JP5077888B2 - ジビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 - Google Patents
ジビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5077888B2 JP5077888B2 JP2008088530A JP2008088530A JP5077888B2 JP 5077888 B2 JP5077888 B2 JP 5077888B2 JP 2008088530 A JP2008088530 A JP 2008088530A JP 2008088530 A JP2008088530 A JP 2008088530A JP 5077888 B2 JP5077888 B2 JP 5077888B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- divinyl ether
- homopolymer
- polymerization
- polymer
- ether derivative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- UMXOZALPZITVFD-UHFFFAOYSA-N CC1OCC(COC=C)(COC=C)CO1 Chemical compound CC1OCC(COC=C)(COC=C)CO1 UMXOZALPZITVFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
製造例1
攪拌器、圧力ゲージ、温度計、ガス導入管、ガスパージラインを備えた容量2000mlのSUS製容器に、ジメチルスルホキシド283.5g、ペンタエリスリトール140.7g(1.02mol)、純度95重量%の水酸化カリウム10.5g(0.18mol)を仕込み、攪拌下に約60分間窒素ガスを流し、容器内を窒素にて置換した。次いで、反応容器を密封し、容器内にアセチレンガスを0.4kg/cm2の圧力で圧入した。次いで、ゲージ圧力を0.4kg/cm2に保ちながら徐々に昇温し、反応容器内温が150℃を越えないように制御し、約15時間反応させた。この間、逐次アセチレンガスを補充して反応容器内の圧力は常に0.4kg/cm2に保った。反応終了後、残留するアセチレンガスをパージして反応液525.8gを得た。ガスクロ分析の結果、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテルの選択率は26.4%(面積百分率)、ペンタエリスリトールアセタールジビニルエーテルの選択率は63.9%(面積百分率)であった。
攪拌器、圧力ゲージ、温度計、ガス導入管、ガスパージラインを備えた容量2000mlのSUS製容器に、ジメチルスルホキシド282.9g、ペンタエリスリトール141.7g(1.03mol)、純度95重量%の水酸化カリウム10.6g(0.18mol)を仕込み、攪拌下に約60分間窒素ガスを流し、容器内を窒素にて置換した。次いで、反応容器を密封し、容器内にアセチレンガスを1.8kg/cm2の圧力で圧入した。次いで、ゲージ圧力を1.8kg/cm2に保ちながら徐々に昇温し、反応容器内温が150℃を越えないように制御し、約18時間反応させた。この間、適宜アセチレンガスを補充して反応容器内の圧力は0.04〜1.8kg/cm2に保った。反応終了後、残留するアセチレンガスをパージして反応液517.7gを得た。ガスクロ分析の結果、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテルの選択率は20.4%(面積百分率)、ペンタエリスリトールアセタールジビニルエーテルの選択率は66.7%(面積百分率)であった。
攪拌器、圧力ゲージ、温度計、ガス導入管、ガスパージラインを備えた容量2000mlのSUS製容器に、ジメチルスルホキシド280.7g、ペンタエリスリトール141.5g(1.03mol)、純度95重量%の水酸化カリウム10.6g(0.18mol)を仕込み、攪拌下に約60分間窒素ガスを流し、容器内を窒素にて置換した。次いで、反応容器を密封し、容器内にアセチレンガスを1.8kg/cm2の圧力で圧入した。次いで、ゲージ圧力を1.8kg/cm2に保ちながら徐々に昇温し、反応容器内温が140℃を越えないように制御し、約7時間反応させた。この間、逐次アセチレンガスを補充して反応容器内の圧力は1.8kg/cm2に保った。次いで、反応容器内を窒素雰囲気に戻し、130〜150℃で約5時間30分反応させた後、再び反応容器内をアセチレン雰囲気に戻し、1.8kg/cm2の圧力を保ちながら約7時間反応させた。反応終了後、残留するアセチレンガスをパージして反応液533.4gを得た。ガスクロ分析の結果、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテルの選択率は37.4%(面積百分率)、ペンタエリスリトールアセタールジビニルエーテルの選択率は57.3%(面積百分率)であった。
次いで、製造例1〜3で得られた反応液に、別途得られた混合物150.0g(ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル含有率30.0%、ペンタエリスリトールアセタールジビニルエーテル含有率64.8%)を加え、減圧下(2.5〜3.0mmHg)に蒸留し、88〜90℃で留出した留分198.2gを集めた。NMRによる分析の結果、ペンタエリスリトールアセタールジビニルエーテルであった(ガスグロマトグラフィーによる純度98.1%)。
上で製造したペンタエリスリトールアセタールジビニルエーテルモノマーをリビング重合開始剤である二成分系開始剤(HCl/ZnCl2)を用いた重合を行った。シュレンク管にモノマー溶液(0.15mol/L濃度のトルエン溶液)4.0mL、HCl溶液0.5mL、ZnCl2溶液0.5mLをこの順に注射器で注入し重合を開始した。トルエン中、−30℃、モノマー濃度0.15mol/L(ガスクロマトグラフィーの内部標準クロロベンゼンを体積比でモノマーに対して0.8倍含有)、HCl濃度5.0mmol/L、ZnCl2濃度2.0mmol/Lで行った。重合は、18時間で重合率96%に達し、重合系にアンモニア水を少量加えたメタノールを2.0mL加えて停止した。
実施例1と同様な条件(内部標準なし)で前記ペンタエリスリトールアセタールジビニルエーテルモノマーの重合を行った。回収したポリマーは、メタノールによりデカンテーションして精製した。生成ポリマー(Mn=7870、Mw/Mn=1.57(GPCにより測定)のガラス転移温度Tg(DSCにより測定)は、166℃であった。また、熱分解温度Td(TG・DTA5%重量減により測定)は338℃であった。
開始剤にBF3OEt2を用いて前記ペンタエリスリトールアセタールジビニルエーテルモノマーの重合を行った。ナスフラスコにモノマー溶液45mL、開始剤溶液5.0mLを順に注射器で注入して重合を開始した。トルエン中、−30℃、モノマー濃度0.15mol/L、BF3OEt2濃度5.0mmol/Lとした。重合開始11分ですでに全体がゲル化していた。生成ポリマーの洗浄は実施例1のように行い、回収したポリマーをメタノールによりデカンテーションして精製した。ポリマーが不溶性であったため、Mn及びMw/Mnの測定はできなかった。その生成ポリマーのTgを測定したところ186℃となり、Tdは276℃であった。
実施例3の条件のモノマー濃度を0.10mol/Lに変えて、同様に重合を行った。重合中、視覚的にはゲル化は観測されなかったが、生成ポリマーはトルエンに不溶性であった。
実施例1の溶媒をトルエンから塩化メチレンに変えて、同様に重合を行った。重合は、6時間で100%に達した。生成ポリマーのMnは重合率に比例して増加し、Mw/Mnの比較的狭いポリマーが合成できた(Mn=5510、Mw/Mn=1.31)。Mw/Mnは、トルエン溶媒で重合したときよりも狭いものとなった。生成ポリマーの未反応ビニル基の含量は、重合初期(重合率36%)で2mol%であり、高環化率のポリマーであることがわかった。
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008088530A JP5077888B2 (ja) | 2008-03-28 | 2008-03-28 | ジビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008088530A JP5077888B2 (ja) | 2008-03-28 | 2008-03-28 | ジビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009242484A JP2009242484A (ja) | 2009-10-22 |
JP5077888B2 true JP5077888B2 (ja) | 2012-11-21 |
Family
ID=41304778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008088530A Expired - Fee Related JP5077888B2 (ja) | 2008-03-28 | 2008-03-28 | ジビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5077888B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5487472B2 (ja) * | 2010-05-06 | 2014-05-07 | 日本カーバイド工業株式会社 | ビニルエーテル誘導体星形ポリマー及びその製造方法 |
JP5868326B2 (ja) * | 2010-10-08 | 2016-02-24 | 日本カーバイド工業株式会社 | 新規なジビニルエーテル化合物及びその製造方法 |
JP5835723B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2015-12-24 | 国立大学法人福井大学 | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 |
EP2703379B1 (en) * | 2011-04-28 | 2016-11-30 | Nippon Carbide Industries Co., Inc. | 4,4-bis[(ethenyloxy)methyl]cyclohexene and method for producing same |
JP5835724B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2015-12-24 | 国立大学法人福井大学 | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 |
JP6198205B2 (ja) * | 2012-04-18 | 2017-09-20 | 国立大学法人福井大学 | ビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3003890B2 (ja) * | 1991-04-17 | 2000-01-31 | 日本カーバイド工業株式会社 | 2−メチル−5−エチル−5−ビニロキシメチル−1,3−ジオキサン |
JP4895683B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2012-03-14 | 日本カーバイド工業株式会社 | ビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 |
-
2008
- 2008-03-28 JP JP2008088530A patent/JP5077888B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009242484A (ja) | 2009-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5077888B2 (ja) | ジビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 | |
JP7329094B2 (ja) | ビニルエーテル基含有(メタ)アクリル酸エステル重合体の製造方法、ビニルエーテル基含有(メタ)アクリル酸エステル重合体、及び重合体組成物 | |
JP5661600B2 (ja) | ニトリルオキシド化合物、変性高分子材料並びにその製造方法及び成形体 | |
JP5726178B2 (ja) | 1,1−ビス[(エテニロキシ)メチル]シクロヘキサン及びその製造方法 | |
JP5835723B2 (ja) | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 | |
JP5097990B2 (ja) | N−アクリロイルアゼチジン系重合体およびその製造方法 | |
JP4056044B2 (ja) | 重合体の製造方法および薄膜成形体 | |
JP5868326B2 (ja) | 新規なジビニルエーテル化合物及びその製造方法 | |
JP5246651B2 (ja) | ビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 | |
JP5835724B2 (ja) | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 | |
JP4895683B2 (ja) | ビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 | |
JP2012229346A (ja) | 新規なビニルエーテル共重合体 | |
JP6198205B2 (ja) | ビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 | |
JP5088925B2 (ja) | アセトアセトキシ基を有するビニルエーテル化合物、その重合体及びそれらの製造方法 | |
JP5550568B2 (ja) | ジチオカルバミン酸エステルの変換によるチオ化合物の製造方法 | |
JP5585916B2 (ja) | ポリチオフェン類の製造方法、及び新規なチオフェンモノマー | |
JP4190928B2 (ja) | ポリ(n−エチレンイミン)誘導体及びその製造方法 | |
JP5487472B2 (ja) | ビニルエーテル誘導体星形ポリマー及びその製造方法 | |
JP2002088121A (ja) | 光学活性ポリ(n−メチルベンジルマレイミド)及びその製造法 | |
JP2013194134A (ja) | ポリビニルエーテル類の製造方法 | |
JPWO2013157388A1 (ja) | 2−エテニルオキシメチル−2−ヒドロキシメチルアダマンタン及び2,2−ビス(エテニルオキシメチル)アダマンタン並びにその製造方法 | |
KR20150105875A (ko) | 유기 용매에 가용성인 고분자에 지지된 2-이미다졸리디논 키랄 보조제, 및 이의 제조 방법 | |
JP2011026465A (ja) | 新規ビニルエーテル共重合体およびこれを含有する組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110328 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110328 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120712 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120724 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120821 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150907 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5077888 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |