルエーテル(71 ml、0.800 mol)を加えた後、さらに内温を5~10℃に保ちながら、続けて塩化チタン(IV)(117 ml、1.066 mol)のジクロロメタン(200 ml)溶液を1.0時間かけて滴下して加えた後、内温を5~10℃に保ちながら1時間攪拌した。反応液を氷水に滴下して加えて反応を停止させた後、室温で0.5時間攪拌した。有機層を分離し、水層からジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせた後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩を濾別後、溶媒を留去し、褐色の固体を得た。得られた固体を再結晶(ジクロロメタン、メタノール)することにより、赤桃色の粉末(40.9 g)を得た。(収率71%)
（実施例3-2）2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-ナフタルデヒド
7,8-ジフルオロ-1-ホルミル-2-ナフトール(40.9 g、0.196 mol)と無水炭酸カリウム(54.5 g、0.394 mol)をN,N-ジメチルホルムアミド(DMF、400 ml)懸濁液を室温で0.5時間激しく攪拌した。1-ヨードブタン(43.3 g、0.235 mol)を加えた後、6時間加熱還流し、室温まで放冷した。反応液を水に加えて反応を停止させた後、析出した固体をトルエンに溶解させた。有機層を分離し、水層をトルエンで抽出した。有機層を合わせた後、飽和食塩水で洗條し、そのままカラム(シリカゲル)を通過させ、さらにトルエンを用いてカラムを洗滌した。有機層を合わせた後、溶媒を留去することにより、褐色の液体を得た。得られた液体を減圧蒸留し、淡黄色の液体を得た。さらに得られた液体を再結晶(アセトン、メタノール)することにより、薄赤色の固体(45.2 g)を得た。(収率87%)
（実施例3-3）2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-ナフトール
ホウ酸(58.7 g、0.949 mol)のテトラヒドロフラン(600 ml)懸濁液を室温で激しく攪拌している中に、30%過酸化水素水(65.0 g、0.541 mol)を滴下して加えた後、室温で0.5時間激しく攪拌した。2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-ナフタルデヒド(45.2 g、0.171 mol)のテトラヒドロフラン(90 ml)溶液を加えた後、室温で24時間激しく攪拌した。反応液を濾過してホウ酸を濾別した後、少量のテトラヒドロフランでホウ酸を洗滌し、有機層を合わせた後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩を濾別後、溶媒を留去し、褐色の固体を得た。得られた固体をカラム(シリカゲル、トルエン)により精製することにより、薄黄色の固体(29.3 g)を得た。(収率68%)
（実施例3-4）2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメトキシ)ナフタレン
2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-ナフトール(26.2 g、0.104 mol)、フッ化カリウム(12.8 g、0.220 mol)、ヨウ化銅(I)(46.4 g、0.244 mol)の無水N,N-ジメチルホルムアミド(440 ml)懸濁液を激しく攪拌している中に、1-(トリフルオロメチル)-1,2-ベンズヨードキソール-3-(1H)-オン(131.4 g、0.416 mol)を加えた。90℃で24時間加熱攪拌した後、反応液を放冷し、水に空けて反応を終了させた。セライトを用いて銅塩を濾別した後、塩を酢酸エチルで洗滌し、濾液を合わせ、有機層を分離し、水層から酢酸エチルで抽出した。有機層を集めた後、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた橙色の固体をカラム(シリカゲル／ヘキサン、酢酸エチル)を用いて精製し、再結晶(アセトン、メタノール)することにより、薄黄色の固体(18.2 g)を得た。(収率55%)
（実施例3-5）6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメトキシ)-2-ナフトール(I-3)
ジイソプロピルアミン(8.7 g、0.085 mol)のTHF(90 ml)溶液に、-5℃以下を保ちながら1.60 M ブチルリチウムヘキサン溶液(50 ml、0.080 mol)を滴下して加えた後、-5〜0℃で30分間攪拌した。反応液を-60℃まで冷却し、-55℃以下を保ちながら2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメトキシ)ナフタレン(14.0 g、0.057 mol)のTHF(70 ml)溶液を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。-55℃以下を保ちながら、ホウ酸トリイソプロピル(17.0 g、0.090 mol)を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。10%塩酸を加えた後、室温まで放冷し、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、褐色液体(20.5 g)を得た。
7,8-ジフルオロ-2-ナフトール(50.0 g、0.277 mol)のジクロロメタン(250 ml)溶液を5~10℃に冷却しながら激しく攪拌している中に、ジクロロメチルメチルエーテル(71 ml、0.800 mol)を加えた後、さらに内温を5~10℃に保ちながら、続けて塩化チタン(IV)(117 ml、1.066 mol)のジクロロメタン(200 ml)溶液を1.0時間かけて滴下して加えた後、内温を5~10℃に保ちながら1時間攪拌した。反応液を氷水に滴下して加えて反応を停止させた後、室温で0.5時間攪拌した。有機層を分離し、水層からジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせた後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩を濾別後、溶媒を留去し、褐色の固体を得た。得られた固体を再結晶(ジクロロメタン、メタノール)することにより、赤桃色の粉末(40.9 g)を得た。(収率71%)
（実施例3-2）2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-ナフタルデヒド
7,8-ジフルオロ-1-ホルミル-2-ナフトール(40.9 g、0.196 mol)と無水炭酸カリウム(54.5 g、0.394 mol)をN,N-ジメチルホルムアミド(DMF、400 ml)懸濁液を室温で0.5時間激しく攪拌した。1-ヨードブタン(43.3 g、0.235 mol)を加えた後、6時間加熱還流し、室温まで放冷した。反応液を水に加えて反応を停止させた後、析出した固体をトルエンに溶解させた。有機層を分離し、水層をトルエンで抽出した。有機層を合わせた後、飽和食塩水で洗條し、そのままカラム(シリカゲル)を通過させ、さらにトルエンを用いてカラムを洗滌した。有機層を合わせた後、溶媒を留去することにより、褐色の液体を得た。得られた液体を減圧蒸留し、淡黄色の液体を得た。さらに得られた液体を再結晶(アセトン、メタノール)することにより、薄赤色の固体(45.2 g)を得た。(収率87%)
（実施例3-3）2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-ナフトール
ホウ酸(58.7 g、0.949 mol)のテトラヒドロフラン(600 ml)懸濁液を室温で激しく攪拌している中に、30%過酸化水素水(65.0 g、0.541 mol)を滴下して加えた後、室温で0.5時間激しく攪拌した。2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-ナフタルデヒド(45.2 g、0.171 mol)のテトラヒドロフラン(90 ml)溶液を加えた後、室温で24時間激しく攪拌した。反応液を濾過してホウ酸を濾別した後、少量のテトラヒドロフランでホウ酸を洗滌し、有機層を合わせた後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩を濾別後、溶媒を留去し、褐色の固体を得た。得られた固体をカラム(シリカゲル、トルエン)により精製することにより、薄黄色の固体(29.3 g)を得た。(収率68%)
（実施例3-4）2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメトキシ)ナフタレン
2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-ナフトール(26.2 g、0.104 mol)、フッ化カリウム(12.8 g、0.220 mol)、ヨウ化銅(I)(46.4 g、0.244 mol)の無水N,N-ジメチルホルムアミド(440 ml)懸濁液を激しく攪拌している中に、1-(トリフルオロメチル)-1,2-ベンズヨードキソール-3-(1H)-オン(131.4 g、0.416 mol)を加えた。90℃で24時間加熱攪拌した後、反応液を放冷し、水に空けて反応を終了させた。セライトを用いて銅塩を濾別した後、塩を酢酸エチルで洗滌し、濾液を合わせ、有機層を分離し、水層から酢酸エチルで抽出した。有機層を集めた後、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた橙色の固体をカラム(シリカゲル／ヘキサン、酢酸エチル)を用いて精製し、再結晶(アセトン、メタノール)することにより、薄黄色の固体(18.2 g)を得た。(収率55%)
（実施例3-5）6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメトキシ)-2-ナフトール(I-3)
ジイソプロピルアミン(8.7 g、0.085 mol)のTHF(90 ml)溶液に、-5℃以下を保ちながら1.60 M ブチルリチウムヘキサン溶液(50 ml、0.080 mol)を滴下して加えた後、-5〜0℃で30分間攪拌した。反応液を-60℃まで冷却し、-55℃以下を保ちながら2-ブトキシ-7,8-ジフルオロ-1-(トリフルオロメトキシ)ナフタレン(14.0 g、0.057 mol)のTHF(70 ml)溶液を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。-55℃以下を保ちながら、ホウ酸トリイソプロピル(17.0 g、0.090 mol)を約30分間かけて滴下して加えた後、-60℃で1時間攪拌した。10%塩酸を加えた後、室温まで放冷し、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、褐色液体(20.5 g)を得た。
得られた褐色液体(全量)のトルエン(100 ml)、THF(100 ml)混合溶液に、15%過酸化水素水(22.0 g)を滴下して加えた後、35℃で4時間攪拌した。室温まで放冷し、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層を分離した。得られた有機層を、水、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶を得た。さらに再結晶(ヘキサン)を行い、白色結晶(13.6 g)を得た。(収率71%)
（応用例１）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-3-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)メトキシ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(J-1)の製造
（応用例１）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-3-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)メトキシ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(J-1)の製造
実施例１で得られた、6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-1、30.0 g、0.094 mol)のDMF(300 ml)溶液に、15℃以下を保ちながら炭酸カリウム(16.2 g、0.117 mol)を加えた後、15℃以下を保ちながら30分攪拌した。トランス-1-ブロモメチル-4-プロピルシクロヘキシン(25.0 g、0.114 mol)を滴下して加え、反応液を85℃で8時間攪拌した。室温まで放冷し、水(600 ml)、トルエン(450 ml)を加え、有機層を分離した。トルエン(300 ml)で抽出した後、有機層を合わせ、水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶を得た。さらに再結晶(アセトン、ヘキサン、トルエン)を行い、白色結晶(35.1 g)を得た。(収率82%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87−1.96 (m, 24H), 3.91 (d, J = 4.8Hz, 2H), 4.13 (t, J = 4.9Hz, 2H), 6.97 (d, J = 4.2Hz, 1H), 7.22-7.26 (m, 1H), 7.77 (d, J = 7.2Hz, 1H)、MS m/z 458 (M+)、相転移温度(℃) Cry 96 (SmB 70) Iso
（応用例２）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-3-(トランス,トランス-4'-プロピルビシクロヘキシル-4-イル)メトキシ-8-トリフルオロメチルナフタレン(J-2)の製造
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87−1.96 (m, 24H), 3.91 (d, J = 4.8Hz, 2H), 4.13 (t, J = 4.9Hz, 2H), 6.97 (d, J = 4.2Hz, 1H), 7.22-7.26 (m, 1H), 7.77 (d, J = 7.2Hz, 1H)、MS m/z 458 (M+)、相転移温度(℃) Cry 96 (SmB 70) Iso
（応用例２）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-3-(トランス,トランス-4'-プロピルビシクロヘキシル-4-イル)メトキシ-8-トリフルオロメチルナフタレン(J-2)の製造
実施例１で得られた、6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-1、33.0 g、0.103 mol)のDMF(500 ml)溶液に、15℃以下を保ちながら炭酸カリウム(22.0 g、0.159 mol)を加えた後、15℃以下を保ちながら30分攪拌した。この溶液にメタンスルホン酸(トランス,トランス-4'-プロピルビシクロヘキシル-4-イル)メチル(31.2 g、0.099 mol)を加え、反応液を85℃で9時間攪拌した。室温まで放冷し、水(1,500 ml)、トルエン(750 ml)を加え、有機層を分離した。トルエン(500 ml)で抽出した後、有機層を合わせ、水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶を得た。さらに再結晶(ヘキサン、トルエン)を行い、白色結晶(42.6 g)を得た。(収率77%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.83-1.86 (m, 34H), 3.90 (d, J = 5.1Hz, 2H), 4.13 (t, J = 4.8Hz, 2H), 6.96 (dd, J = 5.7, 1.5Hz, 1H), 7.22-7.24 (m, 1H), 7.77 (d, J = 6.6Hz, 1H)、MS m/z 540 (M+)、相転移温度(℃) Cry 117 SmA 137 N 202 Iso
（応用例３）1,2-ジフルオロ-7-ペンチル-3-(トランス,トランス-4'-プロピルビシクロヘキシル-4-イル)メトキシ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(J-3)の製造
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.83-1.86 (m, 34H), 3.90 (d, J = 5.1Hz, 2H), 4.13 (t, J = 4.8Hz, 2H), 6.96 (dd, J = 5.7, 1.5Hz, 1H), 7.22-7.24 (m, 1H), 7.77 (d, J = 6.6Hz, 1H)、MS m/z 540 (M+)、相転移温度(℃) Cry 117 SmA 137 N 202 Iso
（応用例３）1,2-ジフルオロ-7-ペンチル-3-(トランス,トランス-4'-プロピルビシクロヘキシル-4-イル)メトキシ-8-(トリフルオロメチル)ナフタレン(J-3)の製造
実施例２で得られた6-ペンチル-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-2-ナフトール(I-2、10.5 g、0.033 mol)のDMF(105 ml)溶液に、15℃以下を保ちながら炭酸カリウム(6.8 g、0.049 mol)を加えた後、15℃以下を保ちながら30分攪拌した。この溶液にメタンスルホン酸(トランス,トランス-4'-プロピルビシクロヘキシル-4-イル)メチル(10.0 g、0.032 mol)を加え、反応液を85℃で6時間攪拌した。室温まで放冷し、水(360 ml)、トルエン(180 ml)を加え、有機層を分離した。トルエン(200 ｍl)で抽出した後、有機層を合わせ、水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶を得た。さらに再結晶(ヘキサン、トルエン)を行い、白色結晶(12.4 g)を得た。(収率73%)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.84-1.97 (m, 36H), 2.90-2.95 (m, 2H), 3.92 (d, J = 4.8Hz, 2H), 6.99 (dd, J = 6.0, 1.2Hz, 1H), 7.26-7.28 (m, 1H), 7.71 (d, J = 6.6Hz, 1H)、MS m/z 538 (M+)、相転移温度(℃) Cry 124 N 166 Iso
（応用例４）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-3-[2-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)メトキシ]-8-(トリフルオロメトキシ)ナフタレン(J-4)の製造
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.84-1.97 (m, 36H), 2.90-2.95 (m, 2H), 3.92 (d, J = 4.8Hz, 2H), 6.99 (dd, J = 6.0, 1.2Hz, 1H), 7.26-7.28 (m, 1H), 7.71 (d, J = 6.6Hz, 1H)、MS m/z 538 (M+)、相転移温度(℃) Cry 124 N 166 Iso
（応用例４）7-ブトキシ-1,2-ジフルオロ-3-[2-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)メトキシ]-8-(トリフルオロメトキシ)ナフタレン(J-4)の製造
実施例３で得られた、6-ブトキシ-3,4-ジフルオロ-5-(トリフルオロメトキシ)-2-ナフトール(I-3、13.6 g、0.040 mol)のDMF(140 ml)溶液に、15℃以下を保ちながら炭酸カリウム(6.7 g、0.050 mol)を加えた後、15℃以下を保ちながら30分攪拌した。トランス-1-ブロモメチル-4-プロピルシクロヘキシン(10.6 g、0.049 mol)を滴下して加え、反応液を85℃で8時間攪拌した。室温まで放冷し、水(300 ml)、トルエン(300 ml)を加え、有機層を分離した。トルエン(300 ml)で抽出した後、有機層を合わせ、水、10%食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶を得た。さらに再結晶(アセトン、ヘキサン、トルエン)を行い、白色結晶(12.5 g)を得た。(収率66%)
1H-NMR (400MHz, CDCl3) δ(ppm) 0.87 (t, 3H), 0.96 (t, 3H), 0.82-1.88 (m, 18H), 3.96 (t, 2H), 4.10 (t, 2H), 6.60-7.22 (m, 3H)
MS m/z 474(M+)
相転移温度(℃) Cr 90 I
(応用例５) 液晶組成物の調製(1)
以下の組成からなるホスト液晶組成物(H)
1H-NMR (400MHz, CDCl3) δ(ppm) 0.87 (t, 3H), 0.96 (t, 3H), 0.82-1.88 (m, 18H), 3.96 (t, 2H), 4.10 (t, 2H), 6.60-7.22 (m, 3H)
MS m/z 474(M+)
相転移温度(℃) Cr 90 I
(応用例５) 液晶組成物の調製(1)
以下の組成からなるホスト液晶組成物(H)
を調製した。ここで(H)の物性値は以下の通りである。
ネマチック相上限温度(TN-I)： 103.2℃
誘電率異方性(Δε)： 0.03
屈折率異方性(Δn)： 0.099
この母体液晶(H)90％と応用例１で得られた(J-1)10％からなる液晶組成物(M-1)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
誘電率異方性(Δε)： 0.03
屈折率異方性(Δn)： 0.099
この母体液晶(H)90％と応用例１で得られた(J-1)10％からなる液晶組成物(M-1)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
ネマチック相上限温度(TN-I)： 99.3℃
誘電率異方性(Δε)： −1.36
屈折率異方性(Δn)： 0.101
化合物(J-1)を含有する液晶組成物(M-1)は、母体液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は大きく減少して負の値となった。このことから、化合物(J-1)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きいことがわかる。
誘電率異方性(Δε)： −1.36
屈折率異方性(Δn)： 0.101
化合物(J-1)を含有する液晶組成物(M-1)は、母体液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は大きく減少して負の値となった。このことから、化合物(J-1)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きいことがわかる。
また、(M-1)の電圧保持率を80℃で測定したところ、ホスト液晶組成物(H)の電圧保持率に対して98%以上と高い値を示した。このことから化合物(J-1)は安定性の面からも液晶表示材料として十分使用可能であることがわかる。
(応用例６) 液晶組成物の調製(2)
応用例５で得られた母体液晶(H)90％と応用例２で得られた(J-2)10％からなる液晶組成物(M-2)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
応用例５で得られた母体液晶(H)90％と応用例２で得られた(J-2)10％からなる液晶組成物(M-2)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
ネマチック相上限温度(TN-I)： 111.0℃
誘電率異方性(Δε)： −1.23
屈折率異方性(Δn)： 0.102
化合物(J-2)を含有する液晶組成物(M-2)は、母体液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は大きく減少して負の値となった。このことから、化合物(J-2)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きいことがわかる。
誘電率異方性(Δε)： −1.23
屈折率異方性(Δn)： 0.102
化合物(J-2)を含有する液晶組成物(M-2)は、母体液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は大きく減少して負の値となった。このことから、化合物(J-2)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きいことがわかる。
また、(M-2)の電圧保持率を80℃で測定したところ、ホスト液晶組成物(H)の電圧保持率に対して98%以上と高い値を示した。このことから化合物(J-2)は安定性の面からも液晶表示材料として十分使用可能であることがわかる。
(応用例７) 液晶組成物の調製(3)
応用例５で得られた母体液晶(H)90％と応用例３で得られた(J-3)10％からなる液晶組成物(M-3)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
応用例５で得られた母体液晶(H)90％と応用例３で得られた(J-3)10％からなる液晶組成物(M-3)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
ネマチック相上限温度(TN-I)： 107.8℃
誘電率異方性(Δε)： −0.81
屈折率異方性(Δn)： 0.102
化合物(J-3)を含有する液晶組成物(M-3)は、母体液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は大きく減少して負の値となった。このことから、化合物(J-3)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きいことがわかる。
誘電率異方性(Δε)： −0.81
屈折率異方性(Δn)： 0.102
化合物(J-3)を含有する液晶組成物(M-3)は、母体液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は大きく減少して負の値となった。このことから、化合物(J-3)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きいことがわかる。
また、(M-3)の電圧保持率を80℃で測定したところ、ホスト液晶組成物(H)の電圧保持率に対して98%以上と高い値を示した。このことから化合物(J-2)は安定性の面からも液晶表示材料として十分使用可能であることがわかる。
(応用例８) 液晶組成物の調製(4)
応用例５で得られた母体液晶(H)90％と応用例４で得られた(J-4)10％からなる液晶組成物(M-4)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
応用例５で得られた母体液晶(H)90％と応用例４で得られた(J-4)10％からなる液晶組成物(M-4)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
ネマチック相上限温度(TN-I)： 98.9℃
誘電率異方性(Δε)： −1.08
屈折率異方性(Δn)： 0.102
化合物(J-4)を含有する液晶組成物(M-4)は、母体液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は大きく減少して負の値となった。このことから、化合物(J-4)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きいことがわかる。
誘電率異方性(Δε)： −1.08
屈折率異方性(Δn)： 0.102
化合物(J-4)を含有する液晶組成物(M-4)は、母体液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は大きく減少して負の値となった。このことから、化合物(J-4)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きいことがわかる。
また、(M-4)の電圧保持率を80℃で測定したところ、ホスト液晶組成物(H)の電圧保持率に対して98%以上と高い値を示した。このことから化合物(J-4)は安定性の面からも液晶表示材料として十分使用可能であることがわかる。
(応用例９) 液晶組成物の調製(5)
以下の組成からなる液晶組成物(M-5)を調製した。
以下の組成からなる液晶組成物(M-5)を調製した。
この(M-3)の物性値は以下の通りであった。
ネマチック相上限温度(TN-I)： 89.7℃
誘電率異方性(Δε)： −3.59
屈折率異方性(Δn)： 0.088
ここで作製した組成物を用いて、電圧保持率を測定したところ80℃で98%と高い値を示し、優れた表示特性を示す液晶表示装置を作成することができた。
誘電率異方性(Δε)： −3.59
屈折率異方性(Δn)： 0.088
ここで作製した組成物を用いて、電圧保持率を測定したところ80℃で98%と高い値を示し、優れた表示特性を示す液晶表示装置を作成することができた。
(応用例１０) 液晶組成物の調製(6)
以下の組成からなる液晶組成物(M-6)を調製した。
以下の組成からなる液晶組成物(M-6)を調製した。
この(M-4)の物性値は以下の通りであった。
ネマチック相上限温度(TN-I)： 101.5℃
誘電率異方性(Δε)： −3.59
屈折率異方性(Δn)： 0.082
ここで作製した組成物を用いて、電圧保持率を測定したところ80℃で98%と高い値を示し、優れた表示特性を示す液晶表示装置を作成することができた。
誘電率異方性(Δε)： −3.59
屈折率異方性(Δn)： 0.082
ここで作製した組成物を用いて、電圧保持率を測定したところ80℃で98%と高い値を示し、優れた表示特性を示す液晶表示装置を作成することができた。
Claims (4)
- 一般式(I)
- 一般式(I)において、X1およびX2がフッ素原子を表す請求項1記載の化合物。
- 一般式(II)
- 一般式(III)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008135294 | 2008-08-29 | ||
| RU2008135294/04A RU2008135294A (ru) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | Нафталиновые производные |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010053117A JP2010053117A (ja) | 2010-03-11 |
| JP2010053117A6 JP2010053117A6 (ja) | 2010-06-03 |
| JP5609011B2 true JP5609011B2 (ja) | 2014-10-22 |
Family
ID=42069399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009127604A Active JP5609011B2 (ja) | 2008-08-29 | 2009-05-27 | ナフタレン誘導体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5609011B2 (ja) |
| RU (1) | RU2008135294A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9513141B2 (en) | 2009-12-02 | 2016-12-06 | Nec Corporation | Electric power measurement system, electric power measurement method, and information processing device |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03218325A (ja) * | 1989-11-02 | 1991-09-25 | Sagami Chem Res Center | ペルフルオロアルキル基を有する化合物の製造方法 |
| JPH04283524A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-08 | Sagami Chem Res Center | トリフルオロメチル置換芳香族化合物の製造法 |
| US6215021B1 (en) * | 1998-06-17 | 2001-04-10 | Idaho Research Foundation, Inc. | Trifluoromethylating reagents and synthesizing processes |
| DE602005006806D1 (de) * | 2004-06-04 | 2008-06-26 | Merck & Co Inc | Pyrazolderivate, zusammensetzungen, die solche verbindungen enthalten, und anwendungsverfahren |
| JP5062472B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-10-31 | Ｄｉｃ株式会社 | １−（トリフルオロメチル）ナフタレン誘導体 |
-
2008
- 2008-08-29 RU RU2008135294/04A patent/RU2008135294A/ru not_active Application Discontinuation
-
2009
- 2009-05-27 JP JP2009127604A patent/JP5609011B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010053117A (ja) | 2010-03-11 |
| RU2008135294A (ru) | 2010-03-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5263461B2 (ja) | ２−フルオロフェニルオキシメタン構造を持つ化合物 | |
| TWI670264B (zh) | ４，６－二氟二苯并噻吩衍生物 | |
| JP4288729B2 (ja) | ベンゼン誘導体およびその製造方法 | |
| JP5382268B1 (ja) | ２−フルオロフェニルオキシメタン構造を持つ化合物 | |
| JP4044617B2 (ja) | 負の誘電率異方性値を有する液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP5604809B2 (ja) | フルオロベンゼン誘導体及びこの化合物を含有する液晶組成物 | |
| JP4228323B2 (ja) | １−（トリフルオロメチル）ナフタレン誘導体 | |
| JP5622066B2 (ja) | フッ素化ナフタレン構造を持つ化合物及びその液晶組成物 | |
| JP4691893B2 (ja) | トリフルオロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物と表示素子及び化合物。 | |
| JP5614003B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体、当該化合物を含有する液晶組成物及び液晶表示素子 | |
| JP5152947B2 (ja) | ２−フルオロナフタレン誘導体である新規液晶性化合物とそれを含有する液晶組成物 | |
| JP2013095685A (ja) | アゾベンゼン誘導体及びこれを含有する液晶組成物 | |
| JP5609011B2 (ja) | ナフタレン誘導体 | |
| JP2013001683A (ja) | ２，６，７−トリオキサ−ビシクロ［２．２．２］オクタン骨格を持つ液晶化合物及び液晶組成物 | |
| JP2010053117A6 (ja) | ナフタレン誘導体 | |
| JP4835032B2 (ja) | トリフルオロナフタレン誘導体 | |
| JP2011241153A (ja) | フルオロベンゼン誘導体及びこの化合物を含有する液晶組成物 | |
| JP5146719B2 (ja) | シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体 | |
| JP4983009B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
| JP5382406B2 (ja) | １−（トリフルオロメトキシ）ナフタレン誘導体 | |
| JP4759949B2 (ja) | ２−ナフチル−１，３−ジオキサン誘導体 | |
| JP5708994B2 (ja) | フッ素化されたオキサビシクロノナン構造をもつ化合物及びその液晶組成物 | |
| JP3598469B2 (ja) | トリフルオロメチルベンゼン誘導体並びにそれらを含む液晶組成物 | |
| JP4779493B2 (ja) | ２−ナフチル−１，３−ジオキサン誘導体 | |
| JP6489369B2 (ja) | ジフルオロメチルエーテル骨格を有する化合物の製造方法及びその製造中間体化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120410 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131024 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131219 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140313 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140422 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140805 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140818 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5609011 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |