JP5292992B2 - ガスバリア性フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の製造方法で得られるガスバリア性フィルムを用いて積層体を得る方法は特に限定されないが、例えば、以下の方法で好ましく製造される。
図2は無機化合物層を形成する製造方法を実施するための巻き取り式真空蒸着装置の一例の概略を模式的に示す装置構成図である。まず、巻き取り式真空蒸着装置1の巻き取り2の中で、巻き出しロール6に高分子フィルム16をセットし、巻出し、ガイドロール8、9、10を介して、クーリングドラム16に通す。ボート5上にはアルミニウム等のワイヤーが導入されていて、ボート5上からアルミニウムが蒸発され、巻き出し側酸素導入ノズル14、巻き取り側酸素導入ノズル15から酸素ガスを導入するので、このクーリングドラム17上の位置において高分子フィルム16の表面上に無機物からなる蒸着薄膜層が形成される。次に、ポリマーノズル18にはジメチルポリシロキサンを含むポリマーが導入されていて、ポリマーノズル18で加熱、蒸散、噴霧された未硬化のポリマーが蒸着薄膜層の表面に形成される。さらに、プラズマ電極19から酸素ガスプラズマが照射されているので、ポリマー薄膜層は硬化するとともに、ガスバリア性が付与される。その後、蒸着薄膜層とポリマー薄膜層が形成された高分子フィルム16、つまり本発明のガスバリア性フィルムを、ガイドロール13、12、11を介して、巻き取りロール7に巻き取る。
図2に示す装置構造の巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製ルミラー(登録商標) 12T705)を基材とし、その片面に、アルミニウムを蒸着材料に用いて抵抗加熱方式によりアルミニウムを蒸気化し、酸素ガスを導入して膜厚が10nmとなるように酸化アルミニウム層を設けた。次いで、酸化アルミニウム層の表面にジメチルポリシロキサンを含むポリマー(東レダウコーニングシリコーン社製SH200、粘度100cs)を加熱気化させて未硬化のポリマー薄膜層を膜厚4nmとなるように形成した。引き続き酸素ガスを供給しながら250kHz、5kWのパルスDC電源を用いて酸素プラズマを照射し、ポリマー薄膜層を硬化させ、これを巻き取りロールに巻き取りガスバリア性フィルムを得た。上述の酸素透過率と水蒸気透過率の評価を実施したところ、酸素透過率、水蒸気透過率共に良好であった。結果を表1に示す。
温度23℃、湿度0%RH、測定面積50cm2の条件で、米国、モコン(MOCON)社製の酸素透過率測定装置(機種名:OXTRAN(登録商標) 2/20)を使用して測定した。
温度40℃、湿度90%RH、測定面積50cm2の条件で、米国、モコン(MOCON)社製の水蒸気透過率透過率測定装置(機種名:PERMATRAN(登録商標) W3/31)を使用して測定した。
図2に示す装置構造の巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製ルミラー(登録商標) 12T705)を基材とし、その片面に、アルミニウムを蒸着材料に用いて抵抗加熱方式によりアルミニウムを蒸気化し、酸素ガスを導入して膜厚が10nmとなるように酸化アルミニウム層を設けた。次いで、酸化アルミニウム層の表面にジメチルポリシロキサンを含むポリマー(東レダウコーニングシリコーン社製SH200、粘度100cs)を加熱気化させて未硬化のポリマー薄膜層を膜厚4nmとなるように形成した。引き続き酸素ガスを供給しながら250kHz、5kWのパルスDC電源を用いて酸素プラズマを照射し、ポリマー薄膜層を硬化させ、これを巻き取りロールに巻き取りガスバリア性フィルムを得た。
上述の酸素透過率と水蒸気透過率の評価を実施したところ、酸素透過率、水蒸気透過率共に良好であった。結果を表1に示す。
参考例1において、ポリマー薄膜層の膜厚を30nmとする以外は参考例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
参考例1と同様の酸素透過率と水蒸気透過率の評価を実施したところ、酸素透過率、水蒸気透過率共に良好であった。結果を表1に示す。
参考例1において、膜厚が10nmとなるように酸化アルミニウム層を設けた後、ポリマー薄膜層を形成せず、さらに酸素プラズマを照射せず、そのまま巻き取りロールに巻き取りガスバリア性フィルムを得た。
参考例1と同様の酸素透過率と水蒸気透過率の評価を実施したところ、いずれも参考例1、実施例2に劣る結果となった。結果を表1に示す。
参考例1において、膜厚が10nmとなるように酸化アルミニウム層を設けた後、膜厚10nmの未硬化のポリマー薄膜層を形成し、酸素プラズマを照射せず、そのまま巻き取りロールに巻き取りガスバリア性フィルムを得た。
参考例1と同様の酸素透過率と水蒸気透過率の評価を実施したところ、いずれも参考例1、実施例2に劣る結果となった。結果を表1に示す。
参考例1において、ポリマー薄膜層の膜厚を120nmとする以外は参考例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
参考例1と同様の酸素透過率と水蒸気透過率の評価を実施したところ、いずれも参考例1、実施例2に劣る結果となった。結果を表1に示す。
参考例1において、膜厚が10nmとなるように酸化アルミニウム層を設けた後、ポリマー薄膜層を形成せず、酸素プラズマを照射し、そのまま巻き取りロールに巻き取りガスバリア性フィルムを得た。
参考例1と同様の酸素透過率と水蒸気透過率の評価を実施したところ、いずれも参考例1、実施例2に劣る結果となった。結果を表1に示す。
2:巻き取り室
3:蒸着室
4:隔壁
5:ボート
6:巻き出しロール
7:巻き取りロール
8、9、10:巻き出し側のガイドロール
11、12、13:巻き取り側のガイドロール
14:巻き出し側酸素導入ノズル
15:巻き取り側酸素導入ノズル
16:高分子フィルム
17:クーリングドラム
18:ポリマーノズル
19:プラズマ電極
21:高分子フィルム
22:蒸着薄膜層
23:ポリマー薄膜層
Claims (1)
- 高分子フィルムの少なくとも一方の表面に1層以上の無機酸化物からなる蒸着薄膜層を形成する工程と、次いで、該無機酸化物からなる蒸着薄膜層の上に、ジメチルポリシロキサンを含むポリマーを加熱気化させてなる未硬化のポリマー薄膜層を厚み5nm〜30nmで形成する工程と、次いで、該ポリマー薄膜層にプラズマを照射してポリマーを硬化させる工程と、を同一真空容器内で行うガスバリア性フィルムの製造方法。
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