JP5130615B2 - ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 - Google Patents
ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5130615B2 JP5130615B2 JP2005283729A JP2005283729A JP5130615B2 JP 5130615 B2 JP5130615 B2 JP 5130615B2 JP 2005283729 A JP2005283729 A JP 2005283729A JP 2005283729 A JP2005283729 A JP 2005283729A JP 5130615 B2 JP5130615 B2 JP 5130615B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- inorganic compound
- gas barrier
- atom concentration
- inorganic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Journal of Polymer Science Vol.26 559−572(1988)および日本接着学会誌 Vol.27No.4(1991)記載の方法にしたがって測定した。すなわち、超高真空中においた試料表面に軟X線を照射し、表面から放出される光電子をワイドスキャン、ナロースキャンを行い、ナロースキャンの化学シフトから元素の化学状態を判断する。次いで、ナロースキャンスペクトルをピーク分割することにより求めることができる。
・装置:ESCALAB220iXL
・励起X線:monochromatic AlKα1,2線(1486.6eV)
・X線径:1mm
・光電子脱出角度:90°(試料表面に対する検収機の傾き)
・データ処理 スムージング
・横軸補正:C1Sメインピークを284.6eVにした。
「表面分析:SIMS−二次イオン質量分析法の基礎と応用−(アグネ承風社)p.181〜200」記載の方法にしたがって測定した。
・測定装置:ULVAC PHI社製 ADEPT1010
・測定条件:
・一次イオン:Cs+イオン
・一次イオン加速エネルギー:1KV
・二次イオン極性:Negative(負イオン検出)
・ラスター領域:400μm×800μm
・分析領域(面積比):9%
・帯電補償:E−gun(電子銃)
C)酸素透過率の測定方法
温度23℃、湿度0%RH、測定面積50cm2の条件で、米国、モコン(MOCON)社製の酸素透過率測定装置(機種名:OXTRAN(登録商標) 2/20)を使用して測定した。
温度40℃、湿度90%RH、測定面積50cm2の条件で、米国、モコン(MOCON)社製の水蒸気透過率透過率測定装置(機種名:PERMATRAN(登録商標) W3/31)を使用して測定した。
図1に示す装置構造の巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製ルミラー(登録商標) 12T705)を基材とし、その片面に、アルミニウムを蒸着源に用いて抵抗加熱方式によりアルミニウムを蒸気化し、炭素元素含有ガスプラズマを導入して無機化合物を設けたフィルムを製造した。
得られたフィルムの無機化合物のAl原子濃度に対するO原子濃度の比率、C原子濃度、23℃、0%RHでの酸素透過率および水蒸気透過率を測定した。結果を表1に示す。
炭素元素含有化合物にエタノールを用い、導入酸素原子数に対して炭素原子数が7.7%になるように導入し、プラズマ投入電力を400Wにした以外は、実施例1と同様にして無機化合物フィルムを作製した。
炭素元素含有化合物にアセチレンを用い、導入酸素原子数に対して炭素原子数が5.1%になるように導入し、プラズマ投入電力を1200Wにした以外は、実施例1と同様にして無機化合物フィルムを作製した。
炭素元素含有化合物にイソプロパノールを用い、導入酸素原子数に対して炭素原子数が9.7%になるように導入し、プラズマ投入電力を900Wにした以外は、実施例1と同様にして無機化合物フィルムを作製した。
導入ガスを酸素のみ行い、プラズマ投入を行わなかった以外は、実施例1と同様にして酸化アルミニウム蒸着フィルムを作製した。
Al供給量を倍増させ、炭素元素含有化合物にエタノールを用い、導入酸素原子数に対して 炭素原子数が0.08%になるように導入し、プラズマ投入電力を1200Wにした以外は、実施例1と同様にして無機化合物フィルムを作製した。
酸素導入を倍増させ、炭素元素含有化合物にブタノールを用い、導入酸素原子数に対して 炭素原子数が11%になるように導入し、プラズマ投入電力を150Wにした以外は、実施例1と同様にして無機化合物フィルムを作製した。
酸素導入を1/2にし、炭素元素含有化合物にエタンを用い、導入酸素原子数に対して 炭素原子数が12%になるように導入し、プラズマ投入電力を1500Wにした以外は、実施例1と同様にして無機化合物フィルムを作製した。
2:巻き取り室
3:蒸着室
4:隔壁
5:ボート
6:巻き出しロール
7:巻き取りロール
8、9、10:巻き出し側のガイドロール
11、12、13:巻き取り側のガイドロール
14:巻き出し側酸素導入装置
15:巻き取り側酸素導入装置
16:高分子フィルム(基材フィルム)
17:クーリングドラム
Claims (3)
- 高分子フィルム上に無機化合物層を有するフィルムであって、X線光電子分光法により測定される該無機化合物層内の酸化アルミニウム中のAl原子濃度に対するO原子濃度の比率が2〜3、SIMSにより測定される該無機化合物層内のC原子濃度が1×1021〜1×1022atoms/ccであるとともに、酸素透過率が0.8cc/(m2・atm・24h)以下、水蒸気透過率が0.5g/(m2・24h)以下であるガスバリア性フィルム。
- 前記高分子フィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムである請求項1記載のガスバリア性フィルム。
