JP2001272715A - 撮像装置 - Google Patents

撮像装置

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JP2001272715A JP2000087596A JP2000087596A JP2001272715A JP 2001272715 A JP2001272715 A JP 2001272715A JP 2000087596 A JP2000087596 A JP 2000087596A JP 2000087596 A JP2000087596 A JP 2000087596A JP 2001272715 A JP2001272715 A JP 2001272715A
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Toyomichi Nakamura
豊道 中村
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康男 上野
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Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像品質が高くかつ低コストな撮像装置を得
る。 【解決手段】 撮像対象(基板52)に光を照射した際
の反射光の略半分の領域を全反射ミラー20Aによって
反射し、反射されなかった光の中央部を結像レンズ22
A、ラインCCD24Aによって撮像すると共に、全反
射ミラー20Aによって反射された光の一端側を全反射
ミラー20B、結像レンズ22B、ラインCCD24B
によって撮像し、全反射ミラー20Aによって反射され
た光の他端側を結像レンズ22C、全反射ミラー20
C、ラインCCD24Cによって撮像する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、撮像装置に係り、
特に、ラインCCD、エリアCCD等の複数の光電変換
素子を用いて広範囲な撮像領域を撮像する撮像装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】IC等の電子素子を積載するための回路
基板等には、各電子素子の端子間や他の機器とを電気的
に接続するためにパターンが形成されている。このよう
なパターンを有する回路基板等は同一のものを多数作製
するが、製造条件や環境条件によって同一のものが作製
されないことがある。例えば、所定幅でかつ所定長さの
パターンを作製した場合に、パターンの一部が欠けたり
パターンの一部が膨らんだりした欠陥を有するパターン
が作製されることがある。
【0003】このような回路基板のパターンの欠陥等の
状態を効率よく検査するために、従来は、長尺状のフィ
ルムの幅方向及び長さ方向の各々に複数の回路基板をマ
トリックス状に並べ、上記フィルムの幅方向に並べられ
た複数の回路基板の表面に対して光を照射した際の反射
光を複数のハーフミラーによって所定領域毎に複数に分
割し、分割された複数の反射光の各々をラインCCD、
エリアCCD等の複数の光電変換素子によって撮像し、
該撮像によって得られた画像データに基づいてパターン
の欠陥等の状態を検査していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術では、ハーフミラーを用いていたので、反射光
がハーフミラーの表面及び裏面の双方の面により反射さ
れてハーフミラーの厚さによって生ずる2重の像が形成
されてしまい、この結果として光電変換素子によって得
られる画像データの画像品質が悪くなる、という問題点
があった。
【0005】また、上記従来の技術で用いられるハーフ
ミラーは、表面及び裏面の双方の面を反射面として用い
るため該双方の面の平面性を上げる必要があるので製造
コストが高く、装置全体の製造コストが高くなる、とい
う問題点があった。
【0006】また、ハーフミラーを通過した光は光量が
減少するので、分割領域毎に通過するハーフミラーの数
が異なった場合には、最も光量の低い光を基準として画
像データのレベルを上げる必要があり、好ましくない。
この問題を解決するためには、撮像対象に照射される光
の光量分布を各分割領域の撮像位置において均一となる
ように調整するためのマスクを設ける方法が考えられ
る。
【0007】図4には、撮像領域の中央部からの反射光
がハーフミラーを通過せず、その両端部からの各々の光
が1枚のハーフミラーを通過する場合に対応したマスク
の一例が示されている。この場合はマスクに設けられた
開口部が中央部を通過する光の光量を減少させる形状と
されている。しかしながら、このようなマスクを設ける
方法では、マスクや、該マスクを設置するための部品等
を必要とするため、製造コストが高くなる、という問題
点があった。
【0008】本発明は上記問題点を解消するために成さ
れたものであり、画像品質が高くかつ低コストな撮像装
置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の撮像装置は、直線上に隣接して並ん
だ複数の分割領域からなる撮像領域に光を照射する光源
と、前記撮像領域からの光を、境界線が前記複数の分割
領域にわたる方向となるように2つの領域に分割して一
方の領域の光のみを全反射させる第1の全反射ミラー
と、前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかっ
た撮像領域からの光を結像する第1の結像レンズと、前
記第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するよう
に配置された第1の光電変換素子と、前記第1の全反射
ミラーによって全反射された光を、前記撮像領域から前
記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の
位置に結像する第2の結像レンズと、前記第2の結像レ
ンズの結像位置に受光部が位置するように配置された第
2の光電変換素子と、を備えている。
【0010】請求項1に記載の撮像装置によれば、直線
上に隣接して並んだ複数の分割領域からなる撮像領域に
光源から光が照射される。
【0011】また、第1の全反射ミラーによって、撮像
領域からの光が、境界線が上記複数の分割領域にわたる
方向となるように2つの領域に分割されて一方の領域の
光のみが全反射される。
【0012】その後、第1の全反射ミラーによって全反
射されなかった撮像領域からの光が第1の結像レンズに
より結像され、第1の結像レンズの結像位置に受光部が
位置するように配置された第1の光電変換素子によって
撮像される。
【0013】一方、第1の全反射ミラーによって全反射
された光は、上記撮像領域から上記第1の光電変換素子
までの光路長と略同一の光路長の位置に第2の結像レン
ズによって結像され、第2の結像レンズの結像位置に受
光部が位置するように配置された第2の光電変換素子に
よって撮像される。
【0014】このように、請求項1に記載の撮像装置に
よれば、光電変換素子の受光部に向けて撮像対象からの
光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラーとし
ているので、該ミラーをハーフミラーとした場合に発生
する2重の像が発生することがなく、品質の高い画像デ
ータを得ることができると共に、片面のみの平面性を考
慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いることによ
り、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーとマスク
を併用する場合に比較して、撮像装置全体の製造コスト
を低減することができる。
【0015】また、請求項2記載の撮像装置は、請求項
1記載の撮像装置において、前記第1の全反射ミラーに
よって全反射された光を、前記撮像領域から前記第1の
光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結
像する第3の結像レンズと、前記第3の結像レンズの結
像位置に受光部が位置するように配置された第3の光電
変換素子と、を更に備えたものである。
【0016】請求項2に記載の撮像装置によれば、第1
の全反射ミラーによって全反射された光が、上記撮像領
域から上記第1の光電変換素子までの光路長と略同一の
光路長の位置に第3の結像レンズによって結像され、第
3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配
置された第3の光電変換素子によって撮像される。
【0017】このように、請求項2に記載の撮像装置に
よれば、請求項1記載の発明と同様の効果を奏すること
ができると共に、請求項1記載の発明における第1の全
反射ミラーによって反射された光が第2及び第3の光電
変換素子の2つによって撮像されるので、該2つの光電
変換素子の撮像領域を第1の光電変換素子の撮像領域に
隣接する一方側の分割領域と他方側の分割領域とするこ
とによって、結像レンズ及び光電変換素子からなる3つ
の撮像系を配置するためのスペースを容易に確保するこ
とができる。
【0018】さらに、請求項3記載の撮像装置は、直線
上に順に隣接して並んだ第1、第2、第3の分割領域か
らなる撮像領域に光を照射する光源と、前記撮像領域か
らの光を、境界線が前記3つの分割領域にわたる方向と
なるように2つの領域に分割して一方の領域の光のみを
全反射させる第1の全反射ミラーと、前記第1の全反射
ミラーによって全反射されなかった前記第2の分割領域
からの光を結像する第1の結像レンズと、前記第1の結
像レンズの結像位置に受光部が位置するように配置され
た第1の光電変換素子と、前記第1の全反射ミラーによ
って全反射された前記第1の分割領域からの光を前記第
1の全反射ミラーによって全反射されなかった前記第2
の分割領域からの光の光路と略平行な方向に全反射する
第2の全反射ミラーと、前記第2の全反射ミラーによっ
て全反射された光を、前記撮像領域から前記第1の光電
変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像す
る第2の結像レンズと、前記第2の結像レンズの結像位
置に受光部が位置するように配置された第2の光電変換
素子と、前記第1の全反射ミラーによって全反射された
前記第3の分割領域からの光を、前記撮像領域から前記
第1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位
置に結像する第3の結像レンズと、前記第3の結像レン
ズからの出射光を前記第1の全反射ミラーによって全反
射されなかった前記第2の分割領域からの光の光路と略
平行な方向に全反射する第3の全反射ミラーと、前記第
3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配
置された第3の光電変換素子と、を備えている。
【0019】請求項3に記載の撮像装置によれば、直線
上に順に隣接して並んだ第1、第2、第3の分割領域か
らなる撮像領域に光源から光が照射される。
【0020】また、第1の全反射ミラーによって、撮像
領域からの光が、境界線が上記3つの分割領域にわたる
方向となるように2つの領域に分割されて一方の領域の
光のみが全反射される。
【0021】その後、第1の全反射ミラーによって全反
射されなかった第2の分割領域からの光が第1の結像レ
ンズにより結像され、第1の結像レンズの結像位置に受
光部が位置するように配置された第1の光電変換素子に
よって撮像される。
【0022】一方、第1の全反射ミラーによって全反射
された第1の分割領域からの光は、第2の全反射ミラー
により上記第1の全反射ミラーによって全反射されなか
った第2の分割領域からの光の光路と略平行な方向に全
反射され、第2の全反射ミラーによって全反射された光
が、第2の結像レンズによって上記撮像領域から上記第
1の光電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置
に結像され、第2の結像レンズの結像位置に受光部が位
置するように配置された第2の光電変換素子によって撮
像される。
【0023】また、第1の全反射ミラーによって全反射
された第3の分割領域からの光は、第3の結像レンズに
よって上記撮像領域から上記第1の光電変換素子までの
光路長と略同一の光路長の位置に結像され、第3の全反
射ミラーにより上記第3の結像レンズからの出射光が第
1の全反射ミラーによって全反射されなかった第2の分
割領域からの光の光路と略平行な方向に全反射され、第
3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するように配
置された第3の光電変換素子によって撮像される。
【0024】このように、請求項3に記載の撮像装置に
よれば、3つの光電変換素子の受光部に向けて撮像対象
からの光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラ
ーとしているので、該ミラーをハーフミラーとした場合
に発生する2重の像が発生することがなく、品質の高い
画像データを得ることができると共に、片面のみの平面
性を考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いるこ
とにより、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーと
マスクを併用する場合に比較して、撮像装置全体の製造
コストを低減することができ、かつ第2及び第3の光電
変換素子の撮像領域を第1の光電変換素子の撮像領域に
隣接する第1の分割領域及び第3の分割領域としている
ので、結像レンズ及び光電変換素子からなる3つの撮像
系を配置するためのスペースを容易に確保することがで
きる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、図1乃至図3を参照して、
本発明に係る撮像装置の実施の形態について詳細に説明
する。なお、図1は本実施形態に係る撮像装置10の斜
視図を、図2は図1の矢印A方向から見た場合の撮像装
置10の側面図を、図3は図1の矢印B方向から見た場
合の撮像装置10の底面図を、各々示している。
【0026】本実施形態に係る撮像装置10には、長尺
状のフィルム50の幅方向(図1矢印H方向、以下同
様)及び長さ方向(図1矢印N方向、以下同様)の各々
に複数取り付けられた撮像対象としての回路基板52の
表面に光を照射する照明系12が備えられている(図2
参照、図1及び図3では図示省略)。この照明系12
は、光を出射する光源14、及び光源14が一端部側に
取り付けられた反射板16を含んで構成されている。
【0027】光源14から出射される光は、複数の回路
基板52が取り付けられたフィルム50の幅方向の全て
の領域に照射されてフィルム50又は回路基板52の表
面で反射される。なお、この反射された光を、以下の説
明では第1の反射光という。
【0028】また、反射板16の光源14が取り付けら
れていない側の端部には傾斜部17及び孔18が形成さ
れており、反射板16は光源14から出射された光が傾
斜部17によって反射されることによりフィルム50又
は回路基板52の表面に略垂直に照射され、かつ上記第
1の反射光が孔18を通過するように配置されている。
【0029】一方、第1の反射光の進行方向下流側には
第1の全反射ミラー20Aが配置されている。本実施形
態における第1の全反射ミラー20Aは図1及び図3に
示すように矩形状とされており、図1に示すように撮像
領域をフィルム50の幅方向に3つに分割した分割領域
54A、54B、及び54Cが並んだ方向を基準として
2つの領域に略均等に分割して一方の領域の第1の反射
光のみを全反射し、他方の領域の第1の反射光は反射し
ないように配置されている。なお、3つの分割領域54
A、54B、及び54Cは、互いに一部が重なる領域と
されている。
【0030】さらに、第1の全反射ミラー20Aによっ
て全反射されなかった第1の反射光の中央部の進行方向
下流側には、第1の結像レンズ22A及び第1のライン
CCD24Aが順に配置されている。なお、第1の結像
レンズ22A及び第1のラインCCD24Aからなる撮
像系を以下の説明では第1の撮像系という。
【0031】一方、第1の全反射ミラー20Aによって
全反射された上記第1の反射光の一端部の進行方向下流
側には第2の全反射ミラー20Bが配置されており、第
2の全反射ミラー20Bの反射方向には第2の結像レン
ズ22B及び第2のラインCCD24Bが順に配置され
ている。なお、第2の全反射ミラー20B、第2の結像
レンズ22B、及び第2のラインCCD24Bからなる
撮像系を以下の説明では第2の撮像系という。
【0032】さらに、第1の全反射ミラー20Aにより
全反射された上記第1の反射光の他端部の進行方向下流
側には第3の結像レンズ22C及び第3の全反射ミラー
20Cが順に配置されており、第3の全反射ミラー20
Cの反射方向には第3のラインCCD24Cが配置され
ている。なお、第3の結像レンズ22C、第3の全反射
ミラー20C、及び第3のラインCCD24Cからなる
撮像系を以下の説明では第3の撮像系という。
【0033】ここで、第1の撮像系は分割領域54Bを
撮像し、第2の撮像系は分割領域54Cを撮像し、第3
の撮像系は分割領域54Aを撮像するように構成されて
いる。また、各撮像系は、各々の光路長が略等しくなる
ように各構成部が配置されている。さらに、全反射ミラ
ー20B及び全反射ミラー20Cは、各々の反射面に入
射された光の光路が第1の全反射ミラー20Aによって
全反射されなかった光の光路と略同一方向とする角度と
するように配置されている。
【0034】以上のように構成された撮像装置10で
は、光源14から出射された光が反射板16の傾斜部1
7によってフィルム50の方向に反射されて、フィルム
50に取り付けられた複数の回路基板52の表面に照射
され、かつ反射(第1の反射光)される。また、第1の
反射光は、反射板16に設けられた孔18を通過して第
1の全反射ミラー20Aによって略半分の領域が全反射
される。
【0035】ここで、第1の全反射ミラー20Aによっ
て全反射されなかった略半分の光の分割領域54Bに対
応する領域は第1の結像レンズ22Aを通過することに
よって第1のラインCCD24Aの受光部に結像され
る。従って、第1のラインCCD24Aによって、分割
領域54Bに対応する領域の画像データを得ることがで
きる。
【0036】一方、第1の全反射ミラー20Aによって
全反射された略半分の光の分割領域54Cに対応する領
域は第2の全反射ミラー20Bによって全反射された後
に第2の結像レンズ22Bを通過することによって第2
のラインCCD24Bの受光部に結像される。従って、
第2のラインCCD24Bによって、分割領域54Cに
対応する領域の画像データを得ることができる。
【0037】さらに、第1の全反射ミラー20Aによっ
て反射された略半分の光の分割領域54Aに対応する領
域は第3の結像レンズ22Cを通過し、かつ第3の全反
射ミラー20Cにより反射されることによって第3のラ
インCCD24Cの受光部に結像される。従って、第3
のラインCCD24Cによって、分割領域54Aに対応
する領域の画像データを得ることができる。
【0038】すなわち、フィルム50上の撮像領域の全
ての画像データを3つのラインCCD24によって得る
ことができる。
【0039】このように、本実施形態に係る撮像装置1
0では、ラインCCD24の受光部に向けて撮像対象か
らの反射光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミ
ラーとしているので、該ミラーをハーフミラーとした場
合に発生する2重の像が発生することがなく、品質の高
い画像データを得ることができると共に、片面のみの平
面性を考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いる
ことにより、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラー
とマスクを併用する場合に比較して、撮像装置10全体
の製造コストを低減することができる。
【0040】なお、本実施形態では、撮像領域を3つの
分割領域に分けて、各々の分割領域の画像を別個のライ
ンCCD24により撮像する場合について説明したが、
本発明はこれに限定されるものではなく、上記撮像領域
を2つ又は4つ以上の複数の分割領域に分けて、該複数
の分割領域の数と同数のラインCCD24によって画像
を撮像する形態としてもよい。
【0041】また、本実施形態では、3つのラインCC
D24の各々の受光部に光を導くためにラインCCD2
4の各々に1つずつ全反射ミラー20を設けた場合につ
いて説明したが、本発明はこれに限定されるものではな
く、例えば第2の全反射ミラー20B及び第3の全反射
ミラー20Cの少なくとも一方を設けない形態としても
よい。第2の全反射ミラー20Bを設けない場合は第2
の結像レンズ22B及び第2のラインCCD24Bを第
1の全反射ミラー20Aの反射方向に、第3の全反射ミ
ラー20Cを設けない場合は第3のラインCCD24C
を第3の結像レンズ22Cの光の出射方向に配置する必
要があるが、この場合、第2の全反射ミラー20B及び
第3の全反射ミラー20Cの少なくとも一方の製造コス
ト、及び設置のための作業工数を削減することができ
る。
【0042】また、本実施形態では、光電変換素子とし
てラインCCDを適用した場合について説明したが、本
発明はこれに限定されるものではなく、ラインCCDに
代えて例えばエリアCCDを適用する形態としてもよい
ことは言うまでもない。
【0043】さらに、本実施形態では、本発明を撮像対
象からの反射光を撮像する場合に適用した場合について
説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、
撮像対象からの透過光を撮像する場合に適用してもよ
い。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように請求項1記載の撮像
装置によれば、光電変換素子の受光部に向けて撮像対象
からの光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラ
ーとしているので、該ミラーをハーフミラーとした場合
に発生する2重の像が発生することがなく、品質の高い
画像データを得ることができると共に、片面のみの平面
性を考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いるこ
とにより、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーと
マスクを併用する場合に比較して、撮像装置全体の製造
コストを低減することができる、という効果が得られ
る。
【0045】また、請求項2記載の撮像装置によれば、
請求項1記載の発明と同様の効果を奏することができる
と共に、請求項1記載の発明における第1の全反射ミラ
ーによって反射された光が第2及び第3の光電変換素子
の2つによって撮像されるので、該2つの光電変換素子
の撮像領域を第1の光電変換素子の撮像領域に隣接する
一方側の分割領域と他方側の分割領域とすることによっ
て、結像レンズ及び光電変換素子からなる3つの撮像系
を配置するためのスペースを容易に確保することができ
る、という効果が得られる。
【0046】さらに、請求項3記載の撮像装置によれ
ば、3つの光電変換素子の受光部に向けて撮像対象から
の光の向きを変える際に用いるミラーを全反射ミラーと
しているので、該ミラーをハーフミラーとした場合に発
生する2重の像が発生することがなく、品質の高い画像
データを得ることができると共に、片面のみの平面性を
考慮すればよい低コストな全反射ミラーを用いることに
より、ハーフミラーを用いる場合やハーフミラーとマス
クを併用する場合に比較して、撮像装置全体の製造コス
トを低減することができ、かつ第2及び第3の光電変換
素子の撮像領域を第1の光電変換素子の撮像領域に隣接
する第1の分割領域及び第3の分割領域としているの
で、結像レンズ及び光電変換素子からなる3つの撮像系
を配置するためのスペースを容易に確保することができ
る、という効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態に係る撮像装置の斜視図である。
【図2】実施の形態に係る撮像装置を図1矢印A方向か
ら見た場合の概略側面図である。
【図3】実施の形態に係る撮像装置を図1矢印B方向か
ら見た場合の概略底面図である。
【図4】マスクの構成例を示す平面図である。
【符号の説明】
10 撮像装置 12 照明系 14 光源 16 反射板 17 傾斜部 18 孔 20A 第1の全反射ミラー 20B 第2の全反射ミラー 20C 第3の全反射ミラー 22A 第1の結像レンズ 22B 第2の結像レンズ 22C 第3の結像レンズ 24A 第1のラインCCD 24B 第2のラインCCD 24C 第3のラインCCD 50 フィルム 52 回路基板(撮像対象) 54A 分割領域(第1の分割領域) 54B 分割領域(第2の分割領域) 54C 分割領域(第3の分割領域)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直線上に隣接して並んだ複数の分割領域
    からなる撮像領域に光を照射する光源と、 前記撮像領域からの光を、境界線が前記複数の分割領域
    にわたる方向となるように2つの領域に分割して一方の
    領域の光のみを全反射させる第1の全反射ミラーと、 前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった撮
    像領域からの光を結像する第1の結像レンズと、 前記第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するよ
    うに配置された第1の光電変換素子と、 前記第1の全反射ミラーによって全反射された光を、前
    記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と
    略同一の光路長の位置に結像する第2の結像レンズと、 前記第2の結像レンズの結像位置に受光部が位置するよ
    うに配置された第2の光電変換素子と、 を備えた撮像装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の全反射ミラーによって全反射
    された光を、前記撮像領域から前記第1の光電変換素子
    までの光路長と略同一の光路長の位置に結像する第3の
    結像レンズと、 前記第3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するよ
    うに配置された第3の光電変換素子と、 を更に備えた請求項1記載の撮像装置。
  3. 【請求項3】 直線上に順に隣接して並んだ第1、第
    2、第3の分割領域からなる撮像領域に光を照射する光
    源と、 前記撮像領域からの光を、境界線が前記3つの分割領域
    にわたる方向となるように2つの領域に分割して一方の
    領域の光のみを全反射させる第1の全反射ミラーと、 前記第1の全反射ミラーによって全反射されなかった前
    記第2の分割領域からの光を結像する第1の結像レンズ
    と、 前記第1の結像レンズの結像位置に受光部が位置するよ
    うに配置された第1の光電変換素子と、 前記第1の全反射ミラーによって全反射された前記第1
    の分割領域からの光を前記第1の全反射ミラーによって
    全反射されなかった前記第2の分割領域からの光の光路
    と略平行な方向に全反射する第2の全反射ミラーと、 前記第2の全反射ミラーによって全反射された光を、前
    記撮像領域から前記第1の光電変換素子までの光路長と
    略同一の光路長の位置に結像する第2の結像レンズと、 前記第2の結像レンズの結像位置に受光部が位置するよ
    うに配置された第2の光電変換素子と、 前記第1の全反射ミラーによって全反射された前記第3
    の分割領域からの光を、前記撮像領域から前記第1の光
    電変換素子までの光路長と略同一の光路長の位置に結像
    する第3の結像レンズと、 前記第3の結像レンズからの出射光を前記第1の全反射
    ミラーによって全反射されなかった前記第2の分割領域
    からの光の光路と略平行な方向に全反射する第3の全反
    射ミラーと、 前記第3の結像レンズの結像位置に受光部が位置するよ
    うに配置された第3の光電変換素子と、 を備えた撮像装置。
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