JP5126640B2 - 撮像装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、撮像装置に係り、特に、ラインCCD、エリアCCD等の複数の光電変換素子を用いて広範囲な撮像領域を撮像する撮像装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
IC等の電子素子を積載するための回路基板等には、各電子素子の端子間や他の機器とを電気的に接続するためにパターンが形成されている。このようなパターンを有する回路基板等は同一のものを多数作製するが、製造条件や環境条件によって同一のものが作製されないことがある。例えば、所定幅でかつ所定長さのパターンを作製した場合に、パターンの一部が欠けたりパターンの一部が膨らんだりした欠陥を有するパターンが作製されることがある。
【0003】
このような回路基板のパターンの欠陥等の状態を効率よく検査するために、従来は、長尺状のフィルムの幅方向及び長さ方向の各々に複数の回路基板をマトリックス状に並べ、上記フィルムの幅方向に並べられた複数の回路基板の表面に対して光を照射した際の反射光を複数のハーフミラーによって所定領域毎に複数に分割し、分割された複数の反射光の各々をラインCCD、エリアCCD等の複数の光電変換素子によって撮像し、該撮像によって得られた画像データに基づいてパターンの欠陥等の状態を検査していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の技術では、ハーフミラーを用いていたので、反射光がハーフミラーの表面及び裏面の双方の面により反射されてハーフミラーの厚さによって生ずる2重の像が形成されてしまい、この結果として光電変換素子によって得られる画像データの画像品質が悪くなる、という問題点があった。
【0005】
また、上記従来の技術で用いられるハーフミラーは、表面及び裏面の双方の面を反射面として用いるため該双方の面の平面性を上げる必要があるので製造コストが高く、装置全体の製造コストが高くなる、という問題点があった。
【0006】
また、ハーフミラーを通過した光は光量が減少するので、分割領域毎に通過するハーフミラーの数が異なった場合には、最も光量の低い光を基準として画像データのレベルを上げる必要があり、好ましくない。この問題を解決するためには、撮像対象に照射される光の光量分布を各分割領域の撮像位置において均一となるように調整するためのマスクを設ける方法が考えられる。
【0007】
図4には、撮像領域の中央部からの反射光がハーフミラーを通過せず、その両端部からの各々の光が1枚のハーフミラーを通過する場合に対応したマスクの一例が示されている。この場合はマスクに設けられた開口部が中央部を通過する光の光量を減少させる形状とされている。しかしながら、このようなマスクを設ける方法では、マスクや、該マスクを設置するための部品等を必要とするため、製造コストが高くなる、という問題点があった。
【0008】
本発明は上記問題点を解消するために成されたものであり、画像品質が高くかつ低コストな撮像装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1記載の撮像装置は、直線上に隣接して並び、かつ互いに一部が重なる領域とされた複数の分割領域からなる撮像領域に光を照射する光源と、前記撮像領域からの光を、境界線が前記複数の分割領域にわたる方向となるように2つの領域に分割して一方の領域の光のみを全反射させる第1の全反射ミラーと、前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった撮像領域からの光を結像する第1の結像レンズと、前記第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第1の光電変換素子と、前記第1の全反射ミラーによって全反射された光を前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射する第2の全反射ミラーと、前記第2の全反射ミラーによって全反射された光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第2の結像レンズと、前記第2の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第2の光電変換素子と、を備えている。
【0010】
請求項1に記載の撮像装置によれば、直線上に隣接して並び、かつ互いに一部が重なる領域とされた複数の分割領域からなる撮像領域に光源から光が照射される。
【0011】
また、第1の全反射ミラーによって、撮像領域からの光が、境界線が上記複数の分割領域にわたる方向となるように2つの領域に分割されて一方の領域の光のみが全反射される。
【0012】
その後、第1の全反射ミラーによって全反射されなかった撮像領域からの光が第1の結像レンズにより結像され、第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第1の光電変換素子によって撮像される。
【0013】
一方、第1の全反射ミラーによって全反射された光は、当該第1の全反射ミラーによって全反射されなかった光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に第2の全反射ミラーによって全反射され、第2の全反射ミラーによって全反射された光は、上記撮像領域から上記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に第2の結像レンズによって結像され、第2の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第2の光電変換素子によって撮像される。
【0014】
このように、請求項1に記載の撮像装置によれば、光電変換素子の受光部に向けて撮像対象からの光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラーとしているので、該ミラーをハーフミラーとした場合に発生する2重の像が発生することがなく、品質の高い画像データを得ることができると共に、片面のみの平面性を考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いることにより、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーとマスクを併用する場合に比較して、撮像装置全体の製造コストを低減することができる。
【0015】
また、請求項2記載の撮像装置は、請求項1記載の撮像装置において、前記第1の全反射ミラーによって全反射された光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第3の結像レンズと、前記第3の結像レンズからの出射光を前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射する第3の全反射ミラーと、前記第3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第3の光電変換素子と、を更に備えたものである。
【0016】
請求項2に記載の撮像装置によれば、第1の全反射ミラーによって全反射された光が、上記撮像領域から上記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に第3の結像レンズによって結像され、前記第3の結像レンズからの出射光が上記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に第3の全反射ミラーによって全反射され、第3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第3の光電変換素子によって撮像される。
【0017】
このように、請求項2に記載の撮像装置によれば、請求項1記載の発明と同様の効果を奏することができると共に、請求項1記載の発明における第1の全反射ミラーによって反射された光が第2及び第3の光電変換素子の2つによって撮像されるので、該2つの光電変換素子の撮像領域を第1の光電変換素子の撮像領域に隣接する一方側の分割領域と他方側の分割領域とすることによって、結像レンズ及び光電変換素子からなる3つの撮像系を配置するためのスペースを容易に確保することができる。
【0018】
さらに、請求項3記載の撮像装置は、直線上に順に隣接して並び、かつ互いに一部が重なる領域とされた第1、第2、第3の分割領域からなる撮像領域に光を照射する光源と、前記撮像領域からの光を、境界線が前記3つの分割領域にわたる方向となるように2つの領域に分割して一方の領域の光のみを全反射させる第1の全反射ミラーと、前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった前記第2の分割領域からの光を結像する第1の結像レンズと、前記第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第1の光電変換素子と、前記第1の全反射ミラーによって全反射された前記第1の分割領域からの光を前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった前記第2の分割領域からの光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射する第2の全反射ミラーと、前記第2の全反射ミラーによって全反射された光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第2の結像レンズと、前記第2の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第2の光電変換素子と、前記第1の全反射ミラーによって全反射された前記第3の分割領域からの光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第3の結像レンズと、前記第3の結像レンズからの出射光を前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった前記第2の分割領域からの光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射する第3の全反射ミラーと、前記第3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第3の光電変換素子と、を備えている。
【0019】
請求項3に記載の撮像装置によれば、直線上に順に隣接して並び、かつ互いに一部が重なる領域とされた第1、第2、第3の分割領域からなる撮像領域に光源から光が照射される。
【0020】
また、第1の全反射ミラーによって、撮像領域からの光が、境界線が上記3つの分割領域にわたる方向となるように2つの領域に分割されて一方の領域の光のみが全反射される。
【0021】
その後、第1の全反射ミラーによって全反射されなかった第2の分割領域からの光が第1の結像レンズにより結像され、第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第1の光電変換素子によって撮像される。
【0022】
一方、第1の全反射ミラーによって全反射された第1の分割領域からの光は、第2の全反射ミラーにより上記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった第2の分割領域からの光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射され、第2の全反射ミラーによって全反射された光が、第2の結像レンズによって上記撮像領域から上記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像され、第2の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第2の光電変換素子によって撮像される。
【0023】
また、第1の全反射ミラーによって全反射された第3の分割領域からの光は、第3の結像レンズによって上記撮像領域から上記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像され、第3の全反射ミラーにより上記第3の結像レンズからの出射光が第1の全反射ミラーによって全反射されなかった第2の分割領域からの光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射され、第3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第3の光電変換素子によって撮像される。
【0024】
このように、請求項3に記載の撮像装置によれば、3つの光電変換素子の受光部に向けて撮像対象からの光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラーとしているので、該ミラーをハーフミラーとした場合に発生する2重の像が発生することがなく、品質の高い画像データを得ることができると共に、片面のみの平面性を考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いることにより、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーとマスクを併用する場合に比較して、撮像装置全体の製造コストを低減することができ、かつ第2及び第3の光電変換素子の撮像領域を第1の光電変換素子の撮像領域に隣接する第1の分割領域及び第3の分割領域としているので、結像レンズ及び光電変換素子からなる3つの撮像系を配置するためのスペースを容易に確保することができる。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、図1乃至図3を参照して、本発明に係る撮像装置の実施の形態について詳細に説明する。なお、図1は本実施形態に係る撮像装置10の斜視図を、図2は図1の矢印A方向から見た場合の撮像装置10の側面図を、図3は図1の矢印B方向から見た場合の撮像装置10の底面図を、各々示している。
【0026】
本実施形態に係る撮像装置10には、長尺状のフィルム50の幅方向(図1矢印H方向、以下同様)及び長さ方向(図1矢印N方向、以下同様)の各々に複数取り付けられた撮像対象としての回路基板52の表面に光を照射する照明系12が備えられている(図2参照、図1及び図3では図示省略)。この照明系12は、光を出射する光源14、及び光源14が一端部側に取り付けられた反射板16を含んで構成されている。
【0027】
光源14から出射される光は、複数の回路基板52が取り付けられたフィルム50の幅方向の全ての領域に照射されてフィルム50又は回路基板52の表面で反射される。なお、この反射された光を、以下の説明では第1の反射光という。
【0028】
また、反射板16の光源14が取り付けられていない側の端部には傾斜部17及び孔18が形成されており、反射板16は光源14から出射された光が傾斜部17によって反射されることによりフィルム50又は回路基板52の表面に略垂直に照射され、かつ上記第1の反射光が孔18を通過するように配置されている。
【0029】
一方、第1の反射光の進行方向下流側には第1の全反射ミラー20Aが配置されている。本実施形態における第1の全反射ミラー20Aは図1及び図3に示すように矩形状とされており、図1に示すように撮像領域をフィルム50の幅方向に3つに分割した分割領域54A、54B、及び54Cが並んだ方向を基準として2つの領域に略均等に分割して一方の領域の第1の反射光のみを全反射し、他方の領域の第1の反射光は反射しないように配置されている。なお、3つの分割領域54A、54B、及び54Cは、互いに一部が重なる領域とされている。
【0030】
さらに、第1の全反射ミラー20Aによって全反射されなかった第1の反射光の中央部の進行方向下流側には、第1の結像レンズ22A及び第1のラインCCD24Aが順に配置されている。なお、第1の結像レンズ22A及び第1のラインCCD24Aからなる撮像系を以下の説明では第1の撮像系という。
【0031】
一方、第1の全反射ミラー20Aによって全反射された上記第1の反射光の一端部の進行方向下流側には第2の全反射ミラー20Bが配置されており、第2の全反射ミラー20Bの反射方向には第2の結像レンズ22B及び第2のラインCCD24Bが順に配置されている。なお、第2の全反射ミラー20B、第2の結像レンズ22B、及び第2のラインCCD24Bからなる撮像系を以下の説明では第2の撮像系という。
【0032】
さらに、第1の全反射ミラー20Aにより全反射された上記第1の反射光の他端部の進行方向下流側には第3の結像レンズ22C及び第3の全反射ミラー20Cが順に配置されており、第3の全反射ミラー20Cの反射方向には第3のラインCCD24Cが配置されている。なお、第3の結像レンズ22C、第3の全反射ミラー20C、及び第3のラインCCD24Cからなる撮像系を以下の説明では第3の撮像系という。
【0033】
ここで、第1の撮像系は分割領域54Bを撮像し、第2の撮像系は分割領域54Cを撮像し、第3の撮像系は分割領域54Aを撮像するように構成されている。また、各撮像系は、各々の光路長が略等しくなるように各構成部が配置されている。さらに、全反射ミラー20B及び全反射ミラー20Cは、各々の反射面に入射された光の光路が第1の全反射ミラー20Aによって全反射されなかった光の光路と略同一方向とする角度とするように配置されている。
【0034】
以上のように構成された撮像装置10では、光源14から出射された光が反射板16の傾斜部17によってフィルム50の方向に反射されて、フィルム50に取り付けられた複数の回路基板52の表面に照射され、かつ反射(第1の反射光)される。また、第1の反射光は、反射板16に設けられた孔18を通過して第1の全反射ミラー20Aによって略半分の領域が全反射される。
【0035】
ここで、第1の全反射ミラー20Aによって全反射されなかった略半分の光の分割領域54Bに対応する領域は第1の結像レンズ22Aを通過することによって第1のラインCCD24Aの受光部に結像される。従って、第1のラインCCD24Aによって、分割領域54Bに対応する領域の画像データを得ることができる。
【0036】
一方、第1の全反射ミラー20Aによって全反射された略半分の光の分割領域54Cに対応する領域は第2の全反射ミラー20Bによって全反射された後に第2の結像レンズ22Bを通過することによって第2のラインCCD24Bの受光部に結像される。従って、第2のラインCCD24Bによって、分割領域54Cに対応する領域の画像データを得ることができる。
【0037】
さらに、第1の全反射ミラー20Aによって反射された略半分の光の分割領域54Aに対応する領域は第3の結像レンズ22Cを通過し、かつ第3の全反射ミラー20Cにより反射されることによって第3のラインCCD24Cの受光部に結像される。従って、第3のラインCCD24Cによって、分割領域54Aに対応する領域の画像データを得ることができる。
【0038】
すなわち、フィルム50上の撮像領域の全ての画像データを3つのラインCCD24によって得ることができる。
【0039】
このように、本実施形態に係る撮像装置10では、ラインCCD24の受光部に向けて撮像対象からの反射光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラーとしているので、該ミラーをハーフミラーとした場合に発生する2重の像が発生することがなく、品質の高い画像データを得ることができると共に、片面のみの平面性を考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いることにより、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーとマスクを併用する場合に比較して、撮像装置10全体の製造コストを低減することができる。
【0040】
なお、本実施形態では、撮像領域を3つの分割領域に分けて、各々の分割領域の画像を別個のラインCCD24により撮像する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、上記撮像領域を2つ又は4つ以上の複数の分割領域に分けて、該複数の分割領域の数と同数のラインCCD24によって画像を撮像する形態としてもよい。
【0041】
また、本実施形態では、3つのラインCCD24の各々の受光部に光を導くためにラインCCD24の各々に1つずつ全反射ミラー20を設けた場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば第2の全反射ミラー20B及び第3の全反射ミラー20Cの少なくとも一方を設けない形態としてもよい。第2の全反射ミラー20Bを設けない場合は第2の結像レンズ22B及び第2のラインCCD24Bを第1の全反射ミラー20Aの反射方向に、第3の全反射ミラー20Cを設けない場合は第3のラインCCD24Cを第3の結像レンズ22Cの光の出射方向に配置する必要があるが、この場合、第2の全反射ミラー20B及び第3の全反射ミラー20Cの少なくとも一方の製造コスト、及び設置のための作業工数を削減することができる。
【0042】
また、本実施形態では、光電変換素子としてラインCCDを適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ラインCCDに代えて例えばエリアCCDを適用する形態としてもよいことは言うまでもない。
【0043】
さらに、本実施形態では、本発明を撮像対象からの反射光を撮像する場合に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、撮像対象からの透過光を撮像する場合に適用してもよい。
【0044】
【発明の効果】
以上説明したように請求項1記載の撮像装置によれば、光電変換素子の受光部に向けて撮像対象からの光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラーとしているので、該ミラーをハーフミラーとした場合に発生する2重の像が発生することがなく、品質の高い画像データを得ることができると共に、片面のみの平面性を考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いることにより、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーとマスクを併用する場合に比較して、撮像装置全体の製造コストを低減することができる、という効果が得られる。
【0045】
また、請求項2記載の撮像装置によれば、請求項1記載の発明と同様の効果を奏することができると共に、請求項1記載の発明における第1の全反射ミラーによって反射された光が第2及び第3の光電変換素子の2つによって撮像されるので、該2つの光電変換素子の撮像領域を第1の光電変換素子の撮像領域に隣接する一方側の分割領域と他方側の分割領域とすることによって、結像レンズ及び光電変換素子からなる3つの撮像系を配置するためのスペースを容易に確保することができる、という効果が得られる。
【0046】
さらに、請求項3記載の撮像装置によれば、3つの光電変換素子の受光部に向けて撮像対象からの光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラーとしているので、該ミラーをハーフミラーとした場合に発生する2重の像が発生することがなく、品質の高い画像データを得ることができると共に、片面のみの平面性を考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いることにより、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーとマスクを併用する場合に比較して、撮像装置全体の製造コストを低減することができ、かつ第2及び第3の光電変換素子の撮像領域を第1の光電変換素子の撮像領域に隣接する第1の分割領域及び第3の分割領域としているので、結像レンズ及び光電変換素子からなる3つの撮像系を配置するためのスペースを容易に確保することができる、という効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態に係る撮像装置の斜視図である。
【図2】実施の形態に係る撮像装置を図1矢印A方向から見た場合の概略側面図である。
【図3】実施の形態に係る撮像装置を図1矢印B方向から見た場合の概略底面図である。
【図4】マスクの構成例を示す平面図である。
【符号の説明】
10 撮像装置
12 照明系
14 光源
16 反射板
17 傾斜部
18 孔
20A 第1の全反射ミラー
20B 第2の全反射ミラー
20C 第3の全反射ミラー
22A 第1の結像レンズ
22B 第2の結像レンズ
22C 第3の結像レンズ
24A 第1のラインCCD
24B 第2のラインCCD
24C 第3のラインCCD
50 フィルム
52 回路基板(撮像対象)
54A 分割領域(第1の分割領域)
54B 分割領域(第2の分割領域)
54C 分割領域(第3の分割領域)
Claims (3)
- 直線上に隣接して並び、かつ互いに一部が重なる領域とされた複数の分割領域からなる撮像領域に光を照射する光源と、
前記撮像領域からの光を、境界線が前記複数の分割領域にわたる方向となるように2つの領域に分割して一方の領域の光のみを全反射させる第1の全反射ミラーと、
前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった撮像領域からの光を結像する第1の結像レンズと、
前記第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第1の光電変換素子と、
前記第1の全反射ミラーによって全反射された光を前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射する第2の全反射ミラーと、
前記第2の全反射ミラーによって全反射された光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第2の結像レンズと、
前記第2の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第2の光電変換素子と、
を備えた撮像装置。 - 前記第1の全反射ミラーによって全反射された光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第3の結像レンズと、
前記第3の結像レンズからの出射光を前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射する第3の全反射ミラーと、
前記第3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第3の光電変換素子と、
を更に備えた請求項1記載の撮像装置。 - 直線上に順に隣接して並び、かつ互いに一部が重なる領域とされた第1、第2、第3の分割領域からなる撮像領域に光を照射する光源と、
前記撮像領域からの光を、境界線が前記3つの分割領域にわたる方向となるように2つの領域に分割して一方の領域の光のみを全反射させる第1の全反射ミラーと、
前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった前記第2の分割領域からの光を結像する第1の結像レンズと、
前記第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第1の光電変換素子と、
前記第1の全反射ミラーによって全反射された前記第1の分割領域からの光を前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった前記第2の分割領域からの光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射する第2の全反射ミラーと、
前記第2の全反射ミラーによって全反射された光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第2の結像レンズと、
前記第2の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第2の光電変換素子と、
前記第1の全反射ミラーによって全反射された前記第3の分割領域からの光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第3の結像レンズと、
前記第3の結像レンズからの出射光を前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった前記第2の分割領域からの光の光路と略平行で、かつ略同一の方向に全反射する第3の全反射ミラーと、
前記第3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第3の光電変換素子と、
を備えた撮像装置。
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