- 高分子フィルムを巻き出したのち、次いで、金属を蒸気化して該フィルム表面上に無機物層を形成する際に、上記金属としてアルミニウムを用いるとともに、該無機物層を、該無機物層形成時に投入される酸素原子数に対する炭素原子数が0.1〜10%である炭素元素含有ガスプラズマ雰囲気中で形成するガスバリア性フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005283729A JP5130615B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005283729A JP5130615B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007090681A JP2007090681A (ja) | 2007-04-12 |
JP5130615B2 true JP5130615B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=37976929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005283729A Active JP5130615B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5130615B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06210790A (ja) * | 1993-01-21 | 1994-08-02 | Toyobo Co Ltd | ガスバリアフィルム |
JP3951348B2 (ja) * | 1997-03-14 | 2007-08-01 | 東洋製罐株式会社 | ガス遮断性及びフレキシビリティーに優れた積層体 |
JP4617086B2 (ja) * | 2003-09-26 | 2011-01-19 | 大日本印刷株式会社 | 難燃性フィルム及びそれを用いた住宅用内装材、電気製品又は印刷用フィルム |
CN100595317C (zh) * | 2004-10-19 | 2010-03-24 | 东丽株式会社 | 薄膜的制造方法和薄膜 |
-
2005
- 2005-09-29 JP JP2005283729A patent/JP5130615B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007090681A (ja) | 2007-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4924039B2 (ja) | フィルムの製造方法、および、フィルム | |
JP2005088452A (ja) | ガスバリア性フィルム及びそれを用いてなる積層体 | |
JP4478223B2 (ja) | 酸化アルミニウム蒸着フィルムおよびその製造法 | |
JP4110884B2 (ja) | 高ガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP4090551B2 (ja) | 透明バリア性フィルム | |
JP2006272589A (ja) | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JP4121609B2 (ja) | 透明バリア性フィルムおよびその製造法 | |
JP5130615B2 (ja) | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JP4121608B2 (ja) | 酸化アルミニウム蒸着フィルム、それを使用した複合フィルムおよびその製造法 | |
JP4867906B2 (ja) | 透明バリア性フィルム | |
JP5214231B2 (ja) | 酸化アルミニウム蒸着フィルムの製造法 | |
JP2000025183A (ja) | 酸化アルミニウム蒸着フィルム | |
JP4060935B2 (ja) | ガスバリア性フィルムおよびその製造法 | |
JP4123807B2 (ja) | 高ガスバリア性フィルム | |
JP4222067B2 (ja) | 高ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JP5292992B2 (ja) | ガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP4156056B2 (ja) | 酸化アルミニウム蒸着複合フィルムおよびその製造法 | |
JP2002292777A (ja) | ハイガスバリア性フィルム及びその製造方法 | |
JP2005254712A (ja) | 高ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JP2004155084A (ja) | 高ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JPH11322981A (ja) | 透明バリア性フィルム | |
JP2004209903A (ja) | 高ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JP3890146B2 (ja) | 透明バリアフィルムとこれを用いた積層材および包装用容器 | |
JP4478255B2 (ja) | 酸化アルミニウム蒸着フィルムおよびその製造法 | |
JP4616850B2 (ja) | 透明バリアフィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080926 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110104 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110330 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120110 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120307 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121009 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121022 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5130615 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |